JPH01197545A

JPH01197545A - 光学的記憶媒体のための基層としてのポリカーボネート及びスチレン重合体の混合物の使用

Info

Publication number: JPH01197545A
Application number: JP63315227A
Authority: JP
Inventors: Volker Serini; フオルカー・ゼリニ; Klaus Berg; クラウス・ベルク; Ulrich Grigo; ウルリツヒ・グリゴ; Leo Morbitzer; レオ・モルビツツアー; Karl-Erwin Piejko; カルル−エルビン・ピージコ; Klaus Suemmermann; クラウス・ズユマーマン
Original assignee: Bayer AG
Current assignee: Bayer AG
Priority date: 1987-12-22
Filing date: 1988-12-15
Publication date: 1989-08-09
Also published as: US4902746A; DE3743491A1; EP0321831A3; EP0321831A2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】本発明は、光学的記憶媒体のための基層としてのａ）　重量で５〜９５％の、その中の線状連鎖が０．１
モル％乃至５０モル％の式（１）に相当する二官能性構
造単位及び９９．９モル％乃至５０％モル％の式（２）式中で一〇−Ｄ−０−は式（１）中のものとは異なるジ
フェノラート残基である、に相当する他の二官能性構造
単位を含有する芳香族ポリカーボネート、ｂ）　重量で９５〜５％の熱可塑性スチレン重合体、及
び任意的にＣ）　通常の量の標準的な添加剤成分ａ）＋ｂ）の合計は重量で１００％であり且つ添加剤Ｃ）の量は重量で１００％の成分ａ）＋ｂ）の合
計に基づいている、から成る混合物の使用に関するものである。

本発明において使用することができる芳香族ポリカーボ
ネートは、好ましくは０．２〜３５モル％、−層好まし
くは０．５〜２５モル％、もつとも好ましくは２〜１５
モル％の、式ｌに相当する１、１，３．４．６−ベンタ
メチルー３−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）−インダン−５−オールのポリカーボネート単位
を含有することが好ましい。

本発明の関係において、ポリカーボネートとは、特許請
求の範囲及び説明中に示した必要条件を満足する混合物
である限りは、少なくとも二つの異なるポリカーボネー
トの混合物をも含むものと了解すべきである。混合物中
のポリカーボネートの少なくとも一つは、その混合物が
全体として前記の組成に相当する限りは、本発明に従っ
て使用すべきポリカーボネートに対して挙げた組成とは
異なっていてもよい。少なくとも二つのポリカーボネー
トを用いる場合には、スチレン重合体と混合する前に、
それらを混合してもよいし、あるいは、たとえば溶融物
を経て、スチレン重合体と一緒に混合することすらでき
る。

本発明の関係においては、ポリカーボネートの混合物に
ついての上記の考察をスチレン重合体に対しても適用す
ることができ、少なくとも二つの異なるスチレン重合体
の混合物を包含することができる。

成分ａ）のポリカーボネートは、ドイツ−特許公開第２
．６１５，０３８号（Ｌｅ　　Ａ　　１６８４２）によ
り公知であり又はドイツ特許公開筒２，６１５．０３８
号の教示に従って取得することができる。

ポリカーボネートを含有していないプラスチックと共に
可能な混合物に関しては、単に式（１）の構造単位を含
有するポリカーボネートを他の重合体材料と混合するこ
とができるということを指摘するのみである（該特許公
開の１０頁、１９／２０行）。

光学的記憶媒体のための基材としての混合物の使用につ
いては該特許公開中に全く記載してない。

成分ａ）のポリカーボネートはドイツ特許公開筒２，９
０１，６６８号（Ｌｅ　Ａ　１９１４６）によっても公
知である。これらのポリカーボネートの混合物又はその
光学的使用はドイツ特許公開筒２．９０１，６６８号中
には記されていない。

