JPS6341513A - 硬化反応性組成物のデ−タキヤリア製造のための使用 - Google Patents
硬化反応性組成物のデ−タキヤリア製造のための使用Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F212/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
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- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
磁気的に読み出し又は書き込み可能なオーディオ、ビデ
オ及びデータプロセッシング用データを保持する層のた
めの支持材料として技術的に確立されているいるものは
、熱可塑性樹脂製、例えばポリエチレンテレフタレート
、又はその、例えば1.4−ブタンジオールとの共縮合
物、ポリ塩化ビニール、塩化ビニール共重合体、その他
媒体製のテープ、フィルム及びディスクである。
オ及びデータプロセッシング用データを保持する層のた
めの支持材料として技術的に確立されているいるものは
、熱可塑性樹脂製、例えばポリエチレンテレフタレート
、又はその、例えば1.4−ブタンジオールとの共縮合
物、ポリ塩化ビニール、塩化ビニール共重合体、その他
媒体製のテープ、フィルム及びディスクである。
光学的に、特にレーザー読み出し可能な系では、現在デ
ィスクだけが記憶媒体として使用されている。ビデオ(
レーザービジョン)ディスク(直径的30cm)の場合
、そのキA・リアー基材はカラス又はポリメタクリル酸
メチル製である。光学的データキャリアー用基剤材料と
して使用されると記載されている興味深い材料は、ポリ
塩化ビニール及びポリカーボネートである。(van
den Bruck他1、Iournal of Ra
diation Curing、 19841月2頁以
降、Kunststoffjournal 11/19
82.6頁以降、コードナンバー2参照)。
ィスクだけが記憶媒体として使用されている。ビデオ(
レーザービジョン)ディスク(直径的30cm)の場合
、そのキA・リアー基材はカラス又はポリメタクリル酸
メチル製である。光学的データキャリアー用基剤材料と
して使用されると記載されている興味深い材料は、ポリ
塩化ビニール及びポリカーボネートである。(van
den Bruck他1、Iournal of Ra
diation Curing、 19841月2頁以
降、Kunststoffjournal 11/19
82.6頁以降、コードナンバー2参照)。
その他データ記憶用に使用されている材料には、メタク
リル酸ブチル/メタクリル酸共重合体<F。
リル酸ブチル/メタクリル酸共重合体<F。
restry Ministry Paper、 SU
(ソビエl−特許)第1゜046.736号(03,
06,82107,10,83)) ;メタクリル酸ア
ルキル、スチレン及びトビニールフエニルーn−アルキ
ル−又はアリールヂオ尿素の三成分重合体(Kish
Llniversity;Stl (ソビエト特許)第
873,269号(30,1+、79/15.10.8
1)) 。
(ソビエl−特許)第1゜046.736号(03,
06,82107,10,83)) ;メタクリル酸ア
ルキル、スチレン及びトビニールフエニルーn−アルキ
ル−又はアリールヂオ尿素の三成分重合体(Kish
Llniversity;Stl (ソビエト特許)第
873,269号(30,1+、79/15.10.8
1)) 。
ポリN−ビニールカルバゾール、トリニトロフルオレン
、スチレン−ブタジェン共重合体を古む熱可塑性組成物
(M、S、 Burakina、SU (ソビエI・特
許)第667.950号(05,09,77/25.0
6 、)9));メタクリル酸シクロヘキシルを基本に
した重合体(日本特許公開第57−186,241(1
1,05,81/16.11.。
、スチレン−ブタジェン共重合体を古む熱可塑性組成物
(M、S、 Burakina、SU (ソビエI・特
許)第667.950号(05,09,77/25.0
6 、)9));メタクリル酸シクロヘキシルを基本に
した重合体(日本特許公開第57−186,241(1
1,05,81/16.11.。
82)) 。
例えば金属表面層にベンゼン溶液から塗布するデータ記
憶層としてメタクリル酸ブチル及びスチレン共重合体(
C,V、 Gurasch他SU(ソビエト特許)第3
91.597号(26,04,71/22.11.73
)が記載されている。
憶層としてメタクリル酸ブチル及びスチレン共重合体(
C,V、 Gurasch他SU(ソビエト特許)第3
91.597号(26,04,71/22.11.73
)が記載されている。
これに関連して、媒体、例えばポリ塩化ビニール、ポリ
カーボネート、ポリエステル、セルロースエステル細裂
のフィルム上に、アクリル酸2−エチルヘキシル及びト
リアクリル酸1,1.1−トリメチロールプロパンの放
射線重合を行なってデータキャリア一層を形成するrl
E−OS(ドイツ国公告特許明細書)第2,744,4
79号も挙げなければならない。
カーボネート、ポリエステル、セルロースエステル細裂
のフィルム上に、アクリル酸2−エチルヘキシル及びト
リアクリル酸1,1.1−トリメチロールプロパンの放
射線重合を行なってデータキャリア一層を形成するrl
E−OS(ドイツ国公告特許明細書)第2,744,4
79号も挙げなければならない。
ポリマー類は、現在記憶ディスク用基材として経済的に
も重要であり、技術的にも以下に示すような用途で関心
を集めている。
も重要であり、技術的にも以下に示すような用途で関心
を集めている。
1、非消去性光学的記憶装777 [R,OM (Re
ad 0nlyNen+ory) 、又はOR0M (
Optical Read 0nly Mea+ory
)] 1.1 製造過程で、金型を用いてデジタルデータを
たとえばビット状に型押しし、光学的に、例えばレーザ
ーで読むだけのもの、 1.2 −回書き込みROM、又は書き込み直接読み出
し、略してD RAW (Direct read a
fter u+rite)、又は−回書き込み繰り返し
読み出し[WORM(1+Ir1te 0nce、 R
ead Many)]系で、透明な(例えばガラス又は
ポリマー材料製)ディスク状基材に、例えば熱可塑性プ
ラスチック層、染料、又はセレン、テルル、ビスマス等
からの低融点合金、あるいは有機金属錯体を塗り、レー
ザーを使用し、塗布層の部分熔融、あるいは収縮によっ
てデータスポット、即ち小さな孔、バブル又は凹みを作
り、それを反射又は散乱の違いによって読み出す、2、
消去可能書き込み直接読み出し、略してE−D RA
W (Erasable Direct Rea
d After I’frite)、又はO(Op
tical)−E −D RA Wで、同系はデータ記
憶用薄N(例えば10μm以下)を有するポリマー又は
ガラスディスクからなる。このデータ記憶層は、 2.1 高エネルギーレーザーの部分照射によって、
相変化(Phase Change PC)を受4Jる
物質から成っている。この様な物質としては、特にセレ
ン、テルル、アンチモニー、ひ素化合物並びに染料及び
顔料が挙げられる。レーザーの作用によって生成した情
報は、反射挙動が変化してレーザー読み出し可能になる
。これらの系は略してI) C−E −D RAW系と
呼ばれる。
ad 0nlyNen+ory) 、又はOR0M (
Optical Read 0nly Mea+ory
)] 1.1 製造過程で、金型を用いてデジタルデータを
たとえばビット状に型押しし、光学的に、例えばレーザ
ーで読むだけのもの、 1.2 −回書き込みROM、又は書き込み直接読み出
し、略してD RAW (Direct read a
fter u+rite)、又は−回書き込み繰り返し
読み出し[WORM(1+Ir1te 0nce、 R
ead Many)]系で、透明な(例えばガラス又は
ポリマー材料製)ディスク状基材に、例えば熱可塑性プ
ラスチック層、染料、又はセレン、テルル、ビスマス等
