JPH01275189A

JPH01275189A - 光ディスク基板用樹脂組成物及び光ディスク基板

Info

Publication number: JPH01275189A
Application number: JP63107089A
Authority: JP
Inventors: Satoru Tsuchida; 悟土田; Teruki Aizawa; 輝樹相沢; Haruki Yokono; 春樹横野; Takahiro Horie; 隆宏堀江; Masami Abe; 阿部　真美; Takehiko Ishibashi; 石橋　武彦
Original assignee: Hitachi Chemical Co Ltd
Current assignee: Resonac Corp
Priority date: 1988-04-28
Filing date: 1988-04-28
Publication date: 1989-11-02

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、光で読み取る方式のディスク基板、特に、デ
ィジタルオーディオディスク、ビデオディスク、メモリ
ーディスク等の光ディスク基板用の樹脂組成物及び該樹
脂組成物を光硬化させて成る光ディスク基板に関する。

〔従来の技術〕

光ディスクメモリー用のディスク基板は、ポリカーボネ
ート樹脂若しくはアクリル樹脂を、片面にスタンパを設
置した金型中に高温高圧で流し込んで成形するインジェ
クション法又はガラス、アクリル樹脂、ポリカーボネー
ト樹脂若しくはエポキシ樹脂から成る平板を基材としそ
の基材上に光硬化性の樹脂を流し込みその上にスタンパ
を押しあて、基材側から放射線を照射して樹脂を硬化さ
せる２Ｐ法によって製造している。

更に特開昭６０−１１２４０９号公報、特開昭６０−２
０２５５７号公報、特開昭６１−４４６８９号公報、特
開昭６１−９８７１０号公報、特開昭６１−１１５９１
３号公報、特開昭６１−１５９４１１号公報及び特開昭
６１−１７６６１８号公報には、アクリル系樹脂を光硬
化させて光ディスク基板を製造する方法が提案されてい
る。

〔発明が解決しようとする課題〕

光ディスク基板をインジェクション法で成形する方法は
生産性にすぐれるが、異物が混入しやすく、Ｃ／Ｎ比が
低いばかりでなく、ポリカーボネート樹脂を材料とする
場合は、成形時の残留応力のため分子が配向して光学歪
（複屈折）が大きくなり易く、また表面硬度が低いため
製造工程中に傷がつきやすいと言う欠点があり、ポリメ
チルメタクリレート樹脂については、吸湿性が大きいた
めディスクが反りやすく、かつ、耐熱性も低いため記録
膜をつけた溝の熱安定性が低いと言う問題点がある。

又２Ｐ法は、２段階で光ディスク基板を５！造すること
となるため、作業上からも時間を要し、また基材と光硬
化性樹脂との密着性の高信頼性も要求され、更に、透明
な基材の選定が必要であり、アクリル樹脂では、低Ｔｇ
で吸湿性による反りの問題、ポリカーボネート樹脂は大
きい複屈折、エポキシ樹脂では成形時の硬化時間が長い
等の問題点がある。

特開昭６０−１１２４０９号公報、特開昭６０−２０２
５５７号公報、特開昭６１−４４６８９号公報、特開昭
６１−９８７１０号公報、特開昭６１−１１５９１３号
公報、特開昭６１−１５９４１１号公報、及び特開昭６
１−１７６６１８号公報に開示さた方法でも反り、吸水
、吸湿、耐熱性の改善を目的とするとされているが未だ
実用化されていない。

本発明は、光学的歪（複屈折）が小さく、吸湿による反
りが少なく、表面硬度、耐熱性、機械的強度も優れ、長
期信幀性の高い光ディスク基板を提供することを目的と
するものである。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は、Ａニ一般式（１）％式％で示される重合性化合物と、Ｂニ一般式（ＬＬ）但し、Ｙｚ　　　　　Ｖ− Ｌ−−’Ｉａ　：　Ｈ，ＣＩ、Ｂｒ　ｓ　ｎｌ＋　ｎ！
　：　Ｏ〜３の整数で示される重合性化合物と、Ｃ：前記Ａ及びＢと光重合可能なアクリレート化合物又
はビニル基含有モノマーの１種又は２種以上とよりなる
光ディスク基板用樹脂組成物である。

前記Ａ及びＢと光重合可能なアクリレート化合物として
は、アクリレートモノマー及びオリゴマーがある。アク
リレートモノマーとしては、２．２−ビス（４−（βア
クリロイルオキシエトキシ）フェニル）プロパン、２，
２−ビス（βアクリロイルオキシエトキシ）ビフェニル
、１．６ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリ
メチロ−ＪＬ／　フロパントリ　（メタ）アクリレート
、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、
エトキシトリメチロールプロパン、トリ　（メタ）アク
リレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレ
ート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、イソボニル（メタ）アクリレート等が挙げられる。