成分ａ）のポリカーボネートはドイツ特許公開筒２．９
０１．６６５号（Ｌｅ　Ａ　１９０４０）からも公知で
ある。他のポリカーボネートとのこれらのポリカーボネ
ートの混合物及びこれらのポリカーボネートｐｖｃ’に
よる修飾は、ドイツ特許公開筒２，９０１，６６５号の
２０頁に記されている。

修飾の場合には、ゴム修飾熱可塑性樹脂をも加えること
ができ、ドイツ特許公開筒２．９０１．６６５号中に引
用したドイツ特許公開筒２．４０２．１７７号の９頁に
よれば、ここで問題となる樹脂は熱可塑性樹脂とグラフ
ト重合体又はゴムとの混合物をも包含する。ドイツ特許
公開筒２．９０１，６６５号もまた光学的な応用につい
ては記していない。

成分ａ）のポリカーボネートはドイツ特許公開筒３，１
１８，６９７号（Ｌｅ　Ａ　２１０４７）、１１頁の最
後の項及び１２頁の最初の項によっても公知であり、こ
こではポリアルキレンテレ７りレート及び、任意的に、
−２０°Ｃ以下のガラス転移点を存する重合体と混合し
ている。この特許公開もまた光学的応用については記し
ていない。

成分ａ）のポリカーボネートを一２０’Ｏ以下のガラス
転移点を有する重合体と混合することはドイツ特許公開
第３，１１８．８６１号（Ｌｅ　　Ａ　　２１０４８）
、１０頁、第１項により公知である。

この特許公開中では光学的応用を記してはいない。

成分ａ）のポリカーボネート、スチレン重合体及びポリ
りん酸エステルの混合物は、ドイツ特許公開第０１０３
２３０号（Ｌｅ　　Ａ　　２１８３５）により公知であ
る。しかしながら、この特許公開中には光学的応用に関
する言及はない。

成分ａ）のポリカーボネートとスチレン重合体及びりん
酸エステルとの混合物は、ドイツ特許公開第０１７３８
６９号（Ｌ　ｅ　　Ａ　　２２９２５）により公知であ
る。しかしながら、光学的応用については記していない
。

日本特許公開明細書間−６１−１９６５６号は光学的機
器のための出発材料として推薦されるポリカーボネート
とスチレン樹脂の混合物を記している。ポリカーボネー
トは、２，２−ビス−（４′−ヒドロキシ−３’、５’
−ジメチルフェニル）−プロパンを包含する、いくつか
の例を挙げているビスフェノールから調製する。しかし
ながら、実施例においては、ビスフェノールＡポリカー
ボネートのみを用いている。インデンビスフェノール（
３）については触れていない。

光学的な目的に対しての樹脂混合物の使用は、ヨーロッ
パ特許第０１９９８２４号にも記されている。樹脂とし
てはポリカーボネートとスチレン樹脂の両者を挙げてい
る。種々の樹脂の相溶性を第三成分によって向上させる
。しかしながら、本発明の成分ａ）のポリカーボネート
は、この特許中のポリカーボネートとして挙げてはいな
い。

式（２）に相当する二官能性構造単位は、式（３）に相
当するジフェノールとは異なるジフェニルに基づくもの
とすることができる。

式（４）ＨＯ〜Ｄ−ＯＨに相当する適当なその他のジフ
ェノールは、ヒドロキノン、レソルシノール、ジヒドロ
キシジフェニル類、ビス−（ヒドロキシフェニル）−ア
ルカン類、ビス−（ヒドロキシフェニル）−シクロアル
カン類、ビス−（ヒドロキシフェニル）−スルフィド類
、ビス−（ヒドロキシフェニル）−エーテル類、ビス−
（ヒドロキシフェニル）−ケトン類、ビス−（ヒドロキ
シフェニル）−スルホキシド類、ビス−（ヒドロキシフ
ェニル）−スルホン類及びα、α′−ヒス−（ヒドロキ
シ２エニル）−ジイソプロピルベンゼン類及び相当する
置換化合物である。

