JPS6341513A - 硬化反応性組成物のデ−タキヤリア製造のための使用 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 磁気的に読み出し又は書き込み可能なオーディオ、ビデ
オ及びデータプロセッシング用データを保持する層のた
めの支持材料として技術的に確立されているいるものは
、熱可塑性樹脂製、例えばポリエチレンテレフタレート
、又はその、例えば１．４−ブタンジオールとの共縮合
物、ポリ塩化ビニール、塩化ビニール共重合体、その他
媒体製のテープ、フィルム及びディスクである。

光学的に、特にレーザー読み出し可能な系では、現在デ
ィスクだけが記憶媒体として使用されている。ビデオ（
レーザービジョン）ディスク（直径的３０ｃｍ）の場合
、そのキＡ・リアー基材はカラス又はポリメタクリル酸
メチル製である。光学的データキャリアー用基剤材料と
して使用されると記載されている興味深い材料は、ポリ
塩化ビニール及びポリカーボネートである。（ｖａｎ　
ｄｅｎ　Ｂｒｕｃｋ他１、Ｉｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｒａ
ｄｉａｔｉｏｎ　Ｃｕｒｉｎｇ、　１９８４１月２頁以
降、Ｋｕｎｓｔｓｔｏｆｆｊｏｕｒｎａｌ　１１／１９
８２．６頁以降、コードナンバー２参照）。

その他データ記憶用に使用されている材料には、メタク
リル酸ブチル／メタクリル酸共重合体＜Ｆ。

ｒｅｓｔｒｙ　Ｍｉｎｉｓｔｒｙ　Ｐａｐｅｒ、　ＳＵ
　（ソビエｌ−特許）第１゜０４６．７３６号（０３，
０６，８２１０７，１０，８３））　；メタクリル酸ア
ルキル、スチレン及びトビニールフエニルーｎ−アルキ
ル−又はアリールヂオ尿素の三成分重合体（Ｋｉｓｈ　
Ｌｌｎｉｖｅｒｓｉｔｙ；Ｓｔｌ　（ソビエト特許）第
８７３，２６９号（３０，１＋、７９／１５．１０．８
１））　。

ポリＮ−ビニールカルバゾール、トリニトロフルオレン
、スチレン−ブタジェン共重合体を古む熱可塑性組成物
（Ｍ、Ｓ、　Ｂｕｒａｋｉｎａ、ＳＵ　（ソビエＩ・特
許）第６６７．９５０号（０５，０９，７７／２５．０
６　、）９））；メタクリル酸シクロヘキシルを基本に
した重合体（日本特許公開第５７−１８６，２４１（１
１，０５，８１／１６．１１．。

８２））　。

例えば金属表面層にベンゼン溶液から塗布するデータ記
憶層としてメタクリル酸ブチル及びスチレン共重合体（
Ｃ，Ｖ、　Ｇｕｒａｓｃｈ他ＳＵ（ソビエト特許）第３
９１．５９７号（２６，０４，７１／２２．１１．７３
）が記載されている。

これに関連して、媒体、例えばポリ塩化ビニール、ポリ
カーボネート、ポリエステル、セルロースエステル細裂
のフィルム上に、アクリル酸２−エチルヘキシル及びト
リアクリル酸１，１．１−トリメチロールプロパンの放
射線重合を行なってデータキャリア一層を形成するｒｌ
Ｅ−ＯＳ（ドイツ国公告特許明細書）第２，７４４，４
７９号も挙げなければならない。

ポリマー類は、現在記憶ディスク用基材として経済的に
も重要であり、技術的にも以下に示すような用途で関心
を集めている。

１、非消去性光学的記憶装７７７　［Ｒ，ＯＭ　（Ｒｅ
ａｄ　０ｎｌｙＮｅｎ＋ｏｒｙ）　、又はＯＲ０Ｍ　（
Ｏｐｔｉｃａｌ　Ｒｅａｄ　０ｎｌｙ　Ｍｅａ＋ｏｒｙ
）］ １．１　　製造過程で、金型を用いてデジタルデータを
たとえばビット状に型押しし、光学的に、例えばレーザ
ーで読むだけのもの、 １．２　−回書き込みＲＯＭ、又は書き込み直接読み出
し、略してＤ　ＲＡＷ　（Ｄｉｒｅｃｔ　ｒｅａｄ　ａ
ｆｔｅｒ　ｕ＋ｒｉｔｅ）、又は−回書き込み繰り返し
読み出し［ＷＯＲＭ（１＋Ｉｒ１ｔｅ　０ｎｃｅ、　Ｒ
ｅａｄ　Ｍａｎｙ）］系で、透明な（例えばガラス又は
ポリマー材料製）ディスク状基材に、例えば熱可塑性プ
ラスチック層、染料、又はセレン、テルル、ビスマス等
からの低融点合金、あるいは有機金属錯体を塗り、レー
ザーを使用し、塗布層の部分熔融、あるいは収縮によっ
てデータスポット、即ち小さな孔、バブル又は凹みを作
り、それを反射又は散乱の違いによって読み出す、２、
消去可能書き込み直接読み出し、略してＥ−Ｄ　ＲＡ　
Ｗ　　（Ｅｒａｓａｂｌｅ　　Ｄｉｒｅｃｔ　　Ｒｅａ
ｄ　　Ａｆｔｅｒ　　Ｉ’ｆｒｉｔｅ）、又はＯ（Ｏｐ
ｔｉｃａｌ）−Ｅ　−Ｄ　ＲＡ　Ｗで、同系はデータ記
憶用薄Ｎ（例えば１０μｍ以下）を有するポリマー又は
ガラスディスクからなる。このデータ記憶層は、 ２．１　　高エネルギーレーザーの部分照射によって、
相変化（Ｐｈａｓｅ　Ｃｈａｎｇｅ　ＰＣ）を受４Ｊる
物質から成っている。この様な物質としては、特にセレ
ン、テルル、アンチモニー、ひ素化合物並びに染料及び
顔料が挙げられる。レーザーの作用によって生成した情
報は、反射挙動が変化してレーザー読み出し可能になる
。これらの系は略してＩ）　Ｃ−Ｅ　−Ｄ　ＲＡＷ系と
呼ばれる。

