JP3478053B2 - 芳香族ポリカーボネート樹脂組成物およびそれからなる光学製品部材 - Google Patents
芳香族ポリカーボネート樹脂組成物およびそれからなる光学製品部材Info
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- JP3478053B2 JP3478053B2 JP12206197A JP12206197A JP3478053B2 JP 3478053 B2 JP3478053 B2 JP 3478053B2 JP 12206197 A JP12206197 A JP 12206197A JP 12206197 A JP12206197 A JP 12206197A JP 3478053 B2 JP3478053 B2 JP 3478053B2
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、透明性、光学的均
質性、低複屈折性等の、優れた光学的特性を備えると共
に、成形加工性にも優れた芳香族ポリカーボネート樹脂
組成物、およびそれからなる光学製品部材に関する。
質性、低複屈折性等の、優れた光学的特性を備えると共
に、成形加工性にも優れた芳香族ポリカーボネート樹脂
組成物、およびそれからなる光学製品部材に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、芳香族ポリカーボネート樹
脂、例えば、ジオール成分として、ビスフェノールＡ、
即ち、２，２−ビス（４−ヒドロキンフェニル）プロパ
ン、に代表される芳香族ジオールを用いて得られる芳香
族ポリカーボネート樹脂は、透明性、機械的性質、耐熱
性、および寸法安定性等に優れていることから、エンジ
ニアリングプラスチックとして多くの分野に広く用いら
れており、特に、透明性に優れることから光学製品部材
としての用途も多い。しかしながら、従来のポリカーボ
ネート樹脂は、光学材料としては複屈折が大きいという
欠点を有しており、近年、その低減化の要求が高まりつ
つある。特に、デジタル信号を利用した光情報材料とし
て供する場合、例えばデジタルオーディオディスク、デ
ジタルビデオディスク、さらには情報読み取り、書き込
みを目的としたディスクにおいては、透明性は勿論のこ
と、光学的歪みや複屈折低減の要求が厳しくなってお
り、中でも、光磁気記録方式では、基板断面方向の複屈
折（垂直複屈折）が５×１０-5以下であることが要求さ
れている。これに対して、通常行われている射出成形に
おいて光学的歪みを少なくするために、溶融樹脂温度を
上げて溶融流動性をよくする等の方法が採られている
が、樹脂温度を上げると樹脂の劣化に伴う種々のトラブ
ルが生起し、十分な解決策とはなっていない。
脂、例えば、ジオール成分として、ビスフェノールＡ、
即ち、２，２−ビス（４−ヒドロキンフェニル）プロパ
ン、に代表される芳香族ジオールを用いて得られる芳香
族ポリカーボネート樹脂は、透明性、機械的性質、耐熱
性、および寸法安定性等に優れていることから、エンジ
ニアリングプラスチックとして多くの分野に広く用いら
れており、特に、透明性に優れることから光学製品部材
としての用途も多い。しかしながら、従来のポリカーボ
ネート樹脂は、光学材料としては複屈折が大きいという
欠点を有しており、近年、その低減化の要求が高まりつ
つある。特に、デジタル信号を利用した光情報材料とし
て供する場合、例えばデジタルオーディオディスク、デ
ジタルビデオディスク、さらには情報読み取り、書き込
みを目的としたディスクにおいては、透明性は勿論のこ
と、光学的歪みや複屈折低減の要求が厳しくなってお
り、中でも、光磁気記録方式では、基板断面方向の複屈
折（垂直複屈折）が５×１０-5以下であることが要求さ
れている。これに対して、通常行われている射出成形に
おいて光学的歪みを少なくするために、溶融樹脂温度を
上げて溶融流動性をよくする等の方法が採られている
が、樹脂温度を上げると樹脂の劣化に伴う種々のトラブ
ルが生起し、十分な解決策とはなっていない。
【０００３】一方、複屈折の低減を目的として種々のポ
リカーボネート樹脂材料の開発も行われている。例え
ば、ジオール成分として、耐熱性を併せ持つ、９，９−
ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンを用いたポ
リカーボネート樹脂が知られているが、この樹脂は、複
屈折低減効果は著しいものの、成形が困難であるという
問題があり、例えば、米国特許第５４８６５７７号明細
書では、この点の解決を図るべく、２，２−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）プロパンを用いたポリカーボネー
ト樹脂を混合することが提案されている。しかし、本発
明者が知る限り、この組成物は、低複屈折性を有する反
面、透明性、光学的均質性に問題があり、また、成形加
工性も十分ではない。また、特開平２−３０４７４１号
公報には、前記フルオレンと、２，２−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）プロパンや１，１−ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）−１−フェニルエタン等の芳香族ジオー
ル成分とを共重合したポリカーボネート共重合体が記載
されているが、この場合も、本発明者が知る限り、複屈
折低減効果は認められるものの、透明性、光学的均質性
が不十分であり、また、成形加工性にも問題がある。
リカーボネート樹脂材料の開発も行われている。例え
ば、ジオール成分として、耐熱性を併せ持つ、９，９−
ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンを用いたポ
リカーボネート樹脂が知られているが、この樹脂は、複
屈折低減効果は著しいものの、成形が困難であるという
問題があり、例えば、米国特許第５４８６５７７号明細
書では、この点の解決を図るべく、２，２−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）プロパンを用いたポリカーボネー