からの低融点合金、あるいは有機金属錯体を塗り、レー
ザーを使用し、塗布層の部分熔融、あるいは収縮によっ
てデータスポット、即ち小さな孔、バブル又は凹みを作
り、それを反射又は散乱の違いによって読み出す、2、
消去可能書き込み直接読み出し、略してE−D RA
W (Erasable Direct Rea
d After I’frite)、又はO(Op
tical)−E −D RA Wで、同系はデータ記
憶用薄N(例えば10μm以下)を有するポリマー又は
ガラスディスクからなる。このデータ記憶層は、 2.1 高エネルギーレーザーの部分照射によって、
相変化(Phase Change PC)を受4Jる
物質から成っている。この様な物質としては、特にセレ
ン、テルル、アンチモニー、ひ素化合物並びに染料及び
顔料が挙げられる。レーザーの作用によって生成した情
報は、反射挙動が変化してレーザー読み出し可能になる
。これらの系は略してI) C−E −D RAW系と
呼ばれる。
2.2 又は、低いキューリ一点を有する強磁性合金
、例えば稀土類/遷移金属系列からの合金、例えばTb
−Ge−Fcから成る。読み出しは、直線偏光レーザー
光の振動方向の回転を利用して行う(Kerr及び/又
はFarady効果)。
、例えば稀土類/遷移金属系列からの合金、例えばTb
−Ge−Fcから成る。読み出しは、直線偏光レーザー
光の振動方向の回転を利用して行う(Kerr及び/又
はFarady効果)。
ディスクへの書き込みで、外部磁場の作用下に高エネル
ギーレーザ−パルスを当てると、記憶層の磁場が反対に
なり、ここでキューリ一点jl下に冷却すると、情報は
磁気的に固定される。この系又は方法は、略して磁気光
学的(magnet、oopl 1cal)系(MO−
E−DRAW>と呼ばれる。
ギーレーザ−パルスを当てると、記憶層の磁場が反対に
なり、ここでキューリ一点jl下に冷却すると、情報は
磁気的に固定される。この系又は方法は、略して磁気光
学的(magnet、oopl 1cal)系(MO−
E−DRAW>と呼ばれる。
レーザー読み出しの、厚さ約1.2+++mのオーディ
オディスク(コンパクトディスク、CI)−ROM>は
現在、標準的な射出成型法によって、及び射出/圧縮成
型法によって、柔軟な流動性ポリカーボネートからコピ
ーとして製造している( H,l、6ser 。
オディスク(コンパクトディスク、CI)−ROM>は
現在、標準的な射出成型法によって、及び射出/圧縮成
型法によって、柔軟な流動性ポリカーボネートからコピ
ーとして製造している( H,l、6ser 。
Kunststoffjournal 6/1985.
26頁以降、Plastverarbeiter 36
巻、1985、No、3.10頁以降参照)。
26頁以降、Plastverarbeiter 36
巻、1985、No、3.10頁以降参照)。
ここで、ディジタル情報キャリアーは、厚さ0.2ない
しimmの金属性テンプレートの形の射出成型用金型中
で固定される。
しimmの金属性テンプレートの形の射出成型用金型中
で固定される。
しかし、」二に述べた材料及び加工法は、電子産業界で
増大する要求を最早受は入れられない程の決定的な欠点
を有する。即ち 1、キャリアー材料としてのガラスは重くて脆く、高度
な品質のディスクを製造するのは困難であり、しかも高
コストである。
増大する要求を最早受は入れられない程の決定的な欠点
を有する。即ち 1、キャリアー材料としてのガラスは重くて脆く、高度
な品質のディスクを製造するのは困難であり、しかも高
コストである。
2、ディスク更にデータさえもポリメタクリル酸メチル
及びポリメタクリル酸ブチル共重合体から射出成型によ
って製造するのは、確かに容易である、しかしその水分
吸収が1,5ないし3重量%と高く、膨潤、ストレス、
歪みが起こったり、又複屈折が変化したり、大きな問題
がある。これはレーザー読み出しによる再生(play
back)、更にCD−R,OMの場合でも深刻な問題
を引き起こす。
及びポリメタクリル酸ブチル共重合体から射出成型によ
って製造するのは、確かに容易である、しかしその水分
吸収が1,5ないし3重量%と高く、膨潤、ストレス、
歪みが起こったり、又複屈折が変化したり、大きな問題
がある。これはレーザー読み出しによる再生(play
back)、更にCD−R,OMの場合でも深刻な問題
を引き起こす。
3、もう一つ不利な点は、ポリメタクリル酸メチル、ポ
リメタクリル酸ブチル、特にポリ塩化ビニールの耐熱変
形性及びガラス転移点が低い事である(それぞれTg:
約100〜110℃、 <100℃、約80℃)。
リメタクリル酸ブチル、特にポリ塩化ビニールの耐熱変
形性及びガラス転移点が低い事である(それぞれTg:
約100〜110℃、 <100℃、約80℃)。
4、ポリ塩化ビニールは更にレーザービームの波長での
光透過性が、例えば75〜85%と低い。
光透過性が、例えば75〜85%と低い。
5、更に熱可塑性ポリマーからワンショット法で製造し
、ピットデータを有する、オーディオ、ビデオ及びデー
タプロセッシング用レーザー読み出し可能データディス
クには、比較的高い熔融粘性の為にデータピッI・の再
現性が不完全であり、レプリカの生産が困難であるとい
う欠点がある。
、ピットデータを有する、オーディオ、ビデオ及びデー
タプロセッシング用レーザー読み出し可能データディス
クには、比較的高い熔融粘性の為にデータピッI・の再
現性が不完全であり、レプリカの生産が困難であるとい
う欠点がある。
6、情報ピッI・が高温の為に、例えば比較的高いレー
サーエネルギーに過度に長時間曝される、熱によって応
力が無くなってしまう様な加熱処理を受ける、高温例え
ば200ないし360℃で射出成型する間、高粘性の熱
可塑性熔融物の摩擦によって金型の損耗及び裂けが起こ
り、長持ちしない。
サーエネルギーに過度に長時間曝される、熱によって応
力が無くなってしまう様な加熱処理を受ける、高温例え
ば200ないし360℃で射出成型する間、高粘性の熱
可塑性熔融物の摩擦によって金型の損耗及び裂けが起こ
り、長持ちしない。
現在まで当技術分野の製品はガラス又は熱可塑性樹脂製
品である。住友ベークライト社は、日本特許公開明細書
59−22,248(28,07,82104,02,
84)で、金型中で液状エポキシ樹脂から製造し、引き
続いて、上で説明したDRAW、E−DRAWのみなら
ず、CD−R,0Mコピーの場合にも同様に情報記憶層
を設ける、光記憶用透明キャリアー材料を提示している
。理想的には、酸無水物及びイミダゾール型硬化促進剤
と組み合わせた脂環式エポキシ樹脂を離型剤を含む金型
中に1.00℃で5時間、硬化の為に放置せねばならな
い。この様に長時間金型を占領するのは、技術的にも経
済的にも大址生産では受は入れられない。
品である。住友ベークライト社は、日本特許公開明細書
59−22,248(28,07,82104,02,
84)で、金型中で液状エポキシ樹脂から製造し、引き
続いて、上で説明したDRAW、E−DRAWのみなら
ず、CD−R,0Mコピーの場合にも同様に情報記憶層
を設ける、光記憶用透明キャリアー材料を提示している
。理想的には、酸無水物及びイミダゾール型硬化促進剤
と組み合わせた脂環式エポキシ樹脂を離型剤を含む金型
中に1.00℃で5時間、硬化の為に放置せねばならな
い。この様に長時間金型を占領するのは、技術的にも経
済的にも大址生産では受は入れられない。
当技術分野の熟達者は、比較的架橋変の高いポリマーは
多くのポリ付加系、特にエポキシ樹脂よりも大きな体積
収縮を起こす事を知っている。この体積収縮の為に、例
えば強度低下、就中内部応力が高い為に強度低下が起こ
り、又その高い内部応力の為に複屈折か高くなる。比較
的早い段階で硬化が起こる様な透明樹脂系の場合、比較
的高い体積収縮が起こってしまって、情報を有するディ
スク複製品(CD−RAM)を、特にポリエステル、ア
クリル酸エステル及びメタクリル酸ニスデル系で製造す
る場合、情報ピットがI]f現性現性形成されるのは一
般に期待出来ない。
多くのポリ付加系、特にエポキシ樹脂よりも大きな体積
収縮を起こす事を知っている。この体積収縮の為に、例
えば強度低下、就中内部応力が高い為に強度低下が起こ
