JPWO2013081101A1 - 光学フィルム形成用活性エネルギー線硬化型組成物、光学フィルム、偏光子保護フィルム及び偏光板 - Google Patents

Abstract

【課題】低光弾性係数と低レタデーションを両立でき、耐湿熱性が良好であり、かつ柔軟性にも優れる光学フィルム形成用活性エネルギー線硬化型組成物、当該組成物から得られた光学フィルム、偏光子保護フィルム及び偏光板の提供。【解決手段】硬化物の２３℃における光弾性係数（以下、単に「光弾性係数」という。）が３０?１０-12Ｐａ-1以下のウレタン（メタ）アクリレート（Ａ）、及び、光弾性係数が５?１０-12Ｐａ-1以下の値を有し、かつ（Ａ）成分以外のポリマー（Ｂ）を含み、組成物の硬化物の光弾性係数が１０?１０-12Ｐａ-1以下であり、厚さ４０μｍで測定した場合における硬化物の正面及び斜め４０?の面内レタデーション並びに厚さ方向のレタデーションの全てが５ｎｍ以下である光学フィルム形成用活性エネルギー線硬化型組成物。

Description

本発明は、光学フィルムの形成に使用される活性エネルギー線硬化型組成物、当該組成物を硬化して得られる光学フィルム、及びこれを偏光子保護フィルムとして用いた偏光板に関し、これら技術分野に属する。
尚、本発明における「光学フィルム」とは、「光学フィルム又はシート」を意味し、厚さに特に制限はない。又、アクリレート又はメタクリレートを、（メタ）アクリレートと表す。

近年、液晶ディスプレイの大型化に伴い、偏光子保護フィルムや液晶を光学補償する位相差フィルム等の光学フィルムの大型化も必要となってきている。
しかしながら、光学フィルムを大型化すると、外力の偏りが生じるため、光学フィルムが外力による複屈折変化を生じやすい材料からなる場合、複屈折の分布が生じ、コントラストが不均一となるという問題がある。外力による複屈折変化の生じやすさは、光弾性係数の絶対値によって表されるが、偏光子保護フィルムとして一般的に用いられているトリアセチルセルロース（以下、「ＴＡＣ」ともいう。）フィルムは、光弾性係数の絶対値が大きく、偏光子収縮に伴う応力複屈折の発生により、光漏れ・白抜けが起こる。

また、ＴＡＣフィルムは正面方向の入射光に対するレタデーションは小さいものの、厚さ方向のレタデーションを有する。かかるレタデーションは、液晶ディスプレイの大型化が進むにしたがって、顕著に視野角特性に影響を及ぼすようになっている。
そこで、低光弾性係数と低レタデーションを両立できる材料が求められている。

特許文献１には、正の光弾性を有するセルロースエステル樹脂に対して、負の光弾性を有するアクリル樹脂をブレンドすることで光弾性を低減することが開示されている。

特許文献２には、セルロースエステル樹脂に対して、ポリビニルピロリドンをブレンドすることで低光弾性係数と低レタデーションを両立している。

特許文献３には、ウレタン（メタ）アクリレートからなる光学フィルムの光弾性係数が小さいと開示されている。

再公表特許ＷＯ２００９／０８１６０７号公報 特開２００８−１１１０５６号公報 特開２０１１−１４５３３０号公報

特許文献１に記載された発明では、レタデーションが大きく、低光弾性係数と低レタデーションを両立できていない。また、吸水率が高いセルロースをベースにしているため、耐湿熱性が充分でなく、当該フィルムを偏光子保護フィルムとして用いた偏光板を高温又は高湿下において使用すると、偏光板が変形したり、偏光度や色相等の偏光板の性能が低下するという欠点がある。
特許文献２に記載された発明では、セルロースエステル樹脂とポリビニルピロリドンの組み合わせであるため、特許文献１に記載された組成物よりも耐湿熱性が悪化するという問題がある。
特許文献３に記載された発明では、光弾性係数の絶対値はＴＡＣ（１３×１０^-12Ｐａ^-1）並みと大きく、充分満足できるものではなかった。また、レタデーションが大きく、低光弾性係数と低レタデーションとを両立できていない。
前記した通り従来からのトリアセチルセルロースに代わる偏光子保護フィルムの材料として検討されている光学フィルムは、低光弾性係数と低レタデーションを両立できていないか、両立できたとしても耐湿熱性が充分でなく、当該フィルムを偏光子保護フィルムとして用いた偏光板を高温又は高湿下において使用すると、偏光板が変形したり、偏光度や色相等の偏光板性能が低下するという欠点があった。

本発明は、低光弾性係数と低レタデーションとを両立し、耐湿熱性に優れた光学フィルムを得ることができる光学フィルム形成用活性エネルギー線硬化型組成物を提供することを目的とする。
また、本発明は、偏光子保護フィルム用途に好適に使用することができ、視野角特性に優れ、耐湿熱性及び接着性に優れた光学フィルムを提供することを目的とする。

本発明者らは、前記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、下記に示す活性エネルギー線硬化型組成物が、前記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
本発明の光学フィルム形成用活性エネルギー線硬化型組成物は、硬化物の下記光弾性係数１が３０×１０^-12Ｐａ^-1以下のウレタン（メタ）アクリレート（Ａ）、及び、下記光弾性係数２が５×１０^-12Ｐａ^-1以下の値を有し、かつ（Ａ）成分以外のポリマー（Ｂ）を含み、組成物の硬化物の下記光弾性係数１が１０×１０^-12Ｐａ^-1以下であり、厚さ４０μｍで測定した場合における硬化物の正面及び斜め４０°の面内レタデーション並びに厚さ方向のレタデーションの全てが５ｎｍ以下である。
尚、光弾性係数１は、２３℃における光弾性係数を意味し、光弾性係数２は、使用した（Ａ）成分に対し任意の割合で（Ｂ）成分を添加して得られた光学フィルムの２３℃における光弾性係数の値を測定し、その添加量と光弾性係数との直線グラフから外挿した、添加量が１００％のときの値を意味する。

本発明によれば、低光弾性係数と低レタデーションとを両立し、耐湿熱性に優れた光学フィルムを得ることができる光学フィルム形成用活性エネルギー線硬化型組成物を提供することができる。
また、本発明によれば、偏光子保護フィルム用途に好適に使用することができ、視野角特性に優れ、耐湿熱性及び接着性に優れた光学フィルムを提供することができる。

本発明の組成物を使用した光学フィルムの製造の１例を示す模式図である。 本発明の組成物を使用した光学フィルムの製造の他の１例を示す模式図である。

本発明の光学フィルム形成用活性エネルギー線硬化型組成物（以下、単に「組成物」ともいう。）は、硬化物の下記光弾性係数１が３０×１０^-12Ｐａ^-1以下のウレタン（メタ）アクリレート（Ａ）〔以下、単に「（Ａ）成分」ともいう。〕、及び、下記光弾性係数２が５×１０^-12Ｐａ^-1以下の値を有し、かつ（Ａ）成分以外のポリマー（Ｂ）〔以下、単に「（Ｂ）成分」ともいう。〕を含み、組成物の硬化物の下記光弾性係数１が１０×１０^-12Ｐａ^-1以下であり、厚さ４０μｍで測定した場合における硬化物の正面及び斜め４０°の面内レタデーション並びに厚さ方向のレタデーションの全てが５ｎｍ以下である。
尚、光弾性係数１は、２３℃における光弾性係数を意味し、光弾性係数２は、使用した（Ａ）成分に対し任意の割合で（Ｂ）成分を添加して得られた光学フィルムの２３℃における光弾性係数の値を測定し、その添加量と光弾性係数との直線グラフから外挿した、添加量が１００％のときの値を意味する。
以下、本発明を詳細に説明する。尚、本明細書では、組成物に活性エネルギー線照射して得られる架橋物及び硬化物を、まとめて「硬化物」と表す。

１．（Ａ）成分
（Ａ）成分は、硬化物の光弾性係数１が３０×１０^-12Ｐａ^-1以下のウレタン（メタ）アクリレートである。
（Ａ）成分の硬化物の光弾性係数１として３０×１０^-12Ｐａ^-1以下の化合物を使用することにより、組成物の硬化物の光弾性係数１を１０×１０^-12Ｐａ^-1以下とすることができる。また、（Ａ）成分の硬化物の光弾性係数１は、５×１０^-12Ｐａ^-1以上であることが好ましい。
（Ａ）成分の硬化物の光弾性係数１としては、１０×１０^-12〜２０×１０^-12Ｐａ^-1が好ましく、より好ましくは１０×１０^-12〜１５×１０^-12Ｐａ^-1である。

本発明において光弾性係数とは、外力による複屈折の変化の生じやすさを表す係数であり、光弾性係数１は、２３℃における光弾性係数である。光弾性係数の値がゼロに近いほど、外力による複屈折の変化が小さいことを意味する。
具体的には、光弾性係数１（Ｃ）は、σを伸張応力、△ｎを応力付加時の複屈折としたとき、下式（１）で定義される値である。
Ｃ［Ｐａ^-1］＝△ｎ／σ ・・・（１）
ここで、△ｎは、ｎ₁を伸張方向と平行な方向の屈折率、ｎ₂を伸張方向と垂直な方向の屈折率としたとき、下式（２）で定義される。
△ｎ＝ｎ₁−ｎ₂ ・・・（２）
尚、本発明における光弾性係数１は、温度２３℃で測定した値を意味する。
光弾性係数１の測定方法としては、本発明の組成物を硬化させた光学フィルム、又は、（Ａ）成分のみを硬化させたフィルムを公知の複屈折率計により測定すればよい。具体的には、例えば、本発明の組成物を硬化させた光学フィルム、又は、（Ａ）成分のみを硬化させたフィルムを１５ｍｍ×６０ｍｍに切り出し、自動複屈折計（ＫＯＢＲＡ−ＷＲ、王子計測機器（株）製）を用いて、室温で０Ｎ〜１０Ｎの範囲で５点張力σを変えたときの面内位相差値をそれぞれ測定し、前記式（１）に従って作製した近似直線の傾きから光弾性係数１を求める方法が好ましく挙げられる。

（Ａ）成分としては、ポリオール、有機ポリイソシアネート及び水酸基含有（メタ）アクリレートの反応物等が挙げられ、得られる化合物が前記した光弾性係数１を満たすように原料が選択される。
（Ａ）成分としては、２個以上の（メタ）アクリロイル基を有するウレタン（メタ）アクリレートであることが好ましく、２個の（メタ）アクリロイル基をウレタン（メタ）アクリレートであることがより好ましい。
（Ａ）成分としては、芳香族基を有しないウレタン（メタ）アクリレートが、低光弾性となるため好ましい。芳香族基を有しないウレタン（メタ）アクリレートは、原料のポリオール及び有機ポリイソシアネートとして、芳香族基を有しない化合物を使用することにより製造することができる。
（Ａ）成分の重量平均分子量（以下、「Ｍｗ」という）としては、１，０００〜１５，０００のものが好ましく、より好ましくは１，０００〜１０，０００である。
尚、本発明において、Ｍｗとは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（以下、「ＧＰＣ」ともいう。）により測定した分子量をポリスチレン換算した値である。
（Ａ）成分は、１種のみを使用しても、２種以上を併用してもよい。
以下、（Ａ）成分の原料化合物である、ポリオール、有機ポリイソシアネート及び水酸基含有（メタ）アクリレート、並びに（Ａ）成分の製造方法について説明する。

1-1．ポリオール
ポリオールとしては、ジオールを用いることが好ましく、各種ジオールを用いることができる。
ジオールとしては、炭素数２〜１２の脂肪族ジオール、炭素数２〜１２の脂環族ジオール、ポリカーボネートジオール、ポリエステルジオール及びポリエーテルジオールを挙げることができる。

炭素数２〜１２の脂肪族ジオールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ポリテトラメチレングリコール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、２−エチル−１，３−ヘキサングリコール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、３，３−ジメチロールヘプタン、１，９−ノナンジオール及び２−メチル−１，８−オクタンジオール等が挙げられる。

炭素数２〜１２の脂環族ジオールとしては、シクロヘキサンジメタノール、水添ビスフェノールＡ、トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカンジメタノール（通称；トリシクロデカンジメタノール）、１，４−デカヒドロナフタレンジオール、１，５−デカヒドロナフタレンジオール、１，６−デカヒドロナフタレンジオール、２，６−デカヒドロナフタレンジオール、２，７−デカヒドロナフタレンジオール、デカヒドロナフタレンジメタノール、ノルボルナンジオール、ノルボルナンジメタノール、デカリンジメタノール、アダマンタンジオール、３，９−ビス（１，１−ジメチル−２−ヒドロキシエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン（通称；スピログリコール）、イイソソルビド、イソマンニド、２，２−ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）プロパン（通称；水添ビスフェノールＡ）、４，４’−ジヒドロキシジシクロヘキシルメタン（通称；水添ビスフェノールＦ）、１，１−ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）−１，１−ジシクロヘキシルメタン（通称；水添ビスフェノールＺ）及び４，４−ビシクロヘキサノール等の脂環族ジオール等が挙げられる。

ポリカーボネートジオールとしては、低分子量ジオール又は／及びポリエーテルジオールと、エチレンカーボネート及び炭酸ジブチルエステル等の炭酸ジアルキルエステルの反応物等が挙げられる。
ここで、低分子量ジオールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、シクロヘキサンジメタノール及び３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール等が挙げられる。
ポリエーテルジオールとしては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール及びポリテトラメチレングリコール等のポリアルキレングリコール、並びにポリエチレンポリプロポキシブロックポリマージオール等のブロック又はランダムポリマーのジオール等が挙げられる。

ポリエステルジオールとしては、前記低分子量ジオール又は／及び前記ポリエーテルジオールと、アジピン酸、コハク酸、テトラヒドルフタル酸及びヘキサヒドロフタル酸等の二塩基酸又はその無水物等の酸成分とのエステル化反応物等が挙げられる。

ポリエーテルジオールとしては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール及びポリテトラメチレングリコール等のポリアルキレングリコール；ポリエチレンポリプロポキシブロックポリマージオール等のブロック又はランダムポリマーのジオール等が挙げられる。