２．２　　又は、低いキューリ一点を有する強磁性合金
、例えば稀土類／遷移金属系列からの合金、例えばＴｂ
−Ｇｅ−Ｆｃから成る。読み出しは、直線偏光レーザー
光の振動方向の回転を利用して行う（Ｋｅｒｒ及び／又
はＦａｒａｄｙ効果）。

ディスクへの書き込みで、外部磁場の作用下に高エネル
ギーレーザ−パルスを当てると、記憶層の磁場が反対に
なり、ここでキューリ一点ｊｌ下に冷却すると、情報は
磁気的に固定される。この系又は方法は、略して磁気光
学的（ｍａｇｎｅｔ、ｏｏｐｌ　１ｃａｌ）系（ＭＯ−
Ｅ−ＤＲＡＷ＞と呼ばれる。

レーザー読み出しの、厚さ約１．２＋＋＋ｍのオーディ
オディスク（コンパクトディスク、ＣＩ）−ＲＯＭ＞は
現在、標準的な射出成型法によって、及び射出／圧縮成
型法によって、柔軟な流動性ポリカーボネートからコピ
ーとして製造している（　Ｈ，ｌ、６ｓｅｒ　。

Ｋｕｎｓｔｓｔｏｆｆｊｏｕｒｎａｌ　６／１９８５．
２６頁以降、Ｐｌａｓｔｖｅｒａｒｂｅｉｔｅｒ　３６
巻、１９８５、Ｎｏ、３．１０頁以降参照）。

ここで、ディジタル情報キャリアーは、厚さ０．２ない
しｉｍｍの金属性テンプレートの形の射出成型用金型中
で固定される。

しかし、」二に述べた材料及び加工法は、電子産業界で
増大する要求を最早受は入れられない程の決定的な欠点
を有する。即ち １、キャリアー材料としてのガラスは重くて脆く、高度
な品質のディスクを製造するのは困難であり、しかも高
コストである。

２、ディスク更にデータさえもポリメタクリル酸メチル
及びポリメタクリル酸ブチル共重合体から射出成型によ
って製造するのは、確かに容易である、しかしその水分
吸収が１，５ないし３重量％と高く、膨潤、ストレス、
歪みが起こったり、又複屈折が変化したり、大きな問題
がある。これはレーザー読み出しによる再生（ｐｌａｙ
ｂａｃｋ）、更にＣＤ−Ｒ，ＯＭの場合でも深刻な問題
を引き起こす。

３、もう一つ不利な点は、ポリメタクリル酸メチル、ポ
リメタクリル酸ブチル、特にポリ塩化ビニールの耐熱変
形性及びガラス転移点が低い事である（それぞれＴｇ：
約１００〜１１０℃、　＜１００℃、約８０℃）。

４、ポリ塩化ビニールは更にレーザービームの波長での
光透過性が、例えば７５〜８５％と低い。

５、更に熱可塑性ポリマーからワンショット法で製造し
、ピットデータを有する、オーディオ、ビデオ及びデー
タプロセッシング用レーザー読み出し可能データディス
クには、比較的高い熔融粘性の為にデータピッＩ・の再
現性が不完全であり、レプリカの生産が困難であるとい
う欠点がある。

６、情報ピッＩ・が高温の為に、例えば比較的高いレー
サーエネルギーに過度に長時間曝される、熱によって応
力が無くなってしまう様な加熱処理を受ける、高温例え
ば２００ないし３６０℃で射出成型する間、高粘性の熱
可塑性熔融物の摩擦によって金型の損耗及び裂けが起こ
り、長持ちしない。

現在まで当技術分野の製品はガラス又は熱可塑性樹脂製
品である。住友ベークライト社は、日本特許公開明細書
５９−２２，２４８（２８，０７，８２１０４，０２，
８４）で、金型中で液状エポキシ樹脂から製造し、引き
続いて、上で説明したＤＲＡＷ、Ｅ−ＤＲＡＷのみなら
ず、ＣＤ−Ｒ，０Ｍコピーの場合にも同様に情報記憶層
を設ける、光記憶用透明キャリアー材料を提示している
。理想的には、酸無水物及びイミダゾール型硬化促進剤
と組み合わせた脂環式エポキシ樹脂を離型剤を含む金型
中に１．００℃で５時間、硬化の為に放置せねばならな
い。この様に長時間金型を占領するのは、技術的にも経
済的にも大址生産では受は入れられない。

