JP5880304B2 - 光学フィルム又はシートの製造方法 - Google Patents
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Description
尚、下記においては、便宜上、特に断りがない場合は、「光学フィルム又はシート」を「光学フィルム」と記載する。又、アクリレート又はメタクリレートを、(メタ)アクリレートと表す。
活性エネルギー線硬化型組成物の中では、優れた機械物性を示すことから、ウレタン(メタ)アクリレートを含む組成物がよく用いられる。
しかしながら、光学フィルムを大型化すると、外力の偏りが生じるため、光学フィルムが外力による複屈折変化を生じやすい材料からなる場合、複屈折の分布が生じ、コントラストが不均一となるという問題がある。外力による複屈折変化の生じやすさは、光弾性係数の絶対値によって表されるが、偏光子保護フィルムとしてウレタン(メタ)アクリレートの硬化フィルムを用いた場合、その光弾性係数の絶対値が大きく、偏光子収縮に伴う応力複屈折の発生により、光漏れ・白抜けが起こる。
さらに、ウレタン(メタ)アクリレートの硬化フィルムは、強度が不十分な場合があり、又、強度が十分な場合であっても、柔軟性や脆性が不十分な場合があった。より具体的には、硬化フィルムを折り曲げるとヒビが入ったり、割れたりする場合があった。又、最終製品として硬化フィルムをカッティングする際に、スムーズにカッティングできなかったり、最悪の場合には断面にクラックが生じる場合があった。
○数平均分子量が60以上400以下のポリオール(a)、無黄変型有機ポリイソシアネート(b)及びヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートの4〜7員環ラクトン付加物であって、ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレート1モルに対する4〜7員環ラクトンの付加反応割合が0.1モルより大きく2.0モルより小さい化合物(c)の反応物であって、芳香族基を有しない化合物で、数平均分子量が600〜3,000の化合物であるウレタン(メタ)アクリレート(A)を含む光学フィルム又はシート形成用活性エネルギー線硬化型組成物
又、本発明は、シート状基材に、上記光学フィルム形成用活性エネルギー線硬化型組成物を塗布し、組成物の塗工面に他のシート状基材を貼合した後、前記シート状基材のいずれかの側から活性エネルギー線を照射する光学フィルムの製造方法にも関する。
以下、本発明の詳細について説明する。尚、本明細書では、組成物に活性エネルギー線照射して得られる架橋物及び硬化物を、まとめて「硬化物」と表す。
本発明で使用する組成物における(A)成分は、数平均分子量が60以上400以下のポリオール(a)〔以下、「化合物(a)」という〕、無黄変型有機ポリイソシアネート(b)〔以下、「化合物(b)」という〕及びヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートの4〜7員環ラクトン付加物であって、ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレート1モルに対する4〜7員環ラクトンの付加反応割合が0.1モルより大きく2.0モルより小さい化合物(c)〔以下、「化合物(c)」という〕の反応物であって、芳香族基を有しない化合物で、数平均分子量が600〜3,000の化合物である。
尚、ウレタン(メタ)アクリレートの数平均分子量(以下、「Mn」という)とは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(以下、「GPC」という)により測定した分子量をポリスチレン換算した値を意味する。
以下、(A)成分の原料化合物である、化合物(a)、化合物(b)及び化合物(c)、並びに(A)成分の製造方法について説明する。
化合物(a)は、数平均分子量(以下、「P−Mn」という)が60以上400以下のポリオールである。
尚、本発明においてポリオールの数平均分子量(P−Mn)とは、下記(1)に従って求めた値をいう。
シクロヘキサンジメタノール、水添ビスフェノール−A、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカンジメタノール(通称;トリシクロデカンジメタノール)、1,4−デカヒドロナフタレンジオール、1,5−デカヒドロナフタレンジオール、1,6−デカヒドロナフタレンジオール、2,6−デカヒドロナフタレンジオール、2,7−デカヒドロナフタレンジオール、デカヒドロナフタレンジメタノール、ノルボルナンジオール、ノルボルナンジメタノール、デカリンジメタノール、アダマンタンジオール、3,9−ビス(1,1−ジメチル−2−ヒドロキシエチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン(通称;スピログリコール)、イソソルビド、イソマンニド、2,2−ビス(4−ヒドロキシシクロヘキシル)プロパン(通称;水添ビスフェノールA)、4,4′−ジヒドロキシジシクロヘキシルメタン(通称;水添ビスフェノールF)、1,1−ビス(4−ヒドロキシシクロヘキシル)−1,1−ジシクロヘキシルメタン(通称;水添ビスフェノールZ)及び4,4−ビシクロヘキサノール等の脂環族ジオール;
1,2,6−ヘキサントリオール、1,2,3−ヘプタントリオール、1,2,4−ブタントリオール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、カシリトール、ピロガロール、グリセリン及びトリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート等のトリオール化合物;並びにこれらトリオール化合物のε−カプロラクトン変性物等が挙げられる。
当該化合物の具体例としては、1,4−ブタンジオール等の炭素数2〜6の脂肪族ジオール、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカンジメタノール及び3,9−ビス(1,1−ジメチル−2−ヒドロキシエチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン等の複数の環を有する脂環族ジオールが好ましく、硬化物の強度に優れる点で、3,9−ビス(1,1−ジメチル−2−ヒドロキシエチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン(通称;スピログリコール)が特に好ましい。