ポリオールとしては、硬化物の機械強度を向上させるため、ジオール以外にもトリオールを併用することが好ましい。

トリオールとしては、１，２，６−ヘキサントリオール、１，２，３−ヘプタントリオール、１，２，４−ブタントリオール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、カシリトール、ピロガロール、グリセリン及びトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートが挙げられ、これらトリオールのε−カプロラクトン、エチレンオキサイド及びプロピレンオキサイド等の付加物等が挙げられる。

トリオールのカプロラクトン付加物としては、トリメチロールプロパンのカプロラクトン付加物、グリセリンのカプロラクトン付加物が好ましい。当該トリオールのカプロラクトン付加物としては、平均水酸基価３００〜６００ｍｇＫＯＨ／ｇ、平均水酸基数３の化合物が好ましい。
上記トリオールのカプロラクトン付加物は市販品されており、例えばプラクセル３０３、３０５、３０８、３１２、Ｌ３２０ＭＬ（ダイセル化学工業（株）製）等が挙げられる。

これらのポリオールは、１種のみを使用しても、２種以上を併用しても良い。
（Ａ）成分として脆性・柔軟性が要求される場合には、前記ポリオールとしては、炭素数２〜１２の脂肪族ジオール又は炭素数２〜１２の脂環族ジオールを用いることがより好ましい。
（Ａ）成分として、機械物性が要求される場合、より具体的には破断強度及び引張弾性率に優れるものが要求される場合には、ポリオールとして水酸基価基準の数平均分子量（以下、「Ｐ−Ｍｎ」ともいう。）が５００以上のポリオールとＰ−Ｍｎが５００未満のポリオールを組み合わせて使用することが好ましい。
尚、本発明においてポリオールのＰ−Ｍｎ（数平均分子量）とは、下式に従って求めた値をいう。

より具体的には、Ｐ−Ｍｎが５００以上のポリオールとして、ポリカーボネートジオール及びポリエステルジオールが挙げられ、Ｐ−Ｍｎが５００未満のポリオールとして、炭素数２〜１２の脂肪族ジオール及び炭素数２〜１２の脂環族ジオールが挙げられ、これらを組み合わせて使用する。Ｐ−Ｍｎが５００以上のポリオールは、Ｐ−Ｍｎが５００以上１０，０００以上のポリオールであることが好ましい。また、Ｐ−Ｍｎが５００未満のポリオールは、Ｐ−Ｍｎが６２以上５００未満のポリオールであることが好ましい。

1-2．有機ポリイソシアネート
有機ポリイソシアネートとしては、有機ジイソシアネートが好ましく、無黄変型有機ジイソシアネートがより好ましい。
無黄変型有機ジイソシアネートとしては、ヘキサメチレンジイソシアネート、リジンメチルエステルジイソシアネート、２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート（以下、「ＩＰＤＩ」ともいう。）、４，４’−メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネート）、ノルボルナンジイソシアネート及びω，ω’−ジイソシアネートジメチルシクロヘキサン等の脂環族ジイソシアネート等が挙げられる。

これらの有機ポリイソシアネートは、１種のみを使用しても、２種以上を併用しても良い。

前記した化合物の中でも、硬化物の機械強度と光学特性に優れるという点で、ＩＰＤＩが好ましい。

1-3．水酸基含有（メタ）アクリレート
水酸基含有（メタ）アクリレートとしては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシペンチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、ヒドロキシオクチル（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ、ジ又はモノ（メタ）アクリレート、及びトリメチロールプロパンジ又はモノ（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、並びにこれら化合物のカプロラクトン付加物等が挙げられる。
前記した化合物の中でも、組成物の硬化性と硬化物の柔軟性に優れるという点で、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート及び２−ヒドロキシエチルアクリレートのカプロラクトン付加物が好ましい。

1-4．（Ａ）成分の製造方法
（Ａ）成分は、常法に従い製造されたものでよい。
（Ａ）成分としては、ポリオールと有機ポリイソシアネートを反応させてイソシアネート基含有化合物を製造し、これと水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させた化合物（以下、「化合物Ａ１」ともいう。）、ポリオール、有機ポリイソシアネート及び水酸基含有（メタ）アクリレートを同時に反応させた化合物（以下、「化合物Ａ２」ともいう。）等が挙げられ、分子量を制御しやすいという理由で化合物Ａ１が好ましい。
化合物Ａ１を製造する場合は、ジブチルスズジラウレート等のウレタン化触媒存在下、使用するポリオール及び有機ポリイソシアネートを加熱撹拌し付加反応させ、さらにヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートを添加し、加熱撹拌し付加反応させる方法等が挙げられ、化合物Ａ２を製造する場合は、前記と同様の触媒の存在下に、ポリオール、有機ポリイソシアネート及びヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートを同時に添加して加熱撹拌する方法等が挙げられる。

1-5．好ましい（Ａ）成分
本発明において、（Ａ）成分としては、前記したものの中でも、ポリカーボネートジオール又はポリエステルジオール（以下、これらをまとめて「ジオールａ」ともいう。）、炭素数２〜１２の脂肪族又は脂環族ジオール（以下、これらをまとめて「ジオールｂ」ともいう。）、無黄変型有機ジイソシアネート及び水酸基含有（メタ）アクリレートの反応物であるウレタン（メタ）アクリレートが好ましい。
当該（Ａ）成分は、他のウレタン（メタ）アクリレートと比較して、ポリオールとしてジオールａ、短鎖ジオールとしてジオールｂ、有機ジイソシアネートとして無黄変型を使用することにより、機械強度に優れ、耐光性試験後の黄変度が小さいものとなり、さらに組成物の硬化物の光弾性係数１が低いものとすることができる。
ジオールａとしては、前記したポリカーボネートジオール及びポリエステルジオールが挙げられ、ジオールｂとしては、前記した炭素数２〜１２の脂肪族ジオール及び炭素数２〜１２の脂環族ジオールが挙げられる。
これらのジオールａ及びｂは、１種のみを使用しても、２種以上を併用しても良い。

ジオールａ及びｂの割合としては、ジオールａ：５〜５０モル％及びジオールｂ：５０〜９５モル％が好ましく、より好ましくはジオールａ：５〜４０モル％及びジオールｂ：６０〜９５モル％である。
さらに、トリオールを併用する場合には、トリオールの割合としては、ジオールａ及びｂの合計：５０〜９５モル％及びトリオール：５〜５０モル％好ましく、より好ましくはジオールａ及び／又はｂ：６０〜９５モル％及びトリオール：５〜４０モル％である。

当該（Ａ）成分としては、前記と同様に、ジオールａ及びジオールｂと無黄変型有機ジイソシアネートを反応させてイソシアネート基含有化合物を製造し、これと水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させた化合物（化合物Ａ−I）、ジオールａ及びジオールｂ、無黄変型有機ジイソシアネート及び水酸基含有（メタ）アクリレートを同時に反応させた化合物（化合物Ａ−II）等が挙げられ、分子量を制御しやすいという理由で化合物Ａ−Iが好ましい。

さらに、本発明において、（Ａ）成分としては、前記したものの中でも、ジオールｂ（Ｐ−Ｍｎが５００未満のジオール）、無黄変型有機ジイソシアネート及び水酸基含有（メタ）アクリレートのカプロラクトン付加物の反応物であるウレタン（メタ）アクリレートが特に好ましい。当該（Ａ）成分は、組成物の硬化物が脆性・柔軟性により優れたものとなる。
この場合のジオールｂとしては、Ｐ−Ｍｎが６２以上４００以下のポリオールが好ましい。
当該化合物の具体例としては、１，４−ブタンジオール等の炭素数２〜６の脂肪族ジオール、トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカンジメタノール及び３，９−ビス（１，１−ジメチル−２−ヒドロキシエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン等の複数の環を有する脂環族ジオールが好ましく、硬化物の強度に優れる点で、３，９−ビス（１，１−ジメチル−２−ヒドロキシエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン（通称；スピログリコール）が特に好ましい。
ヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートのカプロラクトン付加物としては、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートのカプロラクトン付加物が好ましい。さらに、ヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートに対するカプロラクトンの反応割合として、０．１モルより大きく、２．０モルより小さいものが好ましい。
当該（Ａ）成分の製造方法も、前記と同様に実施すればよく、好ましい製造方法も前記と同様である。

２．（Ｂ）成分
（Ｂ）成分は、光弾性係数２が５×１０^-12Ｐａ^-1以下の値を有するポリマーであって、（Ａ）成分以外のポリマーである。また、（Ｂ）成分の光弾性係数２は、−１５×１０^-12Ｐａ^-1以上であることが好ましい。
本発明において光弾性係数２とは、前記した通り、使用した（Ａ）成分に対し任意の割合で（Ｂ）成分を添加して得られた光学フィルムの２３℃における光弾性係数の値を測定し、その添加量と光弾性係数との直線グラフから外挿した、添加量が１００％のときの値を意味する。
（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の添加量と光弾性係数との関係を直線グラフする際は、測定値を３点以上求めることが好ましく、また、直線グラフは最小二乗法により作製することが好ましい。
（Ａ）成分の硬化物や組成物の硬化物は成膜できるため、自動複屈折系を使用して光弾性係数を直接測定できるが、（Ｂ）成分は成膜が困難なため光弾性係数を直接測定できないため、上記光弾性係数２を光弾性係数とする。

前記した通り、（Ａ）成分の硬化物は、３０×１０^-12Ｐａ^-1以下の正の光弾性係数１、好ましくは１０×１０^-12〜３０×１０^-12Ｐａ^-1の範囲の正の光弾性係数１を有するため、光弾性係数２が５×１０^-12Ｐａ^-1以下である（Ｂ）成分を配合することにより、組成物の硬化物の光弾性係数２を１０×１０^-12Ｐａ^-1以下とすることができる。

（Ｂ）成分の光弾性係数２としては、−１０×１０^-12〜５×１０^-12Ｐａ^-1が好ましく、より好ましくは−１０×１０^-12〜２×１０^-12Ｐａ^-1であり、更に好ましくは−１０×１０^-12〜−２×１０^-12Ｐａ^-1である。

（Ｂ）成分のＭｗは、目的に応じて適宜設定すればよく、１，０００〜１００，０００であることが好ましく、１，０００〜５０，０００であることがより好ましい。
Ｍｗを１，０００以上とすることで、（Ｂ）成分製造時に重合開始剤や連鎖移動剤の量を少なくでき、これにより硬化物の光弾性係数１の上昇や着色の問題を防止することができ、一方、１００，０００以下とすることで、（Ａ）成分との相溶性に優れ、硬化物の濁りを防止することができる。

（Ｂ）成分としては、前記した光弾性係数２を有するポリマーであれば種々の化合物が使用でき、（メタ）アクリロイル基を有するモノマーの単独重合体又は共重合体、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン共重合体、α−メチルスチレンの単独重合体又は共重合体、エチレン−テトラシクロドデセン共重合体等が挙げられる。

（メタ）アクリロイル基を有するモノマーとしては、具体的には（メタ）アクリル酸；
メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート；
２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート等の水酸基含有（メタ）アクリレート；
Ｎ−（メタ）アクリロイルモルホリン；並びに
（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド及びＮ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド等のアクリルアミド類等が挙げられる。

（メタ）アクリロイル基を有するモノマーの共重合体としては、アミド構造又はカルボキシル基を有する共重合体が、負の光弾性係数２の値が大きく、（Ａ）成分との相溶性に優れる点で好ましい。
アミド構造を有する共重合体において、アミド構造としてはモルホリン構造が好ましい。アミド構造を有する共重合体の具体例としては、（メタ）アクリレートとＮ−（メタ）アクリロイルモルホリンとの共重合体が好ましい。
アミド構造を有する共重合体の場合、アミド構造を有する単量体の割合としては、使用する全モノマーの合計１００重量部に対して、５〜５０重量部が好ましい。
カルボキシル基を有する共重合体の具体例としては、（メタ）アクリレートとアクリル酸又はメタクリル酸の共重合体が好ましい。
カルボキシル基を有する共重合体の場合、酸価としては、５〜６５ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。

（メタ）アクリロイル基を有するモノマーの単独重合体又は共重合体としては、市販のものも使用することができる。例えば、デルペット６０Ｎ、８０Ｎ〔旭化成ケミカルズ（株）製〕、ダイヤナールＢＲ５２、ＢＲ８０，ＢＲ８３，ＢＲ８５，ＢＲ８７，ＢＲ８８〔三菱レイヨン（株）製〕、ＫＴ７５〔電気化学工業（株）製〕等が挙げられる。
ダイヤナールは、（メタ）アクリロイル基を有するモノマーの共重合体であって、ＢＲ８３，ＢＲ８７，ＢＲ８８はカルボキシル基を有する共重合体の市販品である。

Ｎ−ビニル−２−ピロリドン共重合体において、Ｎ−ビニル−２−ピロリドンの共重合モノマーとしては、酢酸ビニル及びアルキル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
Ｎ−ビニル−２−ピロリドン共重合体の具体例としては、ビニルピロリドン・酢酸ビニル共重合体、ビニルピロリドン・メチル（メタ）アクリレート共重合体、ビニルピロリドン・エチル（メタ）アクリレート共重合体、ビニルピロリドン・ブチル（メタ）アクリレート共重合体等を挙げることができる。

Ｎ−ビニル−２−ピロリドン共重合体としては、市販のものも使用することができる。例えば、ＰＶＰ／ＶＡ Ｓ−６３０〔アイエスピー・ジャパン（株）製〕等が挙げられる。

（Ｂ）成分の製造方法としては、特に制限はなく、前記した単量体を使用して、懸濁重合、乳化重合、塊状重合、あるいは溶液重合等の公知の方法のいずれを用いてもよい。ここで、重合開始剤としては、通常のパーオキサイド系及びアゾ系のものを用いることができ、また、レドックス系とすることもできる。

重合温度については、懸濁または乳化重合では３０〜１００℃、塊状または溶液重合では８０〜３００℃で実施することが好ましい。さらに、アルキルメルカプタン等を連鎖移動剤として用いて重合を実施することもできる。