式（４）のジフェノールは公知であるか又は公知の方法
によって取得することができる（たとえば、ベルマンシ
ュネル、ケミストリーアンドフイジツクスオブボリカー
ボネート、ポリカーボネ−ト、第９巻、インターサイエ
ンスバブリッシャーズ、ニューヨーク、１９６４、ポリ
ヵーボネートアウスｏｌ　ｏｌ　Ｏ’　ｌ　Ｏ′−テト
ラメチルスブスチチールテンビスシェノーレン（０１０
１０’　１０　’−テトラメチル置換ビスフェノール類
からのポリカーボネート）と題するＶ、セリｍ：、Ｄ、
フライターフ、Ｈ，ベルナルケンによる文献、アンゲヴ
アントマクロモレキュラーレヒエミー、５５、（１９７
６）、１７５〜１８９及びドイツ特許公開第２０６３０
５０号、２，２１１．９５７号、２゜２４８．８１７号
及び２，６１５．０３８号参照）。

置換ジフェノール（４）の例は、２．２’−ビス−（４
−ヒドロキシフェニル）−プロパン、２゜２−ビス−（
４−ヒドロキシフェニル）−スルフィド、ｌ、１−ビス
−（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサン、ｌ、
１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニル
エタン、ａ、σ′−ビスー（４−ヒドロキシフェニル）
−ｐ−ジイソグロピルベンゼン、２．２−ビス−（３−
メチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、２゜２
−ビス＝（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル
）−フロパン、ビス＝（３，５−ジメチル−４−ヒドロ
キシフェニル）−メタン、２．２−ビス−（３，５−ジ
メチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロパン及びσ、
α′−ビス−（３，５＝ジメチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）−ｐ−ジイソプロピルベンゼンである。

好適な式（４）のジフェノールは式（５）に相当するも
のであり、式中で置換基Ｒは相互に無関係に０１〜Ｃ，アルキル基
、好ましくはメチル基、であり、且つＸは単結合、０、
ｓ、ｓｏ’、、Ｃ０１Ｃ＋〜Ｃ＋ｓ及び好ましくはＣ３
〜Ｃ５アルキレン又はアルキリデン基、Ｃ６〜ｃ　ｌｓ
＋好ましくはＣ６〜Ｃ３゜シクロアルキレン又はシクロ
アルキリデン基、あるいはである。

式（２）の二官能性単位は少なくとも５０モル％、−層
好ましくは少なくとも８０モル％、もっとも好ましくは
１００モル％の式（５）ｉ：相当するジフェノールに基
づくことが好ましい。

特に好適なジフェノール（５）は、その中でＲがＣＨ，
であり且つＸは０１〜Ｃ５アルキレン基又はＣ２〜Ｃ５
アルキリデン基である場合のものである。このようなジ
フェノールの例は、ビス−（３゜５−ジメチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）−メタン、２．２−ビス−（３，５
−ジメチル−４−ヒドロキンフェニル）−プロパン、２
．２−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）−ブタン、２，４−ビス−（３，５−ジメチル−
４−ヒドロキシフェニル）−２−メチルブタン及びσ、
σ′−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）−ｐ−ジイソプロピルベンゼンである。これらの
ジフェノールの中で、ビス−（３゜５−ジメチル−４−
ヒドロキシフェニル）−プロパン及び２，２−ビス−（
３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン
が特に好適な式（５）のジフェノールである。

先に述べたように、本発明において使用すべき成分ａ）
のポリカーボネートの製造は文献により公知である。

本発明に従って使用することができるポリカーボネート
の分子量を調製するためには連鎖制限剤を使用すればよ
い。連鎖制限剤は広く文献に記されている。それらは、
たとえば、アミン、フェノール、カルボン酸及びそれら
の誘導体のような、使用するビスフェノール類又は炭酸
誘導体と反応することができる単官能性の化合物である
。好適な連鎖制限剤は、たとえば、フェノール、０−ク
レゾール、２，６−シメチルフエノール、ｐ−ｔ−ブチ
ルフェノールのようなフェノール類であり、特に下式式中でＲは枝分れした０８〜Ｃ，アルキル基である、ニ相当するフェノール、下式：に相当するフェノールが好適であり且つ下式：ＣＨ，Ｃ
Ｈ３に相当するフェノールが特に好適である。これらのフェ
ノール類の中で下式：％式％に相当するｐ−インオクチルフェノールが特に好適であ
る。

