JPH01101316A - 光学用材料 - Google Patents

光学用材料

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JPH01101316A
JPH01101316A JP62257221A JP25722187A JPH01101316A JP H01101316 A JPH01101316 A JP H01101316A JP 62257221 A JP62257221 A JP 62257221A JP 25722187 A JP25722187 A JP 25722187A JP H01101316 A JPH01101316 A JP H01101316A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は高耐熱性、高強度、低吸湿性を有する硬化物を
与える透明の光学用材料に関する。
〔従来の技術〕
光デイスク基板、各種レンズ、プリズム、回折格子など
光学用途に用いる透明材料としては、ガラスの他、成形
性が良く、軽量であるプラスチック材料が用いられてい
る。特開昭60−152515号や特開昭61−287
913号に従来のプラスチック材料が開示されている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
従来のプラスチック材料としては、ポリカーボネート樹
脂、ポリスチレン樹脂、ポリメチルメ、タクリレート樹
脂など熱可塑性樹脂があるが、これらは、射出成形時に
分子配向を生じ、光学的歪や機械的歪を完全に除くこと
が難しく、また、耐熱性が不足しているため、熱変形を
生じ易く、吸湿により変形する問題も有していた。
成形時の分子配向を解消するために、液状の架橋型樹脂
の成形が試みられるようになった。例えば、ジエチレン
グリコールビスアリルカーボネート樹脂は、メガネレン
ズなどに用いられているが、反応速度が遅いため、成形
加工性が劣り、耐熱性。
耐湿性も十分でなかった。また、これを解決するため、
特開昭60−152515など脂環式骨格を有する多官
能(メタ)アクリレート化合物が提案されたが、これら
の硬化物は1機械的強度が不足する問題があった。これ
を改良する試みが特開昭61−287913のよ5に提
案されているが、吸湿性が増大するほか1機械的強度が
未だ不十分であった。
本発明の目的は、上記した従来技術の欠点をなりシ、光
学的異方性が小さく1機械的強度が有り。
熱変形温度が高(、高湿度下での安定性が優れた光学用
材料を提供するにある。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は、一般式(1)で表される(メタ)アクリレー
ト化合物90〜20重量%と、一般式(Mlで表される
(メタ)アクリレート化合物10〜80重量%とをラジ
カル共重合させて光学用材料を得ることを目的としてい
る。
ル ・・・・・・・・・(1) ・・・・・・・・・(2) ここで。
n : 1〜6 R1ニーH又は−α3 R5は−H又は炭素数1〜5のアルキル基又は−CH2
−0−@ R3:炭素数6〜16の炭化水素基であり1例えばCH
3 Ha などがあり、好ましくは。
R4:炭素数2〜300の炭化水素基であり1例えば。
Ha Ha CH2−C)I3 +CH2+   、  +CH2+   、  +CH
2+  。
(−曲→ 、−CH2+晶−1 ?・ CH3 などがあり、好ましくは。
(−CH2+1o、モCT(2+、2. + CH2+
1o。
?H″ CH3 費・ CH3 〔作用〕 一般式(1)で表される(メタ)アクリレート化合物は
1本発明に係る光学用材料の中で熱変形温度を上昇せし
め、弾性率を上昇して硬質化し表面硬度を向上させ、耐
湿性を増す。−数式(1)で表される(メタ)アクリレ
ート化合物はルが大きくなるほど耐湿性が向上するが、
nが7以上では、化合物の粘度が上昇し、使用しに((
なる。本発明に係る光学用材料の中で一般式(1)で表
される(メタ)アクリレート化合物の配合量は、20〜
90重量%が適当である。20重量%以下になると、光
学用材料の熱変形温度が保ち難しくなり、90重量%以
上になると、光学用材料の機械的強度が低下したり、光
学歪が太き(なる。
一般式(1)の化合物としては。
ビス(アクリロキシメチル)トリシクロ(5,2、1、
O”’1デカン しH3υ                     
    OCH3ビス(メタクリロキシメチル)トリシ
クロ(5,2,1,0”’]デカン ビス(アクリロキシメチル)ペンタシクロ[6,5,1
,1”’、O”°7. o9 * 13)ペンタデカン
ビス(メタクリロキシメチル)ペンタシクロ(6,5,
1,13°6.02°’1. oJ13 〕ペンタデカ
ンビス(アクリロキシメチル)へブタシクロ(10、5
,1、1”10.1”’、 O”°代04°9.013
°17〕エイコサン ビス(メタクリロキシメチル)へブタシクロ3 、10
 5 、8 2 、11 4 、9 13 、17(1
0,15,1,1,1,0,0,0)エイコサン などが挙げられる。
一般式(2)で表される(メタ)アクリレート化合物は
