JPS61266402A - 耐熱性樹脂組成物 - Google Patents

耐熱性樹脂組成物

Info

Publication number
JPS61266402A
JPS61266402A JP60107361A JP10736185A JPS61266402A JP S61266402 A JPS61266402 A JP S61266402A JP 60107361 A JP60107361 A JP 60107361A JP 10736185 A JP10736185 A JP 10736185A JP S61266402 A JPS61266402 A JP S61266402A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
resin composition
bisphenol
heat
compounds
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP60107361A
Other languages
English (en)
Inventor
Takahiro Matsuo
隆広 松尾
Takao Inoue
孝夫 井上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP60107361A priority Critical patent/JPS61266402A/ja
Publication of JPS61266402A publication Critical patent/JPS61266402A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はコンパクトディスク(CD)、静止画ファイル
、文書ファイル、コンピューター用ディスク等、光デイ
スク基板または光磁気ディスク基板に用いる耐熱性樹脂
組成物に関するものである。
従来の技術 近年、高度情報化時代の流れに従い、よシ高速。
高密度に情報を記録、再生するために、磁気テープにか
わシ、光ディスク、光磁気ディスク、磁気ディスク等が
提案されている。また、従来のレコードにかわるCD、
静止画ファイル、文書ファイル、レーザーディスク等の
ディスクがポリカーボネート樹脂の射出成形やアクリル
樹脂のキャスティング、更にはガラスを用いたディスク
基板が提案され、商品化も進められている。
発明が解決しようとする問題点 しかしながら、このようなディスク基板では再生のみ又
は、一度だけ書き込めるが何回も記録。
消去が不可能であるという問題があった。
これは下記の理由による。
つまシ、記録時においては、大出力のレーザー光が記録
膜に当たシ、部分的にディスク基板が高温(160℃以
上)Kなシ、樹脂が熱によシ変形したシ、劣化し、転写
された微細なパターン形状が保持できなぐなシ、記録容
量が極端に低下、または、エラーレートが極端に高くな
シ、その結果、高密度に情報を記録出来なくなったシ、
すでに記録した情報の一部又は全部が再生不可能となっ
ていた。一方、ガラス基板においては耐熱性上は問題な
いが、情報を記録するための溝加工が量産に全く適して
いなかったり、7オトポリマー(2P法、)法によシ形
成した溝がレーザー光によシ微細なパターン形状の一部
又は全部が変形したシ、劣化したシして全く使用出来な
くなる等の問題点があった。
また、射出成形においては、その樹脂中に混入している
o、sμm以上のゴミ(Toooo個/y以上)、成形
時に発生する樹脂の焦げ等がディスク基板上に存在し、
それがピットエラーレートを大きくし、記録密度が上が
らない等の問題があった。
そこで、本発明は、これらの条件に十分に対応可能な耐
熱性樹脂組成物を提供するものである。
問題点を解決するための手段 そして上記問題点を解決する本発明の技術的な手段は、
一般式(1)、 (2)、 (3)で示したN−置換マ
レイミド、トリアジン環を骨格に持つ化合物と、分子中
にアクリロイル基、アリル基、エポキシ基。
ビニル基を有する反応性モノマー及びまたはオリゴマー
と単独重合又は共重合することにより熱的性質に安定し
た組成物を得るものである。そこで、一般式(1)のx
lにおいてはN−(P−置換又は〇−置換フェニル)マ
レイミド類、N−アルキル置換N−置換基にヒドロキシ
ル基を持つマレイミド類、N−置換基にエステル結合を
持つマレイミド類、N−置換基にエポキシ基を持つマレ
イミド類等の反応性化合物が好ましい。更に好ましくは
、N−(P−置換又は〇−置換フェニル)マレイミドの
中で、P−又は〇−置換体として一0CH3゜−H,−
CH3,−C1,−0COC)I3.−COOC2H6
゜−COCH3等が、N−アルキル置換マレイミドの中
で、−CH3,−C2H6,−1−C3H7,−n−置
換基にヒドロキシル基を持つマレイミドとして、N−(
P−ヒドロキシフェニル)マレイミド、N−(2−ヒド
ロキシエチル)マレイミド、N−メチロールマレイミド
等が、N−置換基にエステル結合を持つマレイミドとし
て、N−(:z−アセトキシエチル)マレイミド、N−
