JP2512558B2 - 燃可塑性ポリカ―ボネ―トとスチレンおよび（メタ）アクリル酸エステルの共重合体との混合物の光学的デ―タ記憶用サブストレ―トとしての利用 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は （ａ）少くとも50重量％、好ましくは少なくとも75重量
％、好ましくは少なくとも90重量％、もつとも好ましく
は100重量％が次の一般式（１） 式中Ｘは単結合、C₁〜C₆アルキレン、C₂〜C₆アルキリ
デン、C₅もしくはC₆シクロアルキリデンまたはC₅もしく
はC₆シクロアルキレン、好ましくはメチレン、ブチリデ
ンまたはイソプロピリデンおよびもつとも好ましくはイ
ソプロピリデンを表わす、 に対応するくり返し構造単位からなり、かつ多くても50
重量％、好ましくは多くても25重量％、より好ましくは
多くても10重量％、もつとも好ましくは０重量％が次の
一般式（２） 式中−Ｒ−は核がアルキルまたはハロゲンによつて置換
されていてもよく、好ましくは６〜36個の炭素原子を含
むアリーレン部分を表わし、もつとも好ましくは次の一
般式（３） に対応する部分であり、式中Ｘは一般式（１）と関連し
て定義されたものであり、また またはアリールアルキリデンを表わしてもよく、ＴはC₁
〜C₄アルキル、ClまたはBnを表わし、ｎは0.1または２
を表わす、 に対応するくり返し構造単位からなる熱可塑性芳香族ポ
リカーボネート10〜90重量％、好ましくは20〜80重量
％、より好ましくは30〜70重量％、もつとも好ましくは
40〜65重量％、および （ｂ）スチレンとその誘導体から選ばれた少なくとも１
種の化合物熱可塑性共重合体の重量に対して99〜50重量
％および少なくとも１種の（メタ）アクリル酸エステル
１〜50重量％、好ましくは３〜40重量％、より好ましく
は７〜35重量％、もつとも好ましくは10〜30重量％から
なる熱可塑性共重合体90〜10重量％、好ましくは80〜20
重量％、より好ましくは70〜30重量％、もつとも好まし
くは60〜35重量％ からなる混合物の光学的データ記憶用サブストレートと
しての利用に関する。

（本目的に対して、「（メタ）アクリル酸エステル」
は「メタクリル酸エステルおよび／またはアクリル酸エ
ステル」の便宜的な短縮形である。） アリールアルキリデン基の例には が含まれる。

本混合物は高い剛性、低い複屈折、とくにその光学的
な均一性のため光学的データ記憶用のすぐれたサブスト
レートであり、そのためそのような混合物はデイスク表
面に対して軸方向、接線方向および半径方向にとくに低
い複屈折を有する光学的に均一に成形体（たとえばコン
パクトデイスク）の製造に適する。録音再生装置の読み
出し光学系用の全射出成形体にわたる複屈折の均一性の
重要性が強調されねばならない。

複屈折の減少ばかりでなく、補償が起こるタイプの混
合物の釣り合つた組成は、溶融物の種々の流動過程のた
めに成形体の形に依存するかもしれない。

光学的データキヤリヤー上の情報はレーザーの直線偏
光を用いて読まれ、そしてまたデータが記録可能な場合
には書き込まれる。記録および消去過程のための系の１
つは磁気光学的データ貯蔵である。光の振動面のわずか
な回転（１゜以下）でさえシグナルとして読まれるの
で、個々の値がここで複屈折のないサブストレート材料
上に置かれねばならない。

複屈折はプラスチツク（熱可塑性）において２つの因
子のためである。一方では物質に特有の成分、そして他
方では加工によつて支配される成分、その成分はまた配
向複屈折と呼ばれる。低複屈折、熱可塑性成形体はした
がつて理論的には２つの方法、 （ａ） 適当なプロセスパラメーターを選ぶことによつ
て、たとえば熱可塑ポリカーボネートから作られるオー
デイオ用コンパクトデイスクの射出成形または射出プレ
スするときには、低粘度形を比較的高温で加工すること
によつて、 あるいは （ｂ） たとえばビデオデイスクの製造に対して用いら
れるポリメタクリル酸メチルのようなそれ自体複屈折に
対するわずかな傾向しか示さない材料を用いることによ
つて、 作ることができる。

しかしながら、（ａ）は、射出成形条件下では、この
目的のために必要であるポリマー鎖の配向の完全な欠如
が達成できないので理論的な興味にすぎない。

低複屈折熱可塑性プラスチツクを用いるケース（ｂ）
は低い含水率（0.3％以下）とある程度の熱寸法安定性
（80℃以上）に対する同時の要求によつてさらにかなり
制限される。