化合物(b)は、無黄変型有機ポリイソシアネートである。
化合物(b)としては、ヘキサメチレンジイソシアネート、リジンメチルエステルジイソシアネート、2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート(以下、「IPDI」という)、4,4′−メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)、ノルボルナンジイソシアネート及びω,ω′−ジイソシアネートジメチルシクロヘキサン等の脂環族ジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体、IPDIのイソシアヌレート体等のポリイソシアネート等が挙げられる。
前記した化合物の中でも、硬化物の機械強度と光学特性に優れるという点で、IPDIが好ましい。
化合物(c)は、ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートの4〜7員環ラクトン(以下、「環状ラクトン」という)付加物であって、ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレート1モルに対する4〜7員環ラクトンの付加反応割合(以下、単に「反応割合」という)が0.1モルより大きく2.0モルより小さい化合物である。
化合物(c)は、下記の化学式で表される化合物を主成分とする。
CH2=C(R1)COOR2O〔CO(CHR3)mO〕nH
0.1<n<2.0、m=2〜5
(但し、上記式において、R1は水素原子又はメチル基、R2は炭化水素基、R3は水素原子、脂肪族基又は芳香族基を表す)。
環状ラクトンとしては前記した化合物の中でも、硬化物の機械強度と光学特性に優れるという点で、ε−カプロラクトンが好ましい。
化合物(c)としては、前記した化合物の中でも、硬化物の機械強度と光学特性に優れるという点で、ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレート1モルに対する環状ラクトンの反応割合が0.5〜1.5モルである化合物が好ましく、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートの環状ラクトン付加物であって、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート1モルに対する環状ラクトンの反応割合が1モルである化合物がより好ましい。この場合においても、環状ラクトンがε−カプロラクトンである化合物が好ましい。
(A)成分は、常法に従い製造されたもので良い。
(A)成分としては、化合物(a)と化合物(b)を反応させてイソシアネート基含有化合物を製造し、これと化合物(c)を反応させた化合物(以下、「化合物A1」という)、化合物(a)、化合物(b)及び化合物(c)を同時に反応させた化合物(以下、「化合物A2」という)等が挙げられ、分子量を制御しやすいという理由で化合物A1が好ましい。
化合物A1を製造する場合は、ジブチルスズジラウレート等のウレタン化触媒存在下、使用する化合物(a)及び化合物(b)を加熱攪拌し付加反応させ、さらに化合物(c)を添加し、加熱攪拌し付加反応させる方法等が挙げられ、化合物A2を製造する場合は、前記と同様の触媒の存在下に、化合物(a)、化合物(b)及び化合物(c)を同時に添加して加熱攪拌する方法等が挙げられる。
溶剤の具体例としては、n−ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン及びシクロヘキサン等の炭化水素系溶剤;テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、ビス(2−メトキシエチル)エーテル、ビス(2−エトキシエチル)エーテル及びビス(2−ブトキシエチル)エーテル等のエーテル系溶剤;アセトン、メチルエチルケトン、メチル−n−プロピルケトン、ジエチルケトン、ブチルメチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルペンチルケトン、ジ−n−プロピルケトン、ジイソブチルケトン、ホロン、イソホロン、シクロヘキサノン及びメチルシクロヘキサノン等のケトン系溶剤;プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のアルキレングリコールモノエーテルアセテート;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル;並びにN−メチルピロリドン等が挙げられる。
これらのうちで、(A)成分の溶解性、蒸発のしやすさの観点から、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンが特に好ましい。
具体的には、イソボルニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、トリメチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、1−アダマンチル(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、i−ブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、アリル(メタ)アクリレート、2−エトキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、о−フェニルフェノールEO変性(n=1〜4)(メタ)アクリレート、p−クミルフェノールEO変性(n=1〜4)(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、о−フェニルフェニル(メタ)アクリレート、p−クミルフェニル(メタ)アクリレート、N−(メタ)アクリロイルモルホリン、N−ビニルホルムアミド、N−(メタ)アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、N−(メタ)アクリロイルオキシエチルテトラヒドロフタルイミド等が挙げられる。
尚、上記においてEO変性とは、エチレンオキサイド付加物を意味し、nはアルキレンオキサイド単位の繰返し数を意味する。
本発明の組成物は、前記(A)成分を必須成分とするものであるが、目的に応じて種々の成分を配合することができる。