1本発明に係わる光学用材料の中で所要の機械的強度を
確保するものである。本発明に係る光学用材料の中で一
般式(2)で表される(メタ)アクリレート化合物の配
合量は、10〜70重t%が適当である。10重廿%以
下になると上記の効果が十分でなく、80重it%以上
忙なると該光学用材料の硬化前の粘度が高(なり作業し
に(くなると共に硬化物の耐熱性などが劣るようになる
−数式(2)で表される(メタ)アクリレート化合物は
1分子中に4個のウレタン結合を有し、これが本発明の
光学用材料の機械的強度の向上に役立っていると考えら
れる。一方、ウレタン結合は吸永し易い弱点を有するが
1本発明においては一般式(2)中のR4の炭素数を太
き(することによりて、化合物全体の吸水率を小さ(で
きた。R4の炭素数を大きくすると、化合物の機械的強
度が向上する利点もちり、さらに、一般式(1)で表さ
れる(メタ)アクリレート化合物との相溶性が良くなる
前記一般式(2)の化合物を合成するKは1例えば。
ジオール1モルにジイソシアネート2モルを反応せしめ
、残余のインシアネート基にモノヒドロキシ化(メタ)
アクリレート2モルを反応せしめて得られる。これらの
化合物は、そのままでも反応するが時として、トルエン
、キシレンなどイソシアネートに対して不活性な有機溶
剤中で反応させても良い。また1反応促進剤として、ジ
ラウリン酸ジールーブチルスズなどスズ系触媒を用いて
も良い。反応に際し、50〜70℃に保温しても良い。
ここで使用するジオールは、例えば1次のものがある。
エチレングリコール、フロピレンゲリコールm14−ブ
タンジオール、1,5−ベンタンジオール。
ネオペンチルグリコール、1,6−ヘキサンジオール、
2−エチルへキシルジオール、1.10−テカンジオー
ル、1.12−ドデカンジオール、1.14−テトラデ
カンジオール、1.20−エイコサンジオール、1,4
−シクロヘキシルジメタツール、ポリ1.2−ブタジェ
ンジオール、水素添加ポリ1゜2−ブタジェンジオール
、ポリブデンジオール。
また、ここで使用するジイソシアネートは、例えば1次
のものがある。
2.4−)リレンジイソシアネート、4.4−ジフェニ
ルメタンジイソシアネート52e2−シフzニルプロパ
ンー4,4−ジイソシアネ−)。
1−メチル−2,4−ジイソシアネート、メチレンビス
(4−シクロヘキシルイソシアネート)。
2.2−プロピレンビス(4−シクロヘキシルイソシア
ネート)、イソホロンジイソシアネート、1.6−へキ
サメチレンジイソシアネート、1゜16−へキサデカメ
チレンジイソシアネート。
また、ここで使用できろモノヒドロキシ化(メタ)アク
リレートは1例えば、次のものがある。
2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート。
2−ヒドロキシプロピル(′メタ)アクリレート。
2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒド
ロキシペンチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ
−3−フェノキシプロビル(メタ)アクリレート。
本発明の光学用材料は、一般式(1)と一般式(2)で
表される(メタ)アクリレート化合物100重食部にラ
ジカル重合開始剤を0.1〜5重量部添加して得られる
。ラジカル重合開始剤が0.1重量部以下になると1重
合が不十分になり、5重量部以上になると樹脂硬化物の
機械的強度が低下する傾向がある。
ラジカル重合開始剤は、上記の(メタ)アクリレート化
合物中でラジカルを生成し、該化合物中のアクリル基、
メタクリル基をラジカル重合せしめるものならば、特に
限定するものでないが、−般に加熱重合開始剤又は光重
合開始剤がある。
加熱重合開始剤としては1例えば、過酸化ベンゾイル、
ジイソプロピルパーオキシカーボネート。
ラウロイルパーオキサイド、ジ−ターシャソープチルパ
ーオキサイド等の過酸化物、アゾイソブチロニトリル等
のアゾ化合物が有用である。また、必要に応じ、上記加
熱重合開始剤のラジカル生成を促進する目的で、ナフテ
ン酸コバルト、ジメチルアニリン等の反応促進剤を用い
ても良い。
光重合開始剤としては、例えば、ベンジル類。
ベンゾイン、ペンツインエチルエーテル、ベンゾインイ
ソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテルな
どのベンゾイン類、ベンゾフェノン。
4−メトキシベンシフ、エノンなどのベンゾフェノン類
、アセトフェノン、2,2−ジェトキシアセトフェノン
などのアセトフェノン類、2−クロロチオキサントン、
2−メチルチオキサントンなどのチオキサントン類、2
−エチルアントラキノン。
2−メチルアントラキノンなどのアントラキノン類、ベ
ンジルジメチルケタール、1−ヒドロキシシクロへキシ
ルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−
フェニルプロパン−1−オニ/。
1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒト四キシー