本発明における（Ｂ）成分としては、エチレン性不飽和基を有するポリマー〔以下、「（ＵＢ）成分」ともいう。）が好ましい。
（ＵＢ）成分は、活性エネルギー線の照射によって（Ａ）成分と化学的に架橋する。従って、エチレン性不飽和基を持たない光弾性係数２が負の値を有するポリマーを配合する場合において、得られる硬化物の柔軟性や脆性が低下してしまうという問題があったが、光弾性係数２が負の値を有するポリマーをより多く配合することが可能になり、硬化物の光弾性係数２をより大きく低減することができる。
以下、（ＵＢ）成分について説明する。

2-1．（ＵＢ）成分
（ＵＢ）成分中のエチレン性不飽和基としては、ビニル基、ビニルエーテル基、（メタ）アクリロイル基、及び（メタ）アクリルアミド基等が挙げられる。これらの中でも、（Ｂ）成分の製造が容易で、活性エネルギー線による硬化性に優れる点から、特に（メタ）アクリロイル基が好ましく、より好ましくはアクリロイル基である。

（ＵＢ）成分としては、光弾性係数２が５×１０^-12Ｐａ^-1以下で、かつエチレン性不飽和基を有するポリマーであれば種々の化合物が使用でき、例えば、下記に示すポリマーを挙げることができる。
１）ポリマーＵＢ１：カルボキシル基を含有する重合体（以下、「カルボキシル基含有プレポリマー」ともいう。）及び／又は水酸基を含有する重合体（以下、「水酸基含有プレポリマー」ともいう。）に、イソシアネート基及びエチレン性不飽和基を有する化合物（以下、「イソシアネート系不飽和化合物」ともいう。）を付加して得られたポリマー
２）ポリマーＵＢ２：カルボキシル基含有プレポリマーに、エポキシ基及びエチレン性不飽和基を有する化合物（以下「エポキシ系不飽和化合物」ともいう。）を付加して得られたポリマー
３）ポリマーＵＢ３：エポキシ基を含有する重合体（以下、「エポキシ基含有プレポリマー」ともいう。）に、カルボキシル基及びエチレン性不飽和基を有する化合物（以下「カルボキシル系不飽和化合物」ともいう。）を付加して得られたポリマー
以下、ポリマーＵＢ１〜ＵＢ３について説明する。

2-1-1．プレポリマーの製造方法
プレポリマーを構成するモノマーは、得られるプレポリマーの光弾性係数２が５×１０^-12Ｐａ^-1以下であるモノマーを適宜選択すればよいが、その中でも、（メタ）アクリロイル基を有する化合物を好適に用いることができる。
以下、カルボキシル基含有プレポリマー、水酸基含有プレポリマー及びエポキシ基含有プレポリマーの製造方法について説明する。

2-1-1-1．カルボキシル基含有プレポリマーの製造方法
ポリマーＵＢ１及びポリマーＵＢ２の製造で使用する、カルボキシル基含有プレポリマーとしては、カルボキシル系不飽和化合物とこれ以外のエチレン性不飽和化合物（以下、「その他不飽和化合物」ともいう。）との共重合体、及びカルボキシル基を有する連鎖移動剤の存在下にその他不飽和化合物を重合した末端にカルボキシル基を含有する重合体（以下、末端カルボキシル基含有重合体）等が挙げられる。

まずカルボキシル系不飽和化合物とその他不飽和化合物との共重合体について説明する。

カルボキシル系不飽和化合物としては、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸のポリカプロラクトン変性物及びフタル酸モノヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、コハク酸モノヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等のカルボキシル基含有（メタ）アクリレート等が挙げられる。
これらの中でも、特に得られる（ＵＢ）成分の光弾性係数２がより低いものとなることから、（メタ）アクリル酸を用いることが好ましい。

その他不飽和化合物としては、得られる（ＵＢ）成分の光弾性係数２が５×１０^-12Ｐａ^-1以下であれば特に限定されないが、上記のカルボキシル系不飽和化合物との共重合性に優れることから（メタ）アクリロイル基有する化合物が好ましい。
（メタ）アクリロイル基有する化合物としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート；
Ｎ−（メタ）アクリロイルモルホリン；
（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド及びＮ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド等のアクリルアミド類；並びに
（メタ）アクリロニトリル等が挙げられる。
必要に応じて、（メタ）アクリロイル基有する化合物以外の化合物も使用することができ、スチレン、α−メチルスチレン及び酢酸ビニル等が挙げられる。
これらの中でも、特に得られる（Ｂ）成分の光弾性係数２がより低いものとなることから、メチル（メタ）アクリレート及びＮ−（メタ）アクリロイルモルホリンを用いることが好ましい。

当該プレポリマーとしては、さらに、水酸基及びエチレン性不飽和基を有する化合物（以下「水酸系不飽和化合物」ともいう。）を共重合したものであってもよい。
水酸系不飽和化合物としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート及びヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート等のヒドロキシル基含有（メタ）アクリレート、並びにヒドロキシブチルビニルエーテル等のヒドロキシアルキルビニルエーテル等が挙げられる。

カルボキシル系不飽和化合物とその他不飽和化合物との共重合体の製造方法としては、特に制限は無く、前記した化合物を使用して、懸濁重合、乳化重合、塊状重合、溶液重合等の公知の方法を用いることができる。
これらの中でも、重合体の製造が容易、かつ乳化剤等の余計な不純物を含まない点で溶液重合法が好ましい。

溶液重合法で製造する場合は、使用する原料モノマーを有機溶剤に溶解し、熱重合開始剤を添加し、加熱撹拌することにより得られる。溶液重合法でラジカル重合により合成する場合は、使用する原料モノマーを有機溶剤に溶解し、熱ラジカル重合開始剤を添加し、加熱撹拌することにより得られる。又、必要に応じて、重合体の分子量を調節するために連鎖移動剤を使用することができる。

溶液重合法に用いられる有機溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；プロピレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；並びにヘキサン、ヘプタン及びミネラルスピリット等の脂肪族炭化水素類等が挙げられる。

熱重合開始剤としては、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスイソバレロニトリル、アゾビスシクロヘキサンカルボニトリル及びアゾビスシアノバレリックアシッド等のアゾ系開始剤；
ｔ−ブチルパーオキシピバレート、ｔ−ヘキシルパーオキシピバレート、ジラウロイルパーオキシド、ジ（２−エチルヘキシル）パーオキシジカーボネート、ジ−ｔ−ブチルパーオキシド及びジクミルパーオキシド等の有機過酸化物；並びに
過酸化水素−鉄（II）塩、ペルオキソ二硫酸塩−亜硫酸水素ナトリウム、クメンヒドロペルオキシド−鉄（II）塩等が挙げられる。
熱重合開始剤の使用割合は、目標とする分子量に応じて適宜設定すればよい。熱重合開始剤の使用割合は、使用する全モノマーの合計１００重量部に対して、０．１〜１０重量部が好ましい。

連鎖移動剤は、上述のＭｗの範囲に調整するために必要に応じて使用してもよいが、連鎖移動剤の使用により、（Ｂ）成分の光弾性係数２が増加することがあるため、連鎖移動剤を極力少ない量で調整することが好ましい。
連鎖移動剤としては、公知の連鎖移動剤を用いることができる。例えば、ドデシルメルカプタン、ラウリルメルカプタン、グリシジルメルカプタン、２−メルカプトエタノール、３−メルカプトプロピオン酸、メルカプト酢酸、チオグリコール酸２−エチルヘキシル、２，３−ジメルカプト−１−プロパノール等のメルカプタン類の他、α−メチルスチレンダイマー等が挙げられる。
これら連鎖移動剤は、単独又は２種以上の組み合わせで使用してもよい。
連鎖移動剤の使用割合は、通常用いられる使用量と同程度であればよく、使用する全モノマーの合計１００重量部として、０．０１〜７重量部が好ましい。

以上のようにして得られた重合体は、側鎖にカルボキシル基を有する重合体である。
カルボキシル系不飽和化合物とその他不飽和化合物との共重合割合としては、最終的に導入するエチレン性不飽和基の割合に応じて適宜設定すればよく、カルボキシル系不飽和化合物とその他不飽和化合物合計量１００重量に対して、カルボキシル系不飽和化合物が１〜４０重量％とその他不飽和化合物６０〜９９重量％が好ましい。
カルボキシル系不飽和化合物とその他不飽和化合物との共重合体のＭｗとしては、目的に応じて適宜設定すればよく、１，０００〜１００，０００であることが好ましく、１，０００〜５０，０００であることがより好ましい。

次に末端カルボキシル基含有重合体の製造方法について説明する。
末端カルボキシル基含有重合体の製造方法としては、例えばカルボキシル基を有する連鎖移動剤の存在下に、その他不飽和化合物を重合する方法等が挙げられる。
その他不飽和化合物としては、前記と同様の化合物を挙げることができ、前記と同様の化合物が好ましい。
カルボキシル基を有する連鎖移動剤としては、３−メルカプトプロピオン酸、メルカプト酢酸等が挙げられる。
カルボキシル基を有する連鎖移動剤の割合としては、最終的に導入するエチレン性不飽和基の割合に応じて適宜設定すればよく、使用する全モノマーの合計１００重量部に対して、０．０１〜７重量部が好ましい。
重合方法としては、前記と同様の方法が採用できる。

以上のようにして得られた重合体は、末端にカルボキシル基を有する重合体である。
末端カルボキシル基含有重合体のＭｗとしては、目的に応じて適宜設定すればよく、１，０００〜１００，０００であることが好ましく、１０，０００〜５０，０００であることがより好ましい。

カルボキシル基含有プレポリマーとしては、１分子中に導入するエチレン性不飽和基の数と位置を制御できるという理由で、末端カルボキシル基含有重合体が好ましい。

2-1-1-2．水酸基含有プレポリマーの製造方法
ポリマーＵＢ１で使用する水酸基含有プレポリマーとしては、水酸系不飽和化合物とその他不飽和化合物の共重合体、及び水酸基を有する連鎖移動剤の存在下にその他不飽和化合物を重合した末端に水酸基を含有する重合体（以下、「末端水酸基含有重合体」ともいう。）等が挙げられる。

水酸系不飽和化合物としては、前記と同様の化合物が挙げられる。
その他不飽和化合物としては、前記と同様の化合物を挙げることができ、前記と同様の化合物が好ましい。

水酸系不飽和化合物とその他不飽和化合物の共重合体の製造方法としては、前記と同様の方法に従い製造することができる。

以上のようにして得られた共重合体は、側鎖に水酸基を有する共重合体である。
水酸系不飽和化合物とその他不飽和化合物との共重割合としては、最終的に導入するエチレン性不飽和基の割合に応じて適宜設定すればよく、水酸系不飽和化合物とその他不飽和化合物合計量１００重量に対して、水酸系不飽和化合物が１〜４０重量％とその他不飽和化合物６０〜９９重量％とである。
水酸系不飽和化合物とその他不飽和化合物との共重合体のＭｗとしては、目的に応じて適宜設定すればよく、１，０００〜１００，０００であることが好ましく、１，０００〜５０，０００であることがより好ましい。

次に、末端水酸基含有重合体の製造方法について説明する。
末端水酸基含有重合体の製造方法としては、例えば水酸基を有する連鎖移動剤の存在下に、その他不飽和化合物を重合する方法等が挙げられる。
その他不飽和化合物としては、前記と同様の化合物を挙げることができ、前記と同様の化合物が好ましい。
水酸基を有する連鎖移動剤としては、２−メルカプトエタノール等が挙げられる。
水酸基を有する連鎖移動剤の割合としては、最終的に導入するエチレン性不飽和基の割合に応じて適宜設定すればよく、使用する全モノマーの合計１００重量部に対して、０．０１〜７重量部が好ましい。
重合方法としては、前記と同様の方法が採用できる。

以上のようにして得られた重合体は、末端に水酸基を有する重合体である。
末端水酸基含有重合体のＭｗとしては、目的に応じて適宜設定すればよく、１，０００〜１００，０００であることが好ましく、１，０００〜５０，０００であることがより好ましい。

水酸基含有プレポリマーとしては、１分子中に導入するエチレン性不飽和基の数と位置を制御できるという理由で、末端水酸基含有重合体が、好ましい。

2-1-1-3．エポキシ基含有プレポリマーの製造方法
ポリマーＵＢ３で使用するエポキシ基含有プレポリマーとしては、エポキシ系不飽和化合物とその他不飽和化合物の共重合体が挙げられる。

エポキシ系不飽和化合物としては、グリシジル（メタ）アクリレート及びシクロヘキセンオキサイド含有（メタ）アクリレート等のエポキシ基含有（メタ）アクリレート等が挙げられる。
その他不飽和化合物としては、前記と同様の化合物を挙げることができ、前記と同様の化合物が好ましい。

エポキシ系不飽和化合物とその他不飽和化合物の共重合体の製造方法としては、前記と同様の方法に従い製造することができる。

以上のようにして得られた共重合体は、側鎖にエポキシ基を有する共重合体である。
エポキシ系不飽和化合物とその他不飽和化合物との共重割合としては、最終的に導入するエチレン性不飽和基の割合に応じて適宜設定すればよく、エポキシ系不飽和化合物とその他不飽和化合物合計量１００重量に対して、エポキシ系不飽和化合物が１〜４０重量％とその他不飽和化合物６０〜９９重量％とである。
エポキシ系不飽和化合物とその他不飽和化合物との共重合体のＭｗとしては、目的に応じて適宜設定すればよく、１，０００〜１００，０００であることが好ましく、１，０００〜５０，０００であることがより好ましい。

2-1-2．（ＵＢ）成分の製造方法
（ＵＢ）成分は、カルボキシル基含有プレポリマー、水酸基含有プレポリマー、エポキシ基含有プレポリマーに対し、これらプレポリマーと反応しうる官能基とエチレン性不飽和基を有する化合物を付加反応することによって導入される。
付加反応の方法としては、常法に従えばよい。
例えば、いずれの場合においても、有機溶媒中、水媒体中又は無溶剤で、プレポリマーに各化合物を付加することにより製造することができる。各付加反応の条件としては、各反応に応じて反応温度、反応時間及び触媒を選択すればよい。
以下、付加反応について説明する。