その他成分としては、具体的には、(A)成分以外のエチレン性不飽和化合物〔以下、(B)成分という〕、光重合開始剤〔以下、(C)成分という〕、有機溶剤〔以下、(D)成分という〕、23℃における光弾性係数が5×10-12Pa-1以下の値を有するポリマー〔以下、(E)成分という〕、可塑剤、重合禁止剤又は/及び酸化防止剤、並びに耐光性向上剤等を挙げることができる。
以下、これらの成分について説明する。
(B)成分は、(A)成分以外のエチレン性不飽和基を有する化合物である。
(B)成分は、組成物全体の粘度を低下させる目的や、その他の物性を調整する目的で必要に応じて配合する成分である。
トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリス[(メタ)アクリロキシエチル]イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス[(メタ)アクリロキシエチル]イソシアヌレート等の三官能(メタ)アクリレート;
ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の四官能以上の(メタ)アクリレート等が挙げられる。
尚、上記においてEO変性とは、エチレンオキサイド付加物を意味し、nはアルキレンオキサイド単位の繰返し数を意味する。
さらに、多官能(メタ)アクリレートとしては、ジメチロールトリシクロデカンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリス[(メタ)アクリロキシエチル]イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート等が好ましい。
当該化合物の具体例としては、特に、イソボルニル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、N−(メタ)アクリロイルモルホリン及びN−ビニル−2−ピロリドンが好ましい。
(B)成分の割合を1重量%以上とすることで、得られる硬化物の貯蔵弾性率やガラス転移温度を高くすることができ、他方50重量%以下とすることで、硬化物の機械特性と柔軟性を両立することができる。
(C)成分は、光重合開始剤である。
(C)成分は、活性エネルギー線として紫外線及び可視光線を用いた場合に配合する成分である。活性エネルギー線として電子線を使用する場合には、必ずしも配合する必要はないが、硬化性を改善させるため必要に応じて少量配合することもできる。
ベンゾフェノン、2−メチルベンゾフェノン、3−メチルベンゾフェノン、4−メチルベンゾフェノン、2,4,6−トリメチルベンゾフェノン、4−フェニルベンゾフェノン、4−(メチルフェニルチオ)フェニルフェニルメタン、メチル−2−ベンゾフェノン、1−[4−(4−ベンゾイルフェニルスルファニル)フェニル]−2−メチル−2−(4−メチルフェニルスルフォニル)プロパンー1−オン、4,4‘−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4‘−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、N,N′−テトラメチル−4,4′−ジアミノベンゾフェノン、N,N′−テトラエチル−4,4′−ジアミノベンゾフェノン及び4−メトキシ−4′−ジメチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物;
ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、エチル−(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルフォスフィネート及びビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルフォスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド化合物;
チオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、1−クロロ−4−プロピルチオキサントン、3−[3,4−ジメチル−9−オキソ−9H−チオキサントン−2−イル]オキシ]−2−ヒドロキシプロピル−N,N,N―トリメチルアンモニウムクロライド及びフロロチオキサントン等のチオキサントン系化合物;
アクリドン、10−ブチル−2−クロロアクリドン等のアクリドン系化合物;
1,2−オクタンジオン1−[4−(フェニルチオ)−2−(O―ベンゾイルオキシム)]及びエタノン1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−1−(O―アセチルオキシム)等のオキシムエステル類;
2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジ(m−メトキシフェニル)イミダゾール二量体、2−(o−フルオロフェニル)−4,5−フェニルイミダゾール二量体、2−(o−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−(p−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2,4−ジ(p−メトキシフェニル)−5−フェニルイミダゾール二量体及び2−(2,4−ジメトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体等の2,4,5−トリアリールイミダゾール二量体;並びに9−フェニルアクリジン及び1,7−ビス(9,9′−アクリジニル)ヘプタン等のアクリジン誘導体等が挙げられる。
(C)成分の配合割合を0.01重量%以上とすることにより、適量な紫外線又は可視光線量で組成物を硬化させることができ生産性を向上させることができ、一方10重量%以下とすることで、硬化物の耐候性や透明性に優れたものとすることができる。
本発明の組成物は、基材への塗工性を改善する等の目的で、(D)成分の有機溶剤を含むものが好ましい。
メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、イソブチルアルコール、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、2−(メトキシメトキシ)エタノール、2−イソプロポキシエタノール、2−ブトキシエタノール、2−イソペンチルオキシエタノール、2−ヘキシルオキシエタノール、2−フェノキシエタノール、2−ベンジルオキシエタノール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、1−エトキシ−2−プロパノール及びプロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶剤;
テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、ビス(2−メトキシエチル)エーテル、ビス(2−エトキシエチル)エーテル及びビス(2−ブトキシエチル)エーテル等のエーテル系溶剤;
アセトン、メチルエチルケトン、メチル−n−プロピルケトン、ジエチルケトン、ブチルメチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルペンチルケトン、ジ−n−プロピルケトン、ジイソブチルケトン、ホロン、イソホロン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン及びメチルシクロヘキサノン等のケトン系溶剤;
酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、メチルグリコールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、酢酸セロソルブ等のエステル系溶剤;
N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、N−メチル−2−ピロリドン、γ−ブチロラクトン等の非プロトン性極性溶剤が挙げられる。
有機溶剤としては、別途添加しても良く、又、(A)成分の製造で使用する有機溶剤を分離することなくそのまま使用しても良い。
(E)成分は、23℃における光弾性係数(以下、単に「光弾性係数」という)が5×10-12Pa-1以下の値を有するポリマーである。
(A)成分の硬化物は、通常10×10-12〜20×10-12Pa-1の範囲の正の光弾性係数を有するため、光弾性係数が5×10-12Pa-1以下である(E)成分と配合することにより、硬化物の光弾性係数を10×10-12Pa-1以下とすることができる。
具体的には、光弾性係数(C)は、σを伸張応力、△nを応力付加時の複屈折としたとき、下式で定義される値である。
C[Pa-1]=△n/σ
ここで、△nは、n1を伸張方向と平行な方向の屈折率、n2を伸張方向と垂直な方向の屈折率としたとき、下式で定義される。
△n=n1−n2
尚、本発明における光弾性係数は、温度23℃で測定した値を意味する。
アミド構造を有する共重合体において、アミド構造としてはモルホリン構造が好ましい。アミド構造を有する共重合体の具体例としては、メチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート及びN−(メタ)アクリロイルモルホリン共重合体が好ましい。
カルボキシル基を有する共重合体の具体例としては、(メタ)アクリレートとアクリル酸又はメタクリル酸の共重合体が好ましい。
ダイヤナールは、(メタ)アクリロイル基を有するモノマーの共重合体であって、BR83,BR87,BR88はカルボキシル基を有する共重合体の市販品である。
N−ビニル−2−ピロリドン共重合体の具体例としては、ビニルピロリドン・酢酸ビニル共重合体、ビニルピロリドン・メチル(メタ)アクリレート共重合体、ビニルピロリドン・エチル(メタ)アクリレート共重合体、ビニルピロリドン・ブチル(メタ)アクリレート共重合体等を挙げることができる。
例えば、PVP/VA S−630〔アイエスピー・ジャパン(株)製〕等が挙げられる。
以下、(UE)成分について説明する。
(UE)成分としては、光弾性係数が5×10-12Pa-1以下で、かつエチレン性不飽和基を有するポリマーであれば種々の化合物が使用でき、例えば、下記に示すポリマーを挙げることができる。
1)ポリマーB1:カルボキシル基を含有する重合体(以下、「カルボキシル基含有プレポリマー」という)及び/又は水酸基を含有する重合体(以下、「水酸基含有プレポリマー」という)に、イソシアネート基及びエチレン性不飽和基を有する化合物(以下、「イソシアネート系不飽和化合物」という)を付加して得られたポリマー
2)ポリマーB2:カルボキシル基含有プレポリマーに、エポキシ基及びエチレン性不飽和基を有する化合物(以下「エポキシ系不飽和化合物」という)を付加して得られたポリマー
3)ポリマーB3:エポキシ基を含有する重合体(以下、「エポキシ基含有プレポリマー」という)に、カルボキシル基及びエチレン性不飽和基を有する化合物(以下「カルボキシル系不飽和化合物」という)を付加して得られたポリマー
ポリマーB1及びポリマーB2の製造で使用する、カルボキシル基含有プレポリマーとしては、カルボキシル系不飽和化合物とこれ以外のエチレン性不飽和化合物(以下、「その他不飽和化合物」という)との共重合体、及びカルボキシル基を有する連鎖移動剤の存在下にその他不飽和化合物を重合した末端にカルボキシル基を含有する重合体(以下、末端カルボキシル基含有重合体)等が挙げられる。
以下、カルボキシル基含有プレポリマー、水酸基含有プレポリマー及びエポキシ基含有プレポリマーの製造方法について説明する。
まずカルボキシル系不飽和化合物とその他不飽和化合物との共重合体について説明する。
これらの中でも、特に得られる(B)成分の光弾性係数がより低いものとなることから、(メタ)アクリル酸を用いることが好ましい。
(メタ)アクリロイル基有する化合物としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレート;
N−(メタ)アクリロイルモルホリン;
(メタ)アクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジエチル(メタ)アクリルアミド及びN,N−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド等のアクリルアミド類;並びに
(メタ)アクリロニトリル等が挙げられる。
必要に応じて、(メタ)アクリロイル基有する化合物以外の化合物も使用することができ、スチレン、α−メチルスチレン及び酢酸ビニル等が挙げられる。
これらの中でも、特に得られる(B)成分の光弾性係数がより低いものとなることから、メチル(メタ)アクリレート及びN−(メタ)アクリロイルモルホリンを用いることが好ましい。
水酸系不飽和化合物としては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート及びヒドロキシヘキシル(メタ)アクリレート等のヒドロキシル基含有(メタ)アクリレート、並びにヒドロキシブチルビニルエーテル等のヒドロキシアルキルビニルエーテル等が挙げられる。