たとえば磁気光学系のような記録可能な記憶装置は許
容できるジクナル／ノイズ比を達成するために記録する
ときに比較的高いエネルギーを必要とする。そのため比
較的大きな開口数を有する光学系が用いられる。記録お
よび読み出し光学系の開口角に依存して、接線および半
径方向の光路に対してさえもできるだけ低い光学的異方
性をもつことが非常に重要である。それゆえ、すでに軸
方向に複屈折のため比較的低い光路差（20nm/mm）を有
するポリカーボネートから作られたコンパクトデイスク
はそれでもなお接線方向と半径方向に高い値、典形的に
は500〜1000nm/mmを示す。開口数の大きさに依存して、
接線方向および半径方向の複屈折値は多少軸方向の複屈
折に加わる。

わずかな複屈折のどのような打ち消しでもより容易に
行うことができるように、複屈折値が全コンパクトデイ
スクにわたつて比較的低い変動値を有することもまた必
要である。

反対の複屈折のポリマーを加えることによつてポリマ
ーの複屈折を減少させる一般的な可能性は公知である
（J.ヘニツヒ（Hennig）、コンフアレンス「新しいポリ
マー（Novel Polymers）」、バード・ナウハイム（Bad
Nanheim）、1986年４月14〜15日の講演、「光学デイス
ク記憶用サブストレートとしてのポリマー（Polymers a
s substrates for optical disc storage）」）。

複屈折のないプラスチツクはドイツ特許出願公開第33
27929号（Le A22015）から公知である。これらの性質
は、それぞれ表面への法線に対して垂直な光軸を90゜の
角で有する、平行にかさなつて配列している少なくとも
２つの面を有するプラスチツク構造によつて達成され、
光路差の合計は全体として事実上ゼロである。フイルム
は好ましくは、複屈折の打ち消しが起こるように互いに
結合されている（ドイツ特許出願公開の６頁のパラグラ
フ２および３）。

適当なプラスチツクはたとえばポリアリーレンスルホ
ン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニルまたはポリウレタン
である。たとえばスチレン−アクリロニトリル共重合
体、ポリメチルペンテン、ポリカーボネート、ポリアク
リラート、ポリメタクリラート、セルロースエステルの
ようにすぐれた光学的性質を有するポリマーまたは上記
のポリマーを含む混合物および共重合体を用いるのが好
ましい。ポリカーボネートまたは少なくとも10重量％の
ポリカーボネートを含むプラスチツクの混合物を用いる
のがもつとも好ましい。適当なポリカーボネートはま
た、たとえばテトラメチルビスフエノールＡのようにア
ルキル化された核を有するジフエノールにもとづいたも
のである。

テトラメチルビスフエノールポリカーボネートとスチ
レンおよび（メタ）アクリル酸エステルの共重合体との
混合物は公知である（たとえばドイツ特許第2329585号
（Le A15024）およびK.E.ミン（Min）およびD.R.ポール
（Paul）、「ACSシンポジウム、ニユー・オリンズ（New
Orleans）、1987年参照）。しかしそのようなブレンド
の光学的データ記憶用サブストレートとしての可能な利
用の開示はない。

日本特許出願昭61−19656号は光学的な器機に対する
原材料としてすすめられるポリカーボネートとスチレン
樹脂共重合体の混合物を開示している。ポリカーボネー
トは多数のものがあげられているビスフエノールから合
成され、これらにはまた2,2−ビス−（3,5−ジメチル−
４−ヒドロキシフエニル）−プロパンが含まれる。しか
しながら、ビスフエノールＡポリカーボネートだけが実
施例に用いられている。

用いられるスチレン樹脂共重合体はスチレンと不飽和
モノ−およびジカルボン酸およびそれらの誘導体から選
ばれた１種、２種またはそれ以上の代表的なものとにも
とづくものである。これらの不飽和モノ−およびジカル
ボン酸およびそれらの誘導体はスチレン樹脂と１〜30重
量％の量が重合する。

上記のモノカルボン酸はアクリル酸およびメタクリル
酸であり、上記のその誘導体はアクリルアミドおよびメ
タクリルアミドであり、アクリル酸エステル、メタクリ
ル酸エステル、アクリロニトリルおよびメタクリロニト
リルではない。

さらに日本特許昭61−19656号は、アクリル酸、メタ
クリル酸、アクリルアミドおよびメタクリルアミドに加
えて、さらにたとえばアクリロニトリル、メタクリロニ
トリル、メタクリル酸メチル、アクリル酸メチル、酢酸
ビニルなどのようにスチレン樹脂と共重合した不飽和化
合物もまた10重量％以下の割合でスチレン樹脂と重合さ
せてもよいと述べている。

日本特許昭61−19656号により、アクリロニトリル、
メタクリロニトリルおよび、たとえばメタクリル酸メチ
ルおよびアクリル酸メチルのようなアクリル酸エステル
およびメタクリル酸エステルは、したがつて、上記の不
飽和モノ−およびジカルボン酸およびそれらの誘導体に
加えて、スチレン樹脂中の第３成分としてのみ含むこと
ができる。

