JPH01198614A - 光ディスク基板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は光で読み出しを行う方式の光ディスク基板、特
にデジタル・オーディオディスク、ビデオディスク、メ
モリーディスク等の光ディスク基板に関する。

〔従来の技術〕

光ディスクメモリー用のディスク基板の製造法としては
、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂をインジェクシ
ョン法で成型する方法、すなわち、片面にスタンパが設
置されている金型の中に重合度の低いプラスチックを高
温高圧で流し込んで成型する方法、又ガラス、アクリル
樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂等の平板上
に光硬化性の樹脂を流し込みその上から金属スタンパを
押しあて、基板側から放射線を照射して樹脂を硬化させ
、スタンパを剥離して光ディスク基板を製造する、所謂
２Ｐ法が知られている。

更に特開昭６０−１１２４０９号公報、特開昭６０−２
０２５５７号公報、特開昭６１−４４６８９号公報、特
開昭６１−９８７１０号公報、特開昭６１−１１５９１
３号公報、特開昭６１−１５９４１１号公報、特開昭６
１−１７６６１８号公報にアクリル系樹脂を光硬化させ
て光ディスク基板を製造する方法が提案されている。

〔発明が解決しようとする問題点〕

光ディスク基板をインジェクション法で成型する方法は
生産性に優れるが、異物が混入しやすく、Ｃ／Ｎが低い
ばかりでなく、ポリカーボネート樹脂については、成形
時の残留応力のため分子が配向して光学的歪（複屈折）
が大きくなり易く、また表面硬度が低いため製造工程時
に傷がつきやすい欠点を有しており、ポリメチルメタク
リレート樹脂については、吸湿性が大きいためディスク
が反りやすく、かつ、耐熱性が低いため記録膜をつけた
溝の熱安定性が低いという問題点がある。

又２Ｐ法による場合は、２段階で光ディスク基板を作成
するため作業上からも時間を要し、また基板と光硬化樹
脂との密着性の高信顛性も要求され、更に、透明な基板
の選定が重要であり、アクリル樹脂では低Ｔｇで吸湿性
による反りが大きいという問題、ポリカーボネート樹脂
では複屈折が大きいという問題、エポキシ樹脂では成型
時の硬化時間が長い等の問題がある。

特開昭６０−１１２４０９号公報、特開昭６０−２０２
５５７号公報、特開昭６１−４４６８９号公報、特開昭
６１−９８７１０号公報、特開昭６１−１１５９１３号
公報、特開昭６１−１５９４１１号公報、特開昭６１−
１７６６１８号公報で提案された方法は、反りの低減、
低吸水、低吸湿、耐熱性等を特徴とするとされているが
いずれもまだ実用化に至っていない。

本発明は、光学的歪（複屈折）、吸湿による反りが少な
く、表面硬度、耐熱性、機械的強度に優れ長期信頬性の
高い光ディスク基板を提供するものである。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明は一般式 ＬはＨまたはＣＨ３、Ｒ２はＨＳＣ，−Ｃ，までのアル
キ３の数である〕 で表される重合性化合物を所定の形状に光硬化せしめて
成る光ディスク基板を提供するものである。

（１）は、フェノールボラック型エポキシ樹脂を（メタ
）アクリル酸で変性し、分子構造中のＯＨ基を種々官能
基で置換してエステル化したものである。

本発明では、前記一般式で表されるビニル系化合物に加
えて、公知の光重合可能なモノマー、具体的には、１．
６−ヘキサンシオールジ（メタ）アクリレート、トリメ
チロールプロパントリ　（メタ）アクリレート、ペンタ
エリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタ
エリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、エトオキ
シトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、
ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、イソ
ボニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メ
タ）アクリレート、スチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等
を本発明の優れた特性を低下させない範囲で併用するこ
とも可能である。

上記ビニル系化合物を重合しディスク基板を製造するに
は、スペーサーで所定の間隔を保つ透明板と金属又は透
明板のスタンパとの間、又は２枚の透明板の間にビニル
化合物を注入し、片面又は全面から紫外線等を照射し光
硬化させる。後者の場合は、その後光硬化させた基板の
上にスタンパの溝を転写した樹脂層を形成する。

本発明のビニル系化合物には、一般に知られている光増
感剤、例えばジベンゾイル、ベンゾイン）−１−ルエー
テル、ベンゾインエチルエーテル、べンゾインイソブロ
ピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、２−ヒ
ドロキシ−２−ベンゾイルプロパン、アゾビスイソブチ
ロニトリル、ベンジル、チオキサントン、ジフェニルジ
スルフィド、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−
ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒド
ロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オ
ン、２．２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン
、１−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン等を使
用することができる。これらの光増感剤は、ビニル化合
物に対して多くとも５重量％の量とすることが好ましい
。

