JP2017142489A - 偏光板の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】変形故障がなく、液晶表示装置に実装した場合に環境変化に伴う液晶表示装置の光ムラを抑制できる偏光板を提供すること。
【解決手段】 基材上にラテックス層を形成し、乾燥することにより、上記基材上に光学フィルムを形成した転写フィルムを作成する工程、
上記転写フィルムの上記光学フィルム側表面に偏光子を貼り合わせる工程、
上記転写フィルムから上記基材を剥離する工程を有し、
上記ラテックス層を形成するラテックスが、シクロヘキサノンに１０重量パーセントで混合された場合、実質的に溶解せず、
上記基材の上記ラテックス層を形成する側の表面エネルギーが、４１．０〜４８．０ｍＮ／ｍであり、
上記光学フィルムの厚さが１〜１０μｍである、偏光板の製造方法。
【選択図】なし

Description

本発明は、偏光板の製造方法に関する。

偏光板は液晶表示装置を構成する必須部材である。一般的な偏光板はポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系樹脂にヨウ素錯体などの二色性色素を吸着配向させた偏光膜の片面、もしくは両面に光学フィルムを貼合させた構成を有する。近年の液晶表示装置では薄型化や大型化が急速に進んでおり、環境変化に伴う液晶表示装置表示面に光ムラが発生する問題が顕在化してきた。

液晶表示装置の必須部材である偏光板においても薄型化および大型化が進んでおり、偏光板の変形がパネルの表示故障を引き起こしやすい状況になっている。具体的には偏光板が伸縮した場合に、偏光板に貼り合わされた液晶パネルが反り、これとは別にバックライト部材なども変形し、パネルとバックライト部材とが接触することによって光ムラが発生すると考えられている。

この問題を解決するために、光弾性係数が小さいアクリル系樹脂からなる光学フィルムを用いる方式（特許文献１）などが提案されている。

また、アクリル系樹脂およびスチレン系樹脂を含み光弾性係数が小さくレタデーションが大きい位相差フィルムおよび偏光板（特許文献２）や、スチレン系樹脂を含みレタデーションが大きい位相差フィルム（特許文献３）などが提案されている。

一方、ラテックスは偏光板保護フィルムと偏光子との接着層（特許文献４）への適用や、透明基材とラテックス層を合わせて透湿度が低い偏光板用保護フィルム(特許文献５)が提案されている。

特開２００９−１２２６６３号公報 特開２００８−１４６００３号公報 特開２００８−１８５６５９号公報 特許第４３５２７０５号公報 特開２００８−２５６７４７号公報

鋭意検討した結果、特許文献１に開示されているアクリル系フィルムや特許文献２に開示されているアクリル・スチレン系フィルムは偏光層との接着性が十分でなく、チップ状に加工する際に端面に剥がれや割れが発生するため、加工された偏光板の端面から屑が発生し易く、表示性能を劣化させることがわかった。

特許文献３に開示されているスチレン系フィルムは脆性が十分でなく、製膜工程において膜厚を厚くする必要があるため、小さいレタデーションとすることが困難であり、表示性能を劣化させることがわかった。

特許文献４及び５に記載されているラテックスは偏光子と反対側に偏光板保護フィルムを有することで膜厚が厚くなる結果、光ムラが起きやすいことがわかった。

本発明の解決しようとする課題は、変形故障がなく、液晶表示装置に実装した場合に環境変化に伴う液晶表示装置の光ムラを抑制できる偏光板を提供することである。

偏光板の光ムラを改良するため、支持体上にラテックス層を光学フィルムとして形成した転写フィルムを作製し、光学フィルムを偏光子に貼り合わせ支持体を剥離することで、上記課題を解決できることを見出した。
具体的には下記手段により上記課題を解決できる。

