JP2013141820A - 光学フィルム又はシートの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】残溶剤が少ない光学フィルムであっても支持体の剥離が容易であると共に、光学特性に優れる、より具体的には高い透明性、平滑性、光学特性（低レタデーション）等を備えた光学フィルム又はシートの製造方法の提供。
【解決手段】下記工程１〜工程３を含み、これら工程を順次実施する光学フィルム又はシートの製造方法。
工程１：ウレタン（メタ）アクリレート（Ａ）及び有機溶剤（Ｂ）を含有する活性エネルギー線硬化型組成物を、下記支持体Ｒ上に塗布する工程。
○支持体Ｒ：表面粗さ（中心線平均粗さ）Ｒａ（１）が０．００１〜０．１００μｍで、ヘイズが３．０％以下である離型性を有する支持体
工程２：工程１で塗布した組成物を加熱・乾燥し、加熱・乾燥後の組成物（以下、「乾燥塗膜」という）中の（Ｂ）成分の割合を１重量％以下にする工程。
工程３：乾燥塗膜側、又は支持体Ｒ側から活性エネルギー線を照射する工程。
【選択図】なし

Description

本発明は、活性エネルギー線硬化型組成物を使用する、好ましくは電子線硬化型組成物を使用する光学フィルム又はシートの製造方法に関し、当該技術分野に関するものである。
尚、下記においては、便宜上、特に断りがない場合は、「光学フィルム又はシート」を「光学フィルム」と表し、アクリレート又はメタクリレートを（メタ）アクリレートと表す。

近年、液晶ディスプレイの大型化に伴い、偏光子保護フィルムや液晶を光学補償する位相差フィルム等の光学フィルムの大型化も必要となってきている。この光学フィルムは、光学フィルム−液晶分子間で発生するレタデーションからの光学位相差を補償するための光学位相差板としての機能が求められ、その面内及び厚み方向のレタデーション値が小さいほど好ましく、大きくなると画像の表示品位を低下させる場合がある。特に液晶ディスプレイの大型化が進むにしたがって、顕著に視野角特性に影響を及ぼすようになる。

前記に加え光学部品に用いられるフィルムは、極めて高い透明性、平滑性も求められている。これに対応するには、従来の溶融成膜法では粘度が高く、高精度のろ過が困難であり、流動配向による複屈折も無視できないほど大きくなることから、極めて高い透明性、平滑性及び光学特性等を満たすことが困難であった。

光学用フィルムの製造方法として、他方では、樹脂を各種溶剤に溶解させ粘度を適宜調整し、支持体となる金属ベルトやフィルムに塗工した後、溶剤を乾燥除去した樹脂を硬化して得る溶液成膜法がある。この方法を用いれば、溶液粘度を低く出来るため高精度のろ過が可能であり、透明で欠点の少ない光学的に優れたフィルムを得ることができる。

しかしこの方法で光学フィルムを製造する場合、樹脂溶液を支持体に塗布し、乾燥後、支持体とフィルムを剥離する際、支持体とフィルムとの剥離が困難になるという問題があり、特に樹脂塗膜中の溶媒が少ないほど支持体とフィルムが強固に密着して剥離が困難になるという問題があった。このように剥離性が悪い場合には、剥離で生じるクレーズや欠点によりフィルムのヘイズ値や外観が悪化したり、最悪の場合には支持体から剥離できず、フィルムとして得ることができないという問題があった。
又、乾燥が不十分な場合には、硬化後の残存溶剤量も当然多くなるためフィルムの支持体からの剥離は容易であるが、フィルムの機械物性や光学特性への悪影響が大きく、光学フィルム、とりわけ偏光子保護フィルムとして使用することが困難となる。

当該製造方法の例としては特許文献１〜特許文献３があり、得られる光学フィルムは、ヘイズは良好であるが、レタデーションが大きく、画像の表示品位を低下させ視野角特性への影響が大きいものとなっている。

特許文献４、５には、これらを改善するため、残溶剤量をある一定量含む状態で乾燥を終え、この状態のまま硬化し支持体からフィルムを剥離した後、アニールすることより残溶剤を除去してフィルムを得る方法が開示されている。
しかし、この製造方法では、残溶剤量を調節しなければならず、支持体を剥離した後、さらに再度乾燥させる工程が必要であり、作業工程が長く設備の高コスト化が問題となる。

特再ＷＯ０９−８１６０７号公報 特開２０１１−１４５３３０号公報 特開２００５−１３８５６２号公報 特開２００３−３３４８３１号公報 特開２００６−２４１２６３号公報

前記した従来の光学フィルムの製造方では、工程が煩雑であったり、得られる光学フィルムの支持体から剥離性が不十分であったり、又、光学フィルム中に溶剤が残ってしまい、機械物性や光学物性が悪化するという問題があった。

本発明の目的は、残溶剤が少ない光学フィルムであっても支持体の剥離が容易であると共に、光学特性に優れる、より具体的には高い透明性、平滑性、光学特性（低レタデーション）等を備えた光学フィルム又はシートの製造方法を
提供することである。

本発明者らは、前記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、ウレタン（メタ）アクリレート及び有機溶剤を含有する活性エネルギー線硬化型組成物を使用し、特定の表面粗さ及びヘイズを有する支持体を使用して前記組成物を塗工し、十分乾燥させ残溶剤量を１％以下として活性エネルギー線を照射する光学フィルムの製造方法が有効であることを見出し、本発明を完成するに至った。

本発明の製造方法によれは、得られる光学フィルムは、残溶剤量が１％以下であっても支持体の除去が可能であり、これによって支持体を剥離してからさらに乾燥する工程が省略できるため、設備の低コスト化が可能となる。
又、得られる光学フィルムは、透明性、表面平滑性及び光学特性（低レタデーション）に優れるものである。好ましくは、ヘイズが１％以下、表面平滑性（Ｒａ（２）が０．００１〜０．１００μｍ、厚さ５０μｍで測定した場合の厚さ方向のレタデーションＲｔｈが１０ｎｍ以下となる光学フィルムを提供することができる。

本発明は、下記工程１〜工程３を含み、これら工程を順次実施する光学フィルム又はシートの製造方法に関する。
工程１：ウレタン（メタ）アクリレート（Ａ）〔以下、単に「（Ａ）成分」という〕及び有機溶剤（Ｂ）〔以下、単に「（Ｂ）成分」という〕を含有する活性エネルギー硬化型組成物、下記支持体Ｒ上に塗布する工程。
○支持体Ｒ：表面粗さがＲａ（１）が０．００１〜０．１００μｍで、ヘイズが３．０％以下である離型性を有する支持体
工程２：工程１で塗布した組成物を加熱・乾燥し、加熱・乾燥後の組成物（以下、「乾燥塗膜」という）中の（Ｂ）成分の割合を1重量％以下にする工程。
工程３：乾燥塗膜側、又は支持体Ｒ側から活性エネルギー線を照射する工程。

以下に本発明を詳細に説明する。尚、本明細書では、活性エネルギー線硬化型組成物に活性エネルギー線照射して得られる架橋物及び硬化物を、まとめて「硬化物」と表す。

１．活性エネルギー線硬化型組成物
本発明では、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分を含む活性エネルギー硬化型組成物を使用する。
本発明で使用する活性エネルギー線硬化型組成物は、下記（Ａ）及び（Ｂ）成分を必須とするものである。
以下、（Ａ）及び（Ｂ）成分について説明する。