ポリマーＵＢ１は、カルボキシル基含有プレポリマー及び／又は水酸基含有プレポリマーに、イソシアネート系不飽和化合物をウレタン化反応で付加して製造する。

イソシアネート系不飽和化合物としては、前記（Ａ）成分の製造で挙げた有機ポリイソシアネートが挙げられ、好ましくは、２−イソシアネートエチル（メタ）アクリレート、ＩＰＤＩと２−ヒドロキシエチルアクリレートとのモノアダクト体等を挙げることができる。

ウレタン化反応の触媒としては、例えば有機金属化合物を挙げることができる。
有機金属化合物としては、ジ−ｎ−ブチルスズオキシド、ジ−ｎ−ブチルスズジラウレート、ジ−ｎ−ブチルスズ、ジ−ｎ−ブチルスズジアセテート、ジ−ｎ−オクチルスズオキシド、ジ−ｎ−オクチルスズジラウレート、モノブチルスズトリクロリド、ジ−ｎ−ブチルスズジアルキルメルカプタン、ジ−ｎ−オクチルスズジアルキルメルカプタン等の有機スズ化合物；オレイン酸鉛、２−エチルヘキサン酸鉛、ナフテン酸鉛、オクテン酸鉛等の有機鉛化合物；オクチル酸ビスマス等の有機ビスマス化合物等が挙げられる。

ウレタン化反応における触媒使用の割合としては、カルボキシル基含有プレポリマー及びイソシアネート系不飽和化合物の合計量１００重量部に対して、０．００１〜０．５重量部が好ましく、０．００１〜０．１重量部がより好ましい。

カルボキシル基含有プレポリマーに対する、イソシアネート系不飽和化合物の反応割合としては、カルボキシル基含有プレポリマー中のカルボキシル基合計１モルに対して、イソシアネート系不飽和化合物０．８〜１．０モルが好ましい。
水酸基含有プレポリマーに対する、イソシアネート系不飽和化合物の反応割合としては、水酸基含有プレポリマー中の水酸基合計１モルに対して、イソシアネート系不飽和化合物０．８〜１．０モルが好ましい。
プレポリマー中のカルボキシル基又は／及び水酸基１モルに対して、イソシアネート系不飽和化合物の反応割合を１モル未満にすることにより、（ＵＢ）成分を、カルボキシル基及び／又は水酸基を有する重合体とすることができる。

ポリマーＢ２では、カルボキシル基含有プレポリマーに、エポキシ系不飽和化合物を付加して製造する。
又、ポリマーＢ３では、エポキシ基含有プレポリマーに、カルボキシル系不飽和化合物を付加して製造する。

エポキシ系不飽和化合物としては、前記と同様の化合物が挙げられ、カルボキシル系不飽和化合物も前記と同様の化合物が挙げられる。

カルボキシル基とエポキシ基との付加反応の触媒としては、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、ジメチルラウリルアミン、トリエチレンジアミン及びテトラメチルエチレンジアミン等の３級アミン；トリエチルベンジルアンモニウムクロリド、トリメチルセチルアンモニウムブロミド、テトラブチルアンモニウムブロミド等の４級アンモニウム塩、トリフェニルブチルホスホニウムブロミド及びテトラブチルホスホニウムブロミド等の４級ホスホニウム塩；並びにトリフェニルホスフィン及びトリブチルホスフィン等のホスフィン化合物が挙げられる。これらの中でも、樹脂の着色が少ない点から、トリフェニルホスフィンを用いることが好ましい。

反応における触媒の割合としては、カルボキシル基含有プレポリマー及びエポキシ系不飽和化合物の合計量を１００重量部、又は、エポキシ基含有プレポリマー及びカルボキシル系不飽和化合物の合計量を１００重量部に対して、０．１〜５．０重量部が好ましく、０．１〜３．０重量部がより好ましい。

カルボキシル基含有プレポリマーに対する、エポキシ系不飽和化合物の反応割合としては、カルボキシル基含有プレポリマー中のカルボキシル基合計１モルに対して、エポキシ系不飽和化合物０．８〜１．２モルが好ましい。
エポキシ基含有プレポリマーに対する、カルボキシル系不飽和化合物の反応割合としては、エポキシ基含有プレポリマー中のエポキシ基合計１モルに対して、カルボキシル系不飽和化合物０．８〜１．２モルが好ましい。

上記付加反応においては、いずれの場合も前記したプレポリマーの製造に引き続いて、好ましくは溶液重合に引き続いて実施することができる。
その際には重合禁止剤を用いて、付加反応時の重合を抑制する。重合禁止剤としては、ジブチルヒドロキシトルエン、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル等が挙げられ、反応溶液に対して、５０〜１，０００ｐｐｍ添加することが好ましい。

2-3．（ＵＢ）成分中のエチレン性不飽和基
（ＵＢ）成分中のエチレン性不飽和基の平均数としては、目的に応じて適宜設定すればよい。
（ＵＢ）成分中のエチレン性不飽和基の平均数としては、１分子中に、平均０．５〜５．０個であることが好ましく、より好ましくは平均１．０個〜３．０個である。１分子内に有するエチレン性不飽和基数が平均０．５個以上であると、十分に（Ａ）成分のマトリックスに組み込まれ、耐熱性・耐湿熱性・脆性が十分となる。平均５．０個以下であると、架橋密度が適度であり、フィルムとしての靱性に優れ、組成物の硬化物の光弾性係数１も低くすることができる。
（ＵＢ）成分中のエチレン性不飽和基の平均数（ｆ）は、下式（３）で表すことができる。

Ｘ：ＧＰＣで測定したプレポリマーの数平均分子量Ｍｎ
Ｙ：プレポリマー中の反応性基を有する化合物単位の分子量
Ｚ：プレポリマー中の反応性基を有する化合物単位の重量部数
尚、プレポリマー中の反応性基を有する化合物単位とは、カルボキシル基含有プレポリマーであればカルボキシル系不飽和化合物由来のモノマー単位、水酸基含有プレポリマーであれば水酸系不飽和化合物由来のモノマー単位、エポキシ基含有プレポリマーであればエポキシ系不飽和化合物由来のモノマー単位をそれぞれ意味する。

（ＵＢ）成分としては、分子末端に効率よくエチレン性不飽和基を導入できるため、脆性と光弾性係数２を高次元で両立できる点から、プレポリマーとして末端カルボキシル基含有重合体又は末端水酸基含有重合体から製造されたポリマー（以下、マクロモノマーともいう。）が好ましい。
マクロモノマーとしては、具体的には末端カルボキシル基含有重合体から製造されたポリマーＢ１及びＢ２、末端水酸基含有重合体から製造されたポリマーＢ１が挙げられ、これらのｆ値は１．０である。

３．光学フィルム形成用活性エネルギー線硬化型組成物
本発明は、前記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分を必須成分として含む光学フィルム形成用活性エネルギー線硬化型組成物である。
組成物の製造方法としては、常法に従えばよく、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分を使用し、必要に応じてその他の成分をさらに使用し、これらを撹拌・混合して得ることができる。

本発明の組成物は、硬化物の光弾性係数１が１０×１０^-12Ｐａ^-1以下である必要がある。これにより、硬化物が外力による複屈折変化を生じにくいものとなり、偏光子保護フィルムとして使用した場合、光漏れや白抜けを防止することができる。また、本発明の組成物の硬化物の光弾性係数１は、−１０×１０^-12Ｐａ^-1以上であることが好ましい。

本発明の組成物は、厚さ４０μｍで測定した場合における硬化物の正面及び斜め４０°の面内レタデーション並びに厚さ方向のレタデーションの全てが５ｎｍ以下である必要がある。これにより、偏光子保護フィルムとして用いた場合、視野角特性に優れた液晶ディスプレイを得ることができる。硬化物のレタデーションが５ｎｍより大きいものは、視野角特性が劣るという問題がある。
さらに、厚さ４０μｍで測定した場合における硬化物の正面の面内レタデーションが１ｎｍ以下で、斜め４０°の面内レタデーションが５ｎｍ以下で、厚さ方向のレタデーションが５ｎｍ以下であるものが好ましい。また、当該レタデーションの値は、いずれも−５ｎｍ以上であることが好ましい。

本発明においてレタデーションとは、光学フィルムに直線偏光が入射したとき透過光を直交する２つの直線偏光に分解して考えたときの複屈折により生じる位相差を意味する。
具体的には、面内のレタデーション（Ｒｅ）及び厚さ方向のレタデーション（Ｒｔｈ）は、フィルム面内の主屈折率をｎｘ、ｎｙ（但し、ｎｘ≧ｎｙ）、厚さ方向の屈折率をｎｚ、フィルム厚さをｄとしたとき、下式で定義される値である。
Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
さらに、本発明において、斜め４０°の面内レタデーションとは、光学フィルムに対して斜め４０°で直線偏光を入射したときの面内レタデーションを意味する。

（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の割合としては、目的に応じて適宜設定すればよいが、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量を基準として（Ａ）成分３０〜９０重量％及び（Ｂ）成分１０〜７０重量％が好ましく、より好ましくは（Ａ）成分４０〜８０重量％及び（Ｂ）成分２０〜６０重量％である。
（Ａ）成分の割合が３０重量％以上とすることで、得られる硬化物の機械物性に優れるものとすることができ、他方９０重量％以下とすることで、低光弾性係数と低レタデーションを両立することができる。

本発明の組成物は、前記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分を必須とするものであるが、目的に応じて種々の成分を配合することができる。
具体的には、（Ａ）成分以外のエチレン性不飽和化合物〔以下、（Ｃ）成分ともいう。〕、光重合開始剤〔以下、（Ｄ）成分ともいう。〕、有機溶剤〔以下、（Ｅ）成分ともいう。〕、重合禁止剤又は／及び酸化防止剤、耐光性向上剤等を挙げることができる。
以下これらの成分について説明する。

（Ｃ）成分
（Ｃ）成分は、（Ａ）成分以外のエチレン性不飽和化合物である。
（Ｃ）成分は、組成物全体の粘度を低下させる目的や、その他の物性を調整する目的で必要に応じて配合する成分である。

（Ｃ）成分の具体例としては、（Ａ）成分以外の（メタ）アクリレート〔以下、「その他（メタ）アクリレート」ともいう。〕やＮ−ビニル−２−ピロリドン等が挙げられる。

その他（メタ）アクリレートとしては、１個の（メタ）アクリロイル基を有する化合物〔以下、「単官能（メタ）アクリレート」ともいう。〕や２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物〔以下、「多官能（メタ）アクリレート」ともいう。〕等が挙げられる。

単官能（メタ）アクリレートの具体例としては、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、トリメチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、１−アダマンチル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、о−フェニルフェノールＥＯ変性（ｎ＝１〜４）（メタ）アクリレート、ｐ−クミルフェノールＥＯ変性（ｎ＝１〜４）（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、о−フェニルフェニル（メタ）アクリレート、ｐ−クミルフェニル（メタ）アクリレート、Ｎ−（メタ）アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−（メタ）アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、Ｎ−（メタ）アクリロイルオキシエチルテトラヒドロフタルイミド等が挙げられる。

多官能（メタ）アクリレートの具体例としては、ビスフェノールＡ ＥＯ変性（ｎ＝１〜２）ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール（ｎ＝５〜１４）ジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール（ｎ＝５〜１４）ジ（メタ）アクリレート、１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリブチレングリコール（ｎ＝３〜１６）ジ（メタ）アクリレート、ポリ（１−メチルブチレングリコール）（ｎ＝５〜２０）ジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレートの二官能（メタ）アクリレート等が挙げられる。
尚、上記においてＥＯ変性とは、エチレンオキサイド変性を意味し、ｎはアルキレンオキサイド単位の繰返し数を意味する。

（Ｃ）成分としては、前記した化合物の１種のみを使用しても、２種以上を併用してもよい。

（Ｃ）成分としては、前記した化合物の中でも、ホモポリマーの光弾性係数１が（Ａ）成分より小さい化合物が好ましく、より好ましくはホモポリマーの光弾性係数１が負である化合物である。
当該化合物の具体例としては、特に、イソボルニル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、Ｎ−（メタ）アクリロイルモルホリン及びＮ−ビニル−２−ピロリドンが好ましい。

（Ｃ）成分の割合としては、目的に応じて適宜設定すればよく、得られる硬化物の柔軟性を低下させない量であればよいが、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００重量部に対して１〜１００重量％が好ましく、より好ましくは１〜８０重量％である。

（Ｄ）成分
（Ｄ）成分は、光重合開始剤である。
（Ｄ）成分は、活性エネルギー線として紫外線及び可視光線を用いた場合に配合する成分である。活性エネルギー線として電子線を使用する場合は、必ずしも（Ｄ）成分を配合する必要はないが、硬化性改良のため必要に応じて（Ｄ）成分を少量配合することもできる。

（Ｄ）成分としては、ベンジルジメチルケタール、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、オリゴ［２−ヒドロキシ−２−メチル−１−［４−１−（メチルビニル）フェニル］プロパノン、２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオニル）ベンジル］フェニル｝−２−メチルプロパン−１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）］フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン、２−ジメチルアミノ−２−（４−メチルベンジル）−１−（４−モルフォリン−４−イル−フェニル）ブタン−１−オン、アデカオプトマーＮ−１４１４（（株）ＡＤＥＫＡ製）、フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステル、エチルアントラキノン、フェナントレンキノン等の芳香族ケトン化合物；
ベンゾフェノン、２−メチルベンゾフェノン、３−メチルベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、４−（メチルフェニルチオ）フェニルフェニルメタン、メチル−２−ベンゾフェノン、１−［４−（４−ベンゾイルフェニルスルファニル）フェニル］−２−メチル−２−（４−メチルフェニルスルフォニル）プロパン−１−オン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ’−テトラエチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン及び４−メトキシ−４’−ジメチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物；
ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、エチル（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィネート及びビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド化合物；
チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、１−クロロ−４−プロピルチオキサントン、３−［３，４−ジメチル−９−オキソ−９Ｈ−チオキサントン−２−イル］オキシ］−２−ヒドロキシプロピル−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアンモニウムクロライド及びフルオロチオキサントン等のチオキサントン系化合物；
アクリドン、１０−ブチル−２−クロロアクリドン等のアクリドン系化合物；
１，２−オクタンジオン１−［４−（フェニルチオ）−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］及びエタノン１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−１−（Ｏ−アセチルオキシム）等のオキシムエステル類；
２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（ｍ−メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−フェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２，４−ジ（ｐ−メトキシフェニル）−５−フェニルイミダゾール二量体及び２−（２，４−ジメトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体等の２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体；並びに
９−フェニルアクリジン及び１，７−ビス（９，９’−アクリジニル）ヘプタン等のアクリジン誘導体等が挙げられる。