り、又その高い内部応力の為に複屈折か高くなる。比較
的早い段階で硬化が起こる様な透明樹脂系の場合、比較
的高い体積収縮が起こってしまって、情報を有するディ
スク複製品(CD−RAM)を、特にポリエステル、ア
クリル酸エステル及びメタクリル酸ニスデル系で製造す
る場合、情報ピットがI]f現性現性形成されるのは一
般に期待出来ない。
驚くべき事に、−1−述した不飽和化合物に基づいた反
応性組成物を選択して使用すれば、透明基材及び複製用
ディスク(それはデータを持っていないか、ピッ1への
形で持っている(Cr)−ROM)’1が高品質で製造
され、過酸化物、そして随時硬化促進剤、硬化活性剤、
および抑制剤で、及び/又は光開始剤の存在下にエネル
ギー放射、好ましくは紫外線放射によって、15ないし
100℃で15分間硬化させて金型から取り出せる事か
発見された。
応性組成物を選択して使用すれば、透明基材及び複製用
ディスク(それはデータを持っていないか、ピッ1への
形で持っている(Cr)−ROM)’1が高品質で製造
され、過酸化物、そして随時硬化促進剤、硬化活性剤、
および抑制剤で、及び/又は光開始剤の存在下にエネル
ギー放射、好ましくは紫外線放射によって、15ないし
100℃で15分間硬化させて金型から取り出せる事か
発見された。
かくして得られる最終製品は他の製品には見られない、
低い、ないし非常に低い複屈折又は特定の位相差(ph
ase difference)(<2(l nm/m
mないしOnm/man)、低い吸水性、高い機械的安
定性、高い耐熱変形性を有し、又非常に優れた情報保持
表面再現性を有する。これら基材及び複製ディスクは1
、に述した熱可塑性樹脂、及びエポキシ樹脂系の欠点を
全くか、又は非常に僅かしか示さない。その製造速度も
特にエポキシ樹脂系と比較して大きく改善されている。
低い、ないし非常に低い複屈折又は特定の位相差(ph
ase difference)(<2(l nm/m
mないしOnm/man)、低い吸水性、高い機械的安
定性、高い耐熱変形性を有し、又非常に優れた情報保持
表面再現性を有する。これら基材及び複製ディスクは1
、に述した熱可塑性樹脂、及びエポキシ樹脂系の欠点を
全くか、又は非常に僅かしか示さない。その製造速度も
特にエポキシ樹脂系と比較して大きく改善されている。
本発明の反応組成物は、
(A)30ないし90、好ましくは50ないし80重量
部の式(1)及び/又は式(n)の重合性化合物、及び (B ) 70ないし10、好ましくは50ないし20
重量部の、式(11)の共重合性ビニール芳香族化合物
、及び随時式(IV)のエステルから成り、ここで (A>+(B)の総計が100重量部になり、式(II
)の化合物が存在する時は、式(IT)及び式(IV)
の化合物の合計に対する式(III)の共重合性化合物
のモル比が少なくとも1:1、そして式(1)の化合物
に対する式(II)の化合物のモル比が少なくとも0.
1:1、好ましくは(0,:+〜0.5):1、そして
もしR3=R’=CH3ならは、(A)の量は高々85
置部部である。
部の式(1)及び/又は式(n)の重合性化合物、及び (B ) 70ないし10、好ましくは50ないし20
重量部の、式(11)の共重合性ビニール芳香族化合物
、及び随時式(IV)のエステルから成り、ここで (A>+(B)の総計が100重量部になり、式(II
)の化合物が存在する時は、式(IT)及び式(IV)
の化合物の合計に対する式(III)の共重合性化合物
のモル比が少なくとも1:1、そして式(1)の化合物
に対する式(II)の化合物のモル比が少なくとも0.
1:1、好ましくは(0,:+〜0.5):1、そして
もしR3=R’=CH3ならは、(A)の量は高々85
置部部である。
硬化生成物を製造するには、反応試薬の他に必要ならば
随時反応助剤、即ちそれぞれ(A)+(B)の合計量1
00重量部に対して (c)o、oiないし10、好ましくは0.1ないし4
重社部の少なくとも一種の重合開始剤及び随時(D )
0.00001ないし05、好ましくは0.0000
2ないし0.1重量部の少なくとも一種の硬化促進剤、
及び随時、 (E ) 0.001ないし2、好ましくはo、ooi
ないし1重量部の少なくとも一種の硬化活性剤及び随時
、(F ) 0.00001ないし0.5、好ましくは
0.0001ないし0.011重部の少なくとも一種の
禁市剤を加える。
随時反応助剤、即ちそれぞれ(A)+(B)の合計量1
00重量部に対して (c)o、oiないし10、好ましくは0.1ないし4
重社部の少なくとも一種の重合開始剤及び随時(D )
0.00001ないし05、好ましくは0.0000
2ないし0.1重量部の少なくとも一種の硬化促進剤、
及び随時、 (E ) 0.001ないし2、好ましくはo、ooi
ないし1重量部の少なくとも一種の硬化活性剤及び随時
、(F ) 0.00001ないし0.5、好ましくは
0.0001ないし0.011重部の少なくとも一種の
禁市剤を加える。
硬化は公知の方法で、非常に低温での重合により、好ま
1−<は室温から100°Cで照射、例えばUV照射し
゛(行う事が出来る。随時、特に比較的高いガラス転移
点を有するポリマーの場合に、50°C以トガラス転移
点+20°C以下の温度、好ましくは80ないし100
℃で加熱後処理して残渣重合(residual po
lymerization)を行う事が出来る。
1−<は室温から100°Cで照射、例えばUV照射し
゛(行う事が出来る。随時、特に比較的高いガラス転移
点を有するポリマーの場合に、50°C以トガラス転移
点+20°C以下の温度、好ましくは80ないし100
℃で加熱後処理して残渣重合(residual po
lymerization)を行う事が出来る。
式−〇上
R’ O
t
式中
R’、R2=−Hl−CH3
a=1〜3、好ましくは1〜2
b=] 〜2
c=l〜5、好ましくは1.3.5
d=1〜3、好ましくは1〜・2
Rコ
−M−= −(、、−5O2−1−S−1−0−1−
CH20CH2−1−CR2(”) (C)(2)
、OCH2−1単結合 e−2〜6 −X−−−CH3、ハロゲン(ヨードを除く)f=O〜
4 −A−= −CH−C11−C−5 R11RI++ Rl l、R11′=−Hl−CH3,2個の置換基の
中の1個が−Hならば、他は−CH3、そしてR3、R
a = −)(、−CH3、−C2Hs、式□□jU) HO−3,−(−E−8−)、−Eh−H(H)式中 OR5R60 II l l 1l −8−= −(、−C=C−C−0、CH20 II II 1l −C−C=CH2−C−0−1 (エチレン性不飽和脂肪族ジカルボン酸と芳香族ジカル
ボン酸とのモル比は少なくとも1:1)、 g、h=0又は1 i=1〜20、好ましくは2〜10 R5、R6=H1CH。
CH20CH2−1−CR2(”) (C)(2)
、OCH2−1単結合 e−2〜6 −X−−−CH3、ハロゲン(ヨードを除く)f=O〜
4 −A−= −CH−C11−C−5 R11RI++ Rl l、R11′=−Hl−CH3,2個の置換基の
中の1個が−Hならば、他は−CH3、そしてR3、R
a = −)(、−CH3、−C2Hs、式□□jU) HO−3,−(−E−8−)、−Eh−H(H)式中 OR5R60 II l l 1l −8−= −(、−C=C−C−0、CH20 II II 1l −C−C=CH2−C−0−1 (エチレン性不飽和脂肪族ジカルボン酸と芳香族ジカル
ボン酸とのモル比は少なくとも1:1)、 g、h=0又は1 i=1〜20、好ましくは2〜10 R5、R6=H1CH。
CR3
−E−= −(:R2−C−CH2−0−1H3
〜19−
R7′ R7
−C,H−CI −0−5
1個が−Hならば、他は−CH3
R8、Re ’、R9、P、g′−−H又は−CHsも
しR8又はRa ’のいずれかと R9又はR9′のいずれかとが−CH,ならば、同じ数
字の他の置換基は−H5 −uLL A r (C= CH2) − y 、 Rl 。
しR8又はRa ’のいずれかと R9又はR9′のいずれかとが−CH,ならば、同じ数
字の他の置換基は−H5 −uLL A r (C= CH2) − y 、 Rl 。
式中
に〜1又は2.