2−メチルプロパン−1−オン等が有用で島る。
本発明の光学用材料は、一般式(1)及び一般式(2)
で表される(メタ)アクリレート化合物に前述のラジカ
ル重合開始剤を加えただけで十分にその目的を達成でき
るが、粘度調節、硬度調節を目的として、光学用材料の
優れた特性を低下させない範囲で一般のラジカル重合性
モノマーを20重量%以下だけ1本発明の光学用材料に
添加することが可能である。
一般のラジカル重合性モノマーとしては1例えば1次の
ものが有用である。
1官能モノマー: シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ボルニル(メタ
)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、
ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、トリシクロ
デカニル(メタ)アクリレート、ルーヘキシル(メタ)
アクリレ−)SrL−デシル(メタ)アクリレート、2
−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ルーデシル(
メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、
トリデシル(メタ)アクリレート。
2官能モノマー: ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレ−)、!、
6−ヘキサンシオールジ(メタ)アクリレート、1.1
0−デカンジオールジ(メタ)アクリレ−)、1.12
−ドデカンジオールジ(メタ)アクリレート。
〔実施例〕
以下1本発明を実施例により詳述する。
実施例1 一般式(1)で表される化合物として、ビス(アクリロ
キシメチル)トリシクロ(5,2,1,02°6)デカ
ン(化合物1)を用意1−だ。また、一般式(2)で表
される化合物として、1,10−デカンジオール1モル
とイソホロンジイソシアネート2モルとを反応せしめた
後、2−ヒドロキシブチルメタクリレート2モルを加え
た反応生成物(化合物2)。
さらに、一般モツマ−として、1.10−デカンジオー
ルジアクリレート(化合物3)を用意した。
化合物(11と化合物(2)とを胆み合わせて実施例の
組成物、化合物(1)と化合物(ネ)とを組み合わせて
、比較例の組成物を作り、それぞれ100重量部に対し
て、光重合開始剤ベンゾインイソプロピルエーテルを2
重量部加えて混合、溶解せしめ、光硬化性樹脂を調合し
た。
厚さI Illの石英ガラス板2枚を1.1顛の間隔を
あけて平行に配置し、この中へ、先に調合した光硬化性
樹脂を注入し、 365amにおける光強度が100m
W/adの紫外線を高圧水銀灯によ°す30秒間照射し
該樹脂を硬化せしめた。この硬化物を石英ガラス板から
取りはずし、さらに、100℃、1時間の熱処理後、下
記の特性を測定し、第1図の結果を得た。
(1)熱変形温度:試料板(15x5xtxm)の長手
方向に0.57の荷重をかけたままで、昇温し、試料板
の伸びを検知する。温度−伸び関係線の変曲点より熱変
形温度を求めた。光学用材料の熱変形温度は100℃以
上であることが望ましい。
(2)衝撃強さ:鋼製台座の上に配した厚さ12111
の試料板上に、先端に直径IQII+の鋼球を有する重
りを所定の高さから垂直に落下させ、試料板に割れが生
じ始める高さをa単位で表した。光学用材料の衝撃強さ
は30C1lI以上であることが望ましい。
一般式(1)で表される化合物(1)は、熱変形温度が
高いが1機械的衝撃に対して弱い。また、一般式(2)
で表される化合物(2)は、熱変形温度は低目であるが
1機械的衝撃に対して強い。化合物(1)と化合物(2
)を組み合わせると、熱変形温度と衝撃強さの両方を向
上した光学用材料を得ることが可能である。
一方、化合物(1)に対して一般モツマーである化合物
(3)を添加した比較例の組成物においては、衝撃強さ
の向上の効果が認められない。
実施例の組成物において、化合物(2)の配合量を10
重量%以上にすると、衝撃強さを光ディスクやレンズ類
などで実用可能な30c!IL以上に保つことが可能と
なる。この場合、化合物(2)の配合量を80重量%以
上にすると1組成物の粘度が25℃において600ボイ
ズ以上になり、注形時の作業性が低下する。
実施例2 一般式(1)の化合物として、 一般式(2)の化合物として、 を選び、それぞれルとR4を変えた材料を用意した。
これらを重量比で1=1に配合し、相溶性を第1表のよ
うに評価した。
一般式(1)のルが小さいものは、一般式(2)のR4
の炭素数の小さいものと相溶する。相溶するものは。
・ちジカル重合開始剤を加えて硬化物としたとき、透明
な材料となるが、相溶しないものは、濁りや相分離を起
し光学用材料として使用できない。
一般式(1)のルが大きな化合吻、一般式(2)のR4
の炭素数が大きな化合物同志を組み合わせると、相溶す
る組成物が得られ、しかも、−C−、−O−。
=NHなと吸水性極性基濃度を減らすことが可能となる
実施例3 一般式(1)の化合物として、ビス(アクリロキシ2.