本発明に従って使用することができるポリカーボネート
の分子量は、比較的広い限界内で変えることができる。

ポリカーボネートは好ましくは６０００〜１２５，００
０、−層好ましくは１２，０００〜６０，０００、もつ
とも好ましくは１７，０００〜４３．０００の範囲の分
子量Ｍｗを有し、２１．０００〜３１．０００の範囲の
分子量Ｍｗを有するポリカーボネートが特に好適である
。

本発明において使用することができるポリカーボネート
は、少量の、好ましくは０．０５〜２モル％（使用する
ジフェノールに基づく）の、三官°能又はそれ以上の官
能性の化合物、特に三つよりも多いフェノール性ヒドロ
キシル基を有するものの混入によって、枝分れを生じさ
せることができる。この種のポリカーボネートは文献に
より公知である。本発明において使用することができる
、三つ又は三つよりも多いフェノール性ヒドロキシル基
を含有する化合物の例は、たとえば、フロログルシノー
ル、４．６−シメチルー２．４．６−トリー（４−ヒド
ロキシフェニル）−ヘプト−２−エン、４．６−シメチ
ルー２．４．６−１リー（４−ヒドロキシフェニル）−
へブタン、１．３．５−トリー（４−ヒドロキシフェニ
ル）−ベンゼン、１．１．ｌ−トリー（４−ヒドロキシ
フェニル）−エタン、トリー（４−ヒドロキシフェニル
）−フェニルメタン、２，２−ビス−［４，４−ビス（
４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキシル］−プロパ
ン、２．４−ビス（４−ヒドロキシフェニルイソプロピ
ル）−フェノール、２．６−ビス（２−ヒドロキシ−５
′−メチルベンジル）−４−メチルフェノール、２−（
４−ヒドロキシフェニル）−２−（２，４−ヒドロキシ
フェニル）４０パン、ヘキサ−［４−（４−ヒドロキシ
フェニルイソプロピル）−フェノキシ］−メタン及び１
．４−ビス［４’、４“−ジヒドロキシトリフェニル）
−メチル］−ベンゼンである。その他の三官能性化合物
は２，４−ジヒドロキシ安息香酸、トリメシン酸、塩化
シアヌル、３．３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−
２−オキソ−２，３−ジヒドロインドール及び３．３−
ビス−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−
オキソ−２，３−ジヒドロインドールである。

本発明において使用すべき成分ａ）のポリカーボネート
は、炭酸残基の代りに、何れの場合もポリカーボネート
中の酸エステルのモル数の合計に基づいて、４０モル％
未満、好ましくは２５モル％未満、−層好ましくは１０
モル％未満の量で、他のジカルボン酸残基を含有するこ
とができる。

これらの他のジカルボン酸残基は脂肪族及び／又は芳香
族ジカルボン酸から、好ましくは芳香族ジカルボン酸か
ら、由来するものとすることができる。芳香族ジカルボ
ン酸の例はイソツクタル酸及びテレフタル酸且つまたそ
れらの混合物である。

本発明において使用すべき成分ａ）のポリカーボネート
は、炭酸残基の代りに、ポリカーボネート中の酸残基の
モル数の合計に基づいて、２５モル％以下の量で、ｐ−
ヒドロキシ安息香酸残基をも含有することができる。

本発明において、成分ｂ）の熱可塑性スチレン重合体は
、重量で少なくとも３０％、好ましくは重量で少なくと
も４５％、−層好ましくは重量で少なくとも１０％の、
スチレン及び共重合した形態にある、その誘導体から成
るグループからの少なくとも一つの化合物を含有する重
合体である。