［１］
基材上にラテックス層を形成し、乾燥することにより、上記基材上に光学フィルムを形成した転写フィルムを作成する工程、
上記転写フィルムの上記光学フィルム側表面に偏光子を貼り合わせる工程、
上記転写フィルムから上記基材を剥離する工程を有し、
上記ラテックス層を形成するラテックスが、シクロヘキサノンに１０重量パーセントで混合された場合、実質的に溶解せず、
上記基材の上記ラテックス層を形成する側の表面エネルギーが、４１．０〜４８．０ｍＮ／ｍであり、
上記光学フィルムの厚さが１〜１０μｍである、偏光板の製造方法。
［２］
上記偏光子の光学フィルムの反対側に保護フィルムを有する、［１］に記載の偏光板の製造方法。
［３］
上記偏光子がポリビニルアルコール系樹脂からなる、［１］又は［２］に記載の偏光板の製造方法。

偏光板の光ムラを改良するためには、偏光板の液晶表示装置側の光学フィルムが薄いことが有効であること、更にシクロヘキサノンに実質的に溶解しないラテックス層を光学フィルムにもちいることで、光ムラを改良する効果が顕著であることがわかった。シクロヘキサノンに実質的に溶解しないラテックスで形成された光学フィルムは、周囲の温度湿度変化の影響を偏光板に伝えにくくしていると推定している。

本発明の内容について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。尚、本願明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。

＜ラテックス＞
ラテックスとは、樹脂が分散媒中で粒子状に分散した分散物を示す。
上記分散媒としては、例えば水が挙げられる。
ラテックスとしては、アクリル酸エステル系ラテックス、メタクリル酸系ラテックス、スチレン系ラテックスから選ぶことが出来る。また、このラテックスは、（ａ）ジオレフィン系単量体、（ｂ）ビニル単量体、（ｃ）１種以上の分子内に２個以上のビニル基、アクリロイル基、メタアクリロイル又はアリル基を有する単量体からなる単量体混合物に対し、（ｄ）α−メチルスチレンダイマーと他の重合連鎖移動剤とからなる重合連鎖移動剤の存在下において、水性媒体中で乳化重合して得られる共重合体ラテックスでも良い。

共重合体を形成する一方の単量体である（ａ）ジオレフイン系単量体には、共役ジエンであるブタジエン、イソプレン、クロロプレン、等を挙げることができ、とりわけブタジエンが好ましく用いられる。

共重合体の第２成分である（ｂ）ビニル単量体としては、ビニル基を固有する単量体なら何でもよいが、好ましくは下記に示すものであり、スチレン、アクリロニトリル、メタクリル酸メチル、塩化ビニル、酢酸ビニル及びこれらの誘導体、アクリル酸のアルキルエステル、アクリルアミド、メタクリルアミド、アクロレイン、メタアクロレイン、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、アリルアクリレート、アリルメタクリレート、Ｎ−メチロール化アクリルアミド、Ｎ−メチロール化メタクリルアミド、ビニルイソシアネート、アリルイソシアネート等を挙げることができる。

上記スチレンの誘導体としては、例えば、メチルスチレン、ジメチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロヘキシルスチレン、デシルスチレン、ベンジルスチレン、クロルメルスチレン、トリフルオロメチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレン、メトキシスチレン、４−メトキシ−３−メチルスチレン、ジメトキシスチレン、クロルスチレン、ジクロルスチレン、トリクロルスチレン、テトラクロスチレン、ペンタクロルスチレン、ブロムスチレン、ジブロムスチレン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、トリフルオルスチレン、２−ブロム−４−トリフルオルメチルスチレン、４−フルオル−３−トリフルオルメチルスチレン、ビニル安息香酸メチルエステル等を挙げることができる。

アクリル酸のエステルの中で好ましいものとしては、アクリル酸エステル、グリシジル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートを挙げることができる。

また、共重合体の第３成分である（ｃ）分子内に２個以上のビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、又はアリル基を有する単量体としては、ジビニルベンゼン、１，５−ヘキサジエン−３−イン、ヘキサトリエン、ジビニルエーテル、ジビニルスルホン、ジアリルフタレート、ジアリルカルビノール、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールプロパンジメタクリレート等の通常ビニル単量体の重合の際に添加されるいわゆる架橋剤を挙げることができる。