1−1．（Ａ）成分
（Ａ）成分は、ウレタン(メタ)アクリレートである。
（Ａ）成分としては、ポリオール、有機ポリイソシアネート及びヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートの反応物等が挙げられる。
（Ａ）成分としては、２個以上の（メタ）アクリロイル基を有するウレタン（メタ）アクリレートであることが好ましく、２個の（メタ）アクリロイル基をウレタン（メタ）アクリレートであることがより好ましい。
（Ａ）成分としては、芳香族基を有しないウレタン（メタ）アクリレートが、低光弾性となるため好ましい。芳香族基を有しないウレタン（メタ）アクリレートは、原料のポリオール及び有機ポリイソシアネートとして、芳香族基を有しない化合物を使用することにより製造することができる。
（Ａ）成分の重量平均分子量としては、１，０００〜１５，０００のものが好ましく、より好ましくは１，０００〜１０，０００である。
尚、本発明において、重量平均分子量とは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（以下、「ＧＰＣ」という）により測定した分子量をポリスチレン換算した値である。
（Ａ）成分は、１種のみを使用しても、２種以上を併用しても良い。
以下、（Ａ）成分の原料化合物である、ポリオール、有機ポリイソシアネート及びヒドロキシル基含有（メタ）アクリレート、並びに（Ａ）成分の製造方法について説明する。

1-1-1．ポリオール
ポリオールとしては、ジオールが好ましく、さらにポリカーボネートジオール、ポリエステルジオール、ポリエーテルジオール、炭素数２〜１２の脂肪族ジオール及び炭素数２〜１２の脂環族ジオールがより好ましい。

ポリカーボネートジオールとしては、低分子量ジオール、ポリエーテルジオール又は／及びビスフェノールＡ等のビスフェノールとエチレンカーボネート及び炭酸ジブチルエステル等の炭酸ジアルキルエステルの反応物等が挙げられる。
ここで、低分子量ジオールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、シクロヘキサンジメタノール及び３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール等が挙げられる。
ポリエーテルジオールとしては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール及びポリテトラメチレングリコール等のポリアルキレングリコール、並びにポリエチレンポリプロポキシブロックポリマージオール等のブロック又はランダムポリマーのジオール等が挙げられる。

ポリエステルジオールとしては、前記低分子量ジオール又は／及び前記ポリエーテルジオールと、アジピン酸、コハク酸、フタル酸、テトラヒドルフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸及びテレフタル酸等の二塩基酸又はその無水物等の酸成分とのエステル化反応物等が挙げられる。

ポリエーテルジオールとしては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール及びポリテトラメチレングリコール等のポリアルキレングリコール；ポリエチレンポリプロポキシブロックポリマージオール等のブロック又はランダムポリマーのジオール等が挙げられる。

炭素数２〜１２の脂肪族ジオールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ポリテトラメチレングリコール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、２−エチル−１，３−ヘキサングリコール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、３，３−ジメチロールヘプタン、１，９−ノナンジオール及び２−メチル−１，８−オクタンジオール等が挙げられる。

炭素数２〜１２の脂環族ジオールとしては、シクロヘキサンジメタノール、水添ビスフェノール−Ａ、トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカンジメタノール（通称；トリシクロデカンジメタノール）、１，４−デカヒドロナフタレンジオール、１，５−デカヒドロナフタレンジオール、１，６−デカヒドロナフタレンジオール、２，６−デカヒドロナフタレンジオール、２，７−デカヒドロナフタレンジオール、デカヒドロナフタレンジメタノール、ノルボルナンジオール、ノルボルナンジメタノール、デカリンジメタノール、アダマンタンジオール、３，９−ビス（１，１−ジメチル−２−ヒドロキシエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン（通称；スピログリコール）、イイソソルビド、イソマンニド、２，２−ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）プロパン（通称；水添ビスフェノールＡ）、４，４′−ジヒドロキシジシクロヘキシルメタン（通称；水添ビスフェノールＦ）、１，１−ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）−１，１−ジシクロヘキシルメタン（通称；水添ビスフェノールＺ）及び４，４−ビシクロヘキサノール等が挙げられる。

ポリオールとしては、硬化物の機械強度を向上させるため、ジオール以外にもトリオールを併用することが好ましい。

トリオールとしては、１，２，６−ヘキサントリオール、１，２，３−ヘプタントリオール、１，２，４−ブタントリオール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、カシリトール、ピロガロール、グリセリン及びトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートが挙げられ、これらトリオールのε−カプロラクトン、エチレンオキサイド及びプロピレンオキサイド等の付加物等が挙げられる。

トリオールのカプロラクトン付加物としては、トリメチロールプロパンのカプロラクトン付加物、グリセリンのカプロラクトン付加物が好ましい。当該トリオールのカプロラクトン付加物としては、平均水酸基価３００〜６００ｍｇＫＯＨ／ｇ、平均水酸基数３の化合物が好ましい。
上記トリオールのカプロラクトン付加物は市販品されており、例えばプラクセル３０３、３０５、３０８、３１２、Ｌ３２０ＭＬ（ダイセル化学工業(株)製）等が挙げられる。

これらのポリオールは、１種のみを使用しても、２種以上を併用しても良い。

1-1-2．有機ポリイソシアネート
有機ポリイソシアネートとしては、有機ジイソシアネートが好ましく、無黄変型有機ジイソシアネートがより好ましい。
無黄変型有機ジイソシアネートとしては、ヘキサメチレンジイソシアネート、リジンメチルエステルジイソシアネート、２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート（以下、「ＩＰＤＩ」という）、４，４′−メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネート）、ノルボルナンジイソシアネート及びω，ω′−ジイソシアネートジメチルシクロヘキサン等の脂環族ジイソシアネート等が挙げられる。

これらの有機ポリイソシアネートは、１種のみを使用しても、２種以上を併用しても良い。

前記した化合物の中でも、硬化物の機械強度と光学特性に優れるという点で、ＩＰＤＩが好ましい。

1-1-3．ヒドロキシル基含有（メタ）アクリレート
ヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートとしては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ポリカプロラクトン変性ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシペンチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、ヒドロキシオクチル（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ、ジ又はモノ（メタ）アクリレート、及びトリメチロールプロパンジ又はモノ（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
前記した化合物の中でも、組成物の硬化性と硬化物の柔軟性に優れるという点で、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート及びポリカプロラクトン変性ヒドロキシエチルアクリレートが好ましい。

1-1-4．（Ａ）成分の製造方法
（Ａ）成分は、常法に従い製造されたもので良い。
（Ａ）成分としては、ポリオールと有機ポリイソシアネートを反応させてイソシアネート基含有化合物を製造し、これとヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートを反応させた化合物（以下、「化合物Ａ１」という）、ポリオール、有機ポリイソシアネート及びヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートを同時に反応させた化合物（以下、「化合物Ａ２」という）等が挙げられ、分子量を制御しやすいという理由で化合物Ａ１が好ましい。
化合物Ａ１を製造する場合は、ジブチルスズジラウレート等のウレタン化触媒存在下、使用するポリオール及び有機ポリイソシアネートを加熱攪拌し付加反応させ、さらにヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートを添加し、加熱攪拌し付加反応させる方法等が挙げられ、化合物Ａ２を製造する場合は、前記と同様の触媒の存在下に、ポリオール、有機ポリイソシアネート及びヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートを同時に添加して加熱攪拌する方法等が挙げられる。

1-1-5．好ましい（Ａ）成分
本発明において、（Ａ）成分としては、前記したものの中でも、ポリカーボネートジオール又はポリエステルジオール（以下、これらをまとめて「ジオールａ」という）、炭素数２〜１２の脂肪族又は脂環族ジオール（以下、これらをまとめて「ジオールｂ」という）、無黄変型有機ジイソシアネート及びヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートの反応物であるウレタン（メタ）アクリレートが好ましい。
当該（Ａ）成分は、他のウレタン（メタ）アクリレートと比較して、ポリオールとしてジオールａ、短鎖ジオールとしてジオールｂ、有機ジイソシアネートとして無黄変型を使用することにより、機械強度に優れ、耐光性試験後の黄変度が小さいものとなり、さらに組成物の硬化物の光弾性係数が低いものとすることができる。
ジオールａとしては、前記したポリカーボネートジオール及びポリエステルジオールが挙げられ、ジオールｂとしては、前記した炭素数２〜１２の脂肪族ジオール及び炭素数２〜１２脂環族ジオールが挙げられる。
これらのジオールａ及びｂは、１種のみを使用しても、２種以上を併用しても良い。
ジオールａ及びｂの割合としては、ジオールａ：５〜５０重量％及びジオールｂ：５０〜９５重量が％好ましく、より好ましくはジオールａ：５〜４０重量％及びジオールｂ：６０〜９５重量％である。