これらの化合物は、１種又は２種以上を併用することもできる。

（Ｄ）成分の配合割合としては、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計１００重量部に対して、前記（Ｃ）成分を含む場合には、（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分の合計量１００重量部に対して、０．０１〜１０重量％が好ましく、より好ましくは０．１〜５重量％である。
（Ｄ）成分の配合割合を０．０１重量％以上とすることにより、適量な紫外線又は可視光線量で組成物を硬化させることができ生産性を向上させることができ、一方１０重量％以下とすることで、硬化物の耐候性や透明性に優れたものとすることができる。

（Ｅ）成分
本発明の組成物は、基材への塗工性を改善する等の目的で、（Ｅ）成分である有機溶剤を含むものが好ましい。

（Ｅ）成分の具体例としては、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン及びシクロヘキサン等の炭化水素系溶剤；
メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、イソブチルアルコール、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、２−（メトキシメトキシ）エタノール、２−イソプロポキシエタノール、２−ブトキシエタノール、２−イソペンチルオキシエタノール、２−ヘキシルオキシエタノール、２−フェノキシエタノール、２−ベンジルオキシエタノール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、１−エトキシ−２−プロパノール及びプロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶剤；
テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、ビス（２−メトキシエチル）エーテル、ビス（２−エトキシエチル）エーテル及びビス（２−ブトキシエチル）エーテル等のエーテル系溶剤；
アセトン、メチルエチルケトン、メチル−ｎ−プロピルケトン、ジエチルケトン、ブチルメチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルペンチルケトン、ジ−ｎ−プロピルケトン、ジイソブチルケトン、ホロン、イソホロン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン及びメチルシクロヘキサノン等のケトン系溶剤；
酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、メチルグリコールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、酢酸セロソルブ等のエステル系溶剤；
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、γ−ブチロラクトン等の非プロトン性極性溶剤が挙げられる。

（Ｅ）成分としては、前記した化合物の１種又は２種以上用いることができる。
有機溶剤としては、別途添加してもよく、又、（Ａ）成分の製造で使用する有機溶剤を分離することなくそのまま使用してもよい。

（Ｅ）成分の割合としては、適宜設定すればよいが、組成物中に１０〜９０重量％が好ましく、より好ましくは４０〜８０重量％である。

重合禁止剤又は／及び酸化防止剤
本発明の組成物には、重合禁止剤又は／及び酸化防止剤を添加することが、本発明の組成物の保存安定性を向上させことができ、好ましい。
重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、並びに種々のフェノール系酸化防止剤が好ましいが、イオウ系二次酸化防止剤、リン系二次酸化防止剤等を添加することもできる。
これら重合禁止剤又は／及び酸化防止剤の総配合割合は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計１００重量部に対して、前記（Ｃ）成分を含む場合には、（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分の合計量１００重量部に対して、０．００１〜３重量％であることが好ましく、より好ましくは０．０１〜０．５重量％である。

耐光性向上剤
本発明の組成物には、紫外線吸収剤や光安定剤等の耐光性向上剤を添加してもよい。
紫外線吸収剤としては、２−（２’−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール化合物；
２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−（２−ヒドロキシ−４−イソオクチルオキシフェニル）−ｓ−トリアジン等のトリアジン化合物；
２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−４’−メチルベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，４，４’−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、又は２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン化合物等を挙げることができる。
光安定性剤としては、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−Ｎ，Ｎ’−ジホルミルヘキサメチレンジアミン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−（３，５−ジターシャリーブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル）セバケート等の低分子量ヒンダードアミン化合物；Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−Ｎ，Ｎ’−ジホルミルヘキサメチレンジアミン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル）セバケート等の高分子量ヒンダードアミン化合物等のヒンダードアミン系光安定剤を挙げることができる。
耐光性向上剤の配合割合は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計１００重量部に対して、前記（Ｃ）成分を含む場合には、（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分の合計量１００重量部に対して、０〜５重量％であることが好ましく、より好ましくは０〜１重量％である。

４．使用方法
本発明の組成物は、光学フィルム形成の目的に応じて種々の使用方法を採用することができる。
具体的には、基材に組成物を塗工し活性エネルギー線を照射して硬化させる方法、基材に組成物を塗工し別の基材と貼り合せた後さらに活性エネルギー線を照射して硬化させる方法、凹部を有する型枠に組成物を流し込み、活性エネルギー線を照射して硬化させる方法等が挙げられる。

基材としては、剥離可能な基材及び離型性を有しない基材（以下、「非離型性基材」ともいう。）のいずれも使用することができる。
剥離可能な基材としては、離型処理されたフィルム、剥離性を有する表面未処理フィルム及び金属（以下、まとめて「離型材」ともいう。）等が挙げられる。
離型材としては、シリコーン処理ポリエチレンテレフタレートフィルム、表面未処理ポリエチレンテレフタレートフィルム、表面未処理シクロオレフィンポリマーフィルム及び表面未処理ＯＰＰフィルム（ポリプロピレン）等が挙げられる。
本発明の組成物の硬化物のヘイズを１．０％以下に抑えるためには、表面未処理ポリエチレンテレフタレートフィルムや表面未処理ＯＰＰフィルム（ポリプロピレン）を使用することが好ましい。

本発明の組成物から得られる光学フィルムに対して、低いヘイズにしたり表面平滑性を付与するためには、剥離可能な基材として表面粗さ（中心線平均粗さ）Ｒａが１５０ｎｍ以下の基材を使用することが好ましく、Ｒａが１〜１００ｎｍの基材がより好ましい。さらに、ヘイズとしては３．０％以下が好ましい。また、ヘイズは、０．０１％以上であることが好ましい。
当該基材の具体例としては、表面未処理ポリエチレンテレフタレートフィルムや表面未処理ＯＰＰフィルム（ポリプロピレン）等が挙げられる。
尚、本発明において表面粗さＲａとは、フィルムの表面の凹凸を測定し、平均の粗さを計算したものを意味する。

非離型性基材としては、前記以外の各種プラスチックが挙げられ、ポリビニルアルコール、トリアセチルセルロース及びジアセチルセルロース等のセルロースアセテート樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエーテルサルホン、ノルボルネン等の環状オレフィンをモノマーとする環状ポリオレフィン樹脂等が挙げられる。

本発明の組成物の塗工に当たって、組成物としては、得られる光学フィルムを、異物の混入防止や空隙等の欠陥の発生を防止したり、光学物性の優れたものとするため、原料成分を撹拌・混合した後、精製したものを使用することが好ましい。
組成物の精製方法としては、組成物をろ過する方法が簡便であり好ましい。ろ過の方法としては、加圧ろ過等が挙げられる。
ろ過精度は、好ましくは１０μｍ以下、より好ましくは５μｍ以下である。ろ過精度は小さいほど好ましいが、小さすぎるとフィルターが目詰まりし易くなり、フィルターの交換頻度が増え生産性が低下するため、下限は０．１μｍが好ましい。

塗工方法としては、目的に応じて適宜設定すればよく、従来公知のバーコート、アプリケーター、ドクターブレード、ナイフコーター、コンマコーター、リバースロールコーター、ダイコーター、リップコーター、グラビアコーター及びマイクログラビアコーター等で塗工する方法が挙げられる。

活性エネルギー線としては、電子線、紫外線及び可視光線等が挙げられる。これらの中でも、光重合開始剤を必ずしも配合する必要がなく硬化物の耐熱性や耐光性に優れるという点で、電子線がより好ましい。

活性エネルギー線照射における、線量や照射強度等の照射条件は、使用する組成物、基材及び目的等に応じて適宜設定すればよい。

５．光学フィルム
本発明の組成物は、光学フィルムの製造に好ましく使用できる。
以下、光学フィルムについて説明する。
尚、以下においては、図１及び図２に基づき一部説明する。

5-1．光学フィルムの製造方法
光学フィルムの製造方法としては常法に従えばよく、例えば、組成物を基材に塗布した後、活性エネルギー線を照射して製造することができる。

図１は、離型材／硬化物から構成される光学フィルムの好ましい製造方法の一例を示す模式図である。
図１において、（１）は離型材を意味する。
組成物が無溶剤型の場合（図１：Ｆ１）は、組成物を離型材〔図１：（１）〕に塗工する。組成物が有機溶剤等を含む場合（図１：Ｆ２）は、組成物を離型材〔図１：（１）〕に塗工した後に、乾燥させて有機溶剤等を蒸発させる（図１：１−１）。
離型材に組成物層（２）が形成されてなるシートに対して活性エネルギー線を照射することで、離型材／硬化物から構成される光学フィルムが得られる。活性エネルギー線の照射は、通常、組成物層側から照射するが、離型材側からも照射できる。
上記において、基材（１）として離型材を使用すれば、離型材／硬化物から構成される光学フィルムを製造することができる。

本発明の組成物の塗工量としては、使用する用途に応じて適宜選択すればよいが、有機溶剤等を乾燥した後の膜厚が５〜２００μｍとなるよう塗工するのが好ましく、より好ましくは１０〜１００μｍである。

組成物が有機溶剤等を含む場合は、塗布後に加熱・乾燥させ、有機溶剤等を蒸発させる。
加熱・乾燥方法としては、加熱装置を備えた炉内を通過させる方法や、又、送風により実施することもできる、
加熱・乾燥条件は、使用する有機溶剤等に応じて適宜設定すれば良く、４０〜１５０℃の温度に加熱する方法等が挙げられる。
加熱・乾燥後の組成物としては、有機溶剤の割合を１重量％以下とすることが好ましい。

活性エネルギー線照射における、線量や照射強度等の照射条件は、使用する組成物、基材及び目的等に応じて適宜設定すればよい。

図２は、離型材／硬化物／離型材から構成される光学フィルムの好ましい製造方法の一例を示す模式図である。
図２において、（１）、（３）、（４）は離型材を意味する。
組成物が無溶剤型の場合（図２：Ｆ１）は、組成物を離型材〔図２：（１）〕に塗工する。組成物が有機溶剤等を含む場合（図２：Ｆ２）は、組成物を離型材〔図２：（１）〕に塗工した後に、乾燥させて有機溶剤等を蒸発させる（図２：２−１）。組成物層（２）には離型材（３）をラミネートした後活性エネルギー線照射したり、活性エネルギー線照射した後に離型材（４）をラミネートすることで、離型材、硬化物及び離型材が、この順に形成されてなる光学フィルムが得られる。

上記図１及び２では基材として離型材を使用した例を記載したが、非離型性基材を使用して、光学フィルムを製造することもできる。
例えば、図１において、（１）の離型材に代え非離型性基材を使用し、前記と同様に活性エネルギー線照射して硬化させ、非離型性基材／硬化物から構成される光学フィルムを製造することもできる。
又、図２において、（１）、（３）及び（４）のいずれかの離型材として、非離型性基材を使用し、前記と同様の方法で活性エネルギー線照射して硬化させ、離型材／硬化物／非離型性基材から構成される光学フィルムや、非離型性基材／硬化物／非離型性基材から構成される光学フィルムを製造することもできる。
当該実施態様の具体例としては、非離型性基材として偏光子を使用し、組成物を塗工して活性エネルギー線を照射し、偏光子に保護膜を直接形成させる方法等が挙げられる。
又、レンズシートを製造する場合は、非離型性基材として、透明プラスチックフィルムを使用し、組成物を塗工した後、当該塗膜に離型材として金属金型を貼り合せ、透明プラスチックフィルム側から活性エネルギー線を照射する方法等が挙げられる。

又、前記の例では、組成物を基材に塗工して光学フィルムを製造する例を挙げたが、膜厚が大きい光学フィルムを製造する場合は、特定の凹部を有する型枠等に組成物を流し込み、前記と同様にして活性エネルギー線を照射して組成物を硬化させ光学フィルムを製造することもできる。

5-2．光学フィルムの用途
本発明の組成物から形成される光学フィルムは、種々の光学用途に使用できるものであり、より具体的には、液晶表示装置等に使用される偏光板の偏光子保護フィルム、プリズムシート用支持フィルム及び導光フィルム等が挙げられる。又、これ以外の用途としては、フレネルレンズ及びレンチキュラーレンズ等のレンズシート等が挙げられ、レンチキュラーレンズは、さらに裸眼３Ｄディスプレにも使用することができる。

以下、本発明の組成物から形成される偏光子保護フィルム（以下、単に「保護フィルム」ともいう。）を使用した偏光板について説明する。

偏光板
偏光板は、偏光子の少なくとも片面に保護フィルムが積層された構成である。
偏光板としては、偏光子に、本発明の組成物を直接塗工し硬化させて保護フィルムを形成して製造したものでも、偏光子と保護フィルムを接着して製造したものでもよい。

偏光子としては、自然光からある一方向の直線偏光を選択的に透過する機能を有するものであれば種々の材料が使用できる。
例えば、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を吸着・配向させたヨウ素系偏光フィルム、ポリビニルアルコール系フィルムに二色性の染料を吸着・配向させた染料系偏光フィルム、二色性染料をコーティングし、配向・固定化した塗布型偏光子等が挙げられる。これら、ヨウ素系偏光フィルム、染料系偏光フィルム及び塗布型偏光子は、自然光からある一方向の直線偏光を選択的に透過し、もう一方向の直線偏光を吸収する機能を有するもので、吸収型偏光子と呼ばれている。これらの偏光子の中でも、視認性に優れている吸収型偏光子を用いるのが好ましい。吸収型偏光子の厚みは、５〜４０μｍが好ましい。
本発明の偏光板は、偏光子の少なくとも片面に、保護フィルムとして本発明の光学フィルムが積層された偏光板であって、接着剤により接着される。