共重合体中の（ａ）ジオレフイン単量体の含有量が共重合体全体の１０〜６０質量％、特に１５〜４０質量％であることが好ましい。（ｂ）ビニル単量体としては全体の９０〜４０質量％であるが、特に、上記ビニル単量体、とりわけスチレン類が共重合全体の７０〜４０質量％であることが好ましい。（ｃ）分子内に２個以上のビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アリル基を有する単量体は、（ａ）ジオレフイン単量体と（ｂ）ビニル単量体との合計に対して０．０１〜１０質量％、特に０．１〜５質量％であることが好ましい。

（ｄ）重合連鎖移動剤中のα−メチルスチレンダイマーとしては、異性体として、（イ）２−４−ジフェニル−４−メチル−１−ペンテン、（ロ）２−４−ジフェニル−４−メチル−２−ペンテン、（ハ）１−１−３−トリメチル−３−フェニルインダンがある。α−メチルスチレンダイマーとして好ましい組成は、（イ）成分が４０質量％以上、（ロ）成分及び／又は（ハ）成分が６０質量％以下、さらに好ましくは（イ）成分が５０質量％以上、（ロ）成分及び／又は（ハ）成分が５０質量％以下、特に好ましくは（イ）成分が７０質量％以上、（ロ）成分及び／又は（ハ）成分が３０質量％以下である。（イ）成分の組成比率が増加するに従って連鎖移動効果に優れる。

α−メチルスチレンダイマーは、本発明の目的を損なわない範囲で、不純物、例えば、未反応のα−メチルスチレン、上記（イ）、（ロ）、（ハ）成分以外のα−メチルスチレンオリゴマー、α−メチルスチレンポリマーを含むものであってもよい。α−メチルスチレンダイマーを使用する場合、その目的を損なわないものであれば、α−メチルスチレンダイマーを合成後、これを未精製の状態で使用することができる。

（ｄ）重合連鎖移動剤中のα−メチルスチレンダイマーの割合は２〜１００質量％、好ましくは３〜１００質量％、さらに好ましくは５〜９５質量％である。このα−メチルスチレンダイマーの割合が２質量％以上では接着強度と耐ブロッキング性に優れた共重合体ラテックスを得ることができるため好ましい。また、α−メチルスチレンダイマーと他の重合連鎖移動剤との併用により、重合時における反応性を高めることができる。

（ｄ）重合連鎖移動剤の使用量は、単量体混合物１００質量部当たり、０．３〜１０質量部、好ましくは０．５〜７質量部である。この（ｄ）重合連鎖移動剤の使用量が０．３質量部以上では耐ブロッキング性が劣ることはなく、一方１０質量部以下では接着強度が低下せず好ましい。なお、α−メチルスチレンダイマーの使用量については、単量体混合物の１００質量部当り、０．１〜５質量部の範囲で使用することが好ましい。

次に、（ｄ）重合連鎖移動剤におけるα−メチルスチレンダイマーと併用する他の連鎖移動剤としては、一般の乳化重合に使用されている公知の重合連鎖移動剤を使用することができる。具体的には、例えば、オクチルメルカプタン、ｎ−ドデシルメルカプタン、ｔ−ドデシルメルカプタン、ｎ−ヘキサデシルメルカプタン、ｎ−テトラデシルメルカプタン、ｔ−テトラデシルメルカプタンなどのメルカプタン類；ジメチルキサントゲンジスルフィド、ジエチルキサントゲンジスルフィド、ジイソプロピルキサントゲンジスルフィドなどのキサントゲンジスルフィド類；テトラメチルチウラムジスルフィド、テトラエチルチウラムジスルフィド、テトラブチルチウラムジスルフィドなどのチウラムジスルフィド類；四塩化炭素、臭化エチレンなどのハロゲン化炭化水素類；ペンタフェニルエタンなどの炭化水素類；およびアクロレイン、メタクロレイン、アリルアルコール、２−エチルヘキシルチオグリコレート、ターピノーレン、α−テルピネン、γ−テルピネン、ジペンテンなどを挙げることができる。これらは単独でも、あるいは２種以上を組み合わせて使用することもできる。これらのうち、メルカプタン類、キサントゲンジスルフィド類、チウラムジスルフィド類、四塩化炭素などが好適に使用される。