1;0又は1ないし9の整数、好ましくはO又は1ない
し5の整数、 Ar−ベンゼン、ナフタレン、ピリジン、アントラセン
、カルバゾール系からの1価又は2価の基、 −Y−−CH3、ハロゲン(ヨードを除く)、−C(C
R3) s、そして R”−−H、−CH3、 一1LL −5−W 式中 −CH2−Ar、−A−C−Ar Vm OVm Vm −0(CH2)n CH3、 OC(CH3>3、 OCH(CH3)2、 − O−CI (CH3)2、 −C−CH−c H−CI−1、, R12R13 (CH2)− 0(CH2)l、 C(CH2)r )−1、(CH
2)S ミ q二1−3 r=1.−4 s=1−3 ここで Zは又OHそしてW=Hである事も出来るが、同時にZ
=OH,W=Hであってはならない、R′1、R’l’
(Aの場合)−何の制限無しに−H又は−CH2、 m=o又は1ないし5の整数、 t=1〜3、好ましくはj〜2、 R′2、R+3=−H、−CHs、−C2HS、反応組
成物の組成は好ましくは (A)50ないし80重量部の 式(1) 式中 a=1−2;b−=1−2;c=1−3;d=1−2、
f=0−2、 ■ −M−−−C−1R,3,R’=−H1−CH3−X
= −CHs、−CI A= −C)(−CH−0−1 ) I R” R11’ −CH2−CH−CH”−(1− H と随時式(II) g、h=o−1; i =1−10゜ H −E−= us Ha′R”R’ 及び/又は H3 −CH2CCH20− ■ CH3 そして R1’、R”、R”、Rビ′ニーH、−CH3ここでR
8及びRa ’の2個の基の中の一つ、又はRa及びR
9’の2個の基の中の一つカイCH3 の化合物との、I/IT重量比少なくとも】:1の混合
物と、(B ) 50ないし20重量部の式(III) 式中 に=1−2、I=0−1、 Ar−ベンゼン、ナフタレン、ピ1ノジン、アンスラセ
ン、カルバゾール系からの1価又番よ2価基、 Y −−CH3、−C1、−C(CH3)3RI 0=
−1( の共重合性ビニール芳香族化合物と、随時式(■) 式中 m −Q(CHz)n−CH3、−Q−(CH3)、OCH
(CH3)2、 ここで (Aにおいて)R11,R11′はいかなる制限無しに
−H又は−〇 H3、 m = 0−1及び n=0−1 の化合物との混合物、とから成る。
し5の整数、 Ar−ベンゼン、ナフタレン、ピリジン、アントラセン
、カルバゾール系からの1価又は2価の基、 −Y−−CH3、ハロゲン(ヨードを除く)、−C(C
R3) s、そして R”−−H、−CH3、 一1LL −5−W 式中 −CH2−Ar、−A−C−Ar Vm OVm Vm −0(CH2)n CH3、 OC(CH3>3、 OCH(CH3)2、 − O−CI (CH3)2、 −C−CH−c H−CI−1、, R12R13 (CH2)− 0(CH2)l、 C(CH2)r )−1、(CH
2)S ミ q二1−3 r=1.−4 s=1−3 ここで Zは又OHそしてW=Hである事も出来るが、同時にZ
=OH,W=Hであってはならない、R′1、R’l’
(Aの場合)−何の制限無しに−H又は−CH2、 m=o又は1ないし5の整数、 t=1〜3、好ましくはj〜2、 R′2、R+3=−H、−CHs、−C2HS、反応組
成物の組成は好ましくは (A)50ないし80重量部の 式(1) 式中 a=1−2;b−=1−2;c=1−3;d=1−2、
f=0−2、 ■ −M−−−C−1R,3,R’=−H1−CH3−X
= −CHs、−CI A= −C)(−CH−0−1 ) I R” R11’ −CH2−CH−CH”−(1− H と随時式(II) g、h=o−1; i =1−10゜ H −E−= us Ha′R”R’ 及び/又は H3 −CH2CCH20− ■ CH3 そして R1’、R”、R”、Rビ′ニーH、−CH3ここでR
8及びRa ’の2個の基の中の一つ、又はRa及びR
9’の2個の基の中の一つカイCH3 の化合物との、I/IT重量比少なくとも】:1の混合
物と、(B ) 50ないし20重量部の式(III) 式中 に=1−2、I=0−1、 Ar−ベンゼン、ナフタレン、ピ1ノジン、アンスラセ
ン、カルバゾール系からの1価又番よ2価基、 Y −−CH3、−C1、−C(CH3)3RI 0=
−1( の共重合性ビニール芳香族化合物と、随時式(■) 式中 m −Q(CHz)n−CH3、−Q−(CH3)、OCH
(CH3)2、 ここで (Aにおいて)R11,R11′はいかなる制限無しに
−H又は−〇 H3、 m = 0−1及び n=0−1 の化合物との混合物、とから成る。
特に好ましい反応組成物は、下記式の化合物力)ら成る
。
。
(1土1−
CH3
−M−□ = −C−1
H5
RIIR目′
II
−A−= −C,H−CH−0−1
−CH2−CH−CH2−0−
H
式=LLL
HO−(E−8−)、−E−Hi =1−2 E−
戊一(」上
本発明の目的の為の化合物(Hは、ビスフェノール類、
例えばスルホニルビスフェノール、チオニルビスフェノ
ール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、好ましく
はビスフェノールA及びビスフェノールFあるいはそれ
らの混合物の、重合度1〜3、好ましくは1〜2のプロ
ポキシル化生成物のアクリル酸及び好ましくはメタクリ
ル酸エステルである。更に式(1)の物質は、」1に挙
げたビスフェノール類又はそれらの混合物の、好ましく
はビスフェノールA及びFの、ビスグリシジルエーテル
、及びビスフェノールビスグリシジルエーテルと同−及
び/又は異なるビスフェノール、好ましくはビスフェノ
ールA及びF、及びそれらのベンゼン核置換誘導体例え
ばテトラメチル−27= 及び/又はデトラクロロビスフェノールA及びFとの、
モル比(2〜5): (1〜4)、好ましくは2:]
での反応生成物のアクリル酸及び好ましくはメタクリル
酸エステルである。
例えばスルホニルビスフェノール、チオニルビスフェノ
ール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、好ましく
はビスフェノールA及びビスフェノールFあるいはそれ
らの混合物の、重合度1〜3、好ましくは1〜2のプロ
ポキシル化生成物のアクリル酸及び好ましくはメタクリ
ル酸エステルである。更に式(1)の物質は、」1に挙
げたビスフェノール類又はそれらの混合物の、好ましく
はビスフェノールA及びFの、ビスグリシジルエーテル
、及びビスフェノールビスグリシジルエーテルと同−及
び/又は異なるビスフェノール、好ましくはビスフェノ
ールA及びF、及びそれらのベンゼン核置換誘導体例え
ばテトラメチル−27= 及び/又はデトラクロロビスフェノールA及びFとの、
モル比(2〜5): (1〜4)、好ましくは2:]
での反応生成物のアクリル酸及び好ましくはメタクリル
酸エステルである。
式(IT)の化合物は例えばL述した1、2−又は2゜
1−プロポキシル化ビスフェノール類、好ましくは平均
プロポキシル化度1ないし3.5、好ましくは1ないし
1.5のプロポキシル化ビスフェノールAと不飽和ジカ