当技術分野の熟達者は、比較的架橋変の高いポリマーは
多くのポリ付加系、特にエポキシ樹脂よりも大きな体積
収縮を起こす事を知っている。この体積収縮の為に、例
えば強度低下、就中内部応力が高い為に強度低下が起こ
り、又その高い内部応力の為に複屈折か高くなる。比較
的早い段階で硬化が起こる様な透明樹脂系の場合、比較
的高い体積収縮が起こってしまって、情報を有するディ
スク複製品（ＣＤ−ＲＡＭ）を、特にポリエステル、ア
クリル酸エステル及びメタクリル酸ニスデル系で製造す
る場合、情報ピットがＩ］ｆ現性現性形成されるのは一
般に期待出来ない。

驚くべき事に、−１−述した不飽和化合物に基づいた反
応性組成物を選択して使用すれば、透明基材及び複製用
ディスク（それはデータを持っていないか、ピッ１への
形で持っている（Ｃｒ）−ＲＯＭ）’１が高品質で製造
され、過酸化物、そして随時硬化促進剤、硬化活性剤、
および抑制剤で、及び／又は光開始剤の存在下にエネル
ギー放射、好ましくは紫外線放射によって、１５ないし
１００℃で１５分間硬化させて金型から取り出せる事か
発見された。

かくして得られる最終製品は他の製品には見られない、
低い、ないし非常に低い複屈折又は特定の位相差（ｐｈ
ａｓｅ　ｄｉｆｆｅｒｅｎｃｅ）（＜２（ｌ　ｎｍ／ｍ
ｍないしＯｎｍ／ｍａｎ）、低い吸水性、高い機械的安
定性、高い耐熱変形性を有し、又非常に優れた情報保持
表面再現性を有する。これら基材及び複製ディスクは１
、に述した熱可塑性樹脂、及びエポキシ樹脂系の欠点を
全くか、又は非常に僅かしか示さない。その製造速度も
特にエポキシ樹脂系と比較して大きく改善されている。

本発明の反応組成物は、 （Ａ）３０ないし９０、好ましくは５０ないし８０重量
部の式（１）及び／又は式（ｎ）の重合性化合物、及び （Ｂ　）　７０ないし１０、好ましくは５０ないし２０
重量部の、式（１１）の共重合性ビニール芳香族化合物
、及び随時式（ＩＶ）のエステルから成り、ここで （Ａ＞＋（Ｂ）の総計が１００重量部になり、式（ＩＩ
）の化合物が存在する時は、式（ＩＴ）及び式（ＩＶ）
の化合物の合計に対する式（ＩＩＩ）の共重合性化合物
のモル比が少なくとも１：１、そして式（１）の化合物
に対する式（ＩＩ）の化合物のモル比が少なくとも０．
１：１、好ましくは（０，：＋〜０．５）：１、そして
もしＲ３＝Ｒ’＝ＣＨ３ならは、（Ａ）の量は高々８５
置部部である。

硬化生成物を製造するには、反応試薬の他に必要ならば
随時反応助剤、即ちそれぞれ（Ａ）＋（Ｂ）の合計量１
００重量部に対して （ｃ）ｏ、ｏｉないし１０、好ましくは０．１ないし４
重社部の少なくとも一種の重合開始剤及び随時（Ｄ　）
　０．００００１ないし０５、好ましくは０．００００
２ないし０．１重量部の少なくとも一種の硬化促進剤、
及び随時、 （Ｅ　）　０．００１ないし２、好ましくはｏ、ｏｏｉ
ないし１重量部の少なくとも一種の硬化活性剤及び随時
、（Ｆ　）　０．００００１ないし０．５、好ましくは
０．０００１ないし０．０１１重部の少なくとも一種の
禁市剤を加える。

硬化は公知の方法で、非常に低温での重合により、好ま
１−＜は室温から１００°Ｃで照射、例えばＵＶ照射し
゛（行う事が出来る。随時、特に比較的高いガラス転移
点を有するポリマーの場合に、５０°Ｃ以トガラス転移
点＋２０°Ｃ以下の温度、好ましくは８０ないし１００
℃で加熱後処理して残渣重合（ｒｅｓｉｄｕａｌ　ｐｏ
ｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ）を行う事が出来る。