これらの中でも、重合体の製造が容易、かつ乳化剤等の余計な不純物を含まない点で溶液重合法が好ましい。
末端カルボキシル基含有重合体の製造方法としては、例えばカルボキシル基を有する連鎖移動剤の存在下に、その他不飽和化合物を重合する方法等が挙げられる。
その他不飽和化合物としては、前記と同様の化合物を挙げることができ、前記と同様の化合物が好ましい。
カルボキシル基を有する連鎖移動剤としては、3−メルカプトプロピオン酸、メルカプト酢酸等が挙げられる。
カルボキシル基を有する連鎖移動剤の割合としては、最終的に導入するエチレン性不飽和基の割合に応じて適宜設定すれば良く、使用する全モノマーの合計100重量部に対して、0.01〜7重量部が好ましい。
重合方法としては、前記と同様の方法が採用できる。
ポリマーB1で使用する水酸基含有プレポリマーとしては、水酸系不飽和化合物とその他不飽和化合物の共重合体、及び水酸基を有する連鎖移動剤の存在下にその他不飽和化合物を重合した末端に水酸基を含有する重合体(以下、「末端水酸基含有重合体」という)等が挙げられる。
その他不飽和化合物としては、前記と同様の化合物を挙げることができ、前記と同様の化合物が好ましい。
末端水酸基含有重合体の製造方法としては、例えば水酸基を有する連鎖移動剤の存在下に、その他不飽和化合物を重合する方法等が挙げられる。
その他不飽和化合物としては、前記と同様の化合物を挙げることができ、前記と同様の化合物が好ましい。
水酸基を有する連鎖移動剤としては、2−メルカプトエタノール等が挙げられる。
水酸基を有する連鎖移動剤の割合としては、最終的に導入するエチレン性不飽和基の割合に応じて適宜設定すれば良く、使用する全モノマーの合計100重量部に対して、0.01〜7重量部が好ましい。
重合方法としては、前記と同様の方法が採用できる。
ポリマーB3で使用するエポキシ基含有プレポリマーとしては、エポキシ系不飽和化合物とその他不飽和化合物の共重合体が挙げられる。
その他不飽和化合物としては、前記と同様の化合物を挙げることができ、前記と同様の化合物が好ましい。
(UE)成分は、カルボキシル基含有プレポリマー、水酸基含有プレポリマー、エポキシ基含有プレポリマーに対し、これらプレポリマーと反応しうる官能基とエチレン性不飽和基を有する化合物を付加反応することによって導入される。
付加反応の方法としては、常法に従えば良く、有機溶媒中又は無溶剤で製造することができる。付加反応の条件としては、各反応に応じて反応温度、反応時間及び触媒を適宜選択すれば良い。
(E)成分の割合としては、目的に応じて適宜設定すれば良いが、(A)成分及び(E)成分の合計量を基準として(A)成分30〜99重量%及び(E)成分1〜70重量%が好ましく、より好ましくは(A)成分40〜90重量%及び(E)成分10〜60重量%である。
(A)成分の割合が30重量%以上とすることで、得られる硬化物の機械物性に優れるものとすることができ、他方99重量%以下とすることで、光弾性係数をさらに低減することができる。
硬化物に柔軟性を付与し、脆さを改善する目的で、可塑剤を添加することができる。可塑剤の具体例としては、フタル酸ジオクチル、フタル酸ジイソノニル等のフタル酸ジアルキルエステル、アジピン酸ジオクチル等のアジピン酸ジアルキルエステル、セバシン酸エステル、アゼライン酸エステル、リン酸トリクレシル等のリン酸エステル、ポリプロピレングリコール等の液状ポリエーテルポリオール、ポリカプロラクトンジオール、3−メチルペンタンジオールアジペート等の液状ポリエステルポリオール等が挙げられる。
これら可塑剤の配合割合としては、適宜設定すれば良いが、硬化性成分の合計100重量部に対して、5〜30重量%が好ましく、より好ましくは5〜20重量%である。
可塑剤の配合割合を5重量%以上にすることにより、柔軟性が発現し、30重量%以下にすることにより、強靭性が保たれる。
本発明の組成物には、重合禁止剤又は/及び酸化防止剤を添加することが、本発明の組成物の保存安定性を向上させることができ、好ましい。
重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール、並びに種々のフェノール系酸化防止剤が好ましいが、イオウ系二次酸化防止剤、リン系二次酸化防止剤等を添加することもできる。
これら重合禁止剤又は/及び酸化防止剤の総配合割合は、硬化性成分の合計量100重量部に対して、0.001〜3重量%であることが好ましく、より好ましくは0.01〜0.5重量%である。
本発明の組成物には、紫外線吸収剤や光安定剤等の耐光性向上剤を添加しても良い。
紫外線吸収剤としては、2−(2'−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2'−ヒドロキシ−3',5'−ジ−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2'−ヒドロキシ−3'−t−ブチル−5'−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール化合物;
2,4−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−6−(2−ヒドロキシ−4−イソ−オクチルオキシフェニル)−s−トリアジン等のトリアジン化合物;
2,4−ジヒドロキシ−ベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−ベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−4'−メチルベンゾフェノン、2,2'−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2、4、4'−トリヒドロキシベンゾフェノン、2,2',4,4'−テトラヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4,4'−テトラヒドロキシベンゾフェノン、2,3',4,4'−テトラヒドロキシベンゾフェノン、又は2、2'−ジヒドロキシ−4,4'−ジメトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン化合物等を挙げることができる。