アクリレートオリゴマーとしては、分子１１．０００〜
３．０００のものが好ましく、エポキシ（メタ）アクリ
レート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ウレタン
（メタ）アクリレート、シリコーン（メタ）アクリレー
ト等が使用される。ビニル基含有モノマーは公知のもの
でよく、−例を挙げれば、スチレン及びその誘導体、Ｎ
−ビニルピロリドン、（メタ）アクリロイルモルホリン
等がある。

Ａ、Ｂ成分は共重合可能であり、Ａ、Ｂ、Ｃ成分は混合
して用いる。それらの混合割合は、それぞれの種類及び
使用量によって異なるがＡ成分が８０％（重量％　以下
同じ）を超えると吸湿性が増大する傾向にあり、５％未
満では機械的強度、耐熱性、表面硬度が低下する傾向に
あり好ましくない。又Ｂ成分が８０％を超えるともろく
なり耐衝撃性が低下する傾向にあり、１０％未満では吸
湿性が大きくなる。Ｃ成分の各々についても、それ自体
の構造、官能基数により異なるため一義的には決められ
ないが５０％以下使用することが好ましい。

上記樹脂組成物を重合してディスク基板を製造するには
、スペーサで所定の間隔に保ったガラス板と金属又はガ
ラスのスタンパとの間、又は２枚のガラス板の間に樹脂
組成物を注入し、片面又は全面から紫外線等を照射し光
硬化させる。後者の場合は、その後スタンパの溝を転写
した樹脂層を形成する。

本発明の樹脂組成物には、一般に知られている光増感剤
、たとえばジベンゾイル、ベンゾインメチルエーテル、
ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエ
ーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、２−ヒドロキ
シ−２−ベンゾイルプロパン、アゾビスイソブチロニト
リル、ベンジル、チオキサントン１、ジフェニルジスル
フィド、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒド
ロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキ
シ−２−メチルー−１−フェニル−プロパン−１−オン
、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、
１−ヒドロキシシキロへキシルフェニルケトン等を使用
することができる。これらの光増感剤は樹脂組成物に対
して５％以下用いるのが好ましい。

本発明の樹脂組成物には、必要があれば黄変防止剤、レ
ヘリング剤、紫外線吸収剤等の添加剤を加えることもで
きるが、添加量は重合硬化を妨げない範囲でなければな
らない。

尚、前記一般式（１）の化合物に代えて、次に示す一般
式（Ｉｆｆ）の化合物を使用しても同様の目的を達成で
きる。

一般式（Ｉ［ｌ）〔実施例〕（実施例１〜８）２枚の板ガラスとスペーサとからなるガラス鋳型を用意
し、この鋳型中に２重量部の１−（４−一イソブロビル
フェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１
−オンを添加混合した第１表ｍ１〜８の各種樹脂組成物
を注入し、８０Ｗ／ｃ＋ｓの高圧水銀灯を用いて周囲か
ら紫外線を６０秒間照射した後翻型し、厚さ１，２１、
直径３０ｃｍの均一な厚みの基板を得た。この基板につ
いて以下（１）〜（５）に示す特性を測定した。その結
果を第１表に示す０表中比較例１とはポリメチルメタク
リレート樹脂、比較例２とはポリカーボネート樹脂の場
合である。