式−〇上 Ｒ’　Ｏ ｔ 式中 Ｒ’、Ｒ２＝−Ｈｌ−ＣＨ３ ａ＝１〜３、好ましくは１〜２ ｂ＝］　〜２ ｃ＝ｌ〜５、好ましくは１．３．５ ｄ＝１〜３、好ましくは１〜・２ Ｒコ −Ｍ−＝　　−（、、−５Ｏ２−１−Ｓ−１−０−１−
ＣＨ２０ＣＨ２−１−ＣＲ２（”）　　（Ｃ）（２）　
　、ＯＣＨ２−１単結合 ｅ−２〜６ −Ｘ−−−ＣＨ３、ハロゲン（ヨードを除く）ｆ＝Ｏ〜
４ −Ａ−＝　　−ＣＨ−Ｃ１１−Ｃ−５ Ｒ１１ＲＩ＋＋ Ｒｌ　ｌ、Ｒ１１′＝−Ｈｌ−ＣＨ３，２個の置換基の
中の１個が−Ｈならば、他は−ＣＨ３、そしてＲ３、Ｒ
ａ　＝　−）（、−ＣＨ３、−Ｃ２Ｈｓ、式□□ｊＵ） ＨＯ−３，−（−Ｅ−８−）、−Ｅｈ−Ｈ（Ｈ）式中 ＯＲ５Ｒ６０ ＩＩ　　ｌ　　ｌ　　１ｌ −８−＝　　−（、−Ｃ＝Ｃ−Ｃ−０、ＣＨ２０ ＩＩ　　ＩＩ　　　　　　１ｌ −Ｃ−Ｃ＝ＣＨ２−Ｃ−０−１ （エチレン性不飽和脂肪族ジカルボン酸と芳香族ジカル
ボン酸とのモル比は少なくとも１：１）、 ｇ、ｈ＝０又は１ ｉ＝１〜２０、好ましくは２〜１０ Ｒ５、Ｒ６＝Ｈ１ＣＨ。

ＣＲ３ −Ｅ−＝　　−（：Ｒ２−Ｃ−ＣＨ２−０−１Ｈ３ 〜１９− Ｒ７′　　Ｒ７ −Ｃ，Ｈ−ＣＩ　−０−５ １個が−Ｈならば、他は−ＣＨ３ Ｒ８、Ｒｅ　’、Ｒ９、Ｐ、ｇ′−−Ｈ又は−ＣＨｓも
しＲ８又はＲａ　’のいずれかと Ｒ９又はＲ９′のいずれかとが−ＣＨ，ならば、同じ数
字の他の置換基は−Ｈ５ −ｕＬＬ Ａ　ｒ　（Ｃ＝　ＣＨ２）　− ｙ　、　　　Ｒｌ　。

式中 に〜１又は２． １；０又は１ないし９の整数、好ましくはＯ又は１ない
し５の整数、 Ａｒ−ベンゼン、ナフタレン、ピリジン、アントラセン
、カルバゾール系からの１価又は２価の基、 −Ｙ−−ＣＨ３、ハロゲン（ヨードを除く）、−Ｃ（Ｃ
Ｒ３）　ｓ、そして Ｒ”−−Ｈ、−ＣＨ３、 一１ＬＬ −５−Ｗ 式中 −ＣＨ２−Ａｒ、−Ａ−Ｃ−Ａｒ Ｖｍ　　　　　ＯＶｍ Ｖｍ −０（ＣＨ２）ｎ　　ＣＨ３、 ＯＣ（ＣＨ３＞３、 ＯＣＨ（ＣＨ３）２、 −　Ｏ−ＣＩ　（ＣＨ３）２、 −Ｃ−ＣＨ−ｃ　　Ｈ−ＣＩ−１、， Ｒ１２Ｒ１３ （ＣＨ２）− ０（ＣＨ２）ｌ、　Ｃ（ＣＨ２）ｒ　　）−１、（ＣＨ
２）Ｓ ミ ｑ二１−３ ｒ＝１．−４ ｓ＝１−３ ここで Ｚは又ＯＨそしてＷ＝Ｈである事も出来るが、同時にＺ
＝ＯＨ，Ｗ＝Ｈであってはならない、Ｒ′１、Ｒ’ｌ’
（Ａの場合）−何の制限無しに−Ｈ又は−ＣＨ２、 ｍ＝ｏ又は１ないし５の整数、 ｔ＝１〜３、好ましくはｊ〜２、 Ｒ′２、Ｒ＋３＝−Ｈ、−ＣＨｓ、−Ｃ２ＨＳ、反応組
成物の組成は好ましくは （Ａ）５０ないし８０重量部の 式（１） 式中 ａ＝１−２；ｂ−＝１−２；ｃ＝１−３；ｄ＝１−２、
ｆ＝０−２、 ■ −Ｍ−−−Ｃ−１Ｒ，３，Ｒ’＝−Ｈ１−ＣＨ３−Ｘ　
＝　−ＣＨｓ、−ＣＩ Ａ＝　−Ｃ）（−ＣＨ−０−１ ）　　Ｉ Ｒ”　　Ｒ１１’ −ＣＨ２−ＣＨ−ＣＨ”−（１− Ｈ と随時式（ＩＩ） ｇ、ｈ＝ｏ−１；　ｉ　＝１−１０゜ 　　Ｈ −Ｅ−＝ ｕｓ　　Ｈａ′Ｒ”Ｒ’ 及び／又は 　Ｈ３ −ＣＨ２ＣＣＨ２０− ■ ＣＨ３ そして Ｒ１’、Ｒ”、Ｒ”、Ｒビ′ニーＨ、−ＣＨ３ここでＲ
８及びＲａ　’の２個の基の中の一つ、又はＲａ及びＲ
９’の２個の基の中の一つカイＣＨ３ の化合物との、Ｉ／ＩＴ重量比少なくとも】：１の混合
物と、（Ｂ　）　５０ないし２０重量部の式（ＩＩＩ） 式中 に＝１−２、Ｉ＝０−１、 Ａｒ−ベンゼン、ナフタレン、ピ１ノジン、アンスラセ
ン、カルバゾール系からの１価又番よ２価基、 Ｙ　−−ＣＨ３、−Ｃ１、−Ｃ（ＣＨ３）３ＲＩ　０＝
　−１（ の共重合性ビニール芳香族化合物と、随時式（■） 式中 ｍ −Ｑ（ＣＨｚ）ｎ−ＣＨ３、−Ｑ−（ＣＨ３）、ＯＣＨ
（ＣＨ３）２、 ここで （Ａにおいて）Ｒ１１，Ｒ１１′はいかなる制限無しに
−Ｈ又は−〇　Ｈ３、 ｍ　＝　０−１及び ｎ＝０−１ の化合物との混合物、とから成る。