(2−グロピオニルオキシエチル)マレイミド、N−(
3−アセトキシプロピル)マレイミド等が、N−置換基
にエポキシ基を持つマレイミドとして、ビスフェノール
A型又はフェノールノボラック型エポキシを用いる方が
良い。
また1、x2〜x6は、エポキシ基、(メタ)アクリロ
イルオキシ基、ビニル基、アリル基、アミノ基、イミノ
基、ヒドロキシル基、カルボキシル基等の反応性基を有
している方が良い。
また、重合は光重合、熱重合開始剤共使用可能であシ、
光重合開始剤としては、市販されている光増感剤は全て
使用可能であるが、透明性や黄変性を重視すると1−ヒ
ドロキシシクロへキシルフェニルケトンが好ましい。
熱重合開始剤としては市販されている有機過酸化物や酸
無水物は全て使用可能である。重合開始剤量としては0
 、1w t%〜10wt%が好ましく0.1wt%以
下では重合速度が著しくおそ〈量産には不適である。ま
た、10wt%をこえると重合速度は速いもののラジカ
ルの発生数が必要以上に多くなり成長反応よりも停止反
応速度の方が大きく、生成ポリマーが十分高分子量化で
きなくなシ、十分な耐熱性が得られない。より好ましく
は増感剤量としては2wt%〜5 w t%が良い。
作  用 この技術的手段による作用は次のようになる。
すなわち、従来インジェクションやキャスティングでは
不可能な耐熱150℃以上のディスク基板を、光および
又は熱硬化で形成することが可能となシ、その結果レー
ザー出力を上げることができるので、よシ記録特性釦優
れた光デイスク基板が得られるようになる。
また、反応性液状材料によシ、基板表面に精度良く微細
パターンが転写可能となると共に、成形直前に材料を濾
過できるため、材料中のゴミによるピットエラーレート
の増大が防げ、記録密度を上げることが可能となる。
実施例 以下、本発明の実施例について説明する。
実施例1〜6 ビスフェノールA型ジアクリレート(BP4EA。
共栄社油脂化学工業■袈)とN−7エニルマレイミド(
PMI)の共重合を行い、硬化物を240℃のオイルバ
スに浸漬し硬化物の外観変化と劣化状態を観察した。
尚、組成物の硬化は光重合を行い、増感剤として、1−
ヒドロキシシクロへキシルフェニルケト7 (Irga
cure  184チバガイギ一社製)を樹脂に対し3
wt%用いた。紫外線照射装置としては、ジェットライ
ト(超高圧水銀灯、入力3KW。
3ooW/m)(@オーク製作新製)を用いた。
外観変化は次のように判定した。
変化なし・・・○、やや黄変・・・Δ、黄変・・・×。
褐色・・・××、黒褐色・・・××× 劣化状態は次のように判定した。
変化なし・・・O2ややもろくなる△。
もろくなる・・・×、ボロボロとくずれる・・・××実
施例7〜13 ビスフェノールA型エポキシ(エビコー)828゜油化
ジェルエポキシ■製)と酸無水物(リカジッドM H−
700E 、新日本理化■製)と促進剤Ucat S 
A A102 と、トリグリシジルトリアジン(TGT
)の重合を行った。
熱変形温度をlIF5  K7207に準じテストを行
い、評価した。130〜140’C・・・・・・X、1
40〜150℃・・・・・・Δ、150〜180℃・・
・・・・0゜180℃以上・・・・・・◎ 硬化促進剤(Uaat SA 7g、102 )は、樹
脂全量の0.8wt%添加し、120℃の恒温槽で組成
物を硬化した。
実施例14〜2O N −(P−ヒドロキシフェニル)マレイミドと1−カ
ルボキシ、3,5−ジアクリロイルトリアジンとのエス
テル化を行い、化合物に)を合成し、化合物(ハ)とア
ロエックスM−315,M−210(東亜合成化学工業
■製)との重合を、実施例1〜6と同一条件で硬化させ
、硬化物のガラス転移点(T2)を熱分析(DSC)に
より求めた。
Tq:  80〜100℃・A  Ioo 〜130℃
・B130〜160℃・  C150〜200℃、−D
20o℃以上・・・E 判定:×・・・・・・効果無し、Δ・・・・・・やや効
果有シ、O・・・・・・効果有シ 0−C−CH冨CH2 化合物 に) 実施例21〜27 実施例6と同一組成、同一硬化条件で光増感剤1 (1
−ヒ)”ロキシシクロへキシルフェニルケトン(Irg
acure 184チバガイギ一社($1り))を変化
させ、その耐熱性を実施例1〜6と同一方法で評価した
発明の効果 本発明は光デイスク基板の特性において、従来の熱可塑
性材料では不十分であった熱的特性を、N−置換マレイ
ミド化合物や1,3.5−置換トリアジン化合物等を用
いることにょシ大幅に向上させ、その結果情報記録時の
レーザー出力を上げることか可能となり、より信頼性の
高い光デイスク基板を提供することが可能となった。更
に、反応性液状材料のため、成形直前に材料中の異物を
取り除けるため、ピットエラーレートを大幅に低下させ
、記録密度を上げることが可能となった。
まだ、この組成物は光デイスク基板のみならず、レンズ
等の光学系や、耐熱を必要としている部分の樹脂化への
応用展開が可能である。
代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名手続
補正書 昭和60年 9月10 日