ルボン酸例えばマレイン酸、シトラコン酸、イタコン酸
、好ましくは無水マレイン酸及び/又はフマール酸との
縮合生成物である。 化合物(II)の工業生産で副製
品として生ずるモノエステル類は、本発明による使用に
対して一般に害は無い。
1−プロポキシル化ビスフェノール類、好ましくは平均
プロポキシル化度1ないし3.5、好ましくは1ないし
1.5のプロポキシル化ビスフェノールAと不飽和ジカ
ルボン酸例えばマレイン酸、シトラコン酸、イタコン酸
、好ましくは無水マレイン酸及び/又はフマール酸との
縮合生成物である。 化合物(II)の工業生産で副製
品として生ずるモノエステル類は、本発明による使用に
対して一般に害は無い。
式(I[I)の化合物は例えば、スチレン、α−メチル
スチレン、ρ−メチルスチレン、ジビニルベンゼン、ビ
ニールトルエン、t−ブチルスチレン、ビニールナフタ
レン、ビニールピリジン、ビニールアントラセン、ビニ
ールカルバゾール、モノ−及び/又はオリゴクロロスチ
レン、モノ−及び/又はオリゴブロモスチレン、核塩素
化α−メチルスチレン、好ましくはスチレン、ρ−メチ
ルスチレン、モノクロロスチレンである。好ましい式(
IIT)の化合物はただ1個の共重合性二重結合を有す
る。
スチレン、ρ−メチルスチレン、ジビニルベンゼン、ビ
ニールトルエン、t−ブチルスチレン、ビニールナフタ
レン、ビニールピリジン、ビニールアントラセン、ビニ
ールカルバゾール、モノ−及び/又はオリゴクロロスチ
レン、モノ−及び/又はオリゴブロモスチレン、核塩素
化α−メチルスチレン、好ましくはスチレン、ρ−メチ
ルスチレン、モノクロロスチレンである。好ましい式(
IIT)の化合物はただ1個の共重合性二重結合を有す
る。
式(IV)の化合物は、上述した不飽和ジカルボン酸、
例えばマレ・イン酸、シトラコン酸、イタコン酸、好ま
しくは無水マレイン酸及びフマール酸とフェノール、ア
ルキルフェノール、シクロヘキシルフェノール、及び/
又はモノ−及び/又はオリゴアルキルナフトールの、平
均エトキシル化及び/又はプロポキシル化度が1ないし
3、好ましくは1ないし1.5のエトキシル化及び/又
はプロポキシル化生成物とのエステル化により得られる
縮合生成物、及び/又は」ユ述芳香族モノカルボン酸及
びシクロヘキサンカルボン酸、好ましくはシクロヘキサ
ノール及びベンジルアルコールのグリシジルエステルで
あり、その中の第2のカルボキシル基は遊離状態でも又
は」一連したアルコール以外のアルコール、例えばメタ
ノール、エタノール、プロパツール、【ドブタノール、
L−ブタノール、べンジルアルコール、シクロヘキサノ
ール、好ましくはイソプロパツール及びイソブタノール
でエステル化されていても良い。式(IV)の生成物中
には縮合反応で副成したエステル交換反応物も含む事が
出来る。
例えばマレ・イン酸、シトラコン酸、イタコン酸、好ま
しくは無水マレイン酸及びフマール酸とフェノール、ア
ルキルフェノール、シクロヘキシルフェノール、及び/
又はモノ−及び/又はオリゴアルキルナフトールの、平
均エトキシル化及び/又はプロポキシル化度が1ないし
3、好ましくは1ないし1.5のエトキシル化及び/又
はプロポキシル化生成物とのエステル化により得られる
縮合生成物、及び/又は」ユ述芳香族モノカルボン酸及
びシクロヘキサンカルボン酸、好ましくはシクロヘキサ
ノール及びベンジルアルコールのグリシジルエステルで
あり、その中の第2のカルボキシル基は遊離状態でも又
は」一連したアルコール以外のアルコール、例えばメタ
ノール、エタノール、プロパツール、【ドブタノール、
L−ブタノール、べンジルアルコール、シクロヘキサノ
ール、好ましくはイソプロパツール及びイソブタノール
でエステル化されていても良い。式(IV)の生成物中
には縮合反応で副成したエステル交換反応物も含む事が
出来る。
適当な重合開始剤は
1、放射線、好ましくは紫外線照射硬化用として、例え
ばベンゾフェンノン、1−ヒドロキシシクロへキシルフ
ェニルケトン、2−メチル−1,4−(メチルチオ)フ
ェニル−2−モルホリノプロパン−1−オン、ベンゾイ
ンエーテル、好ましくはペンゾイニソ10ビル及びイソ
ブチルエーテル、ペンジルジケタル、好ましくはベンジ
ルジメチルケタル、及び随時上述した化合物の混合物、 2、有機過酸化物及び/又はベンズビナコルのシリルエ
ーテル及び/又は照射/過酸化物混合硬化系を用いての
フリーラジカル硬化に対して;ジアシル過酸化物、ベル
オキシジ炭酸ニスデル、ペルオキシ酸エステル、ベルケ
タール、ジアルキルペルオキシド、ケトンへルオキシド
、ハイドロペルオキシド、例えばビス−(2,4−ジク
ロロベンゾイル)ペルオキシド、ジラウロイルペルオキ
シド、ジベンゾイルペルオキシド、ジー2−エチルヘキ
シルペルオキシジカーボネート、ジイソプロビルペルオ
キシジカーボネー1〜、ジシクロへキシルペルオキシジ
カーボネート、ビス−(4−1−ブチルシクロヘキシル
)ペルオキシジカーボネート、過ピバル酸t−ブチル、
過−2−エチルヘキサン酸t−ブチル、過−3,5,5
−トリメチルヘキサン酸t−ブチル、過室、臀、香It
−ブチル、過マレイン酸t−ブチル、1.1−ビス(を
−ブチルペルオキシ)−3,5,5−)リメチルシクロ
ヘキサン、1.1−ビス(t−ブチルペルオキシ)−シ
クロヘキサン、2,2−ビス(t−ブチルペルオキシ)
ブタン、4.4−ビス(t−ブチルペルオキシ)バレリ
アン酸■−ブチル、3,3−ビス(t−ブチルペルオキ
シ)醋酸エチル、ジクミルペルオキシド、t−ブチルク
ミルペルオキシド、ヒス(t−ブチルペルオキシイソプ
ロビル)ベンゼン、2.5−ジメチルアニリン−2゜5
−ジ−t−ブチルペルオキシド、ジー1−ブチルペルオ
キシド、メチルイソブチルケトンペルオキシド、メチル
エチルケトンペルオキシド、アセチルアセトンペルオキ
シド、シクロヘキサノンペルオキシド、キュメンハイド
ロペルオキシド、t−ブチルハイドロペルオキシド、及
び随時」−述した化合物の混合物、 である。
ばベンゾフェンノン、1−ヒドロキシシクロへキシルフ
ェニルケトン、2−メチル−1,4−(メチルチオ)フ
ェニル−2−モルホリノプロパン−1−オン、ベンゾイ
ンエーテル、好ましくはペンゾイニソ10ビル及びイソ
ブチルエーテル、ペンジルジケタル、好ましくはベンジ
ルジメチルケタル、及び随時上述した化合物の混合物、 2、有機過酸化物及び/又はベンズビナコルのシリルエ
ーテル及び/又は照射/過酸化物混合硬化系を用いての
フリーラジカル硬化に対して;ジアシル過酸化物、ベル
オキシジ炭酸ニスデル、ペルオキシ酸エステル、ベルケ
タール、ジアルキルペルオキシド、ケトンへルオキシド
、ハイドロペルオキシド、例えばビス−(2,4−ジク
ロロベンゾイル)ペルオキシド、ジラウロイルペルオキ
シド、ジベンゾイルペルオキシド、ジー2−エチルヘキ
シルペルオキシジカーボネート、ジイソプロビルペルオ
キシジカーボネー1〜、ジシクロへキシルペルオキシジ
カーボネート、ビス−(4−1−ブチルシクロヘキシル
)ペルオキシジカーボネート、過ピバル酸t−ブチル、