特に好ましい反応組成物は、下記式の化合物力）ら成る
。

（１土１− ＣＨ３ −Ｍ−□　　　＝　　　−Ｃ−１ Ｈ５ ＲＩＩＲ目′ ＩＩ −Ａ−＝　　−Ｃ，Ｈ−ＣＨ−０−１ −ＣＨ２−ＣＨ−ＣＨ２−０− Ｈ 式＝ＬＬＬ ＨＯ−（Ｅ−８−）、−Ｅ−Ｈｉ　＝１−２　Ｅ− 戊一（」上 本発明の目的の為の化合物（Ｈは、ビスフェノール類、
例えばスルホニルビスフェノール、チオニルビスフェノ
ール、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、好ましく
はビスフェノールＡ及びビスフェノールＦあるいはそれ
らの混合物の、重合度１〜３、好ましくは１〜２のプロ
ポキシル化生成物のアクリル酸及び好ましくはメタクリ
ル酸エステルである。更に式（１）の物質は、」１に挙
げたビスフェノール類又はそれらの混合物の、好ましく
はビスフェノールＡ及びＦの、ビスグリシジルエーテル
、及びビスフェノールビスグリシジルエーテルと同−及
び／又は異なるビスフェノール、好ましくはビスフェノ
ールＡ及びＦ、及びそれらのベンゼン核置換誘導体例え
ばテトラメチル−２７＝ 及び／又はデトラクロロビスフェノールＡ及びＦとの、
モル比（２〜５）：　　（１〜４）、好ましくは２：］
での反応生成物のアクリル酸及び好ましくはメタクリル
酸エステルである。

式（ＩＴ）の化合物は例えばＬ述した１、２−又は２゜
１−プロポキシル化ビスフェノール類、好ましくは平均
プロポキシル化度１ないし３．５、好ましくは１ないし
１．５のプロポキシル化ビスフェノールＡと不飽和ジカ
ルボン酸例えばマレイン酸、シトラコン酸、イタコン酸
、好ましくは無水マレイン酸及び／又はフマール酸との
縮合生成物である。　化合物（ＩＩ）の工業生産で副製
品として生ずるモノエステル類は、本発明による使用に
対して一般に害は無い。

式（Ｉ［Ｉ）の化合物は例えば、スチレン、α−メチル
スチレン、ρ−メチルスチレン、ジビニルベンゼン、ビ
ニールトルエン、ｔ−ブチルスチレン、ビニールナフタ
レン、ビニールピリジン、ビニールアントラセン、ビニ
ールカルバゾール、モノ−及び／又はオリゴクロロスチ
レン、モノ−及び／又はオリゴブロモスチレン、核塩素
化α−メチルスチレン、好ましくはスチレン、ρ−メチ
ルスチレン、モノクロロスチレンである。好ましい式（
ＩＩＴ）の化合物はただ１個の共重合性二重結合を有す
る。

式（ＩＶ）の化合物は、上述した不飽和ジカルボン酸、
例えばマレ・イン酸、シトラコン酸、イタコン酸、好ま
しくは無水マレイン酸及びフマール酸とフェノール、ア
ルキルフェノール、シクロヘキシルフェノール、及び／
又はモノ−及び／又はオリゴアルキルナフトールの、平
均エトキシル化及び／又はプロポキシル化度が１ないし
３、好ましくは１ないし１．５のエトキシル化及び／又
はプロポキシル化生成物とのエステル化により得られる
縮合生成物、及び／又は」ユ述芳香族モノカルボン酸及
びシクロヘキサンカルボン酸、好ましくはシクロヘキサ
ノール及びベンジルアルコールのグリシジルエステルで
あり、その中の第２のカルボキシル基は遊離状態でも又
は」一連したアルコール以外のアルコール、例えばメタ
ノール、エタノール、プロパツール、【ドブタノール、
Ｌ−ブタノール、べンジルアルコール、シクロヘキサノ
ール、好ましくはイソプロパツール及びイソブタノール
でエステル化されていても良い。式（ＩＶ）の生成物中
には縮合反応で副成したエステル交換反応物も含む事が
出来る。