ここに、一方ではある種のポリカーボネートを選び、
他方では特定のスチレン共重合体を選ぶことにより、光
学的な性質に関して最適の結果を有する混合物が得られ
ることが示された。

ドイツ特許出願公開第3,635,825号（Le A24584）か
ら、芳香族ポリカーボネートとポリスチレンとの混合物
およびそれらの光学的データ記憶への利用は公知であ
る。

光学的利用のための材料はヨーロツパ特許第0199824
号から公知であり、それらはポリカーボネートとポリス
チレンまたはポリアクリル酸アルキルまたはポリメタク
リル酸アルキルとの混合物からなつてよい（ヨーロツパ
特許第189,824号の８頁）。メタクリル酸メチル−スチ
レン共重合体のグラフト共重合体もまた用いることがで
きる（ヨーロツパ特許第0,199,824号）。スチレン−無
水マレイン酸共重合体（実施例２）、メタクリル酸メチ
ル、スチレンおよびＮ−ブチルマレイミドの共重合体
（実施例３）およびメタクリル酸メチルとスチレンのメ
タクリル酸グリシジル−スチレン−メタクリル酸メチル
オリゴマーへのグラフトポリマー（実施例４）が実施例
で用いられる。しかしながら、スチレン−無水マレイン
酸共重合体のみ（比較例２）およびメタクリル酸メチル
−スチレン共重合体のみ（比較例３および４）の両者が
光学材料として不適当であることは比較例２、３および
４からみることができる。実施例２はまたポリカーボネ
ートとの混合物において第３の成分が必要である。テト
ラメチルビスフエノール−ポリカーボネートはヨーロツ
パ特許第0,199,824号にはあげられていない。

用いるべき成形用材料の単一相性が、次の例が示すよ
うに、対応する射出注型成形体の実質的な光学的均一性
のための必要な条件ではあるが適当な条件とはみなすべ
きではない。テトラメチルビスフエノールＡとビスフエ
ノールＡのポリカーボネートの均一な単一相ブレンドは
もちろん比較的高い複屈折レベルにおいて全成形体にわ
たつて複屈折の大きな変動を示す（実施例３）。

成分（ａ）として用いるべきポリカーボネートは公知
であるか、公知の方法によつて合成することができる。

次の一般式（４） 式中Ｘは一般式（１）に関連して定義されたものと同じ
である、 に対応するジフエノールには、たとえば ビス−（3,5−ジメチル−４−ヒドロキシフエニル） ビス−（3,5−ジメチル−４−ヒドロキシフエニル）−
メタン 2,2−（3,5−ジメチル−４−ヒドロキシフエニル）−プ
ロパン 2,2−（3,5−ジメチル−４−ヒドロキシフエニル）−ブ
タン 2,4−（3,5−ジメチル−４−ヒドロキシフエニル）−２
−メチルブタン 1,1−（3,5−ジメチル−４−ヒドロキシフエニル）−シ
クロヘキサン が含まれ、一般式（１）の構造単位に対する基本であ
る。

これらのビスフエノールのなかで、次のものが好まし
い。

ビス−（3,5−ジメチル−４−ヒドロキシフエニル）−
メタン 2,2−（3,5−ジメチル−４−ヒドロキシフエニル）−プ
ロパン 2,2−（3,5−ジメチル−４−ヒドロキシフエニル）−ブ
タン 2,2−ビス−（3,5−ジメチル−４−ヒドロキシフエニ
ル）−プロパンがとくに好ましい。

一般式（４）に対応するものからはなれて、ほかのジ
フエノールは一般式（２）に対応する二官能性構造単位
に対する基本となることができる。

式（５）HO−Ｒ−OHに対応するほかの適当なジフエノ
ールはヒドロキノン、レゾルシノール、ジヒドロキシジ
フエニル、 ビス−（ヒドロキシフエニル）−アルカン ビス−（ヒドロキシフエニル）−シクロアルカン ビス−（ヒドロキシフエニル）−スルフイド ビス−（ヒドロキシフエニル）−エーテル ビス−（ヒドロキシフエニル）−ケトン ビス−（ヒドロキシフエニル）−スルホキシド ビス−（ヒドロキシフエニル）−スルホン およびα，α′−ビス−（ヒドロキシフエニル）−ジ
イソプロピルベンゼンおよび対応する置換化合物。

ジフエノール（４）および（５）は公知であるか公知
の方法によつて合成することができる。（これに対し
て、たとえばヘルマン・シユネル（Hermann Schnel
l）、「ポリカーボネートの化学と物理（Chemistry and
Physics of Polycarbonates）」、ポリマーレビユー、
第９巻、インターサイエンス・パブリツシヤーズ（Inte
rscience Publishers）、ニユーヨーク、1964年；報告
V.セリニ（Serini）、D.フライターク（Freitag）、H.
フエルナレケン（Vernaleken）、「0,0,0′,0′−テト
ラメチル置換ビスフエノールからのポリカーボネート
（Polycarbonate aus0,0,0′,0′−tetramethyl−subst
ituierten Bisphenolen）」、アンゲバンテ・マクロモ
レキユラーレ・ヘミー（Angew.Makrom.Chem.）、55巻、
（1976年）、175−189頁、ならびにドイツ特許出願公開
第2,063,050号、第2,211,957号、第2,248,817号および
第2,615,038号を参照）。