共重合体ラテックスは、上記の単量体混合物及び重合連鎖移動剤を使用する点を除けば、従来公知の乳化重合法によって製造することができる。すなわち、水等の水性媒体に単量体混合物及び重合開始剤、乳化剤、重合連鎖移動剤等を加えて乳化重合を行うことによって得られる。

ラテックスの好ましい具体例としては、スチレン−ブタジエン共重合体、(メタ)アクリル酸−スチレン−ブタジエン共重合体、（メタ）アクリル酸アルキルエステル−(メタ)アクリル酸−スチレン−ブタジエン共重合体、更に、上記に塩化ビニルを含むもの、等が挙げられる。

本発明におけるラテックスとしては、市販されているものが使用でき、例えば、ナルスター ＳＲ−１０３（日本エイアンドエル（株）製）、ハロフレックス ２０２（旭化成ケミカルズ（株）製）、ビニブラン ２６８７ （日信化学工業（株）製）が挙げられる。

＜光学フィルム＞
本発明の偏光板の製造方法に用いられる光学フィルムは、シクロヘキサノンに１０重量パーセントで混合した場合、実質的に溶解しないラテックスを用いる。実質的に溶解しないとは、光学フィルムがシクロヘキサンで膨潤し、自由に混合しないことを言う。
具体的には、上記ラテックスを乾燥後、シクロヘキサノンに１０重量パーセントで混合した後に２４時間放置し、その後ろ紙を用いてろ過した場合に、ろ過残さとして残るラテックスの重量が、シクロヘキサノンとの混合前の重量と比べて５０％未満の残存率であるものを溶解するラテックスと言い、５０％以上の残存率であるものを実質的に溶解しないラテックスと言う。
上記ろ過に用いられるろ紙としては、特に限定されないが、例えば、ＪＩＳ規格Ｐ ３８０１に記載される、１種、５種Ａなどのろ紙が挙げられる。

このような光学フィルムは、例えば、環境の温度湿度変化を偏光子に与えにくい可能性がある。

本発明の偏光板の製造方法に用いられる光学フィルムは、その厚さが１〜１０μｍであり、２〜８μｍであることが好ましい。光学フィルムの厚さが１０μｍ以下の場合、光学ムラを抑制できることが可能で好ましい。また、厚さが１μｍ以上の場合、光学フィルムを基材から剥離する工程で、光学フィルムが損傷しないため、好ましい。

＜基材＞
本発明の偏光板の製造方法に用いられる基材は、ラテックス層を形成する側の表面エネルギーが、４１．０〜４８．０ｍＮ／ｍであり、４２．０〜４８．０ｍＮ／ｍであることが好ましい。表面エネルギーが４８．０ｍＮ／ｍ以下の場合、転写フィルムから基材を剥離する工程で、光学フィルムから基材が剥離できるので、好ましい。また表面エネルギーが４１．０ｍＮ／ｍ以上の場合、基材上に形成するラテックス層が均一になり、基材上にラテックス層がない故障が起きないため、好ましい。

＜表面エネルギーの測定、計算方法＞
基材の表面エネルギーは、機知の方法により基材表面の水及びヨウ化メチレンの接触角からＯｗｅｎｓの方法を用いて、計算することが出来る。接触角の測定には、例えば、ＤＭ９０１（協和界面科学（株）製、接触角計）を用いることができる。