適当な重合開始剤は １、放射線、好ましくは紫外線照射硬化用として、例え
ばベンゾフェンノン、１−ヒドロキシシクロへキシルフ
ェニルケトン、２−メチル−１，４−（メチルチオ）フ
ェニル−２−モルホリノプロパン−１−オン、ベンゾイ
ンエーテル、好ましくはペンゾイニソ１０ビル及びイソ
ブチルエーテル、ペンジルジケタル、好ましくはベンジ
ルジメチルケタル、及び随時上述した化合物の混合物、 ２、有機過酸化物及び／又はベンズビナコルのシリルエ
ーテル及び／又は照射／過酸化物混合硬化系を用いての
フリーラジカル硬化に対して；ジアシル過酸化物、ベル
オキシジ炭酸ニスデル、ペルオキシ酸エステル、ベルケ
タール、ジアルキルペルオキシド、ケトンへルオキシド
、ハイドロペルオキシド、例えばビス−（２，４−ジク
ロロベンゾイル）ペルオキシド、ジラウロイルペルオキ
シド、ジベンゾイルペルオキシド、ジー２−エチルヘキ
シルペルオキシジカーボネート、ジイソプロビルペルオ
キシジカーボネー１〜、ジシクロへキシルペルオキシジ
カーボネート、ビス−（４−１−ブチルシクロヘキシル
）ペルオキシジカーボネート、過ピバル酸ｔ−ブチル、
過−２−エチルヘキサン酸ｔ−ブチル、過−３，５，５
−トリメチルヘキサン酸ｔ−ブチル、過室、臀、香Ｉｔ
−ブチル、過マレイン酸ｔ−ブチル、１．１−ビス（を
−ブチルペルオキシ）−３，５，５−）リメチルシクロ
ヘキサン、１．１−ビス（ｔ−ブチルペルオキシ）−シ
クロヘキサン、２，２−ビス（ｔ−ブチルペルオキシ）
ブタン、４．４−ビス（ｔ−ブチルペルオキシ）バレリ
アン酸■−ブチル、３，３−ビス（ｔ−ブチルペルオキ
シ）醋酸エチル、ジクミルペルオキシド、ｔ−ブチルク
ミルペルオキシド、ヒス（ｔ−ブチルペルオキシイソプ
ロビル）ベンゼン、２．５−ジメチルアニリン−２゜５
−ジ−ｔ−ブチルペルオキシド、ジー１−ブチルペルオ
キシド、メチルイソブチルケトンペルオキシド、メチル
エチルケトンペルオキシド、アセチルアセトンペルオキ
シド、シクロヘキサノンペルオキシド、キュメンハイド
ロペルオキシド、ｔ−ブチルハイドロペルオキシド、及
び随時」−述した化合物の混合物、 である。

適当な硬化促進剤は無機、好ましくは有機塩及び金属の
、好ましくはコバルト、バナジウムの、反応系に溶解す
る錯体化合物、例えばオクタン酸コバルト、ナフテン酸
コバルト、コバルトアセチルアセトナート、バナジルア
セチルアセトナート、部分燐酸エステル、ピロ又はポリ
燐酸エステルのバナジル塩、オクタン酸バナジル、酢酸
バナジル、ｐ−トルエンスルホン酸バナジルであり、又
アミン類、好ましくは第３級アルキルアリールアミン、
例えばＮ、Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ、Ｈ−ジエチルア
ニリン、Ｎ、Ｎ−ジメチル−ｐ−ｔ〜ルイジン、Ｎ、Ｎ
−ビス−（β−ヒドロキシエチル）−ｐ−トルイジン、
Ｎ、Ｎ−ビス−（β−ヒドロキシプロピル）−ｐ−トル
イジン、Ｎ、Ｎ−ビス−（β−ヒドロキシエチル）−ｐ
−トルイジンフタ一ル酸、Ｎ、Ｎ−ビス−（β−ヒドロ
キシエチル）−１）−）ルイジンアジピン酸（ドイツ国
特許明細書第１，９４３．９５４号参照）　、ＤＥ−Ｏ
３（ドイツ国特許公告明細書）第３，２０２，０９０号
に記載されている式（Ｉ）、式中Ｒ３、Ｒ，Ｒ５−−ｒ
−ｒ及びＲ４−−ＣＨｓの第３級アミン（ｐ−）ルイジ
ン誘導体）、ＤＥ−Ｏ５（ドイツ国特許公告明細書）第
３，２０２，０９０号に記載されている式（Ｉ）、式中
Ｒ１及びＲ５はメチル基の第３級アミン（キシリジン誘
導体）　、Ｎ、Ｎ−ビス−（β−ヒドロキシエチル）−
ｍ−クロロアニリンとの、重量比１：１ないし６：１の
混合物である第３級アリールアミンである。

コバルト化合物を主体とした硬化促進剤と共に硬化を行
うのに適した硬化活性剤は、」ユ述したアミン類、好ま
しくはＮ、Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ、Ｎ−ジエチルア
ニリン、Ｎ、Ｎ−ジメチル−Ｄ−）ルイジン、Ｎ、Ｎ−
ビス−β−ヒドロキシエチル−及び／又は−プロピル−
ｐ−トルイジン、及び／又はその例えばアジピン酸、フ
タール酸、（Ｃ２−ＣＩＯ）モノカルボン酸エステルで
ある。

バナジウム化合物用硬化活性剤は、チオール、チオカル
ボン酸エステル、奸才しくはチオグリコール酸ニスデル
で、例えばＤＥ−＾Ｓ（ドイツ国特許公開明細書）第２
，０２５，４１０号に記載されている。