さらに、トリオールを併用する場合には、トリオールの割合としては、ジオールａ及びｂの合計：５０〜９５モル％及びトリオール：５〜５０モル％好ましく、より好ましくはジオールａ及びｂの合計：６０〜９５モル％及びトリオール：５〜４０モル％である。

当該（Ａ）成分としては、前記と同様に、ジオールａ及びジオールｂと無黄変型有機ジイソシアネートを反応させてイソシアネート基含有化合物を製造し、これとヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートを反応させた化合物（化合物Ａ１）、ジオールａ及びジオールｂ、無黄変型有機ジイソシアネート及びヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートを同時に反応させた化合物（化合物Ａ２）等が挙げられ、分子量を制御しやすいという理由で化合物Ａ１が好ましい。

1-2．（Ｂ）成分
（Ｂ）成分は、有機溶剤である。
本発明で使用する組成物として（Ｂ）成分を含むことにより、組成物の塗工性に優れるものとすることができる。又、溶液成膜法の利点である高精度のろ過が可能となる。

（Ｂ）成分の具体例としては、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン及びシクロヘキサン等の炭化水素系溶剤；
メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、イソブチルアルコール、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、２−（メトキシメトキシ）エタノール、２−イソプロポキシエタノール、２−ブトキシエタノール、２−イソペンチルオキシエタノール、２−ヘキシルオキシエタノール、２−フェノキシエタノール、２−ベンジルオキシエタノール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、ダイアセトンアルコール、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール及び１−エトキシ−２−プロパノール等のアルコール系溶剤；
テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、ビス(２−メトキシエチル)エーテル、ビス(２−エトキシエチル)エーテル及びビス(２−ブトキシエチル)エーテル等のエーテル系溶剤；
アセトン、メチルエチルケトン、メチル−ｎ−プロピルケトン、ジエチルケトン、ブチルメチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルペンチルケトン、ジ−ｎ−プロピルケトン、ジイソブチルケトン、ホロン、イソホロン、シクロヘキサノン及びメチルシクロヘキサノン等のケトン系溶剤；
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のアルキレングリコールモノエーテルアセテート；
酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル；
並びにＮ−メチルピロリドン等が挙げられる。
（Ｂ）成分としては、前記した化合物の１種又は２種以上用いることができる。

（Ｂ）成分の割合としては、適宜設定すれば良いが、好ましくは全組成物中に５〜９０重量％、より好ましくは１０〜７０重量％である。

（Ｂ）成分は、（Ａ）成分に別途（Ｂ）成分を配合しても、（Ａ）成分製造時に有機溶媒として使用した（Ｂ）成分をそのまま使用しても良い。

1−3．その他の成分
本発明で使用する組成物は、前記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分を必須とするものである。
組成物中の各成分の割合としては、前記（Ａ）成分を１０〜９５重量％含み、（Ｂ）成分を９０〜５重量％含むものが好ましい。後記する（Ａ）及び（Ｂ）成分以外の成分（以下、「その他成分」という）を含む場合は、（Ａ）成分とその他成分を１０〜９５重量％含み、（Ｂ）成分を９０〜５重量％含む組成物が好ましい。
本発明で使用する組成物は、前記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分を必須とするものであるが、目的に応じて種々のその他成分を配合することができる。
具体的には、（Ａ）成分以外のエチレン性不飽和化合物〔以下、「（Ｃ）成分」という〕、光重合開始剤〔以下、「（Ｄ）成分」という〕、２３℃における光弾性係数（以下、単に「光弾性係数」という）が負の値を有するポリマー〔以下、「（Ｅ）成分」という〕、重合禁止剤又は／及び酸化防止剤、耐光性向上剤等を挙げることができる。
以下これらの成分について説明する。

1−3−1．（Ｃ）成分
（Ｃ）成分は、（Ａ）成分以外のエチレン性不飽和化合物である。
（Ｃ）成分は、組成物全体の粘度を低下させる目的や、その他の物性を調整する目的で必要に応じて配合する成分である。

（Ｃ）成分の具体例としては、（Ａ）成分以外の（メタ）アクリレート〔以下、「その他（メタ）アクリレート」という〕やＮ−ビニル−２−ピロリドン等が挙げられる。

その他（メタ）アクリレートとしては、１個の（メタ）アクリロイル基を有する化合物〔以下、「単官能（メタ）アクリレート」という〕や２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物〔以下、「多官能（メタ）アクリレート」という〕等が挙げられる。

単官能（メタ）アクリレートの具体例としては、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、トリメチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、１−アダマンチル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、アリル(メタ）アクリレート、２−エトキシエチル(メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、о−フェニルフェノールＥＯ変性（ｎ＝１〜４）（メタ）アクリレート、ｐ−クミルフェノールＥＯ変性（ｎ＝１〜４）（メタ）アクリレート、フェニル(メタ）アクリレート、о−フェニルフェニル（メタ）アクリレート、ｐ−クミルフェニル（メタ）アクリレート、Ｎ−（メタ）アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−（メタ）アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、Ｎ−（メタ）アクリロイルオキシエチルテトラヒドロフタルイミド等が挙げられる。

多官能（メタ）アクリレートの具体例としては、ビスフェノールＡ ＥＯ変性（ｎ＝１〜２）ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール（ｎ＝５〜１４）ジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール（ｎ＝５〜１４）ジ（メタ）アクリレート、１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリブチレングリコール（ｎ＝３〜１６）ジ（メタ）アクリレート、ポリ（１−メチルブチレングリコール）（ｎ＝５〜２０）ジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレートの二官能（メタ）アクリレート等が挙げられる。
尚、上記においてＥＯ変性とは、エチレンオキサイド変性を意味し、ｎはアルキレンオキサイド単位の繰返し数を意味する。

（Ｃ）成分としては、前記した化合物の１種のみを使用しても、２種以上を併用しても良い。

（Ｃ）成分の割合としては、目的に応じて適宜設定すれば良く、得られる硬化物の柔軟性を低下させない量であれば良いが、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００重量部に対して１〜１００重量％が好ましく、より好ましくは１〜８０重量％である。

1−3−2．（Ｄ）成分
（Ｄ）成分は、光重合開始剤である。
本発明の組成物には、活性エネルギー線として紫外線及び可視光線を用いた場合、光重合開始剤を配合する必要がある。