過−2−エチルヘキサン酸t−ブチル、過−3,5,5
−トリメチルヘキサン酸t−ブチル、過室、臀、香It
−ブチル、過マレイン酸t−ブチル、1.1−ビス(を
−ブチルペルオキシ)−3,5,5−)リメチルシクロ
ヘキサン、1.1−ビス(t−ブチルペルオキシ)−シ
クロヘキサン、2,2−ビス(t−ブチルペルオキシ)
ブタン、4.4−ビス(t−ブチルペルオキシ)バレリ
アン酸■−ブチル、3,3−ビス(t−ブチルペルオキ
シ)醋酸エチル、ジクミルペルオキシド、t−ブチルク
ミルペルオキシド、ヒス(t−ブチルペルオキシイソプ
ロビル)ベンゼン、2.5−ジメチルアニリン−2゜5
−ジ−t−ブチルペルオキシド、ジー1−ブチルペルオ
キシド、メチルイソブチルケトンペルオキシド、メチル
エチルケトンペルオキシド、アセチルアセトンペルオキ
シド、シクロヘキサノンペルオキシド、キュメンハイド
ロペルオキシド、t−ブチルハイドロペルオキシド、及
び随時」−述した化合物の混合物、 である。
適当な硬化促進剤は無機、好ましくは有機塩及び金属の
、好ましくはコバルト、バナジウムの、反応系に溶解す
る錯体化合物、例えばオクタン酸コバルト、ナフテン酸
コバルト、コバルトアセチルアセトナート、バナジルア
セチルアセトナート、部分燐酸エステル、ピロ又はポリ
燐酸エステルのバナジル塩、オクタン酸バナジル、酢酸
バナジル、p−トルエンスルホン酸バナジルであり、又
アミン類、好ましくは第3級アルキルアリールアミン、
例えばN、N−ジメチルアニリン、N、H−ジエチルア
ニリン、N、N−ジメチル−p−t〜ルイジン、N、N
−ビス−(β−ヒドロキシエチル)−p−トルイジン、
N、N−ビス−(β−ヒドロキシプロピル)−p−トル
イジン、N、N−ビス−(β−ヒドロキシエチル)−p
−トルイジンフタ一ル酸、N、N−ビス−(β−ヒドロ
キシエチル)−1)−)ルイジンアジピン酸(ドイツ国
特許明細書第1,943.954号参照) 、DE−O
3(ドイツ国特許公告明細書)第3,202,090号
に記載されている式(I)、式中R3、R,R5−−r
−r及びR4−−CHsの第3級アミン(p−)ルイジ
ン誘導体)、DE−O5(ドイツ国特許公告明細書)第
3,202,090号に記載されている式(I)、式中
R1及びR5はメチル基の第3級アミン(キシリジン誘
導体) 、N、N−ビス−(β−ヒドロキシエチル)−
m−クロロアニリンとの、重量比1:1ないし6:1の
混合物である第3級アリールアミンである。
、好ましくはコバルト、バナジウムの、反応系に溶解す
る錯体化合物、例えばオクタン酸コバルト、ナフテン酸
コバルト、コバルトアセチルアセトナート、バナジルア
セチルアセトナート、部分燐酸エステル、ピロ又はポリ
燐酸エステルのバナジル塩、オクタン酸バナジル、酢酸
バナジル、p−トルエンスルホン酸バナジルであり、又
アミン類、好ましくは第3級アルキルアリールアミン、
例えばN、N−ジメチルアニリン、N、H−ジエチルア
ニリン、N、N−ジメチル−p−t〜ルイジン、N、N
−ビス−(β−ヒドロキシエチル)−p−トルイジン、
N、N−ビス−(β−ヒドロキシプロピル)−p−トル
イジン、N、N−ビス−(β−ヒドロキシエチル)−p
−トルイジンフタ一ル酸、N、N−ビス−(β−ヒドロ
キシエチル)−1)−)ルイジンアジピン酸(ドイツ国
特許明細書第1,943.954号参照) 、DE−O
3(ドイツ国特許公告明細書)第3,202,090号
に記載されている式(I)、式中R3、R,R5−−r
−r及びR4−−CHsの第3級アミン(p−)ルイジ
ン誘導体)、DE−O5(ドイツ国特許公告明細書)第
3,202,090号に記載されている式(I)、式中
R1及びR5はメチル基の第3級アミン(キシリジン誘
導体) 、N、N−ビス−(β−ヒドロキシエチル)−
m−クロロアニリンとの、重量比1:1ないし6:1の
混合物である第3級アリールアミンである。
コバルト化合物を主体とした硬化促進剤と共に硬化を行
うのに適した硬化活性剤は、」ユ述したアミン類、好ま
しくはN、N−ジメチルアニリン、N、N−ジエチルア
ニリン、N、N−ジメチル−D−)ルイジン、N、N−
ビス−β−ヒドロキシエチル−及び/又は−プロピル−
p−トルイジン、及び/又はその例えばアジピン酸、フ
タール酸、(C2−CIO)モノカルボン酸エステルで
ある。
うのに適した硬化活性剤は、」ユ述したアミン類、好ま
しくはN、N−ジメチルアニリン、N、N−ジエチルア
ニリン、N、N−ジメチル−D−)ルイジン、N、N−
ビス−β−ヒドロキシエチル−及び/又は−プロピル−
p−トルイジン、及び/又はその例えばアジピン酸、フ
タール酸、(C2−CIO)モノカルボン酸エステルで
ある。
バナジウム化合物用硬化活性剤は、チオール、チオカル
ボン酸エステル、奸才しくはチオグリコール酸ニスデル
で、例えばDE−^S(ドイツ国特許公開明細書)第2
,025,410号に記載されている。
ボン酸エステル、奸才しくはチオグリコール酸ニスデル
で、例えばDE−^S(ドイツ国特許公開明細書)第2
,025,410号に記載されている。
適当な禁止剤はベンゾキノン、トルキノン、ナフトキノ
ン、トリメチルベンゾキノン、七ノー及びジ−t−ブチ
ルベンゾキノン及び/又はそのハイドロキノン、好まし
くはハイドロキノン、1〜ルハイドロキノン、1,4−
ナフトハイドロキノン、ピロカテコール、好才しくはモ
ノ−及び/又はジ−t−ブチルピロカテコール、並びに
それらのモノアルキルエーテル、更にクロラニル及び溶
解性銅塩及び/又は錯体例えばナフトエ酸銀、オクタン
酸銀、銅アセチルアセトナート、塩化第1銅/亜燐酸銘
体、及びこれら化合物の混合物である。
ン、トリメチルベンゾキノン、七ノー及びジ−t−ブチ
ルベンゾキノン及び/又はそのハイドロキノン、好まし
くはハイドロキノン、1〜ルハイドロキノン、1,4−
ナフトハイドロキノン、ピロカテコール、好才しくはモ
ノ−及び/又はジ−t−ブチルピロカテコール、並びに
それらのモノアルキルエーテル、更にクロラニル及び溶
解性銅塩及び/又は錯体例えばナフトエ酸銀、オクタン
酸銀、銅アセチルアセトナート、塩化第1銅/亜燐酸銘
体、及びこれら化合物の混合物である。
反応組成物は、その性質及び各成分の量によって異なる
けれども、10ないし100℃、好ましくは20ないし
90℃で硬化させる事が出来る。
けれども、10ないし100℃、好ましくは20ないし
90℃で硬化させる事が出来る。
データキャリアー/キャリアー材料は、■、情報(例え
ばピットに)を組み込んでいるか、 ■、情報を敏感な物質(例えば染料)の形で埋め込まれ
て含んでいるか、 ■、情報層(例えばセレニウム−テルル化合物と合金、
並びに合金と低キュウリ一点の化合物で代表される様な
)で被覆されているか、である。
ばピットに)を組み込んでいるか、 ■、情報を敏感な物質(例えば染料)の形で埋め込まれ
て含んでいるか、 ■、情報層(例えばセレニウム−テルル化合物と合金、
並びに合金と低キュウリ一点の化合物で代表される様な
)で被覆されているか、である。
キャリアー材料は自立性であることも、又非自立性であ
ることも出来、非自立性材料は多くは中間層として使用