その他の好適な重合体は、重量で６５〜１００％、好ま
しくは重量で６５〜９９％、−層好ましくは重量で９０
〜９８％、もつとも好ましくは重量で９３〜９８％の、
スチレン及び共重合した形態にあるその誘導体から成る
グループからの少なくとも一つの化合物を含有するもの
である。

スチレン及びその誘導体のグループは、たとえば、スチ
レン、σ−メチルスチレン、３，４−ジメチルスチレン
、〇−及びｐ−ジビニルベンゼン、ａ−クロロスチレン
、ｐ−クロロスチレン、２゜４−ジクロロスチレン、及
びｐ−クロロ−α−メチルスチレンを包含する。スチレ
ン、α−メチルスチレン及びｐ−メチルスチレンが好適
であり、スチレンが特に好適である。

本発明による熱可塑性スチレン重合体は、スチレン及び
その誘導体の上記の量に対して補足的な量の、少なくと
も一つのコモノマーを含有することができる。適当なコ
モノマーは、少なくとも一つのすレフイン性二重結合を
含有する化合物、たとえば、アリル化合物、ジエン、ビ
ニル化合物、アクリル及びメタクリル化合物、さらには
フマル酸及びマレイン酸並びにそれらの誘導体である。

スチレン及びその誘導体に加えて、一つのコモノマー及
び複数のコモノマーの両方を用いることができる。

上記のコモノマーの中で、たとえば、アクリル酸、メタ
クリル酸、アクリル及びメタクリルアミド１．アクリル
酸ブチル、メタクリル酸メチル、アクリロニトリル及び
メタクリロニトリルのような、アクリル及びメタクリル
化合物、且つまた、たとえば、マレイン酸無水物、ａ−
メチルマレイン酸無水物、Ｎ−メチルマレインイミド、
Ｎ−フェニルマレインイミド、Ｎ−（ｐ−メチルフェニ
ル）−マレインイミドのような、マレイン酸の誘導体も
また好適である。アクリロニトリル、メタクリル酸メチ
ル、マレイン酸無水物及びＮ−フェニルマレインイミド
が特に好適であり、アクリロニトリルがとりわけ好適で
ある。

熱可塑性スチレン重合体は、公知のラジカル重合方法に
よって、たとえば、塊状重合、溶液重合、乳化重合、又
は、たとえば、溶液、沈殿又は塊状懸濁方法のような、
組合わせ方法によって調製することができる。しかしな
がら、たとえば、イオン重合方法及び有機金属触媒を用
いる方法（チーグラー−ナツタ方法）を包含する、その
他の公知の方法をもスチレン重合体の製造に対して使用
することができる。

本発明に従って使用することができるスチレン重合体の
分子量は広い限界内で変えることができる。スチレン重
合体は５０００〜５，０００，０００、−層好ましくは
１５，０００〜１．ＯＯＯ，，０００、もつとも好まし
くは２０，０００〜２００゜０００の範囲の分子量Ｍｗ
を有することが好ましい。

本発明において用いることができる熱可塑性重合体は、
線状又は枝分れしたものとすることができる。枝分れは
、コモノマーとして枝分れ化合物、たとえばジビニルベ
ンゼンを使用することによって、又は、他の方法によっ
て、たとえば重合プロセスの間のラジカルグラフト反応
により枝分れを形成させることによって、達成すること
ができる。

本発明による成分Ｃ）の標準的な添加剤は、ヨーロッパ
特許第０１９９８２４号による相溶性増進剤ではなく、
なかでも、本発明において使用すべきプラスチックの匝
合物中の成分ａ）及びｂ）に対する熱、紫外線及び水分
の影響に対しての安定剤である。その他の適当な添加剤
は、成分ａ）及びｂ）の混合物の光学的性質に影響する
ものでない限りは、防炎加工剤、潤滑剤及び離型剤並び
にその他の加工助剤を包含する。

