JPS63179301A

JPS63179301A - 光学式情報記録担体

Info

Publication number: JPS63179301A
Application number: JP62009829A
Authority: JP
Inventors: Yoshie Kodera; 小寺　喜衛; Hisashi Nichibe; 日部　恒; Koichi Moriya; 宏一森谷; Masahiko Ozawa; 雅彦小澤
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1987-01-21
Filing date: 1987-01-21
Publication date: 1988-07-23

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、光学的に再生専用あるいは記録・再生可能な
情報記録担体に係り、特に、好適な記録特性を有し、か
つデータ保存性の優れた情報記録媒体の基板を有する光
学式情報記録担体に関する。

〔従来の技術〕

高密度・大容量の情報記録媒体として、集光されたレー
ザ光を用いて情報を書き込んだり、再生したりすること
のできる光ディスクがある。これらのうちの再生専用光
ディスクは、光学的に透明なプラスチック成形品表面に
アルミニウムなどの高反射率薄膜を形成し、その上に保
護膜を被覆して作成されている。一方、書き込み可能な
光ディスクは、光学的に透明なプラスチック成形品表面
に例えば、光学定数がレーザ光による加熱によって、変
化するカルコゲナイド化合物薄膜を形成し、その上に、
保護膜を被覆して得ている。

従来、かかる光ディスクに用いられるプラスチック材料
としては、透明性、射出成形時の流動性を考慮し、「ビ
デオディスクとＤＡＤ入門」岩村総−編著、コロナ社、
第１８６頁に公知のように、再生専用ビデオディスクに
は、ポリメチルメタク！ｊ”−）（ＰＭＭＡ）が使用さ
れ、再生専用コンパクトディスク（以下、ＣＤと略す）
には、ポリマー結合・−ト（ｐｃ）が使用されている。

さらに、書き込み可能光ディスク（以下、ＤＲＡＷと略
す）においても、用達に応じて、ＰＭＭＡ　、ＰＣを用
いている。

このようなディスクは近年急速に成長し、そのユーザー
ニーズも、幅広くなってきた。これに伴って、高温・高
湿下でも長期保存ができ、耐熱性の高いディスクの要望
が高まり、ディスクの基板材料としてこの要望を満すＰ
Ｃ材料への移行がなされつつある。

〔発明が解決しようとする問題点〕

ＰＣ材料の耐熱性は、変形温度が約１４０℃であり、Ｐ
ＭＭＡＫ比べて好ましい材料であるが、高温雰囲気下で
、以下に述べる問題があった。

すなわち、ＰＣ上に形成した、例えば、Ω反射膜（〜１
０００　Ａ　）は、その上に保護膜（有機、もしくは無
機膜）を形成したとしても、高温・高湿下、（例えば、
８０℃、９５％ＲＨ）に長時間放置すると、その金属光
沢が失なわれ、ディスクからの反射光が低下し、信号の
再生が不可能になるという問題点があった。

このように、従来の光ディスクでは、長期的にみた情報
の保存性について、充分な配慮がされていなかった。

本発明の目的は、前述した従来装置の問題点を除去し、
プラスチック材料、ここでは、ＰＣの材料を改質するこ
とＫよって、従来の光ディスクに比べて、データを長期
保存することのできる光ディスクを提供するにある。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明の特徴は、ポリカーボネートに、サリチル酸エス
テルで末端停止されたビスフェノール人ポリカーボネー
トを１０〜４５重量％の範囲で混合して、光ディスクの
メモリ膜担体となる透明な熱可堕性樹脂基板を構成した
点にある。

〔作用〕

上記手段により、ポリカーボネートのカルボニル基密度
が増し、金属−ポリマー結合密度を向上できる。したが
って、金属蒸着膜の金属光沢の消失が効果的に防止され
る。

〔実施例〕

まず、本発明がなされるに至った経緯について説明する
。本発明者等は、種々の検討を行なった結果、Ω反射膜
が金属光沢を失う原因は従来の光ディスクに用いられて
いるポリカーボネート基■ 板、すなわち、被蒸着表面の化学的組成が、重要な役割
を持っているとの結論に達した。これは、吸水率が大き
く、耐熱性に劣るＰＭＭＡにおいては、前述した光沢消
失は、発生しないこと、および、この現象は、２０表面
を物理的処理によって、（例えば、紫外Ｍ照射処理）Ｐ
Ｃ表面Ｋａ！素含有原子団を導入することＫよって、光
沢消失を防止できることから、判断できる。