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式〔1〕で示されるN−置換マレイミド化合
    物又は一般式〔2〕で示されるトリアジン環を骨格に持
    つ化合物の少なくとも一方を5wt%以上含有し、かつ
    、重合開始剤を0.1〜10wt%含有することを特徴
    とする耐熱性樹脂組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼〔1〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔2〕 X_1、X_2、X_3、X_4:下記のグループの一
    種以上を有するもの(エポキシ基、アリル基、(メタ)
    アクリロイルオキシ基、ビニル基、アミノ基、イミノ基
    、ヒドロキシル基、カルボキシル基、O−、P−、m−
    置換フェニル基、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、
    アシル基、ビスフェノールA基、ビスフェノールF基の
    中から少なくとも1種以上選ばれる官能基を持つ化合物
    、分子中にエステル結合又は、第1、第2、第3級アミ
    ンを有する化合物、水素。)(2)一般式〔3〕で示さ
    れる化合物を5wt%以上含有しかつ重合開始剤を0.
    1〜10wt%含有することを特徴とする耐熱性樹脂組
    成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼〔3〕 X_5、X_6:下記のグループの一種以上を有するも
    の(エポキシ基、アリル基、(メタ)アクリロイミノ基
    、 イルオキシ基、ビニル基、アミノ基、イミノ基、ヒドロ
    キシル基、カルボキシル基、O−、P−、m−置換フェ
    ニル基、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アシル基
    、ビスフェノールA基、ビスフェノールF基の中から少
    なくとも1種以上選ばれる官能基を持つ化合物、分子中
    にエステル結合又は、第1、第2、第3級アミンを有す
    る化合物、水素)。
JP60107361A 1985-05-20 1985-05-20 耐熱性樹脂組成物 Pending JPS61266402A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60107361A JPS61266402A (ja) 1985-05-20 1985-05-20 耐熱性樹脂組成物

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60107361A JPS61266402A (ja) 1985-05-20 1985-05-20 耐熱性樹脂組成物

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS61266402A true JPS61266402A (ja) 1986-11-26

Family

ID=14457126

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60107361A Pending JPS61266402A (ja) 1985-05-20 1985-05-20 耐熱性樹脂組成物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS61266402A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03140313A (ja) * 1989-10-26 1991-06-14 Sekisui Fine Chem Kk 硬化性組成物
JP2005104849A (ja) * 2003-09-26 2005-04-21 Dainippon Printing Co Ltd 感光性多官能化合物、それを用いた感光性樹脂組成物及び物品

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03140313A (ja) * 1989-10-26 1991-06-14 Sekisui Fine Chem Kk 硬化性組成物
JP2005104849A (ja) * 2003-09-26 2005-04-21 Dainippon Printing Co Ltd 感光性多官能化合物、それを用いた感光性樹脂組成物及び物品
JP4574971B2 (ja) * 2003-09-26 2010-11-04 大日本印刷株式会社 光ラジカル重合開始剤、それを用いた感光性樹脂組成物及び物品

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS61266402A (ja) 耐熱性樹脂組成物
JPH0459385A (ja) 光情報記録媒体
EP0240752B1 (en) Erasable optical disk having an improved optically transparent substrate
JPS6198734A (ja) 硬化性組成物
JPH01102502A (ja) 光学用成形品
JPS61278509A (ja) 光デイスク基板
JPH01167315A (ja) 光ディスク基板
JPS6198710A (ja) デイスク
JPS63210111A (ja) 光学用樹脂素材
JPS63264613A (ja) 光学素子基体
JPS6366213A (ja) デ−タ担体の製造のための加硫できる反応組成物の使用
JPS63241011A (ja) 光学用樹脂材料
JPH01102501A (ja) 光学用成形品
JPS62180782A (ja) 光デイスク基板
JPS61246210A (ja) 光デイスク基板
JPH01108205A (ja) 光デイスク基板
JPH02173017A (ja) 有機ガラス
JPH01168713A (ja) 光学樹脂用組成物
JPS63213506A (ja) 光学用材料
JPH01282206A (ja) 耐熱性樹脂組成物
JPS6341513A (ja) 硬化反応性組成物のデ−タキヤリア製造のための使用
JPS62283112A (ja) 耐熱性樹脂組成物
JPH07130003A (ja) 光ディスク成形基板
JPS62119217A (ja) 光デイスク基板
JPS62232415A (ja) 耐熱性樹脂組成物