6  2,7.  1.3 メチル)ペンタシクロ(6,5,1,0,01ペンタデ
カン(化合物4)を用意した。また、−般式(2)の化
合物として、実施例2で用いたもののうち、 R4が匂
I2+2゜のもの(化合物5)と、R4がCH2−CH
3 た。
化合物(4)と化合物(5)を組み合わせて組成物人。
化合物(4)と化合物(6)を組み合わせて組成物Bを
作り、それぞれ100重量部に対して光重合開始剤1−
ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン上1重量部加
えて混合、溶解せしめ、光硬化性樹脂を調合した。
実施例1と同様の方法で、光硬化性樹脂を硬化し、熱変
形温度と衝撃強さを測定して第2図の結果を得た。
熱変形温度と衝撃強さが元ディスクやレンズ類の目標値
(100℃以上、 39cm以上)を満たす領域が組成
物A9組成物Bとも存在している。
実施例4 一般式(1)の化合物と一般式(2)の化合物と一般モ
ツマーを組み合わせて混合し、第2表の組成物を作った
。それぞれの組成物100重量部釦対して光重合開始剤
2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−
1−オンを1重量部加えて混合。
溶解せしめ、光硬化性樹脂を調合した。
実施例1と同様の方法で、光硬化性樹脂を硬化し、熱変
形温度、衝撃強さに加えて、さらに次の特性を測定し、
第3表の結果を得た。
(3)  作業性:液状の樹脂を成形用型内へ注入する
際、25℃における粘度が600ボイズを越えると。
圧力を加えても作業は著しく困難となるため。
この粘度を作業性の良否の目安とした。
(4)吸水率:厚さ1 mmの平板を25℃の水中に浸
漬し、7日放置後の重量増加より求めた。吸水率が小さ
いほど、材料は吸湿により1寸法変化。
変形を生じ難(なる。光学用材料としては吸水率が1.
2%以下が良く、さらに望ましくは0.5%以下が良い
(5)レタデーシ1ン:波長830iyaにおけるシン
グルパスのレタデーシ■ン(R=cL(ルt−rLz)
、ここで、dは透明板の厚さs rLl + ’2は主
応力方向1.2の屈折率〕。レタデーシ噌ンは、 lQ
rLm以下が良く、さらに望ましくは5am以下が良い
作業性が優れ、熱変形温度が100℃以上、衝撃強さが
30cIIL以上、吸水率が1.2%以下、レタデーシ
瑠ンがLOnrn以下という光学用材料としての目標を
同時に満たすものは、比較例の組成陽1〜6の中には認
められない。それに対して実施例の組成tVkLl〜1
4はいずれも目標を満たしている。
さらに、実施例の組成階4〜8.12〜14は吸水率が
0.5%以下であり、特に耐湿性を必要とする分野に適
している。
実施例の組成陽1〜14は、屈折率が1.49〜1.5
2゜光弾性係数が1〜2 X to−’d/ks光透過
性が90〜98%であり、いずれも光学用材料として優
れた性質を有している。
実施例5 第2表に示した組成物各100 M置部に過酸化ヘンジ
イルを1.5重量部加えて混合、溶解せしめ、熱硬化性
樹脂を調合した。
厚さl IIIのソーダガラス板2枚を1.1闘の間隔
をあけて平行に配置し、この中へ、先に調合した熱硬化
性樹脂を注入し、100℃で2時間かけて硬化せしめた
。この硬化物をソーダガラス板からはずして試料とし、
熱変形温度、衝撃強さ吸水率に関して、第3表と同様の
結果を得た。また、実施例の組成陽1〜14のレタデー
シ諺ンは、いずれも5am以下で光学用材料として優れ
ていた。
以下余白 〔発明の効果〕 本発明によれば、光学的歪が小さ(1機械的特性、耐熱
性、耐湿性が優れた光学用材料を提供することができる
。そのため、元ディスク基板、レンズ類、プリズム、回
折格子などの高性能化が達成できる。
【図面の簡単な説明】
第1図と第2図は1本発明に係る光学用材料の組成範囲
を説明する図である。 jf、1  図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、一般式(1)で表される(メタ)アクリレート化合
    物90〜20重量%と、一般式(2)で表される(メタ
    )アクリレート化合物10〜80重量%とをラジカル共
    重合させて得られた光学用材料。 ▲数式、化学式、表等があります▼………(1) ▲数式、化学式、表等があります▼………(2) (式中、nは1〜6、R_1は−H又は−CH_3、R
    _2は▲数式、化学式、表等があります▼又は▲数式、
    化学式、表等があります▼ここで、R_5は−H又は炭
    素数1〜5のアルキル基又は▲数式、化学式、表等があ
    ります▼、R_3は炭素数6〜16の炭化水素基、R_
    4は炭素数2〜300の炭化水素基)
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