（Ｄ）成分としては、ベンジルジメチルケタール、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−［4-（２−ヒドロキシエトキシ）-フェニル］−２−ヒドロキシー２−メチルー１−プロパンー１−オン、オリゴ［２−ヒドロキシー２−メチルー１−［４−１−（メチルビニル）フェニル］プロパノン、２−ヒドロキシー１−[４−［４−（２−ヒドロキシー２−メチループロピオニル）−ベンジル］−フェニル]−２−メチルプロパンー１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）］フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジルー２−ジメチルアミノー１−（４−モルフォリノフェニル）ブタンー１−オン、２−ジメチルアミノー２−（４−メチルベンジル）−１−（４−モルフォリン−４−イルーフェニル）−ブタンー１−オン、アデカオプトマーＮ−１４１４（(株)ＡＤＥＫＡ製）、フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステル、エチルアントラキノン、フェナントレンキノン等の芳香族ケトン化合物；
ベンゾフェノン、２−メチルベンゾフェノン、３−メチルベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、４−（メチルフェニルチオ）フェニルフェニルメタン、メチル−２−ベンゾフェノン、１−［４−（４−ベンゾイルフェニルスルファニル）フェニル］−２−メチル−２−（４−メチルフェニルスルフォニル）プロパンー１−オン、４，４‘−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４‘−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ′−テトラメチル−４，４′−ジアミノベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ′−テトラエチル−４，４′−ジアミノベンゾフェノン及び４−メトキシ−４′−ジメチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物；
ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、エチル−（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィネート及びビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド化合物；
チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、１−クロロ−４−プロピルチオキサントン、３−［３，４−ジメチル−９−オキソ−９Ｈ−チオキサントン−２−イル］オキシ］−２−ヒドロキシプロピル−Ｎ，Ｎ，Ｎ―トリメチルアンモニウムクロライド及びフロロチオキサントン等のチオキサントン系化合物；
アクリドン、１０−ブチル−２−クロロアクリドン等のアクリドン系化合物；
１，２−オクタンジオン１−［４−（フェニルチオ）−２−（Ｏ―ベンゾイルオキシム）］及びエタノン１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−１−（Ｏ―アセチルオキシム）等のオキシムエステル類；
２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（ｍ−メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−フェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２，４−ジ（ｐ−メトキシフェニル）−５−フェニルイミダゾール二量体及び２−（２，４−ジメトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体等の２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体；並びに
９−フェニルアクリジン及び１，７−ビス（９，９′−アクリジニル）ヘプタン等のアクリジン誘導体等が挙げられる。

これらの化合物は、１種又は２種以上を併用することもできる。

（Ｄ）成分の配合割合としては、（Ａ）成分の１００重量部に対して、後記（Ｃ）成分を配合する場合は、（Ａ）及び（Ｃ）成分の合計量１００重量部に対して、０．０１〜１０重量％が好ましく、より好ましくは０．１〜５重量％である。
（Ｄ）成分の配合割合を０．０１重量％以上とすることにより、適量な紫外線又は可視光線量で組成物を硬化させることができ生産性を向上させることができ、一方１０重量％以下とすることで、硬化物を耐侯性や透明性に優れたものとすることができる。

1−3−3．（Ｅ）成分
（Ｅ）成分は、光弾性係数が負の値を有するポリマーである。
（Ｅ）成分と配合することにより、硬化物の光弾性係数を低いものとすることができ、好ましくは１０×１０^-12Ｐａ^-1以下とすることができる。

（Ｅ）成分の光弾性係数としては、−１０〜−１が好ましく、より好ましくは−１０〜−２である。

本発明において光弾性係数とは、外力による複屈折の変化の生じやすさを表す係数で、光弾性係数の値がゼロに近いほど、外力による複屈折の変化が小さいことを意味する。
具体的には、光弾性係数（Ｃ）は、σを伸張応力、△ｎを応力付加時の複屈折としたとき、下式で定義される値である。
Ｃ［Ｐａ^-1 ］＝△ｎ／σ
ここで、△ｎは、ｎ₁を伸張方向と平行な方向の屈折率、ｎ₂を伸張方向と垂直な方向の屈折率としたとき、下式で定義される。
△ｎ＝ｎ₁−ｎ₂
尚、本発明における光弾性係数は、温度２３℃で測定した値を意味する。

（Ｅ）成分としては、負の光弾性係数を有するポリマーであれば種々の化合物が使用でき、（メタ）アクリロイル基を有するモノマーの単独重合体又は共重合体、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン共重合体、α−メチルスチレンの単独重合体又は共重合体、エチレン−テトラシクロドデセン共重合体等が挙げられる。

（メタ）アクリロイル基を有するモノマーとしては、具体的には（メタ）アクリル酸；
メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート；
２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート等のヒドロキシル基含有（メタ）アクリレート；
Ｎ−（メタ）アクリロイルモルホリン；並びに
（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド及びＮ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド等のアクリルアミド類等が挙げられる。

（メタ）アクリロイル基を有するモノマーの共重合体としては、アミド構造又はカルボキシル基を有する共重合体が、負の光弾性係数値が大きく、（Ａ）成分との相溶性に優れる点で好ましい。
アミド構造を有する共重合体において、アミド構造としてはモルホリン構造が好ましい。アミド構造を有する共重合体の具体例としては、メチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート及びＮ−（メタ）アクリロイルモルホリン共重合体が好ましい。
カルボキシル基を有する共重合体の具体例としては、（メタ）アクリレートとアクリル酸又はメタクリル酸の共重合体が好ましい。

（メタ）アクリロイル基を有するモノマーの単独重合体又は共重合体としては、市販のものも使用することができる。例えば、デルペット６０Ｎ、８０Ｎ〔旭化成ケミカルズ（株）製〕、ダイヤナールＢＲ５２、ＢＲ８０，ＢＲ８３，ＢＲ８５，ＢＲ８７，ＢＲ８８〔三菱レイヨン（株）製〕、ＫＴ７５〔電気化学工業（株）製〕等が挙げられる。
ダイヤナールは、（メタ）アクリロイル基を有するモノマーの共重合体であって、ＢＲ８３，ＢＲ８７，ＢＲ８８はカルボキシル基を有する共重合体の市販品である。

Ｎ−ビニル−２−ピロリドン共重合体において、Ｎ−ビニル−２−ピロリドンの共重合モノマーとしては、酢酸ビニル及びアルキル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
Ｎ−ビニル−２−ピロリドン共重合体の具体例としては、ビニルピロリドン・酢酸ビニル共重合体、ビニルピロリドン・メチル（メタ）アクリレート共重合体、ビニルピロリドン・エチル（メタ）アクリレート共重合体、ビニルピロリドン・ブチル（メタ）アクリレート共重合体等を挙げることができる。

Ｎ−ビニル−２−ピロリドン共重合体としては、市販のものも使用することができる。例えば、ＰＶＰ／ＶＡ Ｓ−６３０〔アイエスピー・ジャパン（株）製〕等が挙げられる。

本発明における（Ｄ）成分としては、エチレン性不飽和基を側鎖に有する重合体を用いることができ、（Ａ）成分との相溶性が向上するという点で好ましい。
エチレン性不飽和基を側鎖に有する重合体としては、カルボキシル基含有共重合体に、エポキシ基を有する不飽和化合物（以下「エポキシ系不飽和化合物」という）を付加したものやエポキシ基含有共重合体に、カルボキシル基を有する不飽和化合物（以下「カルボキシル系不飽和化合物」という）を付加したものが挙げられる。
カルボキシル基含有共重合体としては、（メタ）アクリル酸と（メタ）アクリレートの共重合体等が挙げられる。
エポキシ系不飽和化合物としては、グリシジル（メタ）アクリレート及びシクロヘキセンオキサイド含有（メタ）アクリレート等のエポキシ基含有（メタ）アクリレート等が挙げられる。
カルボキシル系不飽和化合物としては、アクリル酸及びメタクリル酸等が挙げられる。
付加反応の方法としては、常法に従えば良く、有機溶媒中又は無溶剤で、カルボキシル基含有共重合体にエポキシ系不飽和化合物を付加することにより製造することができる。付加反応の条件としては、各反応に応じて反応温度、反応時間及び触媒を適宜選択すれば良い。

（Ｅ）成分の重量平均分子量（Ｍｗ）は、（Ａ）成分との相溶性に優れる点で、１,０００〜１００,０００であることが好ましい。

（Ｅ）成分の製造方法としては、特に制限は無く、前記した単量体を使用して、懸濁重合、乳化重合、塊状重合、あるいは溶液重合等の公知の方法のいずれを用いても良い。ここで、重合開始剤としては、通常のパーオキサイド系及びアゾ系のものを用いることができ、また、レドックス系とすることもできる。

重合温度については、懸濁または乳化重合では３０〜１００℃、塊状または溶液重合では８０〜３００℃で実施しうる。さらに、アルキルメルカプタン等を連鎖移動剤として用いて重合を実施することもできる。