適当なジフエノール（５）の例には ビス−（４−ヒドロキシフエニル）−メタン 2,2−ビス−（４−ヒドロキシフエニル）−プロパン 2,2−ビス−（４−ヒドロキシフエニル）−スルフイド 2,2−ビス−（４−ヒドロキシフエニル）−スルホン 1,1−ビス−（４−ヒドロキシフエニル）−シクロヘキ
サン 1,1−ビス−（４−ヒドロキシフエニル）−１−フエニ
ルエタン α，α′−ビス−（４−ヒドロキシフエニル）−ｐ−ジ
イソプロピルベンゼン 2,2−ビス−（３−メチル−４−ヒドロキシフエニル）
−プロパン 2,2−ビス−（3,5−ジクロロ−４−ヒドロキシフエニ
ル）−プロパン 2,2−ビス−（3,5−ジブロモ−４−ヒドロキシフエニ
ル）−プロパン が含まれる。

2,2−ビス−（４−ヒドロキシフエニル）−プロパン
がとくに好ましいジフエノール（５）である。

本発明によつて用いることができるポリカーボネート
の分子量を調節するために、連鎖停止剤を用いてもよ
い。このタイプの連鎖停止剤は何度も文献に記載されて
いる。それらはたとえばアミン、フエノール、カルボン
酸およびそれらの誘導体のように、ビスフエノールまた
は炭酸誘導体と反応することができる一官能性化合物で
ある。好ましいフエノールはたとえばフエノール、ｏ−
クレゾール、2,6−ジメチルフエノール、ｐ−ｔ−ブチ
ルフエノールおよびとくに式 式中Ｒは８または９個の炭素原子を有する枝分れアルキ
ル基を表わす、 に対応するフエノールであり、ここで およびとくに式 に対応するフエノールが好ましい。ｐ−イソオクチルフ
エノール がとくに好ましい。

本発明によつて用いることができるポリカーボネート
の分子量は広い範囲内で変えることができる。とくに適
当なポリカーボネートは6,000〜125,000、好ましくは1
2,000〜60,000、より好ましくは17,000〜43,000、もつ
とも好ましくは21,000〜31,000の分子量ｗを有する。

本発明によつて用いることができるポリカーボネート
は少量の、好ましくは0.05〜2.0モル％（用いるジフエ
ノールに対して）の少なくとも三官能性化合物、とくに
三もしくはそれ以上のフエノール性水酸基を有するもの
を組み込むことによつて枝分れさせてもよい。このタイ
プのポリカーボネートは公知である。

用いることができる３個もしくはそれ以上のフエノー
ル性水酸基を有するそのような化合物の例には フロログルシノール 4,6−ジメチル−2,4,6−トリ−（４−ヒドロキシフエニ
ル）−ヘプテン−2,4,6−ジメチル−2,4,6−トリ−（４
−ヒドロキシフエニル）−ヘプタン 1,3,5−トリ−（４−ヒドロキシフエニル）−ベンゼン 1,1,1−トリ−（４−ヒドロキシフエニル）−エタン トリ−（４−ヒドロキシフエニル）−フエニル−メタン 2,2−ビス−［4,4−ビス−（４−ヒドロキシフエニル）
−シクロヘキシル］−プロパン 2,4−ビス−（４−ヒドロキシフエニルイソプロピル）
−フエノール 2,6−ビス−（２−ヒドロキシ−５′−メチルベンジ
ル）−４−メチルフエノール ２−（４−ヒドロキシフエニル）−２−（2,4−ジヒド
ロキシフエニル）−プロパン ヘキサ−［４−（４−ヒドロキシフエニルイソプロピ
ル）−フエニル］オルト−テレフタラート テトラ−（４−ヒドロキシフエニル）−メタン テトラ−［４−（４−ヒドロキシフエニルイソプロピ
ル）−フェノキシ］−メタン 1,4−ビス−［４′,4″−ジヒドロキシトリフエニル）
−メチル］−ベンゼン が含まれる。ほかの適当な三官能性化合物は2,4−ジヒ
ドロキシ安息香酸、トリメシン酸、塩化ジアヌール、3,
3−ビス−（４−ヒドロキシフエニル）−２−オキソ−
2,3−ジヒドロインドールおよび3,3−ビス−（３−メチ
ル−４−ヒドロキシフエニル）−２−オキソ−2,3−ジ
ヒドロインドールである。

成分（ａ）に対して本発明によつて用いるべきポリカ
ーボネートは、各々の場合にポリカーボネート中の酸エ
ステルのモル数の合計に対して 好ましくは より好ましくは の量のほかのジカルボン酸部分を炭酸根のかわりに含ん
でよい。