成分ａ）及びｂ）、並びに任意的にＣ）からの本発明に
従って使用すべき成形組成物の製造は、たとえば蒸発混
練機又は蒸発押出機中における後続する溶剤の蒸発を伴
なう、有機溶剤又は溶剤涙金物中のそれらの成分の溶液
から、遂行することができる。しかしながら、たとえば
混合ロール上、混線機中又は押出機中で、溶融物から直
接に行なうこともできる。出発成分は、一般に、１８０
〜４５０°Ｃ１好ましくは２２０〜４００°Ｃ１−層好
ましくは２６０〜３６０°Ｃ１もっとも好ましくは２９
０〜３４０°Ｃの範囲の溶融温度において混合する。

成分Ｃ）の添加剤は成分ａ）十ｂ）の混合物中に、引続
いて、混入することもできる。

しかしながら、添加剤含有成分ａ）及びｂ）、すなわち
、成分ａ）及び／又はｂ）と添加剤Ｃ）とのプレミック
ス、を使用することも可能である。

成分ａ）、ｂ）及び、場合によっては、Ｃ）からの熱可
塑性成形組成物は、好ましくは２６０〜３６０°Ｃ１−
層好ましくは２９０〜３４０°Ｃの範囲の溶融物温度で
成形する。

本発明による混合物中のポリカーボネートのスチレン重
合体に対する混合比は、好ましくは９０：ｌＯ乃至２０
：８０、−層好ましくは９０：１０乃至４０：６０、も
つとも好ましくは８５：１５の範囲であるが、６５　：
　３５乃至４５：５５の範囲の混合比が特に好適である
。

本発明に従って使用すべき混合物は重量で５〜８０％の
スチレン（ポリスチレン及び／又は共重合体中のスチレ
ン成分として）、−層好ましくは重量で１０〜６５％、
もつとも好ましくは重量で２０〜５５％のスチレンを含
有することが好ましい。

本発明において使用すべき混合物は、少なくとも、それ
らの卓越した相溶性によって、光学的応用のために、特
に光学的記憶媒体の分野において、それらを適当ならし
める技術的に価値ある性質を示す。

このような光学的記憶媒体の例は、たとえば、光学的読
取り専用記憶装置（ＯＲＯＭ）、−回書込み読取り主体
記憶装置（ＷＯＲＭ）及び消去可能光学ディスク（Ｅ　
ＯＤ）である。公知のＯＲ０Ｍ応用は、ビデオロングプ
レイ（ＶＬＰ）、オーディオコンパクトディスク（ＣＤ
）　、ＣＤ読取り専用記憶装置（ＣＤ−ＲＯＭ）　、Ｃ
Ｄインタラクティブ（ＣＤ−１）を包含する。消去でき
る光学ディスクは、現在のところ三つの異なる機構、す
なわち、可逆的相変化（ｐｃ）　、可逆的色変化（ＣＣ
）及び可逆的磁化（磁気光学的記録、熱磁気光学、ＭＯ
Ｒ）を使用する。

光学的記憶媒体は、たとえば、以下の文献中に記されて
いる：Ｊ、ヘニング、タンストストツフエヒュルオプテ
イッシエプラッテンスパイヒエル（光学ディスク用プラ
スチック）、クンストスト”ｙｙエフ　５、（１９８５
）７．４２５〜４３゜頁；Ｗ、シーブルグ、ポリカーポ
ナートーアインウエルクストツフヒュルオプテイッシエ
スパイヒエルメデイエン（ポリカーボネート−光学記憶
媒体用材料）、タンストストラフニー乙６（１９８６）
、１Ｏ１９１７〜９１９頁）；エゴンシッミット、アイ
ンアイン７アツヒヤーマグネトーオプテイッシエルスパ
イヒエル（単純磁気光学的記憶媒体）、１９８７．３．
６．のフランクフルターアルゲマイネツアイツング、″
″科学技術″。

光学的データ記憶媒体は一般に、情報の層が付加しであ
る重合体ペースプレート又は重合体ベースフィルム（場
合によっては複合フィルム）から成っている０情報を、
記憶媒体から読出し、記憶媒体上に記録し又は、重合体
プレートあるいは重合体フィルムを通過する光線、たと
えばレーザービームによって記憶媒体から消去する。