光安定性剤としては、N,N′−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−N,N′−ジホルミルヘキサメチレンジアミン、ビス(1,2,6,6−)ペンタメチル−4−ピペリジル)−2−(3,5−ジターシャリーブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2−n−ブチルマロネート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニル)セバケート、等の低分子量ヒンダードアミン化合物;N,N′−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−N,N′−ジホルミルヘキサメチレンジアミン、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニル)セバケート等の高分子量ヒンダードアミン化合物等のヒンダードアミン系光安定剤を挙げることができる。
耐光性向上剤の配合割合は、硬化性成分の合計量100重量部に対して、0〜5重量%であることが好ましく、より好ましくは0〜1重量%である。
本発明の組成物は、光学フィルム形成の目的に応じて種々の使用方法を採用することができる。
具体的には、基材に組成物を塗工し活性エネルギー線を照射して硬化させる方法、基材に組成物を塗工し別の基材と貼り合せた後さらに活性エネルギー線を照射して硬化させる方法、凹部を有する型枠に組成物を流し込み、活性エネルギー線を照射して硬化させる方法等が挙げられる。
剥離可能な基材としては、離型処理されたフィルム及び剥離性を有する表面未処理フィルム(以下、まとめて「離型材」という)等が挙げられる。
離型材としては、シリコーン処理ポリエチレンテレフタレートフィルム、表面未処理ポリエチレンテレフタレートフィルム、表面未処理シクロオレフィンポリマーフィルム及び表面未処理OPPフィルム(ポリプロピレン)等が挙げられる。
本発明の組成物の硬化物のヘイズを1.0%以下に抑えるためには、表面未処理ポリエチレンテレフタレートフィルムや表面未処理OPPフィルム(ポリプロピレン)を使用することが好ましい。
当該基材の具体例としては、表面未処理ポリエチレンテレフタレートフィルムや表面未処理OPPフィルム(ポリプロピレン)等が挙げられる。
尚、本発明において表面粗さRaとは、フィルムの表面の凹凸を測定し、平均の粗さを計算したものを意味する。
組成物の精製方法としては、組成物をろ過する方法が簡便であり好ましい。ろ過の方法としては、加圧ろ過等が挙げられる。
ろ過精度は、好ましくは10μm以下、より好ましくは5μm以下である。ろ過精度は小さいほど好ましいが、小さすぎるとフィルターが目詰まりし易くなり、フィルターの交換頻度が増え生産性が低下するため、下限は0.1μmが好ましい。
活性エネルギー線照射における、線量や照射強度等の照射条件は、使用する組成物、基材及び目的等に応じて適宜設定すれば良い。
本発明の組成物は、光学フィルムの製造に好ましく使用できる。
以下、光学フィルムについて説明する。
尚、以下においては、図1〜図2に基づき一部説明する。
光学フィルムの製造方法としては常法に従えば良く、例えば、組成物を基材に塗布した後、活性エネルギー線を照射して製造することができる。
図1において、(1)は離型材を意味する。
組成物が無溶剤型の場合(図1:F1)は、組成物を離型材〔図1:(1)〕に塗工する。組成物が有機溶剤等を含む場合(図1:F2)は、組成物を離型材〔図1:(1)〕に塗工した後に、乾燥させて有機溶剤等を蒸発させる(図1:1−1)。
離型材に組成物層(2)が形成されてなるシートに対して活性エネルギー線を照射することで、離型材/硬化物から構成される光学フィルムが得られる。活性エネルギー線の照射は、通常、組成物層側から照射するが、離型材側からも照射できる。
上記において、基材(1)として離型材を使用すれば、離型材/硬化物から構成される光学フィルムを製造することができる。
加熱・乾燥方法としては、加熱装置を備えた炉内を通過させる方法や、又、送風により実施することもできる、
加熱・乾燥条件は、使用する有機溶剤等に応じて適宜設定すれば良く、40〜150℃の温度に加熱する方法等が挙げられる。
加熱・乾燥後の組成物としては、有機溶剤の割合を1重量%以下とすることが好ましい。
組成物が無溶剤型の場合(図2:F1)は、組成物を離型材〔図2:(1)〕に塗工する。組成物が有機溶剤等を含む場合(図2:F2)は、組成物を離型材〔図2:(1)〕に塗工した後に、乾燥させて有機溶剤等を蒸発させる(図2:2−1)。組成物層(2)には離型材(3)をラミネートした後活性エネルギー線照射したり、活性エネルギー線照射した後に離型材(4)をラミネートすることで、離型材、硬化物及び離型材が、この順に形成されてなる光学フィルムが得られる。
例えば、図1において、(1)の離型材に代え非離型性基材を使用し、前記と同様に活性エネルギー線照射して硬化させ、非離型性基材/硬化物から構成される光学フィルムを製造することもできる。
又、図2において、(1)、(3)及び(4)のいずれかの離型材として、非離型性基材を使用し、前記と同様の方法で活性エネルギー線照射して硬化させ、離型材/硬化物/非離型性基材から構成される光学フィルムや、非離型性基材/硬化物/非離型性基材から構成される光学フィルムを製造することもできる。
本発明の組成物から形成される光学フィルムは、種々の光学用途に使用できるものである。より具体的には、偏光板の偏光子保護フィルム、プリズムシート用支持フィルム及び導光フィルム等の液晶表示装置やタッチパネル一体型液晶表示装置に使用されるフィルム、各種機能性フィルム(例えば、ハードコートフィルム、加飾フィルム、透明導電性フィルム)及び表面形状を付したフィルム(例えば、モスアイ型反射防止フィルムや太陽電池用テクスチャー構造付きフィルム)のベースフィルム、太陽電池等屋外用の耐光性(耐候性)フィルム、LED照明・有機EL照明用フィルム、フレキシブルエレクトロニクス用透明耐熱フィルム等の用途が挙げられる。
攪拌機、温度計、冷却器を備えた500mL反応容器に、室温で化合物(b)としてIPDI:134g、触媒としてジブチルスズジラウレート(以下、「DBTDL」という):0.07gを仕込み、5容量%の酸素を含む窒素の雰囲気下、これらを攪拌しながら液温が70℃になるまで加温した。
化合物(a)の溶液として1,4−ブタンジオール(水酸基価:1247mgKOH/g、P−Mn:90):34.2g及びメチルエチルケトン(以下、「MEK」という):65.0gの混合溶液を内温が75℃以下となるように滴下した後、内温80℃で2時間反応させた。