適当な禁止剤はベンゾキノン、トルキノン、ナフトキノ
ン、トリメチルベンゾキノン、七ノー及びジ−ｔ−ブチ
ルベンゾキノン及び／又はそのハイドロキノン、好まし
くはハイドロキノン、１〜ルハイドロキノン、１，４−
ナフトハイドロキノン、ピロカテコール、好才しくはモ
ノ−及び／又はジ−ｔ−ブチルピロカテコール、並びに
それらのモノアルキルエーテル、更にクロラニル及び溶
解性銅塩及び／又は錯体例えばナフトエ酸銀、オクタン
酸銀、銅アセチルアセトナート、塩化第１銅／亜燐酸銘
体、及びこれら化合物の混合物である。

反応組成物は、その性質及び各成分の量によって異なる
けれども、１０ないし１００℃、好ましくは２０ないし
９０℃で硬化させる事が出来る。

データキャリアー／キャリアー材料は、■、情報（例え
ばピットに）を組み込んでいるか、 ■、情報を敏感な物質（例えば染料）の形で埋め込まれ
て含んでいるか、 ■、情報層（例えばセレニウム−テルル化合物と合金、
並びに合金と低キュウリ一点の化合物で代表される様な
）で被覆されているか、である。

キャリアー材料は自立性であることも、又非自立性であ
ることも出来、非自立性材料は多くは中間層として使用
される（例えばガラス熱可塑性又は熱硬化性樹脂上で）
。

以下の実施例において％は重量％、部は重１部である。

火＊ｌＩ 製造及び試験の一般条件 １、金型」■覧 ２枚の珪酸塩（窓用）ガラス板（２００ｍｍＸ２７０１
１１１１Ｘ３１１１１１１＞を隙間を空けて対峙させ、
約４１（丸断面）又は１ｍｍ（正方形断面）厚さの軟質
ＰＶＣ製シーリングリボンでガラス板の２長辺と１短辺
（即ち１短辺を残して）をシールする。これらの辺に沿
ってこの組合せを３個の鋼製スプリングブラケツ１〜（
角、Ｕ−字型断面、ブラケット長：約２１０ｍｍ）で保
持する。

λ−」１彫剤− 大豆レシチン５％キシレン溶液 １ト、−一β東イし− ３，１温度：特に断らなければ室温（２３°Ｃ）、３．
２　　硬化法：ＵＶ硬化開始剤及び／又は、もし適当な
らば有機過酸化物、硬化促進剤、随時硬化活性剤、及び
随時禁止剤の存在下に紫外線を連続的にか又は間隔を置
いて照射する。

３．３　　照射線源−４個の蛍光ランプ、フィリップス
社製、モデルＴ）１１．４０　ｌ１１１０９．３．４　
　蛍光ランプと金型との距離：約４．５　ｃｍ、３．５
　　熱処理ニ一般に９０℃で一晩；加熱室で約３０℃に
冷却；その後（特に断らなければ）金型から取り出す。

上−ＩＭ光尤８４１４１１づ（−ｕｌＬ位湘見ディスク
厚さ：０．１ｃｍ、又は０．４　ｃｍ。

−３６＝ 測定機器：偏光顕微鏡 測定方向二Ｍ１、即ち測定光は注型板に対して垂直にだ
け通過させる（注型方向に対して垂直に）外観＝２枚の
偏光フィルムの間で９０’回転させる５、水分贋１収１ 国際標準機構（ＩＳＯ）　／Ｒ６２、ドイツ工業規格（
ＤＩ（Ｉ）５３．４９５に従って：ディスク厚さ：　０
．１ｃｍ；（特に断らなければ）５０日後に測定 ６、ガラス転移温度（Ｔｇ） ６．１　　動的ガラス転移温度（ｄｙｎ、Ｔｇ）ドイツ
工業規格５３，４５５に従って測定：試験片：偏平棒状
（６０＋＋ｎ＋　ｘ　１０　ｒｍｍ　ｘ　１　＋ａＩ１
１）６．２　　示差熱分析によるガラス転移温度（ＤＴ
＾によるＴｇ） 火、施−ロー １モルの［４，４’−ビス−（β−ヒドロキシプロピル
）−ビスフェノールーＡ］ビスメタクリル酸エステル； ２モルのスチレン（比率６７重撮％／３３重量％）重合
開始剤：反応組成物に対してＯＪ％のベンジルジメチル
ケタール 硬化： 厚さ１　＋＊ｍの場合：１５分間９０℃で予熱、１０分
間紫外線照射（両側から）、９０°Ｃで１５時間アニー
ル、厚さ４輪講の場合：９０℃で１５分間予熱、７０分
間紫外線照射（両側から）、９０℃で１５時間アニール
、 実施［２ 実施例　１と同様に、ただ２成分の重量比：５０％：５
０％ 重合開始剤：実施例　１と同じ 硬化：実施例　１と同じ 性質：表　１を見よ。

火Ｊｉ−ｆ！Ｌｉ ２モルのビスフェノールＡビスグリシジルエーテルを１
モルのビスフェノールＡ、次いで２モルのメタクリル酸
と反応させ、得られた生成物をスチレンに溶解する スチレン含量：４４重量％ 性質二表　１を見よ、