これらのほかのジカルボン酸部分は脂肪族および／ま
たは芳香族ジカルボン酸、好ましくは芳香族ジカルボン
酸から作られてよい。適当な芳香族ジカルボン酸の例は
イソフタル酸およびテレフタル酸およびそれらの混合物
である。

成分（ａ）に対して本発明によつて用いるべきポリカ
ーボネートはまたポリカーボネート中の酸根のモル数の
合計に対して の量のｐ−ヒドロキシ安息香酸部分を含んでよい。

スチレンおよびその誘導体が成分（ｂ）に対して本発
明によつて用いるべきスチレン共重合体の基本であつて
よく、１種またはそれ以上のスチレン化合物を各々の場
合に用いてよい。スチレンおよびその誘導体の例にはス
チレン、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、3,
4−ジメチルスチレン、ｏ−ジビニルベンゼンおよびｐ
−ジビニルベンゼン、α−クロロスチレン、ｐ−クロロ
スチレン、2,4−ジクロロスチレンおよびｐ−クロロ−
α−メチルスチレンが含まれる。スチレン、α−メチル
スチレンおよびｐ−メチルスチレンが好ましく、スチレ
ン自身がとくに好ましい。

アクリル酸エステルおよびメタクリル酸エステルから
選ばれた少なくとも１種のコモノマーを用いる。このタ
イプのコモノマーはたとえばアクリル酸メチル、アクリ
ル酸エチル、アクリル酸ｎ−プロピルおよびイソプロピ
ル、アクリル酸ｎ−ブチルおよびイソブチル、アクリル
酸２−エチルヘキシル、メタルリル酸メチル、メタクリ
ル酸エチル、メタクリル酸ｎ−ブチルおよびイソブチ
ル、メタクリル酸シクロヘキシルおよびメタクリル酸イ
ソボルニルである。アクリル酸メチルおよびメタクリル
酸メチルを用いるのが好ましく、メタクリル酸メチルが
とくに好ましい。

好ましいスチレンポリマーはスチレン−メタクリル酸
メチル共重合体およびスチレン−アクリル酸メチル共重
合体である。スチレン−メタクリル酸メチル共重合体お
よびスチレン−アクリル酸メチル共重合体がとくに好ま
しい。

熱可塑性スチレンポリマーはラジカル重合の公知の方
法によつて、たとえばバルク重合、溶液重合および乳化
重合によつて、またはたとえば溶液、沈殿またはバルク
懸濁法のような組み合せ法によつて合成してもよい。し
かしながら、ほかの公知の方法、たとえばイオン重合法
および有機金属混合触媒を用いる方法（チーグラー−ナ
ツタ法）がスチレンポリマーの合成に用いられてもよ
い。

本発明によつて用いることができるスチレンポリマー
の分子量は広い範囲内で変えることができる。5,000〜
5,000,000の分子量ｗが好ましく、20,000〜200,000が
とくに好ましい。

本発明によつて用いることができる熱可塑性スチレン
ポリマーは線状であつても枝分れしてもよい。枝分れは
枝分れた化合物、たとえばジビニルベンゼンを枝分れし
た化合物として加えることによつて、あるいはまた異な
つた方法で枝分れ点を形成させるこによつて、たとえば
重合中のラジカルグラフト反応によつて行なつてもよ
い。

少なくとも２種の異なつたポリカーボネートの混合物
もまた、混合物がポリカーボネートに対して記された要
求を充たすと仮定して、成分（ａ）として本発明により
使用するためのポリカーボネートであると理解すべきで
ある。

したがって個々の混合物のポリカーボネートのうちの
少なくとも１種は、混合物が全体として示された組成に
対応すると仮定して、本発明によつて用いるべきポリカ
ーボネートに対してあげられた組成とは異なつてもよ
い。もしも少なくとも２種のポリカーボネートを用いる
ならば、それらはスチレンポリマーへの添加の前に、あ
るいはスチレンポリマーと同時に、たとえば溶融物上に
混合してもよい。

少なくとも２種の異なつたスチレンポリマーの混合物
もまた成分（ｂ）として本発明によつて使用するための
スチレン共重合体であると理解すべきである。ポリカー
ボネートの混合物に対して上に述べたことが各々の混合
物に対して同じ意味であてはまる。

さらに通常の添加剤（ｃ）を本発明によつて用いるべ
き成分（ａ）および（ｂ）の混合物に加えてもよい。

本目的に対する通常の添加剤（ｃ）はヨーロツパ特許
第0,199,824号の教えるところにより相溶性促進剤を含
まない。どちらかといえばそれらはとくに本発明によつ
て用いるべきプラスチツク混合物の成分（ａ）および
（ｂ）に対する熱、UV光および水分に対する安定剤であ
る。さらに、成分（ａ）および（ｂ）のプラスチツク混
合物の光学的性質に影響を及ぼさないと仮定して、難燃
剤、滑剤および離型剤、そしてさらに加工助剤をあげる
ことができる。