（Ｅ）成分の配合割合としては、（Ａ）成分を基準として、前記（Ｃ）成分を配合する場合は、（Ａ）及び（Ｃ）成分の合計量を基準として、１０〜７０重量％が好ましい。

1−3−4．重合禁止剤又は／及び酸化防止剤
本発明の組成物には、重合禁止剤又は／及び酸化防止剤を添加することが、本発明の組成物の保存安定性を向上させることができ、好ましい。
重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、並びに種々のフェノール系酸化防止剤が好ましいが、イオウ系二次酸化防止剤、リン系二次酸化防止剤等を添加することもできる。
これら重合禁止剤又は／及び酸化防止剤の総配合割合は、（Ａ）成分１００重量部に対して、前記（Ｃ）成分を配合する場合は、（Ａ）及び（Ｃ）成分の合計量１００重量部に対して、０．００１〜３重量％であることが好ましく、より好ましくは０．０１〜０．５重量％である。

1−3−5．耐光性向上剤
本発明の樹脂組成物には、紫外線吸収剤や光安定剤等の耐光性向上材を添加しても良い。
紫外線吸収剤としては、２−（２'−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−３'，５'−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−３'−ｔ−ブチル−５'−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール化合物；
２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−（２−ヒドロキシ−４−イソ−オクチルオキシフェニル）−ｓ−トリアジン等のトリアジン化合物；
２，４−ジヒドロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−４'−メチルベンゾフェノン、２,２'−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２、４、４'−トリヒドロキシベンゾフェノン、２,２',４,４'−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，４'−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３'，４，４'−テトラヒドロキシベンゾフェノン、又は２、２'−ジヒドロキシ−４，４'−ジメトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン化合物等を挙げることができる。
光安定性剤としては、Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−Ｎ，Ｎ′−ジホルミルヘキサメチレンジアミン、ビス（１，２，６，６−）ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−（３，５−ジターシャリーブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル）セバケート、等の低分子量ヒンダードアミン化合物；Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−Ｎ，Ｎ′−ジホルミルヘキサメチレンジアミン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル）セバケート等の高分子量ヒンダードアミン化合物等のヒンダードアミン系光安定剤を挙げることができる。
耐光性向上剤の配合割合は、（Ａ）成分１００重量部に対して、前記（Ｃ）成分を配合する場合は、（Ａ）及び（Ｃ）成分の合計量１００重量部に対して、０〜５重量％であることが好ましく、より好ましくは０〜１重量％である。

1−4．電子線硬化型組成物
本発明で使用する組成物は、必要に応じて前記した（Ｄ）成分（光重合開始剤）を配合できるが、光重合開始剤を配合しない、電子線硬化型組成物を使用することが好ましい。電子線硬化型組成物を使用することにより、（Ｄ）成分を含まないことにより、得られる硬化物の耐熱性や耐光性に優れるものとすることができる。

２．光学フィルムの製造方法
本発明は、下記工程１〜工程３を含み、これら工程を順次実施する光学フィルムの製造方法に関する。
工程１：（Ａ）及び（Ｂ）成分を含有する活性エネルギー線硬化型組成物を、下記支持体Ｒ上に塗布する工程。
○支持体Ｒ：表面粗さ（中心線平均粗さ）Ｒａ（１）が０．００１〜０．１００μｍで、ヘイズが３．０％以下である離型性を有する支持体
工程２：工程１で塗布した組成物を加熱・乾燥し、加熱・乾燥後の組成物（乾燥塗膜）中の（Ｂ）成分の割合を１重量％以下にする工程。
工程３：乾燥塗膜側、又は支持体Ｒ側から活性エネルギー線を照射する工程。
以下、それぞれの工程について説明する。

2−1．工程１
工程１は、活性エネルギー線硬化型組成物を、下記支持体Ｒ上に塗布する工程である。
○支持体Ｒ：表面粗さ（中心線平均粗さ）Ｒａ（１）が０．００１〜０．１００μｍで、ヘイズが３．０％以下である離型性を有する支持体

工程１に当たって、組成物としては、得られる光学フィルムを、異物の混入防止や空隙等の欠陥の発生を防止したり、光学物性の優れたものとするため、原料成分を撹拌・混合した後、精製したものを使用することが好ましい。
組成物の精製方法としては、組成物をろ過する方法が簡便であり好ましい。ろ過の方法としては、加圧ろ過等が挙げられる。
ろ過精度は、好ましくは１０μｍ以下、より好ましくは５μｍ以下である。ろ過精度は小さいほど好ましいが、小さすぎるとフィルターが目詰まりし易くなり、フィルターの交換頻度が増え生産性が低下するため、下限は０．１μｍが好ましい。

本発明で使用する支持体Ｒは、離型性を有する支持体である。
本発明において、「離型性を有する」支持体とは、得られる光学フィルムと支持体を剥離した場合に界面剥離し、かつ得られる光学フィルムのヘイズが１％以下になるものを意味する。
離型性を有しない支持体を使用した場合、本発明により得られる光学フィルムを剥がし難くなってしまう。離型性を有しない支持体の例としては、例えば得られる光学フィルムと支持体を剥離した場合に材料破壊してしまう非離型性のプラスチックや、離型性のプラスチックが易接着処理されたプラスチック等が挙げられる。この場合、易接着処理とは、離型性のプラスチックに対して、その表面をコロナ放電処理等により表面改質する処理や、その表面に易接着層を設ける処理等が挙げられる。

離型性を有する支持体の材質としては、金属及びプラスチック等が挙げられるが、取扱いが容易なため、プラスチックが好ましい。プラスチックの具体例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート及びポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリエチレン及びポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリノルボルネン等のポリシクロオレフィン、並びにポリカーボネート等が挙げられる。

離型性を有するプラスチックフィルムとしては、少なくとも片面が易接着処理されていないプラスチックフィルム又はシート（以下、「表面未処理フィルム」という）が好ましい。表面未処理フィルムの具体例としては、前記したプラスチックの少なくとも片面が易接着処理されていないものであり、それらの中でも、表面未処理ポリエレンテレフタレートフィルム、表面未処理ポリプロピレンフィルム及び表面未処理ポリシクロオレフィンフィルムが好ましい。

又、表面未処理フィルムとしては、離型処理されたものを使用することができる。具体的には、シリカ等のアンチブロッキング剤を配合したプラスチックフィルムや、フッ素樹脂やシリコーン処理されたプラスチックフィルム等が挙げられる。但し、シリコーン処理されたプラスチックフィルムは、上記表面粗さ及びヘイズを満たさないものが多いうえ、得られる光学フィルムにシリコーン等の処理剤が移行してしまい、品質の低下を招くことがあるため、目的に応じて使用を避けることが好ましい。

又、本発明で使用する支持体Ｒは、表面粗さ（中心線平均粗さ）Ｒａ（１）が０．００１〜０．１００μｍで、ヘイズが３．０％以下のものを使用する。
尚、本発明において表面粗さＲａとは、フィルムの表面の凹凸を測定し、平均の粗さを計算したものを意味する。
又、本発明においてヘイズとは、フィルムの濁度を表し、フィルムへの入射光のうち、拡散透過光の全光線透過光に対する割合から求められるものを意味する。

表面粗さＲａ（１）が上記範囲のものを使用することで、得られる光学フィルムに対して、低いヘイズにしたり、表面平滑性を付与することができる。

又、支持体の表面粗さＲａ（１）が０．１００超えるもの又はヘイズが３．０％を超えるものは、アンチブロッキング剤等の添加剤が多く添加されており、支持体の表面粗さが光学フィルムに転写され平滑性が低下したり、アンチブロッキング剤等の添加剤の移行量が多くなり、得られる光学フィルムのヘイズが１％を超えてしまう。このようなフィルムは、偏光解消による偏光度低下が起こり偏光子保護フィルムとして使用することができない。