本発明の偏光板の製造方法に用いられる基材は、公知の素材を適宜使用することが出来る。素材としては、ポリエステル系ポリマー、オレフィン系ポリマー、シクロオレフィン系ポリマー、（メタ）アクリル系ポリマー、セルロース系ポリマーの中から選ぶことが出来る。また、本発明の偏光板の製造方法に用いられる基材は、ラテックス層を形成する側の表面エネルギーを調整するために、適宜表面処理を行うことが出来る。表面エネルギーを低下するには、例えば、コロナ処理、常温プラズマ処理、鹸化処理等、を行うことが出来、表面エネルギーを上昇するには、シリコーン処理、フッ素処理、オレフィン処理等、を行うことが出来る。

本発明の基材は、その厚さが５〜１００μｍであることが好ましく、１０〜７５μｍがより好ましく、１５〜５５μｍが更に好ましい。基材の厚さが５μｍ以上の場合、機械的に弱くないため取り使う際にカール、座屈等、の故障を起こすことがないため好ましい。また、基材の厚さが１００μｍ以下の場合、基材を剥離する際の剥離力が大きくなり過ぎず、光学フィルムを破壊することがないため好ましい。

＜転写フィルムの製造方法＞
本発明の偏光板の製造方法に用いられる転写フィルムは、既存の方法で基材上にラテックス層を形成することで得ることが出来る。ラテックス層を形成する方法は、例えば、バーコート法、スロットダイ法、スプレー法、ディップコート法、をあげることが出来る。
ラテックス層は、ラテックスを基材上に塗布してなる塗膜であり、上記ラテックス層を乾燥させることでラテックス層に含まれる分散媒が揮発し、樹脂粒子が融着して膜となる。このようにして得られた膜は光学フィルムとなる。
本発明の転写フィルムの製造法には、生産性及び品質の観点から、ラテックスを基材に塗布、乾燥する方法が好ましい。ラテックスの基材への塗布には、バーコート、スロットダイコートが好ましく用いることが出来る。また、基材は、シート状、ロール状のいずれも用いることができる。

本発明の転写フィルムの作成ためのラテックス層の乾燥は、用いるラテックスの物性に合わせて随時変更することが出来る。ラテックス層の乾燥温度は、ラテックスのガラス転移点が知られている場合は、ガラス転移点より５度以上高いことが望ましい。

本発明の転写フィルムの製膜性を鑑みて、ラテックス層を所定の温度で乾燥させることが好ましく、具体的には、８０℃〜２００℃が好ましく、１００℃〜１４０℃が更に好ましい。
１００℃以上であれば、膜がべたつかずに形成可能であり好ましく、１４０℃以下とすることで、基材の変形に伴うラテックス層の不均一な転写を避けることが出来るため、好ましい。

＜偏光板の作製＞
上記得られた光学フィルムは、偏光板の保護フィルムとして用いられる。本発明の偏光板は、公知の方法で作製することができる。

光学フィルムには表面処理（特開平６−９４９１５号公報、同６−１１８２３２号公報にも記載）を施して親水化しておくことが好ましく、例えば、グロー放電処理、コロナ放電処理、又は、アルカリ鹸化処理などを施すことが好ましい。上記表面処理としてはコロナ放電処理が最も好ましく用いられる。

＜偏光子＞
偏光子としては、ポリビニルアルコール系樹脂からなるものが好ましく、例えば、ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬して延伸したもの等を用いることができる。このような偏光子を用いる場合、ポリビニルアルコール系樹脂の水溶液からなる接着剤を用いて、偏光子の片面または両面に対し、本発明の偏光板に用いられる上述の光学フィルムの表面処理面を直接貼り合わせることができる。接着剤としては、ポリビニルアルコール又はポリビニルアセタール（例えば、ポリビニルブチラール）の水溶液や、ビニル系ポリマー（例えば、ポリブチルアクリレート）のラテックス、紫外線（ＵＶ）硬化型接着剤を用いることができるが、偏光板の変形故障を抑制する観点から、溶液系の接着剤を用いることが好ましく、完全鹸化ポリビニルアルコールの水溶液が最も好ましい。