偏光子と保護フィルムとの接着に用いる接着剤は、それぞれの接着性を考慮して任意のものを用いることができる。
接着剤としては、具体的には、ポリビニルアルコール系水系接着剤、溶剤系接着剤、ホットメルト系接着剤及び無溶剤系接着剤等が挙げられ、無溶剤系の活性エネルギー線硬化型接着剤を好適に用いることができる。
活性エネルギー線硬化型接着剤としては、光カチオン硬化型接着剤、光ラジカル硬化型接着剤、及び光カチオン硬化と光ラジカル硬化を併用するハイブリッド型接着剤が挙げられる。
光カチオン硬化型接着剤としては、エポキシ化合物及びオキセタン化合物等の光カチオン硬化性化合物、並びに光カチオン重合開始剤を含む接着剤等が挙げられる。
光ラジカル硬化型接着剤としては、（メタ）アクリレート、ビニルエーテル、ビニル化合物等の光ラジカル硬化性化合物、並びに光ラジカル重合開始剤を含む接着剤等が挙げられる。
ハイブリッド型接着剤としては、前記した光カチオン硬化性化合物、光ラジカル硬化性化合物、光カチオン重合開始剤及び光ラジカル重合開始剤を含む接着剤等が挙げられる。

偏光子の両面に保護フィルムを有する場合、本発明の保護フィルムを両面に有するものが最も好ましい。但し、必要に応じて本発明の保護フィルムを片面に使用し、もう片面には本願発明の保護フィルム以外の保護フィルム（以下、「その他保護フィルム」ともいう。）を使用することもできる。
その他保護フィルムとしては、例えば、トリアセチルセルロースやジアセチルセルロースのようなセルロースアセテート樹脂フィルム、アクリル樹脂フィルム、ポリエステル樹脂フィルム、ノルボルネンのような環状オレフィンをモノマーとする環状ポリオレフィン樹脂フィルム等が挙げられる。又、これらをディスプレイ側の保護フィルムとして使用する場合には位相差を有するフィルムであってもよい。

以下に、実施例及び比較例を挙げ、本発明をより具体的に説明する。尚、下記において「部」とは、重量部を意味する。

○製造例Ａ１〔（Ａ）成分の製造〕
撹拌機、温度計、冷却器を備えた５００ｍＬ反応容器に、室温（２５℃、以下同様である。）でイソシアネートとしてＩＰＤＩ：１４５．９ｇ、触媒としてジブチルスズジラウレート：０．０７ｇを仕込み、５容量％の酸素を含む窒素の雰囲気下、これらを撹拌しながら液温が７０℃になるまで加温した。
アルコール溶液としてポリカーボネートジオール〔旭化成ケミカルズ（株）製デュラノールＴ−５６５１、数平均分子量１，０００〕：４３．０ｇ、１，４−ブタンジオール：３３．５ｇ及びメチルエチルケトン（以下、「ＭＥＫ」ともいう。）：６５．０ｇの混合溶液を内温が７５℃以下となるように滴下した後、内温８０℃で２時間反応させた。
その後、２−ヒドロキシエチルアクリレート（以下、「ＨＥＡ」ともいう。）：５７．６ｇ、重合禁止剤として２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール（以下、「ＢＨＴ」ともいう。）：０．２８ｇ、ＭＥＫ：５．０ｇ及びジブチルスズジラウレート：０．０７ｇの混合溶液を内温が７５℃以下となるように滴下した後３時間反応させ、赤外線吸収スペクトル装置（Ｐｅｒｋｉｎ Ｅｌｍｅｒ社製ＦＴ−ＩＲ Ｓｐｅｃｔｒｕｍ１００）によりスペクトルを測定し、イソシアネート基が完全に消費されたことを確認し、ウレタンアクリレート（以下、「ＵＡ−１」という。）を含むＭＥＫ溶液（固形分８０％）を得た。
ＵＡ−１のポリスチレン換算重量平均分子量（以下、Ｍｗともいう。）を、ＧＰＣ（溶媒：テトラヒドロフラン、カラム：Ｗａｔｅｒｓ社製ＨＳＰｇｅｌ ＨＲ ＭＢ−Ｌ）により測定した結果、２，３００であった。
光弾性係数１を後記に従い測定した結果、１２．３×１０^-12Ｐａ^-1であった。

○製造例Ａ２〔（Ａ）成分の製造〕
製造例Ａ１において、イソシアネートとしてＩＰＤＩ：１２７．８ｇ、アルコール溶液としてデュラノールＴ５６５１：３７．６ｇ、トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカンジメタノール（オクセア社製ＴＣＤＤＭ）：６４．１ｇ及びＭＥＫ：６５．０ｇの混合溶液、ＨＥＡ：５０．５ｇとした以外は同様の操作を行い、ウレタンアクリレート（以下、「ＵＡ−２」という。）を含むＭＥＫ溶液（固形分８０％）を得た。
得られたＵＡ−２のＭｗ及び光弾性係数１を製造例Ａ１と同様に測定した結果、Ｍｗが２，３００、光弾性係数１が９．７×１０^-12Ｐａ^-1であった。

○製造例Ａ３〔（Ａ）成分の製造〕
製造例Ａ１において、イソシアネートとしてＩＰＤＩ：１５１．４ｇ、アルコール溶液としてポリカプロラクトントリオール〔ダイセル化学工業(株)製〕プラクセル３０３、数平均分子量３００）：１８．３ｇ、デュラノールＴ５６５１：２０．４ｇ、１，４−ブタンジオール：２８．２ｇ及びＭＥＫ：６５．０ｇの混合溶液、ＨＥＡ：６１．６ｇとした以外は同様の操作を行い、ウレタンアクリレート（以下、「ＵＡ−３」という。）を含むＭＥＫ溶液（固形分８０％）を得た。
得られたＵＡ−３のＭｗ及び光弾性係数１を製造例Ａ１と同様に測定した結果、Ｍｗが２，４００、光弾性係数１が１３．５×１０^-12Ｐａ^-1であった。

○製造例Ａ４〔（Ａ）成分の製造〕
製造例Ａ１において、イソシアネートとしてＩＰＤＩ：１４８．８ｇ、アルコール溶液としてポリエステルジオール〔ＤＩＣ（株）製Ｅｘｐ４３５８、アジピン酸とエチレングリコールのエステル化物、数平均分子量５００〕：４２．１ｇ、１，４−ブタンジオール：３０．４ｇ及びＭＥＫ：６５．０ｇの混合溶液、ＨＥＡ：５８．７ｇとした以外は同様の操作を行い、ウレタンアクリレート（以下、「ＵＡ−４」という。）を含むＭＥＫ溶液（固形分８０％）を得た。
得られたＵＡ−４のＭｗ及び光弾性係数１を製造例Ａ１と同様に測定した結果、Ｍｗが１，９００、光弾性係数１が１２．６×１０^-12Ｐａ^-1であった。

○製造例Ａ５〔（Ａ）成分の製造〕
製造例Ａ１において、イソシアネートとしてＩＰＤＩ：９９．６ｇ及びＭＥＫ：５０．０ｇの混合溶液、アルコールとしてスピログリコール（水酸基価：３６９ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｐ−Ｍｎ：３０４）〔三菱ガス化学（株）製ＳＰＧ〕：７４．４ｇ及びＭＥＫ（粉体であるＳＰＧを添加後に反応容器に付着した洗浄に使用）：２５．５ｇ、ヒドロキシル含有アクリレートとして２−ヒドロキシエチルアクリレートのε−カプロラクトン１モル付加物〔（株）ダイセル製ＦＡ１ＤＤＭ〕：９５．６ｇ及びＭＥＫ：５．０ｇの混合溶液とした以外は同様の操作を行い、ウレタンアクリレート（以下、「ＵＡ−５」という。）を含むＭＥＫ溶液（固形分８０％）を得た。
得られたＵＡ−５のＭｗ及び光弾性係数１を製造例Ａ１と同様にして測定した結果、Ｍｗが２，４００、光弾性係数１が１１．６×１０^-12Ｐａ^-1であった。

○製造例Ａ６〔（Ａ）成分の製造〕
製造例Ａ１において、イソシアネートとしてＩＰＤＩ：１３４ｇ、アルコールの溶液として１，４−ブタンジオール：３４．２ｇ及びＭＥＫ：６５．０ｇの混合溶液、ヒドロキシル基含有アクリレートとしてＦＡ１ＤＤＭ：１０４．８ｇを用いた以外は同様の操作を行い、ウレタンアクリレート（以下、「ＵＡ−６」という。）を含むＭＥＫ溶液（固形分８０％）を得た。
得られたＵＡ−６のＭｗ及び光弾性係数１を製造例Ａ１と同様にして測定した結果、Ｍｗが２，２００、光弾性係数１が１７．５×１０^-12Ｐａ^-1であった。

○製造例Ａ’１〔（Ａ）成分以外のウレタンアクリレートの製造〕
撹拌機、温度計、冷却器を備えた５００ｍＬ反応容器に、室温でイソシアネートとしてＩＰＤＩ：１９６．０ｇ、触媒としてジブチルスズジラウレート：０．０３５ｇを仕込み、５容量％の酸素を含む窒素の雰囲気下、これらを撹拌しながら液温が７０℃になるまで加温した。
アルコールとしてデュラノールＴ５６５１：４９．５ｇを内温が７５℃以下となるよう滴下した後、内温８０℃で２時間反応させた。
その後、ＨＥＡ：１０４．５ｇ及びＢＨＴ：０．０９ｇを内温が７５℃以下となるように滴下した後３時間反応させ、ウレタンアクリレート（以下、「ＵＡ’１」という。）を得た。
得られたＵＡ’１のＭｗ及び光弾性係数１を製造例Ａ１と同様に測定した結果、Ｍｗが４，４００、光弾性係数１が１５３×１０^-12Ｐａ^-1であった。

○製造例Ｂ１〔（Ｂ）成分の製造〕
撹拌機、温度計、冷却器を備えた５００ｍＬ反応容器に、メタクリル酸メチル（以下、「ＭＭＡ」ともいう。）：２０．０ｇ、Ｎ−アクリロイルモルホリン（以下、「ＡＣＭＯ」ともいう。）：２０．０ｇ、メチルイソブチルケトン（以下、「ＭＩＢＫ」ともいう。）：２００ｇを仕込み、室温で均一に溶解させた。
フラスコの内容物を撹拌しながら、窒素雰囲気下で内温を９２℃まで昇温し、内温が一定になった後、ＭＭＡ：８０．０ｇを４時間、ＡＣＭＯ：８０．０ｇを３時間かけて供給し、他方でＶ−６５〔和光純薬工業（株）製２，２’−アゾビス−２，４−ジメチルバレロニトリル〕１０ｇとＭＩＢＫ４０部からなる重合開始剤溶液を５時間かけて、それぞれ連続的に供給した。
連続供給終了後、内温を９２℃に保って熟成を３時間行った結果、負の光弾性係数２を有するポリマー（以下、「ＬＰ−１」という）を含む溶液（固形分４７％）を得た。
得られたＬＰ−１のＭｗを製造例Ａ１と同様に測定した結果、Ｍｗが１０，０００であった。又、ＬＰ−１の光弾性係数２を下記に従い測定した結果、−５．０×１０^-12Ｐａ^-1であった。
尚、（Ｂ）成分の光弾性係数２については、使用したウレタンアクリレートに対し任意の割合で（Ｂ）成分を添加して得られた光学フィルムの２３℃における光弾性係数値を測定し、その添加量と光弾性係数との直線グラフから外挿した、添加量が１００％のときの光弾性係数値を算出し、記載した。

（１）実施例１〜１２及び比較例１〜７（組成物の製造）
後記表１に示す成分を表１に示す割合でステンレス製容器に投入し、加温しながらマグネチックスターラーで均一になるまで撹拌し、組成物を得た。

表１における略号は、下記を意味する。
・ＬＰ−２：ポリメチルメタクリレート系樹脂、三菱レイヨン（株）ダイヤナールＢＲ−８７〔固形分；１００％、Ｍｗ；２５，０００、酸価；１０．５ｍｇＫＯＨ／ｇ、光弾性係数２；−６×１０^-12Ｐａ^-1〕
・ＬＰ−３：Ｎ−ビニル−２−ピロリドン／酢酸ビニル共重合体、アイエスピー・ジャパン（株）製ＰＶＰ／ＶＡ Ｓ−６３０〔固形分；１００％、Ｍｗ；４５，０００、光弾性係数２；−９×１０^-12Ｐａ^-1〕
・Ｄｃ１１７３：２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、ＢＡＳＦジャパン（株）製ＤＡＲＯＣＵＲ−１１７３

（２）実施例Ｆ１〜Ｆ１０及び比較例Ｆ１〜Ｆ６（電子線硬化による光学フィルムの製造）
幅３００ｍｍ×長さ３００ｍｍの東レ（株）製フィルム「ルミラー５０−Ｔ６０」（表面未処理ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ５０μｍ、以下「ルミラー」という。）に、実施例１〜１０及び比較例１〜６で得られた組成物を、８０℃で１０分乾燥した後の膜厚が４０μｍになるようアプリケーターで塗工した。
その後、組成物層に、幅３００ｍｍ×長さ３００ｍｍのルミラーをラミネートした後、（株）ＮＨＶコーポレーション製の電子線照射装置により、加速電圧２００ｋＶ、線量５０ｋＧｙ（ビーム電流及び搬送速度により調整）、酸素濃度３００ｐｐｍ以下の条件下で電子線照射を行い、光学フィルムを得た。
硬化後、ルミラーから剥離し、後記する光弾性係数１、面内及び厚さ方向レタデーションの評価に用いた。