情報保持データ記憶ディスク又はデータ記憶フィルムの
ベースプレート又はベースフィルムとして使用するため
には、僅かの重合体が適しているにすぎず、それらの重
合体すら、必要な性質のすべてを満足するわけではない
から、用途が限定される。

従来、ポリメタクリル酸メチル及び２，２−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）−プロパン（ヒスフェノールＡ）
のポリカーボネートが、光学的記憶媒体用のベースプレ
ート又はベースフィルムの製造のための重合体として用
いられている。既述のように、日本特許公開昭−６１−
１９６５６及びヨーロッパ特許第０１，９９８２４号も
また光学的用途に対するブラろチックの混合物の使用を
記している。

成分ａ）及びｂ）並びに場合によっては、ｃ）の混合物
の本発明による使用は、それらの混合物が特に次に示す
きわめてすぐれた性質のスペクトルを有していることに
よって、有利である：１、高い熱変形温度２、溶融物の高い流動性３、高度の表面品質４、成形中の細部の高度に正確な再生５、高度の光沢６、良好な金属接着７、高い透明性８、高い熱安定性９、容易な離型ｌＯ，ディスクにおける最低限の複屈折１１、ディスク
上の複屈折の高度の均一性１２、良好な機械的性質１３、＠小亀裂形成に対する最低限の傾向１４、低い吸
水性上記のすぐれた性質の個々の性質、及び、これらのすぐ
れた性質の組合わせの両方は、従来は得られなかった品
質の光学記憶媒体用のベース材料として、本発明の成形
組成物をきわめて適当ならしめる。

本発明による重合体混合物のすぐれた機械的性質の中で
、個々の成分の組成と弾性率からの計算によって決定す
ることができる値よりも著るしく高い、驚くべきほど高
い弾性率を特に挙げることができる。これらの高弾性率
、低い吸水性、低い複屈折、及び全ディスクにわたるそ
れらの高い均一性のために、１４ｃｍよりも大きく、好
ましくは２０ｃｍよりも大きく且つ一層好ましくは２５
ｃｍよりも大きい直径を有する高品質光学ディスクを、
本発明による重合体混合物から製造することが可能であ
る。

本発明による成形組成物は、光学的読出し専用記憶装置
（ＯＲＯＭ）に対して、特に−回書込み読出し主体（Ｗ
ＯＲＭ）ディスク及び特に、消去可能光学ディスク（Ｅ
ＯＤ）に対して、特に適している。

実施例１〜５１．１，３，４．６−ベンタメチルー３−（３，５−ジ
メチル−４−ヒドロキシフェニル）−インダン−５−オ
ールコポリカーボネート及びスチレンの混合物、並びに
、比較のための、２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェ
ニル）−プロパンポリカーポ不一トとスチレン／マレイ
ン酸無水物共重合体の混合物。

使用した重合体：Ａ、１，１，３，４．６−ベンタメチルー３−（３゜５
−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−インダン−５
−オール／２．２−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）−フロパンコポリカーボネートモル
比７／９３　（ＰＣ−ＪＰ）、連鎖制限剤としてｐ−イ
ンオクチルフェノールを共重合、？ｔｅｌ−１，２４０
（塩化メチレン中２５°Ｃにおいて測定、Ｃ＝５Ｉ／Ｊ
２）。

Ｂ、１，１，３，４．６−ベンタメチルー３−（３゜５
−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−インダン−５
−オール／ビス−（３，５−ジ・メチル−４−ヒドロキ
ンフェニル）−メタンコポリカーボネートモル比７／９
３　（ＰＣ−ＴＭ）　、連鎖制限剤としてｐ−インオク
チルフェノールを共重合、ｖｒｅｌ”　１．２３６　（
塩化メチレン中で２５°Ｃにおいて測定、Ｃ＝５＆＃）
。