Ｊ、　Ｍ、　ＢｕｒｋｓｔｒａｎｌはＪ、　Ａ）ｐｉ、
　Ｐｈｙｓｉｏａ　５２　（７）Ｐ、　４７９５　Ｊｕ
ｌｙ　８１　Ｋ、てカルボニル基（−〇〇）（局在電子
により若干（−）に帯電〕が金属−ポリマー結合に寄与
することを提案している。ＰＭＭＡを構成するモノマー
であるメタクリル酸メチルエステル（分子量−１００）
ならびにＰＣの構成単位である４、４′ジオキシジフェ
ニール２，２プロパンカーボネート（分子量−２５４）
はそれぞれカルボニル基をそれぞれ一個有している。そ
れゆえ、ＰＣＫおける、金属−ポリマー結合密度は、Ｐ
ＭＭＡに比べて、約１７３と少ないために、金属蒸着膜
の安定性が欠けていると考えられる。

このため、ＰＣの被蒸着面に、カルボニル基（−Ｃ−０
）を強制的に付与する手段として、前述した紫外１１（
ＵＶ）照射処理やプラズマ処理などが一方では考えられ
る。又、他方、ＰＣ内にも、ポリマーマトリックスにお
いて、カルボニル基の付与、すなわち、金属−ポリマー
結合密度の増加が可能であれば、前述した金属光沢の消
失防止が可能となると考えられる。

前述したように％　ＰＣマトリックス中の、カルボニル
基密度を増すことができれば、金属蒸着膜の耐久性を増
すことができると考えられる。このためＫは、エステル
結合を有するポリカーボネート、ウレタン結合を有する
ポリカーボネート、あるいは従来型として用いられてい
るビスフェノールＡからのポリカーボネートと、ポリエ
チレンテレフタレート、またはポリアクリル酸などを混
合することなどが考えられる。

我々は、カルボニル基密度向上のため、従来合成法の延
長で、かつ、安価、安定供給可能な新規な光ディスク用
ＰＣ材料として、ＰＣ合成時の分子量調節材として、サ
リチル酸エステル類を用いて得たポリカーボネートを単
体、もしくは、従来のビスフェノールＡポリカーボネー
トに混合することで達成できるとの結論に達した。

以下に、本発明の一実施例を図面等をσｒ用しながら説
明する。

第１図において、１は、本発明の対象となる射出成形品
で、情報トラックや、ビット形成された透明プラスチッ
クからなるレプリカ、２は、このレプリカ１上に形成さ
れた薄膜、５は、該薄膜２の傷付き防止として形成した
保護膜である。

以乍の実施例では、いずれも、レプリカ１の成形は、樹
脂温度３４０℃、金型表面温度１１０　’Ｃ１射出速度
１００１．冷却時間１０秒で行なった。このレプリカ１
上に、Ａ１を含めた各種金属薄膜、牛導体薄膜等の薄Ｆ
Ｍ２、を形成したのち、紫外線硬化樹脂からなる保護膜
３を形成（厚さ〜５μｍ）した。

従来型レプリカ材料として、粘度平均分子量約１８．０
００ノボリカーホネート（Ｈ４０００：三菱ガス化学製
）を用いてレプリカ成形し、光反射膜として、幻を約１
００ＯＡ蒸着形成し、ディスク試料を得た。

この試料を、８０℃・９５％ＲＨ，６０℃・９５％ＲＨ
，４０℃・９５％Ｒ）１雰囲気にそれぞれ放置した結果
、それぞれ、約１０時間、３００時間、　４０００時間
で金属光沢が失なわれた。分光光度計によって光線透過
率を測定したところ、初期透過率０％のものが、１〜１
０％の透光性を有するものに変り、反射率が低下する状
態になった。（下記第１表の比較例１）第　　１　　表次に、前記、ポリカーボネー）　（Ｈ４０００、以下、
Ａ成分とする）釦、サリチル酸エステルで末端停止され
たビスフェノールＡポリカーボネート（粘度平均分子量
約１６００：以下Ｂ成分とする）を混合し、レプリカ成
形した。この後、Ａ１蒸着、保護膜形成して、ディスク
試料を得、８０℃、９５％ＲＨの雰囲気に投入し、金属
光沢が失なわれるまでの時間を求めた。