したがつて、本発明はまた成分（ａ）、（ｂ）および
（ｃ）通常の量の通常の添加剤からなる混合物の光学的
データ記憶用サブストレートとしての利用に関する。成
分（ａ）と（ｂ）の合計は各々の場合に100重量％であ
り、添加剤（ｃ）の量は各々の場合に成分（ａ）と
（ｂ）の合計の100％に対するものである。

添加剤の通常の量は熱可塑性ポリカーボネートに対し
て、または熱可塑性スチレン−（メタ）アクリル酸エス
テル共重合体に対して通常であるものである。

成分（ａ）および（ｂ）、そして適宜（ｃ）から本発
明によつて用いるべき成形用材料の製造は有機溶媒また
は溶媒混合物中のその溶液から、続く溶媒の、たとえば
蒸発混和機または蒸発押出機での蒸発によつて行つても
よい。しかしながら、溶融体から直接、たとえば混和ロ
ール、混和機または押出機で行つてもよい。溶融状態で
の出発成分の混合は一般に180〜450℃、好ましくは220
〜400℃、より好ましくは260〜360℃、もつとも好まし
くは280〜340℃で行つてよい。

添加剤（ｃ）混入はまた適宜成分（ａ）＋（ｂ）の混
合に続いて行なつてもよい。

しかしながら、添加剤を含んでいる成分（ａ）および
（ｂ）が用いられてもよく、したがつて成分（ａ）およ
び／または（ｂ）添加剤との事前の混合を行つてもよ
い。

成分（ａ）、（ｂ）および適宜（ｃ）の熱可塑性成形
用材料の溶融加工は好ましくは260〜360℃、より好まし
くは290〜340℃において行う。

フイルムを作るために加工するとき、溶液キヤスト
法、続く溶媒の蒸発もまた溶融押出に加えて用いてもよ
い。

本発明によつて用いるべき混合物は好ましくは10〜80
重量％、より好ましくは25〜55重量％、もつとも好まし
くは25〜55重量％のスチレン部分（共重合体のスチレン
部分として）を含んでいる。

もちろん、そのすぐれた相溶性のため、本発明によつ
て用いるべき混合物は、とくに光学的記憶媒体の分野に
おいて、それらを光学的応用に適するようにする工業的
に価値ある性質を有する。

このタイプの光学的記憶媒体は、たとえば読み出しの
み可能光学的記憶（Optecal Read Only Memory、ORO
M）、１回のみ書き込み可能光学的記憶（Write Only Re
ad Mostly、WORM）および消去および再記録可能光学的
記憶、適宜数回（Erasable Optical Disk、EOD）であ
る。OROM記憶の公知の応用は長時間ビデオ（Video Long
Play）（VLP）、オーデイオ用コンパクトデイスク（C
D）、CD読み出しのみ記憶（CD−ROM）、CD相互作用（CD
−Ｉ）である。EOD記憶媒体は種々の機構、それゆえた
とえば可逆性相変化（Phase Change、PC）、可逆的色変
化（Colour Change、CC）および可逆的磁化（Magnetic
Optical Recording、MOR）を利用する。

光学的記憶は次の参照文献で説明される。J.ヘニング
（Henning）、「光学デイスク記憶用プラスチツク（Pla
stics for optical disc storage）」、クンストストツ
フエ（Kunststoffe）、75巻（1985年）、７号、425−43
0頁、W.シーボーグ（Siebourg）、「ポリカーボネート
−光学的記憶媒体用材料（Polycarbonate−a material
for optical storage media）」、クンストストツフ
エ、76巻（1986年）、10号、917〜919頁、エゴン・シユ
ミツト（Egon Schmidt）、「単一の磁気光学的記憶（A
single magnetooptical memory）」、フランクフルター
・アルゲマイネ・ニユースペーパー（Frankfurter Allg
emeine Newspaper）、1987年６月３日、科学と技術の特
別記事。

光学的なデータ記憶は一般にポリマーベースのデイス
クまたはポリマーベースのフイルム（適宜複合フイル
ム）からなり、その上に情報の層が記録される。光線、
たとえばレーザービームの助けをかりて、情報はそのよ
うなデータ記録から呼び出し、そのようなデータ記録上
に書き込み、そしてまたそのようなデータ記録を消去さ
れる。このプロセスにおいて、光線はポリマーデイスク
またはポリマーフイルムを通過する。わずかなポリマー
だけが情報をのせているデータ記憶デイスクまたはデー
タ記憶フイルムのベースデイスクまたはベースフイルム
としての使用に適する。そしてこれらは、それらがすべ
ての必要な性質を持たないのがゆえに制限される。