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、下記成分、即ち （Ａ）．式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 式中 Ｒ＾１、Ｒ＾２＝−Ｈ、−ＣＨ＿３ ａ＝１〜３、好ましくは１〜２ ｂ＝１〜２ ｃ＝１〜５、好ましくは１、３、５ ｄ＝１〜３、好ましくは１〜２ ▲数式、化学式、表等があります▼、−ＳＯ＿２−、−
   Ｓ−、−Ｏ−、 −ＣＨ＿２ＯＣＨ＿２−、−ＣＨ＿２Ｏ（ＣＨ＿２）．
   ＯＣＨ＿２−、単結合 ｅ＝２〜６ −Ｘ−＝−ＣＨ＿３、ハロゲン（ヨードを除く）ｆ＝０
   〜４ ▲数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼ Ｒ＾１＾１、Ｒ＾１＾１′＝−Ｈ、−ＣＨ＿３、２個の
   置換基の中の１個が−Ｈならば、他は−ＣＨ＿３、そし
   てＲ＾３、Ｒ＾４＝−Ｈ、−ＣＨ３、−Ｃ＿２Ｈ＿５、
   ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
   表等があります▼ 及び／又は式（II） ＨＯ−Ｓ＿ｇ−（−Ｅ−Ｓ−）＿１−Ｅ＿ｈ−Ｈ（II）
   式中 ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼ （エチレン性不飽和脂肪族ジカルボン酸と芳香族ジカル
   ボン酸とのモル比は少なくとも１：１）、 ｇ、ｈ＝０又は１ ｉ＝１〜２０、好ましくは２〜１０ Ｒ＾５、Ｒ＾６＝Ｈ、ＣＨ＿３ ▲数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼ Ｒ＾７、Ｒ＾７′＝−Ｈ、−ＣＨ＿３、２個の置換基の
   中の高々１個が−ＣＨ＿３であり得る。 Ｒ＾８、Ｒ＾８′、Ｒ＾９、Ｒ＾９′＝−Ｈ又は−ＣＨ
   ＿３好ましくはもしＲ＾８又はＲ＾８′のいずれかとＲ
   ＾９又はＲ＾９′のいずれかとが−ＣＨ＿３ならば、同
   じ数字の他の置換基は−Ｈ、 の重合性化合物３０ないし９０重量部と、 （Ｂ）式（III）の共重合性ビニル芳香族化合物▲数式
   、化学式、表等があります▼（III） 式中 ｋ＝１又は２、 ｌ＝０又は１ないし９の整数、好ましくは０又は１ない
   し５の整数、 Ａｒ＝ベンゼン、ナフタレン、ビリジン、アントラセン
   、カルバゾール系からの１価又は２価の基、 −Ｙ＝−ＣＨ＿３、ハロゲン（ヨードを除く）、−Ｃ（
   ＣＨ＿３）＿３、そして Ｒ＾１＾０＝−Ｈ、−ＣＨ＿３、 及び随時式（IV）のエステル Ｚ−Ｓ−Ｗ（IV） 式中 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
   表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
   表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ −Ｏ（−ＣＨ＿２）＿ｎ−ＣＨ＿３、 −Ｏ−Ｃ（ＣＨ＿３）＿３、 −Ｏ−ＣＨ（ＣＨ＿３）＿２、 −Ｏ−ＣＨ（ＣＨ＿３）＿２、 ▲数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、 ｎ＝０−３ ｐ＝１−３ ｑ＝１−３ ｒ＝１−４ ｓ＝１−３ ここで Ｚは又ＯＨそしてＷ＝Ｈである事も出来るが、同時にＺ
   −ＯＨ、Ｗ＝Ｈであってはならない、Ｒ＾１＾１、Ｒ＾
   １＾１′（Ａの場合）＝何の制限無しに−Ｈ又は−ＣＨ
   ＿３、 ｍ＝０又は１ないし５の整数、 ｔ＝１〜３、好ましくは１〜２、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
   表等があります▼ Ｒ＾１＾２、Ｒ＾１＾３＝−Ｈ、−ＣＨ＿３、−Ｃ＿２
   Ｈ＿５、０ないし１０重量部から成り、 （Ａ）＋（Ｂ）の総計が１００重量部になり、式（II）
   の化合物が存在する時は、式（III）の共重合性化合物
   対式（II）及び式（IV）の化合物の合計のモル比が少な
   くとも１：１であり、そして式（III）の化合物対式（
   I ）の化合物のモル比が少なくとも０．１：１であり
   、好ましくは（０．３〜０．５）：１、そしてもしＲ＾
   ３＝Ｒ＾４＝ＣＨ＿３ならば、（Ａ）の量は高々８５重
   量部である、 の硬化反応性組成の、光学的に及び／又は磁気的に読み
   出し及び／又は書き込み可能なデータキャリアーのため
   のキャルアー材料製造の為の使用。 ２、反応性組成物が成分（Ａ）を５０ないし８０重量部
   、そして成分（Ｂ）を５０ないし２０重量部、合わせて
   １００重量部までを含む事を特徴とする、特許請求の範
   囲第１項記載の硬化反応性化合物。