本発明の偏光子は、その厚さが１〜５０μｍであることが好ましく、５〜２５μｍがより好ましい。偏光子の厚さが１μｍ以上の場合、偏光子に占める沃素量が多くならず、よって機械的な強度が低くなることはなく、また所望の光学特性を得られるため好ましい。また偏光子の厚さが５０μｍ以下の場合、温度湿度変化による偏光板の伸縮に占める偏光子の寄与の割合が大きくならず、本発明の光ムラ抑制効果を十分に得られるため好ましい。

＜保護フィルム＞
偏光子に上記光学フィルムが貼合された面の反対面には、さらに上記光学フィルムを貼合してもよいし、従来知られている保護フィルムを貼合してもよい。
上記した従来知られている保護フィルムについては、光学特性及び材料のいずれについても特に制限はないが、セルロースエステル樹脂、アクリル樹脂、および／または環状オレフィン樹脂を含む（あるいは主成分とする）フィルムを好ましく用いることができ、光学的に等方性のフィルムを用いても、光学的に異方性の位相差フィルムを用いてもよい。
上記の従来知られている保護フィルムについて、セルロースエステル樹脂を含むものとしては、例えばフジタックＴＤ４０ＵＣ（富士フイルム（株）製）などを利用することができる。
上記の従来知られている保護フィルムについて、アクリル樹脂を含むものとしては、特許第４５７００４２号公報に記載のスチレン系樹脂を含有する（メタ）アクリル樹脂を含む光学フィルム、特許第５０４１５３２号公報に記載のグルタルイミド環構造を主鎖に有する（メタ）アクリル樹脂を含む光学フィルム、特開２００９−１２２６６４号公報に記載のラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂を含む保護フィルム、特開２００９−１３９７５４号公報に記載のグルタル酸無水物単位を有する（メタ）アクリル系樹脂を含む保護フィルムを利用することができる。
また、上記の従来知られている保護フィルムについて、環状オレフィン樹脂を含むものとしては、特開２００９−２３７３７６号公報の段落［００２９］以降に記載の環状オレフィン系樹脂フィルム、特許第４８８１８２７号公報、特開２００８−０６３５３６号公報に記載のＲｔｈを低減する添加剤を含有する環状オレフィン樹脂フィルムを利用することができる。

＜液晶表示装置＞
本発明の液晶表示装置は、液晶セルと、本発明の偏光板を含む。
本発明の液晶表示装置は、上記光学フィルムを偏光子の内側（すなわち偏光子と液晶セルの間）、外側（すなわち液晶セル側の面と反対側の面）のいずれの配置でも好適に使用することができる。本発明の液晶表示装置は、上記光学フィルムが、上記偏光子と上記液晶セルとの間に配置されることが好ましい。
本発明の液晶表示装置は、さらにバックライトを有し、上記偏光板が上記バックライト側、あるいは視認側に配置されたことが好ましい。バックライトとしては特に制限は無く、公知のバックライトを用いることができる。本発明の液晶表示装置は、バックライト、バックライト側偏光板、液晶セル、視認側偏光板の順で積層されたことが好ましい。
その他の構成については、公知の液晶表示装置のいずれの構成も採用することができる。液晶セルの方式（モード）についても特に制限はなく、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）方式の液晶セル、横電界スイッチングＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式の液晶セル、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）方式の液晶セル、ＡＦＬＣ（Ａｎｔｉ−ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）方式の液晶セル、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）方式の液晶セル、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）方式の液晶セル、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）方式の液晶セルおよびＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）方式の液晶セル等の様々な表示方式の液晶表示装置として構成することができる。その中でも、本発明の液晶表示装置は、上記液晶セルはＩＰＳ方式であることが好ましい。
その他の構成については、公知の液晶表示装置のいずれの構成も採用することができる。