（３）実施例Ｆ１１〜Ｆ１２及び比較例７（紫外線硬化による光学フィルムの製造）
幅３００ｍｍ×長さ３００ｍｍのルミラーに、実施例１１〜１２及び比較例７で得られた紫外線硬化型組成物を、８０℃で１０分乾燥した後の膜厚が４０μｍになるようアプリケーターで塗工した。
その後、組成物層に、幅３００ｍｍ×長さ３００ｍｍのルミラーをラミネートした後、アイグラフィックス（株）製のコンベア式紫外線照射装置（高圧水銀灯、ランプ高さ１２ｃｍ、３６５ｎｍの照射強度４００ｍＷ／ｃｍ²（フュージョンＵＶシステムズ・ジャパン（株）社製ＵＶ ＰＯＷＥＲ ＰＵＣＫの測定値））によりコンベア速度を調整して、積算光量１，０００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線照射を行い、紫外線硬化型光学フィルムを得た。
硬化後、ルミラーから剥離し、後記する評価に用いた。

〔光弾性係数１〕
実施例及び比較例で得られた光学フィルムを１５ｍｍ×６０ｍｍに切り出し、自動複屈折計（ＫＯＢＲＡ−ＷＲ、王子計測機器（株）製）を用いて、室温で０Ｎ〜１０Ｎの範囲で５点張力σを変えたときの面内位相差値をそれぞれ測定し、下記式に従って作製した近似直線の傾きから光弾性係数１を求めた。結果を表２に示す。
△ｎ＝Ｃ・σ
（式中、△ｎは応力複屈折、σは張力、Ｃは光弾性係数１を表す。）
また、（Ａ）成分の硬化物の光弾性係数１については、（Ａ）成分のみを前記電子線硬化による光学フィルムの製造と同様な方法により硬化させフィルムを作製し、上記と同様に測定した。

〔面内及び厚さ方向レタデーション〕
実施例及び比較例で得られた光学フィルムについて、位相差測定器（王子計測機器（株）製ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ）を用いて正面及び斜め４０°の面内レタデーション（以下、それぞれ「０°Ｒｅ」及び「４０°Ｒｅ」ともいう。）及び厚さ方向レタデーション（以下、「Ｒｔｈ」ともいう。）を測定した。それらの結果を表２に示す。

実施例Ｆ１〜Ｆ１２は、本発明の組成物である実施例１〜１２から組成物から得られた光学フィルムであり、光弾性係数１は、従来偏光子保護フィルムとして使用されているＴＡＣの光弾性係数１の１３×１０^-12Ｐａ^-1よりも小さく、光漏れや白抜の懸念のないものであった。又、厚さ方向レタデーションは、ＴＡＣ（４０μｍ）のＲｔｈの３０〜４０ｎｍよりも小さく、視野角特性に優れるものであった。
これに対して、比較例Ｆ１〜Ｆ５は、（Ｂ）成分を含まないため、光弾性係数１又は厚さ方向レタデーションが大きく、双方を同時に小さくすることはできなかった。また、比較例Ｆ６〜Ｆ７は、（Ｂ）成分を含むものの、ＵＡ−５単体の光弾性係数１が大きいため、光弾性係数１を充分に低減することはできなかった。

○製造例Ｂ２〔カルボキシル基含有プレポリマー製造〕
撹拌機、温度計、冷却器を備えた１Ｌ反応容器に、メタクリル酸メチル（以下、「ＭＭＡ」ともいう。）：５２．０ｇ、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（以下、「ＨＥＭＡ」ともいう。）：１６．０ｇ、メタクリル酸（以下、「ＭＡＡ」ともいう。）：１２．０ｇ、３−メルカプトプロピオン酸（以下、「ＭＰＡ」ともいう。）：３．２ｇ、メチルイソブチルケトン（以下、「ＭＩＢＫ」ともいう。）：４８０ｇを仕込み、室温で均一に溶解させた。
フラスコの内容物を撹拌しながら、窒素雰囲気下で内温を９２℃まで昇温し、内温が一定になった後、ＭＭＡ：４６８．０ｇ、ＨＥＭＡ：１４４．０、ＭＡＡ：１０８．０、ＭＰＡ：２８．８ｇの混合液７４８．８ｇを５時間かけて添加し、他方で２，２’−アゾビス−２，４−ジメチルバレロニトリル〔和光純薬工業（株）製Ｖ−６５。以下、「Ｖ−６５」ともいう。〕：６．４ｇとＭＥＫ：８０ｇからなる重合開始剤溶液を５．５時間かけて、それぞれ連続的に添加した。
連続添加終了後、内温を９２℃に保って熟成を２時間行い、カルボキシル基含有プレポリマー（以下、「ＬＰ−４」という。）の溶液（固形分６２％）を得た。
得られたＬＰ−４のＭｎ、Ｍｗ、光弾性係数２を製造例Ｂ１と同様に測定した結果、Ｍｎが３，２００、Ｍｗが５，８００、光弾性係数２が０．２×１０^-12・Ｐａ^-1であった。
それらの結果を表３に示す。尚、表３における数字は、使用したモノマー全体の割合１００重量％に換算した場合の割合として記載し、使用した有機溶媒及びその割合を省略して記載している。

○製造例Ｂ３〔カルボキシル基含有プレポリマー製造〕
製造例Ｂ２において、用いた原料を表３に記載したように変更した以外は同様の操作を行い、負の光弾性係数２を有するカルボキシル基含有プレポリマー（以下、「ＬＰ−５」という。）の溶液（固形分６２％）を得た。
得られたＬＰ−５のＭｎ、Ｍｗ、光弾性係数２を製造例Ｂ１と同様に測定した結果、Ｍｎが４，４００、Ｍｗが１１，０００、光弾性係数２が−２．０×１０^-12・Ｐａ^-1であった。それらの結果を表３に示す。

○製造例Ｂ４〔末端カルボキシル基含有重合体の製造〕
撹拌機、温度計、冷却器を備えた１Ｌ反応容器に、ＭＭＡ：４００．０ｇ、ＭＰＡ：５．８ｇ、ＭＩＢＫ：６４０．０ｇを仕込み、室温で均一に溶解させた。
フラスコの内容物を撹拌しながら、窒素雰囲気下で内温を９２℃まで昇温し、内温が一定になった後、ＭＭＡ：４００．０ｇ、ＭＰＡ：８．６４ｇを３時間かけて添加し、他方でＶ−６５：１．３ｇとＭＥＫ：３２ｇからなる重合開始剤溶液（１）を４時間、Ｖ−６５：５．２ｇとＭＥＫ：１２８．０ｇからなる重合開始剤溶液（２）を２時間かけて、それぞれ連続的に添加した。
連続添加終了後、内温を９２℃に保って熟成を２時間行い、負の光弾性係数２を有する末端カルボキシル基含有重合体（以下、「ＬＰ−６」という。）の溶液（固形分５１％）を得た。
得られたＬＰ−６のＭｎ、Ｍｗ、光弾性係数２を製造例Ｂ１と同様に測定した結果、Ｍｎが６，０００、Ｍｗが１２，０００、光弾性係数２が−４．０×１０^-12・Ｐａ^-1であった。それらの結果を表３に示す。

○製造例Ｂ５〔（Ｂ）成分の製造〕
撹拌機、温度計、冷却器を備えた１Ｌ反応容器に、ＬＰ−４：３５０．０ｇ（固形分６２％）を仕込み、９２℃に昇温後、５％酸素窒素混合気を吹き込みながら１８０ｒｐｍで１時間攪拌した。その後、重合禁止剤としてＢＨＴ：０．１１ｇ、触媒としてＤＢＴＤＬ：０．０５ｇ、２−アクリロイルオキシエチルイソシアナート〔昭和電工（株）製カレンズＡＯＩ。以下、「ＡＯＩ」ともいう。〕：４３．０ｇを一括で仕込み、４時間撹拌した。
このウレタン化反応の終了は溶液中のイソシアネート基の消失を赤外分光法で確認した。このようにして（Ｂ）成分（以下、「ＵＬＰ−１」という。）の溶液（固形分６４％）を得た。
得られたＵＬＰ−１のＭｎ、Ｍｗ、光弾性係数２を製造例Ｂ１と同様に測定した。又、ＵＬＰ−１のｆ値を式（３）に従い算出した。
ＵＬＰ−１のＭｎ、Ｍｗ、ｆ値、不飽和基導入箇所及び光弾性係数２の結果を表４に示す。
尚、表４における数字は、プレポリマー製造で使用したモノマー全体の割合１００重量％に換算した場合の割合として記載し、使用した溶媒及びその割合を省略して記載している。

○製造例Ｂ６〜１６〔（Ｂ）成分の製造〕
製造例Ｂ５において、プレポリマー製造で用いたモノマーの種類及び割合を表４及び表５に記載したように変更し、付加反応で使用する化合物の種類及び割合を変更する以外は、同様の操作を行い、（Ｂ）成分の溶液（固形分５１〜６４％）を得た。
得られたＵＬＰ−２〜１２のＭｎ、Ｍｗ、ｆ値及び光弾性係数２を製造例Ｂ６と同様の方法で測定した。それらの結果を、不飽和基導入箇所と合わせて表４及び表５に示す。
尚、製造例Ｂ１１及びＢ１４において、カルボキシル基とエポキシ基の反応の終了は、オートタイトレーター〔ＣＯＭ−９００、平沼産業（株）製〕を使用して、反応溶液中の酸価の消失を確認した。

表４及び表５におけるｆは、１分子中の平均エチレン性不飽和基数である。
尚、表３〜５における略号を、前記で定義したものを含めて下記に示す。
・ＭＭＡ：メチルメタクリレート
・ＨＥＭＡ：２−ヒドロキシエチルメタクリレート
・ＭＡＡ：メタクリル酸
・ＭＡ：メチルアクリレート
・ＧＭＡ：グリシジルメタクリレート
・ＡＣＭＯ：アクリロイルモルホリン
・Ｖ−６５：２，２’−アゾビス−２，４−ジメチルバレロニトリル
・ＭＰＡ：３−メルカプトプロピオン酸
・ＭＴＧ：２−メルカプトエタノール
・ＤＭ：ドデシルメルカプタン
・ＡＯＩ：２−アクリロイルオキシエチルイソシアナート
・ＡＡ：アクリル酸
・ＭＯＩ：２−メタクロイルオキシエチルイソシアナート
・ＤＢＴＤＬ：ジブチルスズジラウレート
・ＴＢＡＢ：テトラブチルアンモニウムブロマイド
・ＢＨＴ：２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール

（４）実施例Ｕ１〜同Ｕ２０及び比較例Ｕ１〜同Ｕ２（組成物の製造）
後記表６〜９に示す成分を表６〜９に示す割合でステンレス製容器に投入し、加温しながらマグネチックスターラーで均一になるまで撹拌し、組成物を得た。

表７において、Ｍ３０９は、トリメチロールプロパントリアクリレート〔東亞合成（株）製アロニックスＭ−３０９〕を意味する。

（５）実施例ＵＦ１〜ＵＦ２０及び比較例ＵＦ１及びＵＦ２（電子線硬化による光学フィルムの製造）
幅３００ｍｍ×長さ３００ｍｍの東レ（株）製フィルム「ルミラー５０−Ｔ６０」（表面未処理ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ５０μｍ、以下「ルミラー」という。）に、実施例Ｕ１〜Ｕ２０及び比較例Ｕ１〜Ｕ２で得られた組成物を、１２０℃で１０分乾燥した後の膜厚が４０μｍになるようアプリケーターで塗工した。
その後、組成物層に、幅３００ｍｍ×長さ３００ｍｍのルミラーをラミネートした後、（株）ＮＨＶコーポレーション製の電子線照射装置により、加速電圧２００ｋＶ、線量１５０ｋＧｙ（ビーム電流及び搬送速度により調整）、酸素濃度３００ｐｐｍ以下の条件下で電子線照射を行い、光学フィルムを得た。
硬化後、ルミラーから剥離し、前記と同様の方法で光弾性係数１、面内及び厚さ方向レタデーションを評価した。又、下記方法に従って、カッティング性及び耐折り曲げ性を評価した。

〔カッティング性〕
作製したフィルムの柔軟性を評価するため、カッターナイフで切った時のカッティング性を以下の基準で評価した。それらの結果を表１０に示す。
○：スムーズにカットが可能な状態
△：ややスムーズさに欠ける
×：カット時に断面にクラックが生じる状態

〔耐折り曲げ性〕
作製したフィルムの柔軟性を評価するため、１５ｍｍ×１５０ｍｍに切り出したフィルムを１８０°折り曲げた時の耐性を以下の基準で評価した。それらの結果を表１０に示す。
○：３回で割れず
△：１〜２回で割れ
×：１回で割れ

実施例ＵＦ１〜ＵＦ１７は、本発明の組成物である実施例Ｕ１〜Ｕ１７から組成物から得られた光学フィルムであり、光弾性係数１は、従来偏光子保護フィルムとして使用されているＴＡＣの光弾性係数１の１３×１０^-12Ｐａ^-1よりも小さく、光漏れや白抜の懸念のないものであった。又、厚さ方向レタデーションは、ＴＡＣ（４０μｍ）のＲｔｈの３０〜４０ｎｍよりも小さく、視野角特性に優れるものであった。さらに、柔軟性にも優れるものであった。
これに対して、実施例ＵＦ１８〜ＵＦ２０は、光弾性係数１が低い又は負の値を有するポリマーであるものの、エチレン性不飽和基を有さない（Ｂ）’成分を含む組成物（比較例Ｕ１８〜Ｕ２０）から製造された光学フィルムであり、実施例と同様に光弾性係数１及びレタデーションに優れるものの、いずれも柔軟性に乏しいものであった。
比較例ＵＦ１は、（Ｂ）成分を含まない組成物（比較例Ｕ１）から製造された光学フィルムであり、光弾性係数１及び厚さ方向レタデーションが大きく、双方を同時に小さくすることはできなかった。比較例ＵＦ２は、（Ａ）成分と異なるウレタンアクリレートを使用した組成物（比較例Ｕ２）から製造された光学フィルムであり、光弾性係数１が大きいものであった。