本発明のビニル化合物に、必要に応じて黄変防止剤、レ
ベリング剤、紫外線吸収剤等の添加剤を重合硬化を妨げ
ない範囲で添加することができる。

〔実施例〕

以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明するが、本
発明はこれに限定されるものではない。

実施例１ ２枚の仮ガラスとスペーサーとからなるガラス鋳型を用
意し、この鋳型中に２重量部の１−（４−イソプロビル
フェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１
−オンを添加、混合した第１表Ｎｏ、１ｘＮｏ、４の各
種樹脂を注入し、８０　Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて周
囲から紫外線を照射した。６０秒間硬化した後、離型し
、厚さ１．２　＋＋＋ｍ、直径３０ｃｍの均一な厚みの
基板を得た。この基板を用いて、以下（１）〜（４）の
特性を測定したところ第１表の結果を得た。

（１）吸水率：６０°Ｃの水中に３００時間放置し、Ｊ
ＩＳ−に６９１１に準じて測定した。

（２）耐熱温度ｊ　ＤＭＡ法によりガラス転移温度を測
定した。

（３）光学特性：厚さ１．２ｍｍの樹脂板に８３０ｎｍ
の光をあて、光透過率を分光光度計で求めた。

゛又８３０ｎｍの光をあてて複屈折率を求めて、リター
デーションも測定した。

（４）表面硬度：鉛筆硬度を求めた。

（５）曲げ強度：　Ｊ　Ｉｓ−に６９１１に準じて測定
した。

第１表かられかるように、本発明の基板はポリメチルメ
タアクリレートの基板に比較し、吸水率が小さく、耐熱
温度が高い。また、ポリカーボネートの基板との比較で
は、リターデーシジンおよび表面硬度に優れている。

実施例２ 溝状パターン付Ｎｉ製スタンバに対して、離型剤を塗布
したガラス板を向かい合わせに配置し、両者の間に１．
２　ｍｍの空間を設けて樹脂注入型を形成した。

この型の中に、実施例１で示された第１表Ｎｏ。

１〜Ｎｏ、４の各樹脂を注入し、８０Ｗ／ｃｍ高圧水銀
灯を用いて、６０秒間ガラス板から紫外線を照射し、樹
脂を硬化させ、溝状パターン付基板を得た。溝付の透明
基板上にＴｅ系記録膜を約３０μｍ厚さに蒸着した後、
基板全体を１００″Ｃ１時間の雰囲気にさらし、記録膜
の結晶化を行って、光ディスク記録媒体を作成した。得
られた光ディスク記録媒体は、情報出力時の出力レベル
は良好であり、かつ基板に反りが生じなかった。

実施例３ 離型剤を塗布した溝状パターン付ガラス製スタンバに対
して離型剤を塗布したガラス板を用い、　　′実施例２
の要領で樹脂注入型を用意した。さらに、この型の中に
、実施例１で示された第１表Ｎｏｌ〜Ｎｏ４の各樹脂を
注入した。８０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、紫外線を
ガラス板から３０秒間照射し、次にスタンバ側から紫外
線を３０秒間照射して、樹脂を硬化せしめた。得られた
溝付パターン付基板に実施例２と同一処理を施し光ディ
スク記録媒体を作製した。

得られた光ディスク記録媒体に反りは見られず、又、情
報の書き込み、読み出しを円滑に行うことができた。

〔発明の効果〕

本発明の光ディスク基板は、光学的歪（複屈折）、吸湿
による反りが少なく、表面硬度、機械的強度、耐熱性に
優れると共に、光硬化により短時間で成形出来るのでそ
の製造の生産性が高められる。

さらに、スペーサーで所定の間隔を保つガラス板とスタ
ンバとの間に樹脂組成物を注入し紫外線等を照射し光硬
化させ光ディスク基板を製造し得るのでその製造の生産
性が著しく高められる。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｘは▲数式、化学式、表等があります▼、 Ｒ＿１はＨまたはＣＨ＿３、Ｒ＿２はＨ、Ｃ＿１〜Ｃ＿
   ６までのアルキル基、▲数式、化学式、表等があります
   ▼、▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、
   化学式、表等があります▼、 ｎは０〜３の数である〕 で表される重合性化合物を所定の形状に光硬化せしめて
   成る光ディスク基板。 ２、前記、ビニル化合物を、スペーサーで所定の間隔を
   保つ透明板とスタンパの間に注入し、紫外線を照射し、
   光硬化させて成る特許請求の範囲第１項記載の光ディス
   ク基板。