以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。

＜ラテックスのシクロヘキサノンへの溶解性評価＞
５０ｍＬのガラス容器に、表１のラテックスを各１０ｍＬ添加し、防爆オーブン（タバイエスペック社製、ＳＰＨＨ−２０２）内で７０℃で８時間乾燥することで、ラテックス塊を得た。次に、シクロヘキサノンをラテックス塊が１０重量％となるよう添加し、蓋をして、ボールミル回転架台上で１２時間回転攪拌したのち、ラテックスのシクロヘキサンへの溶解性を目視評価した。ラテックス塊が容器中で膨潤した場合を「実質的に溶解しない」とし、ラテックス塊が容器内に存在しないものについて「溶解する」と評価した。
更に、乾燥したラテックス塊を大よそ１ｇ取り、シクロヘキサノンをラテックス塊が１０重量％となるよう添加し、蓋をして、２４時間放置して、５種Ａのろ紙（アドバンテック社製、直径１１０ｍｍ）とブフナー漏斗を用いて減圧ろ過し、更にシクロヘキサノン５００ｇでろ紙上の残さ及びろ紙を洗浄した。ろ紙及び残さを１２０℃、１６時間、防爆オーブンで換気を伴い乾燥させた後にろ紙及び残さの質量を測定した。
ろ過に使用して、乾燥したろ紙及び残さの重量と、ろ過前のろ紙及びラテックス塊の重量と比べてラテックス塊重量の残存率を測定した。重量残存率が５０％を下回らないものが「実質的に溶解しない」と評価される。
なお、残存率は、下記の式（１）にて表される。

残存率（％）＝ （濾過後の残渣の重量）／（使用したラテックス塊の重量）×１００ 式（１）

＜基材の表面エネルギー評価＞
表２に記載の基材を２５℃、相対湿度５５％で２時間調整した後、接触角計（ＤＭ７００、協和界面化学（株）製）で、ラテックス層形成側の面について、水及びヨウ化メチレンに対する接触角を測定した。Ｏｗｅｎｓの方法を用い、表面エネルギーを評価した。

表２で使用した基材は下記の通りである。
・ Ａ４１００ 東洋紡（株）製 ＰＥＴ樹脂 膜厚７５μｍ
・ Ｍ５０７０ （株）ダイセル製 ＰＥＴ樹脂 膜厚 ５０μｍ
・ ＴＤ４０ＵＣ 富士フイルム（株）製 （フジタックＴＤ４０ＵＣ） トリアセチルセルロース樹脂 膜厚４０μｍ
・ ＴＲ−１ ユニチカ（株）製 ＰＥＴ樹脂 膜厚 ５０μｍ

＜転写フィルムの作成＞
表２から選ばれる基材上に表１から選ばれるラテックスを用い、表３のラテックスと基材の組合せで、ラテックスをバーコート法で塗布してラテックス層を形成し、さらに、７０℃、１０分乾燥して、基材上に光学フィルムを有する転写フィルムを作成した。
上記光学フィルムの膜厚は、表３の転写フィルムにおいて記載した膜厚とした。

＜偏光板の作成＞
セルロースアセテートフィルム（富士フイルム製、フジタックＴＤ４０ＵＣ）を３７℃に調温した１．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液（けん化液）に１分間浸漬した後、フィルムを水洗し、その後、０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸水溶液に３０秒浸漬した後、更に水洗浴を通した。そして、エアナイフによる水切りを３回繰り返し、水を落とした後に７０℃の乾燥ゾーンに１５秒間滞留させて乾燥し、鹸化処理した保護フィルムを準備した。また上記で準備した転写フィルムの光学フィルム側をコロナ処理し、（出力１００Ｗ，処理速度３．２ｍ/分）親水化処理した転写フィルムを作成した。