支持体Ｒとしてポリマーフィルムを用いる場合、フィルムの厚みは２５〜２００μｍが好ましく、２５〜１５０μｍがより好ましい。
支持体Ｒのフィルム厚が２５μｍ以上にすることで十分な剛性とすることができ、塗布又は乾燥工程でフィルムにしわが入ることを防止し、フィルムの平滑性を維持することができる。２００μｍ以下とすることで、経済的であり、又、活性エネルギー線照射で硬化不良となることを防止できる。

組成物を支持体Ｒに塗工する場合の塗工方法としては、目的に応じて適宜設定すれば良く、従来公知のバーコート、アプリケーター、ドクターブレード、ナイフコーター、コンマコーター、リバースロールコーター、ダイコーター、グラビアコーター及びマイクログラビアコーター等、公知の塗工方法が挙げられる。

組成物の塗工量としては、使用する用途に応じて適宜選択すればよいが、（Ｂ）成分を乾燥した後の膜厚が５〜２００μｍとなるよう塗工するのが好ましく、より好ましくは１０〜１００μｍである。５μｍ以上とすることで、支持体から光学フィルムを剥離し易くなり、２００μｍ以下とすることで、組成物の乾燥を容易にし生産性を向上させることができ、又、発泡による透明性や平滑性の低下を防止することができる。

2−2．工程２
工程２は、工程１で塗布した組成物を加熱・乾燥し、乾燥塗膜中の（Ｂ）成分の割合を１重量％以下にする工程である。
乾燥塗膜中の（Ｂ）成分の割合を１重量％を超えると、得られる光学フィルムの機械物性や光学物性が低下してしまったり、支持体Ｒから容易に剥離できなくなってしまう。

加熱温度としては、乾燥塗膜中の（Ｂ）成分の割合が１重量％以下となり、支持体Ｒ又は組成物の硬化物の収縮によるしわの発生や熱分解等が起こらない温度であればよく、５０〜１５０℃が好ましい。加熱温度としては、５０〜１５０℃の範囲で１つの温度条件でも、複数の温度条件で連続的に乾燥させても良い。

乾燥を送風により実施しても良く、この時の風速としては、溶剤の発泡や表面のうねり等の欠点が発生しない風速であればよく、０〜３０ｍ／ｍｉｎの範囲で１つの風速条件でも、複数の風速条件で連続的に乾燥させても良い。
加熱・乾燥する時間は、乾燥塗膜中の（Ｂ）成分の割合が１重量％以下になればよく、目的及び温度及び風量等の加熱条件に応じて適宜設定すれば良いが、好ましくは１分〜２４時間の範囲である。

本発明では、工程２で乾燥塗膜とした後、そのまま工程３で活性エネルギー線の照射を実施することができる。この場合、工程３の後に得られる積層体は、硬化物（光学フィルム）／支持体Ｒの構成となる。

本発明では、工程２で乾燥塗膜とした後、必要に応じて乾燥塗膜上に支持体Ｒを貼り合せた後、工程３を実施することともできる。この場合、工程３の後に得られる積層体は、支持体Ｒ／硬化物（光学フィルム）／支持体Ｒの構成となる。

2−3．工程３
工程３は、乾燥塗膜側、又は支持体Ｒ側から活性エネルギー線を照射する工程である。
活性エネルギー線の照射により、乾燥塗膜中の（Ａ）成分が硬化し、光学フィルムを形成する。

活性エネルギー線としては、電子線、紫外線、可視光等が挙げられる。これらの中でも、光重合開始剤を必ずしも配合する必要がなく硬化物の耐熱性や耐光性に優れるという点で、電子線がより好ましい。

活性エネルギー線照射における、線量等の照射条件は、使用する組成物、支持体Ｒ及び目的等に応じて適宜設定すれば良い。

３．光学フィルム
前記工程３の活性エネルギー線照射後に得られる積層体は、硬化物（光学フィルム）／支持体Ｒの構成か、又は支持体Ｒ／硬化物（光学フィルム）／支持体Ｒの構成となる。

硬化物（光学フィルム）／支持体Ｒの場合、硬化物表面に支持体Ｒ又はその他離型性支持体を貼り合せることもできる。
その他離型性支持体としては、シリコーン処理ポリエチレンテレフタレートフィルム、表面未処理ポリエチレンテレフタレートフィルム、表面未処理シクロオレフィンポリマーフィルム及び表面未処理ＯＰＰフィルム（ポリプロピレン）等が挙げられる。

光学フィルムは、使用直前に支持体Ｒ又はその他離型性支持体を剥がして使用される。
本発明の製造方法で得られる光学フィルムは、支持体Ｒから容易に剥離できるものである。

本発明により得られる光学フィルムの厚さとしては、目的に応じて適宜設定すれば良いが、２０〜２００μｍが好ましく、より好ましくは４０〜１００μｍである。
本発明により得られる光学フィルムは、ヘイズは１％以下、表面粗さＲａ（２）が０．００１〜０．１００μｍで、厚さ５０μｍで測定した場合の厚さ方向のレタデーションも１０ｎｍ以下であるという、光学特性に優れるものである。

本発明においてレタデーションとは、光学フィルムに直線偏光が入射したとき透過光を直交する２つの直線偏光に分解して考えたときの複屈折により生じる位相差を意味する。
具体的には、厚さ方向のレタデーション（Ｒｔｈ）は、フィルム面内の主屈折率をｎｘ、ｎｙ（但し、ｎｘ≧ｎｙ）、厚さ方向の屈折率をｎｚ、フィルム厚さをｄとしたとき、下式で定義される値である。
Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）｝×ｄ

当該光学フィルムは、種々の光学用途に使用できるものであり、より具体的には、液晶表示装置等に使用される偏光板の偏光子保護フィルム、プリズムシート用支持フィルム及び導光フィルム等が挙げられる。
本発明の製造方法で得られる光学フィルムは、これらの中でも偏光子保護フィルムに公的に使用できるものである。

以下、本発明の製造方法で得られる偏光子保護フィルム（以下、単に「保護フィルム」という）を使用した偏光板について説明する。

3−1．偏光板
偏光板は、偏光子の少なくとも片面に保護フィルムが積層された構成である。
偏光子としては、自然光からある一方向の直線偏光を選択的に透過する機能を有するものであれば種々の材料が使用できる。
例えば、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を吸着・配向させたヨウ素系偏光フィルム、ポリビニルアルコール系フィルムに二色性の染料を吸着・配向させた染料系偏光フィルム、二色性染料をコーティングし、配向・固定化した塗布型偏光子等が挙げられる。これら、ヨウ素系偏光フィルム、染料系偏光フィルム及び塗布型偏光子は、自然光からある一方向の直線偏光を選択的に透過し、もう一方向の直線偏光を吸収する機能を有するもので、吸収型偏光子と呼ばれている。これらの偏光子の中でも、視認性に優れている吸収型偏光子を用いるのが好ましい。吸収型偏光子の厚みは、５〜４０μmが好ましい。
本発明の偏光板は、偏光子の少なくとも片面に、保護フィルムとして本発明の光学フィルムが積層された偏光板であって、接着剤により接着される。

偏光子と保護フィルムとの接着に用いる接着剤は、それぞれの接着性を考慮して任意のものを用いることができる。
接着剤としては、具体的には、ポリビニルアルコール系水系接着剤、溶剤系接着剤、ホットメルト系接着剤及び無溶剤系接着剤等が挙げられ、無溶剤系の活性エネルギー線硬化型接着剤を好適に用いることができる。
活性エネルギー線硬化型接着剤としては、光カチオン硬化型接着剤、光ラジカル硬化型接着剤、及び光カチオン硬化と光ラジカル硬化を併用するハイブリッド型接着剤が挙げられる。
光カチオン硬化型接着剤としては、エポキシ化合物及びオキセタン化合物等の光カチオン硬化性化合物、並びに光カチオン重合開始剤を含む接着剤等が挙げられる。
光ラジカル硬化型接着剤としては、（メタ）アクリレート、ビニルエーテル、ビニル化合物等の光ラジカル硬化性化合物、並びに光ラジカル重合開始剤を含む接着剤等が挙げられる。
ハイブリッド型接着剤としては、前記した光カチオン硬化性化合物、光ラジカル硬化性化合物、光カチオン重合開始剤及び光ラジカル重合開始剤を含む接着剤等が挙げられる。