その後、化合物(c)として2−ヒドロキシエチルアクリレートのε−カプロラクトン1モル付加物〔(株)ダイセル製FA1DDM〕:104.8g、重合禁止剤として2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール(以下、「BHT」という):0.07g、MEK:12.0g及びDBTDL:0.07gの混合溶液を内温が75℃以下となるように滴下した後3時間反応させ、赤外線吸収スペクトル装置(Perkin Elmer製FT−IR Spectrum100)によりスペクトルを測定し、イソシアネート基が完全に消費されたことを確認し、ウレタンアクリレート(以下、「UA−1」という)を含むMEK溶液(固形分80%)を得た。
UA−1のMn(ポリスチレン換算数平均分子量)を、GPC(溶媒:テトラヒドロフラン、カラム:Waters製HSPgel HR MB−L)により測定した結果、1,200であった。
製造例1において、化合物(b)としてIPDI:99.6g及びMEK:50.0gの混合溶液、化合物(a)としてスピログリコール(水酸基価:369mgKOH/g、P−Mn:304)〔三菱ガス化学(株)製SPG。以下、「SPG」という。〕:74.4g及びMEK(粉体であるSPGを添加後に反応容器に付着した洗浄に使用):25.5g、化合物(c)としてFA1DDM:95.6g及びMEK:5.0gの混合溶液とした以外は同様の操作を行い、ウレタンアクリレート(以下、「UA−2」という)を含むMEK溶液(固形分80%)を得た。
得られたUA−2のMnは、1,300であった。
製造例1において、化合物(b)としてIPDI:107.0g及びMEK:50.0gの混合溶液、化合物(a)としてSPG:117.2g及びMEK(製造例2と同目的で使用):25.5g、化合物(c)としてFA1DDM:45.2g及びMEK:5.0gの混合溶液とした以外は同様の操作を行い、ウレタンアクリレート(以下、「UA−3」という)を含むMEK溶液(固形分80%)を得た。
得られたUA−3のMnは、2,800であった。
攪拌機、温度計、冷却器を備えた500mL反応容器に、室温で化合物(b)としてIPDI:115.4g、重合禁止剤としてBHT:0.07g、触媒としてDBTDL:0.07gを仕込み、5容量%の酸素を含む窒素の雰囲気下、これらを攪拌しながら液温が70℃になるまで加温した。
化合物(a)としてトリシクロ[5.2.1.02,6]デカンジメタノール(オクセア社製TCDDM。以下、「TCDDM」という。)(水酸基価:572mgKOH/g、P−Mn:196):64.3g、化合物(c)としてFA1DDM:90.3g及びMEK:85.0gの混合溶液を内温が75℃以下となるように一括添加した後、内温80℃で2時間反応させた。
その後、DBTDL:0.07g及びMEK:5.0gの混合溶液を添加し、イソシアネート基が完全に消費されたことを確認し、ウレタンアクリレート(以下、「UA−4」という)を含むMEK溶液(固形分80%)を得た。
得られたUA−4のMnは、1,200であった。
製造例1において、化合物(b)としてIPDI:165.7g、化合物(a)の溶液として1,4−ブタンジオール:49.0g及びMEK:82.5gの混合溶液、ヒドロキシル含有アクリレートとして2−ヒドロキシエチルアクリレート(以下、「HEA」という):47.7g及びMEK:5.0gの混合溶液とした以外は同様の操作を行い、ウレタンアクリレート(以下、「UA’−1」という)を含むMEK溶液(固形分80%)を得た。
得られたUA’−1のMnは、1,300であった。
製造例1において、化合物(b)としてIPDI:116.3g及びMEK:50.0gの混合溶液、化合物(a)としてSPG:100.3g及びMEK(製造例2と同目的で使用):32.5gの混合溶液、ヒドロキシル含有アクリレートとしてHEA:45.9g及びMEK:5.0gの混合溶液とした以外は同様の操作を行い、ウレタンアクリレート(以下、「UA’−2」という)を含むMEK溶液(固形分80%)を得た。
得られたUA’−2のMnは、1,300であった。
製造例1において、化合物(b)としてIPDI:80.4g及びMEK:50.0gの混合溶液、化合物(a)としてSPG:55.0g及びMEK(製造例2と同目的で使用):32.5gの混合溶液、ヒドロキシル含有アクリレートとして2−ヒドロキシエチルアクリレートのε−カプロラクトン2モル付加物〔(株)ダイセル製FA2D〕:127.1g及びMEK:5.0gの混合溶液とした以外は同様の操作を行い、ウレタンアクリレート(以下、「UA’−3」という)を含むMEK溶液(固形分80%)を得た。
得られたUA’−3のMnは、1,400であった。
製造例4において、化合物(b)としてIPDI:138.4g、化合物(a)としてTCDDM:77.0g、ヒドロキシル含有アクリレートとしてHEA:54.6g及びMEK:85.0gの混合溶液とした以外は同様の操作を行い、ウレタンアクリレート(以下、「UA’−4」という)を含むMEK溶液(固形分80%)を得た。
得られたUA’−4のMnは、1,200であった。
後記表1及び同2に示す成分を表1及び同2に示す割合でステンレス製容器に投入し、加温しながらマグネチックスターラーで均一になるまで撹拌し、組成物を得た。
・DCPA〔ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート、共栄社化学(株)製ライトアクリレートDCP−A〕
・M309〔ペンタエリスリトールトリアクリレート、東亞合成(株)製アロニックスM−309〕
・Dc1173:2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、BASFジャパン(株)製DAROCUR−1173
幅300mm×長さ300mmの東レ(株)製フィルム「ルミラー50−T60」(表面未処理ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ50μm、以下「ルミラー」という)に、実施例1〜4、同6〜8、同10〜11、比較例1〜4及び同6〜7で得られた組成物を、80℃で10分乾燥した後の膜厚が80μmになるようアプリケーターで塗工した。
その後、組成物層に、(株)NHVコーポレーション製の電子線照射装置により、加速電圧200kV、線量150kGy(ビーム電流及び搬送速度により調整)、酸素濃度300ppm以下の条件下で電子線照射を行い、光学フィルムを得た。
硬化後、ルミラーから剥離し、後記する評価に用いた。その結果を表3に示す。
幅300mm×長さ300mmのルミラーに、実施例5及び同9、比較例5で得られた紫外線硬化型組成物を、80℃で10分乾燥した後の膜厚が80μmになるようアプリケーターで塗工した。