光学的記憶媒体用のベースデイスクまたはベースフイ
ルムの製造に対して今日までに用いられたポリマーはポ
リメタクリル酸メチルおよび2,2−ビス−（４−ヒドロ
キシフエニル）−プロパン（ビスフエノールＡ）から作
られたポリカーボネートである。すでに述べたように、
光学的応用に対するプラスチツク混合物の利用はまた日
本特許出願昭61−19656号およびヨーロツパ特許出願第
0,199,824号に記載されている。

したがつて、成分（ａ）および（ｂ）および適宜
（ｃ）の混合物の本発明による利用は、これらの混合物
が 1.高い熱的寸法安定性 2.高い溶融物の流動性 3.すぐれた表面の性質 4.加工の間の高い像の精度 5.高い光沢 6.すぐれた金属への接着 7.高い透明性 8.すぐれた熱安定性 9.離型の容易さ 10.デイスクの低い複屈折 11.デイスク内での複屈折の高い均一性 12.すぐれた機械的性質 13.ミクロクラツクを形成する低い傾向 14.低い吸水性 15.低いゆがみの傾向 によつて特徴ずけられる非常に有利な多くの性質を有す
るので有利である。

上記の個々の特性そしてまたとくにこれらの望ましい
性質の組み合せの両方が本成形用材料を従来入出できな
かつた光学的データ記憶用ベース材料にする。

とくに注目に値するすぐれた機械的性質は組成と個々
の成分の弾性率から計算できる値よりもかなり高い、本
ポリマー混合物の驚くべき高さの弾性率である。この高
い弾性率、低い吸水性、低い複屈折およびその全デイス
クにわたつての均一性の結果として、本ポリマー混合物
から14cm以上、好ましくは20cm以上、より好ましくは25
cm以上の直径を有する高品質の光学的記憶デイスクを製
造することが可能である。このタイプのデイスク記憶系
は、たとえば塗布された金属記憶層を有し、スペーサー
によつて分離されている２枚のデイスクからなる30cmデ
イスク系であり、これらの層のキヤリヤーサブストレー
トは少なくとも3000N/mmの弾性率を持たねばならない。

本発明によつて用いることができるポリマーの組み合
せが、とくにコンパクトデイスクの製造において普通で
ある高い加工温度において変色に対する低い傾向を有す
るという事実はまた特記すべきである。

本成形用材料はとくに読み出しのみ可能記憶（OROM）
に、しかしながらもつとも著しくは１回のみ書き込み可
能光学的記憶（WORM）およびとくに消去および再記録可
能記憶（EOD）に対して適する。

実施例１−６ 本発明によるポリカーボネートとスチレンポリマーと
の混合物、その複屈折挙動と剛性 用いたポリマー A.2,2−ビス−（3,5−ジメチル−４−ヒドロキシフエニ
ル）−プロパンポリカーボネート（MPC）、連鎖停止剤
として重合したｐ−イソオクチルフエノール、η_rel＝
1.202（塩化メチレン中、25℃においてＣ＝5g/で測
定） B.2,2−ビス−（3,5−ジメチル−４−ヒドロキシフエニ
ル）−メタン/2,2−ビス−（3,5−ジメチル−４−ヒド
ロキシフエニル）−プロパンコポリカーボネート75/25
モル比（EPC75）、連鎖停止剤として重合した）ｐ−イ
ソオクチルフエノール、η_rel＝1.210（塩化メチレン
中、25℃においてＣ＝5g/で測定） C.2,2−ビス−（3,5−ジメチル−４−ヒドロキシフエニ
ル）−ブタンポリカーボネート（BPC）、連鎖停止剤と
して重合したｏ−イソオクチルフエノール、η_rel＝1.1
98塩化メチレン中、25℃においてＣ＝5g/で測定） D.2,2−ビス−（４−ヒドロキシフエニル）−プロパン
ポリカーボネート（PC）、連鎖停止剤として重合したｐ
−ｔ−ブチルフエノール、η_rel＝1.205（塩化メチレン
中、25℃においてＣ＝5g/で測定） E.スチレン−メタクリル酸メチル共重合体80/20重量部
（SMM20）、ｗ＝45,000（ゲルパーミエーシヨンクロ
マトグラフイーによつて測定）。

F.スチレン−無水マレイン酸共重合体91/9重量部（SMA
9）、ｗ＝120,000（ゲルパーミエーシヨンクロマトグ
ラフイーによつて測定） G.スチレン−アクリロニトリル共重合体90/10重量部（S
AN10）、ｗ＝60,000（ゲルパーミエーシヨンクロマト
グラフイーによつて測定） 上記のポリマーのいくつかを下の表から見られるよう
に、280℃の溶融状態で与えられたポリカーボネート／
スチレンポリマー比で混和した。次にポリマー混合物は
バルク温度320℃で射出し、直径12cmで厚さ0.12cmのコ
ンパクトデイスクを与えた。これらのコンパクトデイス
クは透明性を肉眼によつて検査し、複屈折を測定した。
複屈折の測定の間、測定はデイスクの中心から異なつた
距離で行い、それに加えて測定はデイスクに対して３つ
の面（軸方向、切線方向、半径方向）で行つた。