偏光子の両面に保護フィルムを有する場合、本発明の保護フィルムを両面に有するものが最も好ましい。但し、必要に応じて本発明の保護フィルムを片面に使用し、もう片面には本願発明の保護フィルム以外の保護フィルム（以下、「その他保護フィルム」という）を使用することもできる。
その他保護フィルムとしては、例えば、トリアセチルセルロースやジアセチルセルロースのようなセルロースアセテート樹脂フィルム、アクリル樹脂フィルム、ポリエステル樹脂フィルム、ノルボルネンのような環状オレフィンをモノマーとする環状ポリオレフィン樹脂フィルム等が挙げられる。又、これらをディスプレイ側の保護フィルムとして使用する場合には位相差を有するフィルムであっても良い。

以下に、実施例及び比較例を挙げ、本発明をより具体的に説明する。尚、下記において「部」とは、重量部を意味する。

○製造例１〔（Ａ）成分の製造〕
攪拌機を備えた３０００ｍＬ反応容器に、ＩＰＤＩ６０６．０ｇと触媒としてジブチルスズジラウレートを２８０ｍｇ（反応溶液中に２５０ｐｐｍ）を仕込み、５容量％の酸素を含む窒素の雰囲気下、これらを攪拌した。次にポリカプトントリオール（プラクセルＰＣＬ３０３〔ダイセル化学工業（株）数平均分子量３００〕を７２．９ｇ、ポリカーボネートジオール〔旭化成ケミカルズ（株）製デュラノールＴ−５６５１、数平均分子量１，０００。以下、「Ｔ５６５１」という）を８１．５ｇ、１，４−ブタンジオールを１１３．０ｇ、希釈剤としてメチルエチルケトン（以下、「ＭＥＫ」という）を２７５．０ｇを予め混合した後、内温が７５℃以下となるように調節しながら滴下した。滴下後８０℃で３時間撹拌してから、赤外線吸収スペクトル装置（Ｐｅｒｋｉｎ Ｅｌｍｅｒ製ＦＴ−ＩＲ Ｓｐｅｃｔｒｕｍ１００）によりスペクトルを測定し、ＮＣＯ（２３００ｃｍ^-1付近）とＣＨ（２９５０ｃｍ^-1付近）の比が変化しなくなることを確認した。
この後、予め混合しておいた２−ヒドロキシエチルアクリレート（以下、「ＨＥＡ」という）２４６．５ｇ、ジブチルスズジラウレート２８０ｍｇ（反応溶液中に２５０ｐｐｍ）、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール（以下、「ＢＨＴ」という）１．１ｇ（１，０００ｐｐｍ）、ＭＥＫ５．０ｇを滴下し２時間反応させ、目的のウレタンアクリレート（以下、「（Ａ−１）」という）を含むＭＥＫ溶液（固形分８０％）を得た。
（Ａ−１）のポリスチレン換算重量平均分子量（以下、「Ｍｗ」という）を、ゲル浸透クロマトグラフィー（溶媒：テトラヒドロフラン、カラム：Ｗａｔｅｒｓ製ＨＳＰｇｅｌ ＨＲ ＭＢ−Ｌ）により測定した結果、２，５００であった。

○製造例２〔（Ａ）成分の製造〕
製造例１において、イソシアネートとしてＩＰＤＩ：６３９．０ｇ、アルコール溶液としてＴ５６５１：１８８．０ｇ、トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカンジメタノール（オクセア社製ＴＣＤＤＭ）：３２０．５ｇ及びＭＥＫ：３２５．０ｇの混合溶液、ＨＥＡ：２５２．５ｇとした以外は同様の操作を行い、ウレタンアクリレート（以下、「（Ａ−２）」という）を含むＭＥＫ溶液（固形分８０％）を得た。得られた（Ａ−２）のＭｗは、２，３００であった。

○活性エネルギー線硬化型組成物の製造
製造例１及び同２で得られたウレタンアクリレート溶液と、ＭＥＫ又はプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（以下、「ＰＧＭＡＣ」という）を、後記表１に示す成分を表１に示す割合となるようステンレス製容器に投入し、加温しながらマグネチックスターラーで均一になるまで撹拌し、組成物を得た。
尚、塗液４では、さらに光重合開始剤〔２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、ＢＡＳＦジャパン（株）製ＤＡＲＯＣＵＲ−１１７３。以下、「Ｄｃ１１７３」という。〕１部をさらに加え、同様に製造した。
得られた組成物の割合を表１に示す。尚、表１におけるＭＥＫの部数は、原料ウレタンアクリレート溶液に含まれるＭＥＫと別途配合するＭＥＫの合計量を示す。

○実施例１
得られた組成物を、５μｍのカートリッジフィルター（キュノ製マイクロワインドII）
を用い、０．１２ＭＰａで加圧ろ過を行った。
支持体Ｒとして、東レ（株）製フィルム「ルミラーＴ６０」（表面未処理ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ５０μｍ、以下「Ｔ６０」という）を使用した。
Ｔ６０のヘイズと表面粗さＲａ（１）を、以下の方法に従い測定した。

Ｔ６０に、組成物１を膜厚が７０μｍになるようアプリケーターで塗工した。
これを１２０℃で６分間乾燥（平均風速２ｍ／s）させた。乾燥させた組成物層へ（株）ＮＨＶコーポレーション製の電子線照射装置により、加速電圧２００ｋＶ、線量５０ｋＧｙ（ビーム電流及び搬送速度により調整）、酸素濃度３００ｐｐｍ以下の条件下で電子線照射を行い、膜厚５０μｍの光学フィルムを得た。
得られた光学フィルムについて、残溶剤量、支持体の剥離性、ヘイズ、表面粗さＲａ（２）及び厚さ方向のレタデーションを後述する方法で測定した。

○評価方法
〔ヘイズ〕
実施例及び比較例で用いられた支持体と得られた光学フィルムについて、ヘイズメーター〔日本電色工業（株）製ＮＤＨ２０００〕を用いて２３℃、５０％ＲＨの環境下でヘイズを測定した。その結果を表２、表３に示す。

〔表面粗さ（中心線平均粗さ）Ｒａ〕
キーエンス社製共焦点レーザー顕微鏡ＶＫ−９７１０を用いて、フィルム上の３点の中心線平均粗さＲａを算出し平均値を求めた。ここで、Ｒａ（１）は支持体の平均粗さであり、Ｒａ（２）は光学フィルムの平均粗さである。これらの結果を表２、表３に示す。

〔残溶剤測定〕
支持体へ塗工し乾燥後の樹脂をサンプリングして、ジーエルサイエンス(株)製ガスクロマトグラフＧＣ−３９０Ｂを用いて、残溶剤の定量を行った。この結果を表２に示す。

[光学フィルムからの支持体の剥離性]
剥離可であれば○、不可であれば×とした。この結果を表３に示す。

〔厚さ方向のレタデーション〕
実施例及び比較例で得られた光学フィルムについて、位相差測定器（王子計測機器（株）製ＫＯＢＲＡ-２１ＡＤＨ)を用いて、厚さ方向レタデーションＲｔｈを測定した。この結果を表３に示す。

○実施例２
実施例１において、組成物として組成物２を使用した以外は、実施例１と同様の方法で光学フィルムを製造し、実施例１と同様に評価を行った。

○実施例３
実施例１において、支持体として 東レ（株）製フィルム「ルミラーＵ３５」（片面易接着処理ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ１２５μｍ、以下「Ｕ３５」という）の未処理面を使用した以外は、実施例１と同様の方法で光学フィルムを製造し、実施例１と同様に評価を行った。