○製造例ＰＬ１〔偏光子の製造〕
厚さ８０μｍのポリビニルアルコールフィルムを、３０℃の水浴で膨潤させた後、５重量％（重量比：ヨウ素／ヨウ化カリウム＝１／１０）のヨウ素水溶液中で染色した。次いで、３重量％のホウ酸及び２重量％ヨウ化カリウムを含む水溶液に浸漬し、さらに５５℃の４重量％のホウ酸及び３重量％のヨウ化カリウムを含む水溶液中で５．５倍まで一軸延伸した後、５重量％のヨウ化カリウム水溶液に浸漬した。その後、７０℃のオーブンで１分間乾燥を行い、厚さ３０μｍの偏光子（以下、偏光子Ｐという。）を得た。
得られた偏光子Ｐについて、偏光プリズム付き分光光度計（（株）島津製作所製ＵＶ−２２００）を用いて偏光度及び単体透過率を測定したところ、それぞれ９９．９９％及び４３．１％であった。

○製造例Ｖ１〔紫外線硬化型接着剤の製造〕
ビスフェノールＡジグリシジルエーテル（ジャパンエポキシレジン（株）製ｊＥＲ８０７）５０部、テトラヒドロフルフリルアクリレート（大阪有機化学工業（株）製ＴＨＦ−Ａ）２０部、４−ヒドロキシルブチルアクリレート（日本化成（株）製４−ＨＢＡ）３０部、光重合開始剤（以下、「光開始剤」ともいう。）のヨードニウム（４−メチルフェニル）［４−（２−メチルプロピル）フェニル］ヘキサフルオルフォスフェート（ＢＡＳＦジャパン（株）製ＩＲＧＡＣＵＲＥ２５０）４部、２，４−ジエチルチオキサントン（日本化薬（株）製カヤキュアＤＥＴＸ−ｓ）１部をステンレス製容器に投入し、マグネチックスターラーで均一になるまで撹拌し、紫外線硬化型接着剤（以下、接着剤ＵＶＸ１という。）を得た。

（６）実施例Ｐ１、同Ｐ２及び比較例Ｐ１（偏光板の製造）
偏光子保護フィルムとして実施例Ｆ３及びＦ５及び比較例Ｆ６で得られた光学フィルムを用い、偏光子Ｐの両面に接着剤ＵＶＸ１を膜厚５μｍで塗布して光学フィルムを貼り合わせた後、アイグラフィックス（株）製のコンベア式紫外線照射装置（高圧水銀灯、ランプ高さ１５ｃｍ、３６５ｎｍの照射強度 ３７０ｍＷ／ｃｍ²（フュージョンＵＶシステムズ・ジャパン（株）社製ＵＶ ＰＯＷＥＲ ＰＵＣＫの測定値））によりコンベア速度を調整して、積算光量２２０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線照射を行い、偏光板（幅１００ｍｍ×長さ１００ｍｍ）を得た。
なお、いずれの偏光子保護フィルムに対してもコロナ処理は行わなかった。

〔偏光度及び単体透過率の測定〕
実施例及び比較例で得られた偏光板について、偏光プリズム付き分光光度計（（株）島津製作所製ＵＶ−２２００）を用いて偏光度及び単体透過率を測定した。それらの結果を表１１に示す。

〔偏光子保護フィルムと偏光子の接着性〕
実施例及び比較例で得られた偏光板における、偏光子保護フィルムと偏光子Ｐの接着性を手でひねりを加えてねじ切ったときの状態を以下の基準で評価した。それらの結果を表１１に示す。
○：偏光子と偏光子保護フィルムとが一体化して剥がれが生じない。
×：偏光子と偏光子保護フィルムとの間に剥がれが認められる。

〔偏光板の耐湿熱性〕
実施例及び比較例で得られた偏光板を、６０℃９０％ＲＨの恒温恒湿槽に１２０時間放置した後のサンプルの変形の有無を以下の基準で目視評価した。それらの結果を表１１に示す。
○：変形は見られない。
×：変形が見られた。

実施例Ｐ１及びＰ２は、本発明の組成物である実施例Ｆ３及びＦ５で得られた光学フィルムを用いた偏光板であり、偏光子Ｐの性能が維持されており、接着性及び耐湿熱性が良好であった。
これに対して、比較例Ｐ１は、比較例Ｆ６で得られた光学フィルムを用いた偏光板であるが、偏光子Ｐの性能が維持されており、接着性は良好なものの、耐湿熱性が低下した。

（７）実施例Ｐ３〜実施例Ｐ１２（偏光板の製造）
偏光子保護フィルムとして実施例Ｆ１、Ｆ２、Ｆ４及びＦ６〜Ｆ１２で得られた光学フィルムを用いた以外は、実施例Ｐ１と同様に偏光板をそれぞれ作製し、耐湿熱性を評価した。
実施例Ｐ３〜Ｐ１２のいずれの偏光板も、耐湿熱性が良好であった。

○製造例Ｖ２〔紫外線硬化型接着剤の製造〕
ビスフェノールＡジグリシジルエーテル（ジャパンエポキシレジン（株）製ｊＥＲ８０７）４０部、テトラヒドロフルフリルアクリレート（大阪有機化学工業（株）製ＴＨＦ−Ａ）２０部、４−ヒドロキシルブチルアクリレート（日本化成（株）製４−ＨＢＡ）３０部、イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性ジ及びトリアクリレート（東亞合成（株）製アロニックスＭ−３１３）１０部、光開始剤のジフェニル−４−（フェニルチオ）フェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェートの５０重量％プロピレンカーボネート溶液（サンアプロ製ＣＰＩ−１００Ｐ）６部、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（ＢＡＳＦ・ジャパン（株）製イルガキュア１８４）１部をステンレス製容器に投入し、マグネチックスターラーで均一になるまで撹拌し、紫外線硬化型接着剤（以下、接着剤ＵＶＸ２という。）を得た。

（８）実施例ＵＰ１、同ＵＰ２及び比較例同ＵＰ１（偏光板の製造）
偏光子保護フィルムとして実施例ＵＦ７、同ＵＦ１０及び比較例ＵＦ２で得られた光学フィルムを用い、接着剤としてＵＶＸ２を使用する以外は実施例Ｐ１と同様の方法で偏光板（幅１００ｍｍ×長さ１００ｍｍ）を得た。
なお、いずれの偏光子保護フィルムに対してもコロナ処理は行わなかった。
実施例及び比較例で得られた偏光板について、前記実施例Ｐ１と同様の方法で、偏光度及び単体透過率を測定し、前記と同様の方法で、偏光子保護フィルムと偏光子の接着性及び偏光板の耐湿熱性を評価した。それらの結果を表１２に示す。

実施例ＵＰ１及びＵＰ２は、本発明の組成物である実施例ＵＦ７及びＵＦ１０で得られた光学フィルムを用いた偏光板であり、偏光子Ｐの性能が維持されており、接着性及び耐湿熱性が良好であり、偏光子用保護フィルムとして有効であった。
これに対して、比較例ＵＰ１は、比較例ＵＦ２で得られた光学フィルムを用いた偏光板であるが、偏光子Ｐの性能が維持されており、接着性は良好なものの、耐湿熱性が低下した。

（９）実施例ＵＰ３〜実施例ＵＰ２０（偏光板の製造）
偏光子保護フィルムとして実施例ＵＦ１〜ＵＦ６、ＵＦ８、ＵＦ９及びＵＦ１１〜Ｆ２０で得られた光学フィルムを用いた以外は、実施例ＵＰ１と同様に偏光板をそれぞれ作製し、耐湿熱性を評価した。
実施例ＵＰ３〜ＵＰ２０のいずれの偏光板も、耐湿熱性が良好であった。

本発明の光学フィルム形成用活性エネルギー線硬化型組成物は、光学フィルムの製造に好適に使用することができる。
さらに、本発明の光学フィルムは、前記で詳述した通り、偏光子保護フィルム用途において好適に使用される。

Claims (23)

1. 硬化物の下記光弾性係数１が３０×１０^-12Ｐａ^-1以下のウレタン（メタ）アクリレート（Ａ）、及び、
   下記光弾性係数２が５×１０^-12Ｐａ^-1以下の値を有し、かつ（Ａ）成分以外のポリマー（Ｂ）を含み、
   組成物の硬化物の下記光弾性係数１が１０×１０^-12Ｐａ^-1以下であり、
   厚さ４０μｍで測定した場合における硬化物の正面及び斜め４０°の面内レタデーション並びに厚さ方向のレタデーションの全てが５ｎｍ以下である
   光学フィルム形成用活性エネルギー線硬化型組成物。
   尚、光弾性係数１は、２３℃における光弾性係数を意味し、光弾性係数２は、使用した（Ａ）成分に対し任意の割合で（Ｂ）成分を添加して得られた光学フィルムの２３℃における光弾性係数の値を測定し、その添加量と光弾性係数との直線グラフから外挿した、添加量が１００％のときの値を意味する。
2. 前記（Ａ）成分が、芳香族基を有しない化合物である請求項１記載の光学フィルム形成用活性エネルギー線硬化型組成物。
3. 前記（Ａ）成分が、２個以上の（メタ）アクリロイル基を有し、重量平均分子量１，０００〜１５，０００のオリゴマーである請求項１又は請求項２に記載の光学フィルム形成用活性エネルギー線硬化型組成物。
4. 前記（Ａ）成分が、ポリオール、有機ポリイソシアネート及び水酸基含有（メタ）アクリレートの反応物である請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の光学フィルム形成用活性エネルギー線硬化型組成物。
5. 前記（Ａ）成分において、
   ポリオールが、炭素数２〜１２の脂肪族若しくは脂環族ジオール、又はポリカーボネートジオール若しくはポリエステルジオールと炭素数２〜１２の脂肪族若しくは脂環族ジオールとであり、
   有機ポリイソシアネートが、無黄変型有機ジイソシアネートである
   請求項４記載の光学フィルム形成用活性エネルギー線硬化型組成物。
6. 前記（Ａ）成分において、
   ポリオールが、数平均分子量が６２以上５００未満の炭素数２〜１２の脂肪族若しくは脂環族ジオールであり、
   有機ポリイソシアネートが、無黄変型有機ジイソシアネートであり、
   水酸基含有（メタ）アクリレートが、水酸基含有（メタ）アクリレートのカプロラクトン付加体である
   請求項４記載の光学フィルム形成用活性エネルギー線硬化型組成物。
7. 前記（Ｂ）成分が、（メタ）アクリロイル基を有するモノマーの単独重合体又は共重合体である請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の光学フィルム形成用活性エネルギー線硬化型組成物。
8. 前記（Ｂ）成分が、（メタ）アクリロイル基を有するモノマーの共重合体であって、アミド構造又はカルボキシル基を有する共重合体である請求項７に記載の光学フィルム形成用活性エネルギー線硬化型組成物。
9. 前記（Ｂ）成分が、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン共重合体である請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の光学フィルム形成用活性エネルギー線硬化型組成物。
10. 前記（Ｂ）成分が、エチレン性不飽和基を有するポリマーである請求項１〜請求項９のいずれか１項に記載の光学フィルム形成用活性エネルギー線硬化型組成物。
11. 前記（Ｂ）成分におけるエチレン性不飽和基が、（メタ）アクリロイル基である請求項１０記載の光学フィルム形成用活性エネルギー線硬化型組成物。
12. 前記（Ｂ）成分が、
    カルボキシル基を含有する重合体に、エポキシ基及びエチレン性不飽和基を有する化合物を付加して得られたポリマー、
    カルボキシル基を含有する重合体及び／又は水酸基を含有する重合体に、イソシアネート基及びエチレン性不飽和基を有する化合物を付加して得られたポリマー、並びに、
    エポキシ基を含有する重合体に、カルボキシル基及びエチレン性不飽和基を有する化合物を付加して得られたポリマー
    よりなる群から選択される１種以上である請求項１１又は請求項１２に記載の光学フィルム形成用活性エネルギー線硬化型組成物。
13. 前記カルボキシル基を含有する重合体、水酸基を含有する重合体又はエポキシ基を含有する重合体が、（メタ）アクリロイル基を有する化合物の共重合体である請求項１２記載の光学フィルム形成用活性エネルギー線硬化型組成物。
14. 前記カルボキシル基を含有する重合体又は水酸基を含有する重合体が、それぞれ末端にカルボキシル基を含有する重合体又は末端に水酸基を含有する重合体である請求項１２又は請求項１３に記載の光学フィルム形成用活性エネルギー線硬化型組成物。
15. （Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量を基準として、（Ａ）成分１０〜８０重量％及び（Ｂ）成分２０〜９０重量％で含む請求項１〜請求項１４のいずれか１項に記載の光学フィルム形成用活性エネルギー線硬化型組成物。
16. 光学フィルム形成用電子線硬化型組成物である請求項１〜請求項１５のいずれか１項に記載の光学フィルム形成用活性エネルギー線硬化型組成物。
17. 請求項１〜請求項１５のいずれか１項に記載の組成物の硬化物が、フィルム状又はシート状に形成されてなる光学フィルム。
18. 請求項１７記載の光学フィルムからなる偏光子保護フィルム。
19. シート状基材に、請求項１〜請求項１５のいずれか１項に記載の組成物を塗布した後、塗工面側又はシート状基材側から活性エネルギー線を照射する光学フィルムの製造方法。
20. シート状基材が剥離可能な基材である請求項１９記載の光学フィルムの製造方法。
21. シート状基材に、請求項１〜請求項１５のいずれか１項に記載の組成物を塗布し、組成物の塗工面に他のシート状基材を貼合した後、前記シート状基材のいずれかの側から活性エネルギー線を照射する光学フィルムの製造方法。
22. シート状基材のいずれか一方又は両方が剥離可能な基材である請求項２１記載の光学フィルムの製造方法。
23. ポリビニルアルコール系樹脂から形成される偏光子の少なくとも片面に、請求項１８記載の偏光子保護フィルムが積層された偏光板であって、該偏光子が接着剤層を介して該偏光子保護フィルムに接着されてなる偏光板。

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