Ｃ，１，１，３，４，６−ベンタメチルー３−（３゜５
−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−インダン−５
−オール／２，２−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）−ブタンコポリカーボネートモル比
７／９３　（ＰＣ−Ｉ　Ｂ）　、連鎖制限剤としてｐ−
インオクチルフェノールを共重合、ｖｒｅｌ＝　１．２
２９　（塩化メチレン中２５°Ｃにおいて測定、Ｃ＝５
，９／λ）。

Ｄ、２．２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロ
パンポリカーポ不−１−（Ｐ（、−Ａ）　、連鎖制限剤
としてｐ−ｔ−ブチルフェノールを共重合、ηｒｅｌ−
１−２３２（塩化メチレン中２５℃において測定、Ｃ−
５２／ｌ）。

Ｅ、スチレン−アクリロニトリル共重合体、重量で９４
／６部（ＳＡＮ−６）　、Ｍｗ＝１５５，０００（ゲル
浸透クロマトグラフィーによって測定）。

Ｆ、スチレン／アクリロニトリル／マレイン酸無水物共
重合体、重量で９４／３／３部（ＳＡＭＡ３−３）　、
Ｍｗ＝１７５．ＯＯＯ（ゲル浸透クロマトグラフィーに
よって測定）。

Ｇ、スチレン／マレイン酸無水物共重合体、重量で９５
１５部（ＳＭＡ　５）　、Ｍｗ＝　１９５　、ＯＯＯ（
ゲル浸透クロマトグラフィーによって測定）。

Ｈ，スチレン／マレイン酸無水物共重合体、重量で９１
／９部（ＳＭＡ　９）　、ＭＷ　＝　２５０．０００（
ゲル浸透クロマトグラフィーによって測定）。

Ｊ、スチレン／メタクリル酸メチル共重合体、重量で７
５／２５部（３ＭＭ２５）　、Ｍｗ−２２０゜０００（
’７’ル浸透クロマトグラフィーによって測定）。

第１表中に示すように、上記の重合体を、ポリカーボネ
ートのスチレン重合体に対する６０：４０の比において
、２８０°Ｃで溶融混合した。次いで重合体混合物を３
２０℃の溶融物温度で直径１２ａｍ、厚さＯ，１２ｃｍ
のコンパクトディスクとして押出した。次いでコンパク
トディスクを透明性について目視により調べ、また複屈
折について測定した。複屈折はディスクの中心から異な
る距離で且つまたディスクに対して三つの方向（軸方向
、接線方向、放射方向）で測定した。表中に示した結果
は、本発明によるディスクのきわめて低く且つ均一な複
屈折を示しているのに対して、比較のディスクは、かな
り高く且つ均一性の低い複屈折値を示した。

表中に示した結果は比較ディスクと異なって、本発明の
ディスクが明らかに透明であることをも示している。

実施例６〜１７第２表は実施例１〜５の重合体の混合物（実施例６〜］
０）及び出発成分（実施例１１〜１７）の弾性率を示し
ている。混合物は出発成分の混合比及びそれらの弾性率
から計算することができる値よりも高い弾性率を有する
ことが明らかである。

本計算値２７６０ＭＰａ

Claims

【特許請求の範囲】ａ）重量で５〜９５％の、その中の線状連鎖が０．１モ
ル％〜５０モル％の式（１） ▲数式、化学式、表等があります▼（１）に相当する二官能性構造単位及び９９．９モル％乃至５
０％モル％の式（２） ▲数式、化学式、表等があります▼（２）式中で−Ｏ−Ｄ−Ｏ−は式（１）中のものとは異なるジフェノラート残基である、に相当する他の二官能性構造単位を含有する、芳香族ポ
リカーボネート、ｂ）重量で９５〜５％の熱可塑性スチレン重合体、及び
任意的にｃ）通常の量の標準的な添加剤成分ａ）＋ｂ）の合計は重量で１００％に等しく且つ添加剤ｃ）の量は重量で１００％の成分ａ）
＋ｂ）の合計に基づいている、から成る混合物の光学的記憶媒体のための基層としての
使用。