される(例えばガラス熱可塑性又は熱硬化性樹脂上で)
。
ることも出来、非自立性材料は多くは中間層として使用
される(例えばガラス熱可塑性又は熱硬化性樹脂上で)
。
以下の実施例において%は重量%、部は重1部である。
火*lI
製造及び試験の一般条件
1、金型」■覧
2枚の珪酸塩(窓用)ガラス板(200mmX2701
1111X3111111>を隙間を空けて対峙させ、
約41(丸断面)又は1mm(正方形断面)厚さの軟質
PVC製シーリングリボンでガラス板の2長辺と1短辺
(即ち1短辺を残して)をシールする。これらの辺に沿
ってこの組合せを3個の鋼製スプリングブラケツ1〜(
角、U−字型断面、ブラケット長:約210mm)で保
持する。
1111X3111111>を隙間を空けて対峙させ、
約41(丸断面)又は1mm(正方形断面)厚さの軟質
PVC製シーリングリボンでガラス板の2長辺と1短辺
(即ち1短辺を残して)をシールする。これらの辺に沿
ってこの組合せを3個の鋼製スプリングブラケツ1〜(
角、U−字型断面、ブラケット長:約210mm)で保
持する。
λ−」1彫剤−
大豆レシチン5%キシレン溶液
1ト、−一β東イし−
3,1温度:特に断らなければ室温(23°C)、3.
2 硬化法:UV硬化開始剤及び/又は、もし適当な
らば有機過酸化物、硬化促進剤、随時硬化活性剤、及び
随時禁止剤の存在下に紫外線を連続的にか又は間隔を置
いて照射する。
2 硬化法:UV硬化開始剤及び/又は、もし適当な
らば有機過酸化物、硬化促進剤、随時硬化活性剤、及び
随時禁止剤の存在下に紫外線を連続的にか又は間隔を置
いて照射する。
3.3 照射線源−4個の蛍光ランプ、フィリップス
社製、モデルT)11.40 l11109.3.4
蛍光ランプと金型との距離:約4.5 cm、3.5
熱処理ニ一般に90℃で一晩;加熱室で約30℃に
冷却;その後(特に断らなければ)金型から取り出す。
社製、モデルT)11.40 l11109.3.4
蛍光ランプと金型との距離:約4.5 cm、3.5
熱処理ニ一般に90℃で一晩;加熱室で約30℃に
冷却;その後(特に断らなければ)金型から取り出す。
上−IM光尤841411づ(−ulL位湘見ディスク
厚さ:0.1cm、又は0.4 cm。
厚さ:0.1cm、又は0.4 cm。
−36=
測定機器:偏光顕微鏡
測定方向二M1、即ち測定光は注型板に対して垂直にだ
け通過させる(注型方向に対して垂直に)外観=2枚の
偏光フィルムの間で90’回転させる5、水分贋1収1 国際標準機構(ISO) /R62、ドイツ工業規格(
DI(I)53.495に従って:ディスク厚さ: 0
.1cm;(特に断らなければ)50日後に測定 6、ガラス転移温度(Tg) 6.1 動的ガラス転移温度(dyn、Tg)ドイツ
工業規格53,455に従って測定:試験片:偏平棒状
(60++n+ x 10 rmm x 1 +aI1
1)6.2 示差熱分析によるガラス転移温度(DT
^によるTg) 火、施−ロー 1モルの[4,4’−ビス−(β−ヒドロキシプロピル
)−ビスフェノールーA]ビスメタクリル酸エステル; 2モルのスチレン(比率67重撮%/33重量%)重合
開始剤:反応組成物に対してOJ%のベンジルジメチル
ケタール 硬化: 厚さ1 +*mの場合:15分間90℃で予熱、10分
間紫外線照射(両側から)、90°Cで15時間アニー
ル、厚さ4輪講の場合:90℃で15分間予熱、70分
間紫外線照射(両側から)、90℃で15時間アニール
、 実施[2 実施例 1と同様に、ただ2成分の重量比:50%:5
0% 重合開始剤:実施例 1と同じ 硬化:実施例 1と同じ 性質:表 1を見よ。
け通過させる(注型方向に対して垂直に)外観=2枚の
偏光フィルムの間で90’回転させる5、水分贋1収1 国際標準機構(ISO) /R62、ドイツ工業規格(
DI(I)53.495に従って:ディスク厚さ: 0
.1cm;(特に断らなければ)50日後に測定 6、ガラス転移温度(Tg) 6.1 動的ガラス転移温度(dyn、Tg)ドイツ
工業規格53,455に従って測定:試験片:偏平棒状
(60++n+ x 10 rmm x 1 +aI1
1)6.2 示差熱分析によるガラス転移温度(DT
^によるTg) 火、施−ロー 1モルの[4,4’−ビス−(β−ヒドロキシプロピル
)−ビスフェノールーA]ビスメタクリル酸エステル; 2モルのスチレン(比率67重撮%/33重量%)重合
開始剤:反応組成物に対してOJ%のベンジルジメチル
ケタール 硬化: 厚さ1 +*mの場合:15分間90℃で予熱、10分
間紫外線照射(両側から)、90°Cで15時間アニー
ル、厚さ4輪講の場合:90℃で15分間予熱、70分
間紫外線照射(両側から)、90℃で15時間アニール
、 実施[2 実施例 1と同様に、ただ2成分の重量比:50%:5
0% 重合開始剤:実施例 1と同じ 硬化:実施例 1と同じ 性質:表 1を見よ。
火Ji−f!Li
2モルのビスフェノールAビスグリシジルエーテルを1
モルのビスフェノールA、次いで2モルのメタクリル酸
と反応させ、得られた生成物をスチレンに溶解する スチレン含量:44重量% 性質二表 1を見よ、
モルのビスフェノールA、次いで2モルのメタクリル酸
と反応させ、得られた生成物をスチレンに溶解する スチレン含量:44重量% 性質二表 1を見よ、
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、下記成分、即ち (A).式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 式中 R^1、R^2=−H、−CH_3 a=1〜3、好ましくは1〜2 b=1〜2 c=1〜5、好ましくは1、3、5 d=1〜3、好ましくは1〜2 ▲数式、化学式、表等があります▼、−SO_2−、−
S−、−O−、 −CH_2OCH_2−、−CH_2O(CH_2).
OCH_2−、単結合 e=2〜6 −X−=−CH_3、ハロゲン(ヨードを除く)f=0
〜4 ▲数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼ R^1^1、R^1^1′=−H、−CH_3、2個の
置換基の中の1個が−Hならば、他は−CH_3、そし
てR^3、R^4=−H、−CH3、−C_2H_5、
▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼ 及び/又は式(II) HO−S_g−(−E−S−)_1−E_h−H(II)
式中 ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼ (エチレン性不飽和脂肪族ジカルボン酸と芳香族ジカル
ボン酸とのモル比は少なくとも1:1)、 g、h=0又は1 i=1〜20、好ましくは2〜10 R^5、R^6=H、CH_3 ▲数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼ R^7、R^7′=−H、−CH_3、2個の置換基の