その後、組成物層に、アイグラフィックス(株)製のコンベア式紫外線照射装置(高圧水銀灯、ランプ高さ12cm、365nmの照射強度400mW/cm2(フュージョンUVシステムズ・ジャパン(株)社製UV POWER PUCKの測定値))によりコンベア速度を調整して、積算光量1,000mJ/cm2の紫外線照射を行い、紫外線硬化型光学フィルムを得た。
硬化後、ルミラーから剥離し、後記する評価に用いた。その結果を表3に示す。
作製したフィルムから15×150mmのサンプルを切り出し、25%、65%RHの雰囲気下で、引張試験機(インストロンジャパンカンパニーリミテッド製インストロン5564)を用いて、以下の条件で引張試験を行い、破断強度及び破断伸度を測定した。結果を表3に示す。
チャック間距離:100mm
引張速度 :50mm/分
作製したフィルムをカッターナイフで切った時のカッティング性を以下の基準で評価した。それらの結果を表3に示す。
○:スムーズにカットが可能な状態
△:ややスムーズさに欠ける
×:カット時に断面にクラックが生じる状態
15×150mmに切り出しフィルムを180°折り曲げた時の耐性を以下の基準で評価した。それらの結果を表3に示す。
○:3回で割れず
△:1〜2回で割れ
×:1回で割れ
これに対して、比較例F1、F2、F4〜F6は、化合物(c)と異なるHEA(ε−カプロラクトン付加モル数が0.0)を使用して製造されたウレタンアクリレートを含む組成物から得られた光学フィルムであり、フィルムは非常に脆く、引張試験の評価ができなかった。比較例F3、F7は、化合物(c)と異なるε−カプロラクトン付加モル数が2.0であるヒドロキシル基含有アクリレートを使用して製造されたウレタンアクリレートを含む組成物から得られた光学フィルムである。比較例F3では、破断強度及び破断伸度が低く、やや脆く、比較例F7では、フィルムは非常に脆く、引張試験の評価ができなかった。
Claims (18)
- シート状基材に、下記光学フィルム又はシート形成用活性エネルギー線硬化型組成物を塗布した後、塗工面側又はシート状基材側から活性エネルギー線を照射する光学フィルム又はシートの製造方法。
○数平均分子量が60以上400以下のポリオール(a)、無黄変型有機ポリイソシアネート(b)及びヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートの4〜7員環ラクトン付加物であって、ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレート1モルに対する4〜7員環ラクトンの付加反応割合が0.1モルより大きく2.0モルより小さい化合物(c)の反応物であって、芳香族基を有しない化合物で、数平均分子量が600〜3,000の化合物であるウレタン(メタ)アクリレート(A)を含む光学フィルム又はシート形成用活性エネルギー線硬化型組成物 - 前記(c)の化合物における4〜7員環ラクトンが、ε−カプロラクトンである請求項1に記載の光学フィルム又はシートの製造方法。
- 前記組成物が、さらに、(A)成分以外のエチレン性不飽和基を有する化合物(B)を含む請求項1又は請求項2に記載の光学フィルム又はシートの製造方法。
- 前記(B)成分が2個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物を含むものである請求項3に記載の光学フィルム又はシートの製造方法。
- (A)成分及び(B)成分の合計量を基準として、(A)成分40〜99重量%及び(B)成分1〜60重量%で含む請求項3又は請求項4に記載の光学フィルム又はシートの製造方法。
- 前記組成物が、さらに、光重合開始剤(C)を含む請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の光学フィルム又はシートの製造方法。
- 前記組成物が、さらに、有機溶剤(D)を含む請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の光学フィルム又はシートの製造方法。
- 活性エネルギー線が電子線である請求項1〜請求項7のいずれか1項に記載の光学フィルム又はシートの製造方法。
- シート状基材が剥離可能な基材である請求項1〜請求項8のいずれか1項に記載の光学フィルム又はシートの製造方法。
- シート状基材に、下記光学フィルム又はシート形成用活性エネルギー線硬化型組成物を塗布し、組成物の塗工面に他のシート状基材を貼合した後、前記シート状基材のいずれかの側から活性エネルギー線を照射する光学フィルム又はシートの製造方法。
○数平均分子量が60以上400以下のポリオール(a)、無黄変型有機ポリイソシアネート(b)及びヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートの4〜7員環ラクトン付加物であって、ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレート1モルに対する4〜7員環ラクトンの付加反応割合が0.1モルより大きく2.0モルより小さい化合物(c)の反応物であって、芳香族基を有しない化合物で、数平均分子量が600〜3,000の化合物であるウレタン(メタ)アクリレート(A)を含む光学フィルム又はシート形成用活性エネルギー線硬化型組成物 - 前記(c)の化合物における4〜7員環ラクトンが、ε−カプロラクトンである請求項10に記載の光学フィルム又はシートの製造方法。
- 前記組成物が、さらに、(A)成分以外のエチレン性不飽和基を有する化合物(B)を含む請求項10又は請求項11に記載の光学フィルム又はシートの製造方法。
- 前記(B)成分が2個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物を含むものである請求項12に記載の光学フィルム又はシートの製造方法。
- (A)成分及び(B)成分の合計量を基準として、(A)成分40〜99重量%及び(B)成分1〜60重量%で含む請求項12又は請求項13に記載の光学フィルム又はシートの製造方法。
- 前記組成物が、さらに、光重合開始剤(C)を含む請求項10〜請求項14のいずれか1項に記載の光学フィルム又はシートの製造方法。
- 前記組成物が、さらに、有機溶剤(D)を含む請求項10〜請求項15のいずれか1項に記載の光学フィルム又はシートの製造方法。
- 活性エネルギー線が電子線である請求項10〜請求項16のいずれか1項に記載の光学フィルム又はシートの製造方法。
- シート状基材のいずれか一方又は両方が剥離可能な基材である請求項10〜請求項17のいずれか1項に記載の光学フィルム又はシートの製造方法。
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