表の結果は本デイスクのすぐれた低くて均一な複屈折
を示すが、対照のデイスクはかなり高く、均一性の劣つ
た複屈折値を生ずる。

ポリマー混合物および出発成分の弾性率を第１表に与
える。それらが出発成分の混合比とその弾性率から計算
されるものよりも高い弾性率を有することを示す。実施
例４の対照混合物は、他方では出発成分の混合比とそれ
らの弾性率から理論的に計算されるものよりも低い弾性
率を示す。

さらに上記のものから作られたポリマーは下の第２表
から見られるように260℃溶融状態で与えられた比で混
合した。次にポリマー混合物は第２表から見られるよう
に異なつた溶融温度で加工し、射出成型で直径12cmで厚
さ0.12cmのコンパクトデイスクを与えた。デイスクの検
査によつて、本発明によるスチレン−メタクリル酸メチ
ル共重合体から製造したコンパクトデイスクは無色であ
るが、本発明によらずスチレン−アクリロニトリル共重
合体から得られたコンパクトデイスクは高い加工温度に
おいて色が安定でないことが見いだされた。

本発明の主なる特徴および態様は以下のとおりであ
る。

1.（ａ）少くとも50重量％が次の一般式（１） 式中Ｘは単結合、C₁〜C₆アルキレン、C₂〜C₆アルキリデ
ン、C₅もしくはC₆シクロアルキリデンまたはC₅もしくは
C₆シクロアルキレンを表わす、 に対応するくり返し構造単位からなり、かつ多くても50
重量％が次の一般式（２） 式中−Ｒ−は、核がアルキルまたはハロゲンによつて置
換されていてもよいアリーレン基を表わす、 に対応するくり返し構造単位からなる熱可塑性芳香族ポ
リカーボネート10〜90重量％、 および （ｂ）スチレンとその誘導体から選ばれた少なくとも１
種の化合物99〜50重量％と少なくとも１種の（メタ）ア
クリル酸エステル１〜50重量％からなる熱可塑性共重合
体90〜10重量％、からなる混合物の光学的データ記憶用
サブストレートとしての利用。

2.成分（ｂ）中の（メタ）アクリル酸エステルの含量が
３〜40重量％であることを特徴とする、上記１に記載の
利用。

3.混合物が成分（ａ）20〜80重量％と成分（ｂ）80〜20
重量％からなることを特徴とする、上記１に記載の利
用。

4.成分（ａ）がくり返し構造単位（１）少なくとも75重
量％とくり返し構造単位（２）多くて25重量％からなる
ことを特徴とする、上記１に記載の利用。

5.ポリカーボネート成分（ａ）の構造単位（２）におい
て、−Ｒ−が６〜36個の炭素原子を含むことを特徴とす
る、上記１に記載の利用。

6.−Ｒ−が次の一般式（３） 式中Ｘは上記１で定義されたものと同じであり、また またはアリールアルキリデンを表わしてもよく、 ＴはC₁〜C₄アルキル、ClまたはBrを表わし、 ｎは0.1または２を表わす、 に対応する部分を表わすことを特徴とする、上記５に記
載の利用。

7.混合物が成分（ａ）および（ｂ）および（ｃ）、通常
の量の通常の添加剤、からなり、成分（ａ）および
（ｂ）の合計が各々の場合に100％であり、添加剤
（ｃ）の量が各々の場合に成分（ａ）および（ｂ）の合
計の100重量％に対するものであることを特徴とする、
上記１に記載の利用。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 レオ・モルビツツアー ドイツ連邦共和国デー5000ケルン・ルン ゲシユトラーセ 50 (72)発明者 クリスチヤン・リンドナー ドイツ連邦共和国デー5000ケルン60・リ ーラーシユトラーセ 200 (72)発明者 カルル‐エルビン・ピージコ ドイツ連邦共和国デー5060ベルギツシ ユ‐グラート バツハ２・ウンターシヤ イダーベーク ７アー

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】（ａ）少くとも50重量％が次の一般式
   （１） 式中Ｘは単結合、C₁〜C₆アルキレン、C₂〜C₆アルキリデ
   ン、C₅もしくはC₆シクロアルキリデンまたはC₅もしくは
   C₆シクロアルキレンを表わす、 に対応するくり返し構造単位からなり、かつ多くても50
   重量％が次の一般式（２） 式中−Ｒ−は、核がアルキルまたはハロゲンによつて置
   換されていてもよいアリーレン基を表わす、 に対応するくり返し構造単位からなる熱過塑性芳香族ポ
   リカーボネート10〜90重量％、 および （ｂ）スチレンとその誘導体から選ばれた少なくとも１
   種の化合物99〜50重量％と少なくとも１種の（メタ）ア
   クリル酸エステル１〜50重量％からなる熱可塑性共重合
   体90〜10重量％、からなる混合物の光学的データ記憶用
   サブストレートとしての利用。