＜偏光子の作製＞
特開２００１−１４１９２６号公報の実施例１に従い、２対のニップロール間に周速差を与え、長手方向に延伸し、厚み１２μｍの偏光子を作製した。

＜貼り合わせ＞
このようにして得た偏光子と、上記表面処理した転写フィルムと上記鹸化処理した保護フィルムを用い、これらで前述の偏光子を挟んだ後、ポリビニルアルコール（クラレ製、ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として用いて、偏光層の吸収軸とフィルムの長手方向とが平行になるようにロールツーロールで積層した。ここで、偏光層の一方のフィルムは、表３に記載のいずれかの転写フィルムのコロナ処理面が偏光層側となるようにし、他方のフィルムは上記セルロースアセテートフィルムとした。

続けて、７０℃で乾燥した後、転写フィルムの基材を連続剥離し、更に粘着剤を塗工して偏光板を作製した。

＜液晶表示装置への実装評価（ＩＰＳ型液晶表示装置への実装）＞
ＩＰＳモードの液晶テレビ（スリム型５５型液晶テレビ、バックライトとセルのクリアランスが０．５ｍｍ）のリア側偏光板として、上記作製した偏光板を、上記作製した光学フィルム側が液晶セル側に配置されるように、粘着剤を介して液晶セルに貼合した。得られた液晶テレビを、５０℃・相対湿度８５％の環境で３日間保持した後に、２５℃・相対湿度６０％の環境に移し、黒表示状態で点灯させ続け、４８時間後に目視観察して、光ムラを評価した。
（耐久試験後の正面方向の光ムラレベル）
装置正面から観察した場合の黒表示時の光ムラ（言い換えると、輝度ムラ）を観察し、以下の基準で評価した。
ＡＡ： 照度２０ｌｘの環境下でムラがほとんど視認されない
Ａ ： 照度１００ｌｘの環境下でムラがほとんど視認されない
Ｂ ： 照度１００ｌｘの環境下で淡いムラが視認される
Ｃ ： 照度１００ｌｘの環境下で明確なムラが視認される
Ｄ ： 照度３００ｌｘの環境下で明確なムラが視認される
Ｅ ： 欠陥が多く、液晶表示装置の光ムラの評価できなかった。
実用上問題が無いのはＡＡ、Ａ、Ｂの基準であるが、ＡＡ及びＡの基準であることが好ましい。
評価結果を表３にまとめて記載する。

また、転写フィルムの塗布性、基材の剥離性について、以下の基準で評価を行った。
・転写フィルムの塗布性評価
光学フィルムが均一であり、見た目に故障が認められない。：問題ない
光学フィルムが不均一であり、基材上にラテックス層がない部分が認められる。：ラテックスをハジく
偏光板の品質に問題ないがないのは、「問題ない」評価である。
・基材の剥離性評価
基材剥離後の偏光板において、光学フィルムに欠陥が認められない。：問題ない
基材剥離後の偏光板において、光学フィルムに割れが認められる。：光学フィルム破壊
偏光板の品質に問題ないがないのは、「問題ない」評価である。

上記表３より、本発明の偏光板の製造方法で得られた偏光板は、変形故障が少なく、液晶表示装置に実装した場合に環境変化に伴う液晶表示装置の光ムラを抑制できることがわかった。

Claims (3)

1. 基材上にラテックス層を形成し、乾燥することにより、前記基材上に光学フィルムを形成した転写フィルムを作成する工程、
   前記転写フィルムの前記光学フィルム側表面に偏光子を貼り合わせる工程、
   前記転写フィルムから前記基材を剥離する工程を有し、
   前記ラテックス層を形成するラテックスが、シクロヘキサノンに１０重量パーセントで混合された場合、実質的に溶解せず、
   前記基材の前記ラテックス層を形成する側の表面エネルギーが、４１．０〜４８．０ｍＮ／ｍであり、
   前記光学フィルムの厚さが１〜１０μｍである、偏光板の製造方法。
2. 前記偏光子の光学フィルムの反対側に保護フィルムを有する、請求項１に記載の偏光板の製造方法。
3. 前記偏光子がポリビニルアルコール系樹脂からなる、請求項１又は２に記載の偏光板の製造方法。