中の高々1個が−CH_3であり得る。 R^8、R^8′、R^9、R^9′=−H又は−CH
_3好ましくはもしR^8又はR^8′のいずれかとR
^9又はR^9′のいずれかとが−CH_3ならば、同
じ数字の他の置換基は−H、 の重合性化合物30ないし90重量部と、 (B)式(III)の共重合性ビニル芳香族化合物▲数式
、化学式、表等があります▼(III) 式中 k=1又は2、 l=0又は1ないし9の整数、好ましくは0又は1ない
し5の整数、 Ar=ベンゼン、ナフタレン、ビリジン、アントラセン
、カルバゾール系からの1価又は2価の基、 −Y=−CH_3、ハロゲン(ヨードを除く)、−C(
CH_3)_3、そして R^1^0=−H、−CH_3、 及び随時式(IV)のエステル Z−S−W(IV) 式中 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ −O(−CH_2)_n−CH_3、 −O−C(CH_3)_3、 −O−CH(CH_3)_2、 −O−CH(CH_3)_2、 ▲数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、 n=0−3 p=1−3 q=1−3 r=1−4 s=1−3 ここで Zは又OHそしてW=Hである事も出来るが、同時にZ
−OH、W=Hであってはならない、R^1^1、R^
1^1′(Aの場合)=何の制限無しに−H又は−CH
_3、 m=0又は1ないし5の整数、 t=1〜3、好ましくは1〜2、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼ R^1^2、R^1^3=−H、−CH_3、−C_2
H_5、0ないし10重量部から成り、 (A)+(B)の総計が100重量部になり、式(II)
の化合物が存在する時は、式(III)の共重合性化合物
対式(II)及び式(IV)の化合物の合計のモル比が少な
くとも1:1であり、そして式(III)の化合物対式(
I )の化合物のモル比が少なくとも0.1:1であり
、好ましくは(0.3〜0.5):1、そしてもしR^
3=R^4=CH_3ならば、(A)の量は高々85重
量部である、 の硬化反応性組成の、光学的に及び/又は磁気的に読み
出し及び/又は書き込み可能なデータキャリアーのため
のキャルアー材料製造の為の使用。 2、反応性組成物が成分(A)を50ないし80重量部
、そして成分(B)を50ないし20重量部、合わせて
100重量部までを含む事を特徴とする、特許請求の範
囲第1項記載の硬化反応性化合物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3624870.3 | 1986-07-23 | ||
DE19863624870 DE3624870A1 (de) | 1986-07-23 | 1986-07-23 | Verwendung von haertbaren reaktionsmassen zur herstellung von datentraegern |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6341513A true JPS6341513A (ja) | 1988-02-22 |
Family
ID=6305782
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62180178A Pending JPS6341513A (ja) | 1986-07-23 | 1987-07-21 | 硬化反応性組成物のデ−タキヤリア製造のための使用 |
Country Status (5)
Country | Link |
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EP (1) | EP0254174B1 (ja) |
JP (1) | JPS6341513A (ja) |
AT (1) | ATE66682T1 (ja) |
DE (2) | DE3624870A1 (ja) |
ES (1) | ES2025106B3 (ja) |
Families Citing this family (1)
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---|---|---|---|---|
US5078910A (en) * | 1989-06-20 | 1992-01-07 | Edison Polymer Innovation Corp. | Polimerization of liquid crystalline monomers |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS5817527B2 (ja) * | 1978-07-17 | 1983-04-07 | 株式会社保谷レンズ | 高屈折率レンズ用共重合体及びそれよりなるレンズ |
JPS58129008A (ja) * | 1982-01-28 | 1983-08-01 | Seiko Epson Corp | デイスク材料 |
JPS58217514A (ja) * | 1982-06-11 | 1983-12-17 | Nippon Shokubai Kagaku Kogyo Co Ltd | 熱硬化性樹脂組成物 |
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1986
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1987
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- 1987-07-13 AT AT87110074T patent/ATE66682T1/de not_active IP Right Cessation
- 1987-07-13 ES ES87110074T patent/ES2025106B3/es not_active Expired - Lifetime
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- 1987-07-21 JP JP62180178A patent/JPS6341513A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
ATE66682T1 (de) | 1991-09-15 |
EP0254174A3 (en) | 1989-04-12 |
EP0254174B1 (de) | 1991-08-28 |
DE3772480D1 (de) | 1991-10-02 |
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DE3624870A1 (de) | 1988-01-28 |
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