○実施例４
実施例２において、支持体として日本ゼオン(株)製ゼオノアＺＦ−１４（シクロオレフィンポリマーフィルム、厚さ１００μｍ、以下「ゼオノア」という）を使用した以外は、同様の方法で光学フィルムを製造し、実施例１と同様に評価を行った。

○実施例５
実施例１において、支持体として王子特殊紙(株)製アルファンＥ２０１Ｆ（二軸延伸ポリプロピレンフィルム、厚さ５０μｍ、以下「Ｅ２０１Ｆ」という）を使用した以外は、実施例１と同様の方法で光学フィルムを製造し、実施例１と同様に評価を行った。

○実施例６
実施例１において、組成物として組成物３を使用し、乾燥条件を１２０℃×１０分間（平均風速２ｍ／ｓ）とした以外は、実施例１と同様の方法で光学フィルムを製造し、実施例１と同様に評価を行った。

○実施例７
実施例１において、組成物として組成物４を使用し、アイグラフィックス（株）製のコンベア式紫外線照射装置（高圧水銀灯、ＵＶ−Ａ領域で３５０ｍＷ／ｃｍ²、積算光量２５０ｍＪ／ｃｍ²（ＥＩＴ社製ＵＶ ＰＯＷＥＲ ＰＵＣＫの測定値））によりの紫外線照射を行った以外は、実施例１と同様の方法で光学フィルムを製造し、実施例１と同様に評価を行った。

○比較例１
実施例１において、乾燥条件を８０℃×３分とした以外は、実施例１と同様の方法で光学フィルムを製造し、実施例１と同様に評価を行った。

○比較例２
実施例１において、支持体として東レ(株)製「セラピールＢＸ−８」（シリコン処理処理ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ３８μｍ、以下「セラピール」という）を使用した以外は、実施例１と同様の方法で光学フィルムを製造し、実施例１と同様に評価を行った。

○比較例３
実施例１において、支持体として東レ(株)製フィルム「ルミラーＳ１０」（表面未処理ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ３８μｍ、以下「Ｓ１０」という）を使用した以外は、実施例１と同様の方法で光学フィルムを製造し、実施例１と同様に評価を行った。

○比較例４
実施例６において、乾燥条件を１２０℃×３分（平均風速２ｍ／ｓ）とした以外は、実施例６と同様の方法で光学フィルムを製造し、実施例１と同様に評価を行った。

○比較例５
実施例１において、支持体として帝人デュポンフィルム(株)製「テトロンＯＬＷ」（易接着処理ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ５０μｍ、以下「テトロン」という）を使用した以外は、実施例１と同様の方法で光学フィルムを製造し、実施例１と同様に評価を行った。

○比較例６
実施例１において、支持体として王子特殊紙(株)製アルファンＭＡ４２０（二軸延伸ポリプロピレンフィルム、厚さ３５μｍ、以下「ＭＡ４２０」という）を使用した以外は、実施例１と同様の方法で光学フィルムを製造し、実施例１と同様に評価を行った。

実施例で得られた光学フィルムは、支持体の剥離性に優れ、Ｒａ（２）、ヘイズ及びＲｔｈのいずれも低いものであり、光学特性に優れるものであった。
これに対して、比較例１及び同４は、それぞれ実施例１及び同３に対して、工程２における乾燥塗膜中の（Ｂ）成分の割合が１重量％を超える例であるが、得られる光学フィルムが、支持体の剥離性、Ｒａ（２）及びヘイズに優れるものの、Ｒｔｈが高いものとなってしまった。
次に、比較例２及び同３は、いずれも実施例１に対して、工程１で使用する支持体のヘイズが３重量％を超える例であるが、得られる光学フィルムが、支持体の剥離性及びＲａ（２）に優れるものの、ヘイズが高いものとなってしまい、光学フィルムとして適さないものであり、Ｒｔｈの測定は行わなかった。
次に、比較例５は、実施例１に対して、工程１で使用する支持体が易接着処理させ剥離性を有しないものの例であるが、得られる光学フィルムが、支持体から剥離し難く、正常な光学フィルムが製造できなかったため、Ｒａ（２）、ヘイズ及びＲｔｈを測定することができなかった。
最後に、比較例６は、実施例１に対して、工程１で使用する支持体のＲａ（１）が０．１００μｍを超える例であるが、得られる光学フィルムが、支持体の剥離性及びＲａ（２）に優れるものの、ヘイズが非常に高いものとなってしまい、光学フィルムとして適さないものであり、Ｒｔｈの測定は行わなかった。

本発明の製造方法は、光学フィルムの製造に好適に使用することができる。

Claims (11)

1. 下記工程１〜工程３を含み、これら工程を順次実施する光学フィルム又はシートの製造方法。
   工程１：ウレタン（メタ）アクリレート（Ａ）及び有機溶剤（Ｂ）を含有する活性エネルギー線硬化型組成物を、下記支持体Ｒ上に塗布する工程。
   ○支持体Ｒ：表面粗さ（中心線平均粗さ）Ｒａ（１）が０．００１〜０．１００μｍで、ヘイズが３．０％以下である離型性を有する支持体
   工程２：工程１で塗布した組成物を加熱・乾燥し、加熱・乾燥後の組成物（以下、「乾燥塗膜」という）中の（Ｂ）成分の割合を１重量％以下にする工程。
   工程３：乾燥塗膜側、又は支持体Ｒ側から活性エネルギー線を照射する工程。
2. 前記工程２を実施した後、乾燥塗膜上に支持体Ｒを貼り合せ、その後に前記工程３を実施する請求項１記載の光学フィルム又はシートの製造方法。
3. 前記（Ａ）成分が、ポリカーボネートジオール又はポリエステルジオール、炭素数２〜１２の脂肪族又は脂環族ジオール、無黄変型有機ジイソシアネート及びヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートの反応物である請求項１又は請求項２記載の光学フィルム又はシートの製造方法。
4. 前記組成物は、全組成物中に、（Ａ）成分を１０〜９５重量％含み、（Ｂ）成分を９０〜５重量％含むものである請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の光学フィルム又はシートの製造方法。
5. 前記組成物は、（Ａ）及び（Ｂ）成分以外の成分（以下、「その他成分」という）をさらに含む組成物であって、全組成物中に、
   （Ａ）成分とその他成分を合計で１０〜９５重量％含み、
   （Ｂ）成分を９０〜５重量％含むものである請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の光学フィルム又はシートの製造方法。
6. 前記組成物として、ろ過工程を経たものを使用する請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の光学フィルム又はシートの製造方法。
7. 前記支持体Ｒが、得られる光学フィルム又はシートと支持体Ｒを剥離した場合に界面剥離し、かつ得られる光学フィルム又はシートのヘイズが１％以下になるものである請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の光学フィルム又はシートの製造方法。
8. 前記支持体Ｒが、少なくとも片面が易接着処理されていない、ポリエレンテレフタレートフィルム又はシート、ポリプロピレンフィルム又はシート及びポリシクロオレフィンフィルム又はシートのいずれかであり、当該易接着処理されていない面に組成物を塗工する請求項１〜請求項７のいずれか１項に記載の光学フィルム又はシートの製造方法。
9. 工程２の加熱・乾燥の温度が、５０〜１５０℃である請求項１〜請求項８のいずれか１項に記載の光学フィルム又はシートの製造方法。
10. 工程３の活性エネルギー線照射を電子線照射により行う請求項１〜請求項９のいずれか１項に光学フィルム又はシートの製造方法。
11. 請求項１〜請求項１０のいずれか１項に記載の光学フィルム又はシートの製造方法から得られる光学フィルム又はシートであって、ヘイズが１．０％以下、表面粗さ（中心線平均粗さ）Ｒａ（２）が０．００１〜０．１００μｍ、厚さ５０μｍで測定した場合の厚さ方向のレタデーションＲｔｈが１０ｎｍ以下である光学フィルム又はシート。