この結果、上記第１表に示されているよう釦、Ｂ成分が
１５ｗｔ％のものでは約２０時間（実施例１）。

Ｂ成分が３０ｗｔ％のものでは約４０時ｒｗＪ（実施例
２）。

Ｂ成分が４５ｕｒｔ％のものでは約６０時間（実施例３
）と従来のものに比べて数倍の改善を得た。

ここく、前記人成分およびＢ成分として、次の化学式を
有する組成物をあげることができる。

（ここで、ｎ　ｋ　１０以上の整数）Ｈｉ（ここで、ｍ−１以上の整数、　Ｒ＋　、　Ｒ２はアル
キル基およびアリル基とその誘導体）本発明によるＢ成
分の役割は、実質的にＰＣ基板表面のカルボニル基密度
を増したものであるが、その分子量がＡ成分に比べて小
さく、耐熱性の低酸が考えられる。ここで、比較例及び
実施例で得たレプリカ１の耐熱性指標となるガラス転移
点（Ｔｇ）を走査熱量計（ＤＳＣ）によって求めた。

その結果、第２図のグラフαで示されているように、従
来型ではＴｇ−１３５℃、Ｂ成分１５ｗｔ％ではＢ成分
の混合が大きくなるにつれて低下することがわかった。

しかし、光ディスクの実用領域温度（例えば車載時）の
上限が一般に９０℃であることを考慮すれば１本実施例
の範囲では充分にその性能を満足できる。

以上のように１分子ｆ、Ｊ節剤として、エステル基を有
したフェノール、すなわち、サリチル酸エステル類によ
って、ＰＣ末端停止を行なうことＫより、ビスフェノー
ルＡポリカーボネート本来の耐熱性、低吸水性。

光学特性、材料価格を損うことなく、カルボニル基の導
入が図れる。また、従来型ＰＣ（飽和炭化水素により末
端停止されたもの）Ｋ、エステル基により末端停止した
ビスフェノール人ポリカーボネートをブレンドしてもそ
の効果が達成できる。

また、安価・大量に重合可能であれば、ビスフェノール
人の滑格構造のイングロビル基、もしくは、フェニル基
に、カルボニル基を有する分子で置換したものでも本発
明の効果は達成される。

さらに１本実施例では、ベース（Ｂａｓｅ）ポリマーと
して、従来型ポリカーボネート（Ａ成分）に、Ｂ成分を
配合したが、射出成形時の流動性を調節する意味で、Ａ
成分の粘度平均分子量を調整しても、本発明の効果は変
らない。また、光ディスクとしての光学特性、耐久性を
損なわない限り、加熱老化防止剤、紫外線吸収剤、滑剤
等の添加が出来ることは云うまでもない。

さらに、本実施例では、主にＡ１反射膜について述べた
が、金属−ポリマー結合によって、安定化する。他の薄
膜材料、例えば、Ｎｉ　、　Ｃｒ、　Ｃｕ。

等の金属、または、記録・再生可能なメモリー膜として
のカルコゲナイド化合物、例えばＴ、０工＋Ｓｅ−ｓｂ
　−Ｂｉ等についても、Ｂ成分混合の効果がある。

〔発明の効果〕本発明によれば、プラスチック基板上く形成した健康の
耐、久性が向上できるので、長期的信頼性の高い光ディ
スクを提供することが出来る。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の対象とする光ディスクの部分断面図
、第２図は、本発明の実施例によりて得られた効果を表
した図である０１；レプリカ、２：薄膜、３：保護膜。第　Ｉ　７

Claims

【特許請求の範囲】

（１）光学的に情報記録・再生可能な光ディスクにおい
て、メモリ膜担体となる透明な熱可塑性樹脂基板が、次
式によって示される樹脂組成物、すなわち、Ａ：▲数式、化学式、表等があります▼ （ここでｎ＝１０以上の整数）Ｂ：▲数式、化学式、表等があります▼ （ここでｍ＝１以上の整数、Ｒ＿１、Ｒ＿２はアルキル基およびアリル基とその誘導体）Ａ＋Ｂ＝４００重量部、１０＜Ｂ＜４５重量部の範囲で混合された物から構成されていることを特徴と
する光学式情報記録担体。