（１）　　吸水率１００℃の水中に２時間放置し、ＪＩＳ−に６９１１に準じて測定した。

（２）耐熱温度（”Ｃ）ＤＭＡ法によりガラス転移温度を求めた。

（３）　　光学特性８３０ｎｍの光をあて、光透過性を分光光度計で測定し
た。又、８３０ｎｍの光をあて、複屈折率を求めてリタ
ーデーションも測定した。

（４）表面硬度鉛筆硬度を求めた。

（５）　　曲げ強度ＪＩＳ−に６９１］に準じて測定した。

（以下余白）第　　　　１　　　　表ンｆｉ　！！’６と刀鞭１１〜４／１．ニー１’１党ヱｔ（Ｉｎ）化合物Ｗｍ１ｌ；Ｒ＝
ＣＨ，、Ｘ、−Ｘ＠＝Ｈ，ｍ＝０．５１Ｘ２；Ｒ＝ＣＨ
ｙ、Ｘ＋〜Ｘ５＝Ｂｒ、ｍ＝１ｉｓす３　；　Ｒ＝ＣＨ
１、Ｘ＋　　〜χ６　＝ＣＩ、　ｍ＝０．５実施例４　
；　Ｒ””ＣＨｓ　％　Ｘ＋　−Ｘｓ　＝Ｈｓ　ｍ＝０
．５Ｂ　：　−１１（ＩＩ）　Ｑ）イヒイン老η実施例
１　；　Ｒ−ＣＨｓ　、Ｙｌ　〜Ｙａ　＝Ｈｓ　ｎ＋　
−ｎｚ　−２実施例２；Ｒ＝ＣＨ３、η〜Ｙａ　＝Ｈｓ
　ｎｌ　＝ｎｔ　＝１１実施３　；　Ｒ＝ＣＨｓ　、Ｙ
ｌ　〜Ｙａ　＝Ｂ　ｒ、　ｎ＋　＝ｎｚ　””　１実施
例４　；　Ｒ＝ＣＨｓ　、Ｙｌ　〜Ｙａ　＝Ｂ　ｒ、　
ｎ＋　＝ｎｔ　＝　１実施例５〜８Ａ２（式（ＩＩＩ）の化合物実施例５；Ｒ＝ＣＨ３、ｍ＝２実施例６　；　Ｒ＝Ｈ，ｍ＝　１実施例７　；　Ｒ＝ＣＨａ　、ｍ＝０．５実施例８　；
　Ｒ−ＣＨｓ　、ｍ＝０．５Ｂ：＠貨デｔ　　（１１）
　　（７）イヒ伯尤鮒１ｓ　；　Ｒ＝Ｈ，ｙ、　〜ｙ、
　＝ｃ　ｒ、ｎ＋　−ｎｚ　＝１１実施６　ｉ　Ｒ−Ｃ
ＨＰ　、’／＋　〜Ｙｔ　＝Ｂ　ｒｓ　Ｙｓ　〜Ｙａ　
＝ＨＳｎ　＋　＝　’　ｚ　＝　２実施例７　ｉ　Ｒ”
ＣＨｓ　、Ｙｌ−Ｙａ　＝Ｂ　ｒｚ　ｎ＋　−ｎｘ　＝
　１実施例８　；　Ｒ＝ＣＨ＊　、Ｙｌ　〜Ｙ４　＝Ｂ
ｒ、　ｎ＋　＝ｎｚ　＝１次に、溝状パターン付Ｎｉｌ
スタンパに対して、離型剤を塗布したガラス板を向かい
合わ七に配置し、両者の間にｌ、　’ｌ　ｍの空間を設
けて樹脂注入型を形成した。

この型の中に樹脂組成物１〜８を注入し、８０Ｗ／ｃｍ
高圧水銀灯を用いて６０秒間ガラス板を通して紫外線を
照射し、樹脂を硬化させ、溝状パターン付基板を得た。

この溝付基板面にＴｅ系記録膜を約３０ｎｍ厚さに蒸着
した後、全体を１００℃で１時間の雰囲気にさらし、記
録膜の結晶化を行って光ディスク記録媒体を作成した。

得られた光ディスク記録媒体は、情報出力時の出力レベ
ルが良好であり、かつ基板に反りを生しなかった。

更に、離型剤を塗布した溝状パターン付ガラス製スタン
パに対して離型剤を塗布したガラス板を用い、同じ要領
で樹脂注入型を用意した。この型の中に樹脂組成物１〜
８を注入し、８０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて紫外線を
ガラス板側から３０秒間照射して樹脂を硬化せしめた。

得られた溝状パターン付基板に前記同様の処理を施して
光ディスり媒体を作成した。得られた光ディスク記録媒
体に、反りは認められず、情報の読みだし書き込みを円
滑に行うことができた。

〔発明の効果）本発明によれば、光学的歪（？ｊ！屈折）、吸湿による
反りが共に少なく、表面硬度、機械的強度、耐熱性に優
れると共に、短時間で成形可能な光ディスク基板を得る
ことができる。

Claims

【特許請求の範囲】１、Ａ：一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼ 但し、Ｒ：Ｈ、ＣＨ＿３、α：▲数式、化学式、表等がありま
す▼ β：▲数式、化学式、表等があります▼、γ：▲数式、
化学式、表等があります▼ Ｘ＿１〜Ｘ＿８：Ｈ、Ｃｌ、Ｂｒ、ｍ：０〜３の整数で
示される重合性化合物と、Ｂ：一般式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼ 但し、 δ：▲数式、化学式、表等があります▼、Ｒ：Ｈ、ＣＨ
＿３Ｙ＿１〜Ｙ＿４：Ｈ、Ｃｌ、Ｂｒ、ｎ＿１、ｎ＿２：０
〜３の整数で示される重合性化合物と、Ｃ：前記Ａ及びＢと光重合可能なアクリレート化合物又
はビニル基含有モノマーの１種又は２種以上とよりなる
光ディスク基板用樹脂組成物。２、請求項１記載の樹脂組成物を所定の形状に光硬化さ
せて成る光ディスク基板。３、Ａ：一般式（III） ▲数式、化学式、表等があります▼ 但し、α：請求項１の一般式（ I ）と同じ、Ｒ：Ｈ、
ＣＨ＿３ｍ：０〜３の整数で示される重合性化合物と、Ｂ：請求項１の一般式（II）で示される重合性化合物と、Ｃ：前記Ａ及びＢと光重合可能なアクリレート化合物又
はビニル基含有モノマーの１種又は２種以上とよりなる
光ディスク基板用樹脂組成物。４、請求項３記載の樹脂組成物を所定の形状に光硬化さ
せて成る光ディスク基板。