ト樹脂を混合することが提案されている。しかし、本発
明者が知る限り、この組成物は、低複屈折性を有する反
面、透明性、光学的均質性に問題があり、また、成形加
工性も十分ではない。また、特開平２−３０４７４１号
公報には、前記フルオレンと、２，２−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）プロパンや１，１−ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）−１−フェニルエタン等の芳香族ジオー
ル成分とを共重合したポリカーボネート共重合体が記載
されているが、この場合も、本発明者が知る限り、複屈
折低減効果は認められるものの、透明性、光学的均質性
が不十分であり、また、成形加工性にも問題がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、芳香族ポリ
カーボネート樹脂を光学材料に用いるに当たっての前述
した従来の問題を解決すべくなされたものであって、従
って、本発明は、透明性、光学的均質性、低複屈折性等
の、優れた光学的特性を備えると共に、成形加工性にも
優れた芳香族ポリカーボネート樹脂組成物、およびそれ
からなる光学製品部材を提供することを目的とする。
カーボネート樹脂を光学材料に用いるに当たっての前述
した従来の問題を解決すべくなされたものであって、従
って、本発明は、透明性、光学的均質性、低複屈折性等
の、優れた光学的特性を備えると共に、成形加工性にも
優れた芳香族ポリカーボネート樹脂組成物、およびそれ
からなる光学製品部材を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、下記の成分
（Ａ）と成分（Ｂ）とからなる芳香族ポリカーボネート
樹脂組成物、およびそれからなる光学製品部材を要旨と
する。 成分（Ａ）；下記一般式（Ｉ）
（Ａ）と成分（Ｂ）とからなる芳香族ポリカーボネート
樹脂組成物、およびそれからなる光学製品部材を要旨と
する。 成分（Ａ）；下記一般式（Ｉ）
【０００６】
【化５】
【０００７】（式中、それぞれのベンゼン環は置換基を
有していてもよい。）で表される構成単位１０〜６０モ
ル％と、下記一般式（II）
有していてもよい。）で表される構成単位１０〜６０モ
ル％と、下記一般式（II）
【０００８】
【化６】
【０００９】（式中、Ｒ1 は、水素原子、置換基を有し
ていてもよいアルキル基、または置換基を有していても
よいフェニル基を表し、それぞれのベンゼン環は置換基
を有していてもよい。）で表される構成単位９０〜４０
モル％とからなる芳香族ポリカーボネート共重合体樹脂
１〜９９重量％
ていてもよいアルキル基、または置換基を有していても
よいフェニル基を表し、それぞれのベンゼン環は置換基
を有していてもよい。）で表される構成単位９０〜４０
モル％とからなる芳香族ポリカーボネート共重合体樹脂
１〜９９重量％
【００１０】成分（Ｂ）；下記一般式（III)
【００１１】
【化７】
【００１２】（式中、Ｒ2 およびＲ3 は、水素原子、置
換基を有していてもよいアルキル基を表し、それぞれの
ベンゼン環は置換基を有していてもよい。）で表される
構成単位、および／または、下記一般式（IV）
換基を有していてもよいアルキル基を表し、それぞれの
ベンゼン環は置換基を有していてもよい。）で表される
構成単位、および／または、下記一般式（IV）
【００１３】
【化８】
【００１４】（式中、Ｘは、エーテル結合、チオエーテ
ル結合、またはスルホン結合を表し、それぞれのベンゼ
ン環は置換基を有していてもよい。）で表される構成単
位、の過半量からなる芳香族ポリカーボネート樹脂９９
〜１重量％
ル結合、またはスルホン結合を表し、それぞれのベンゼ
ン環は置換基を有していてもよい。）で表される構成単
位、の過半量からなる芳香族ポリカーボネート樹脂９９
〜１重量％
【００１５】
【発明の実施の形態】本発明における成分（Ａ）の前記
一般式（Ｉ）で表される構成単位でのベンゼン環の置換
基としては、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４
のアルコキシ基、フェニル基、ニトロ基、およびハロゲ
ン原子等が挙げられ、前記一般式（Ｉ）で表される構成
単位を得るための芳香族ジオールの具体例としは、９，
９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，
９−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）フル
オレン、９，９−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロ
キシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（３−エチル
−４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス
（３−メトキシ−４−ヒドロキシフェニル）フルオレ
ン、９，９−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェ
ニル）フルオレン、９，９−ビス（３−クロロ−４−ヒ
ドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（３−ト
リクロロメチル−４−ヒドロキシフェニル）フルオレ
ン、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，６
−ジメチルフルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）−４，５−ジメチルフルオレン、９，９−ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）−３，６−ジクロロフル
オレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−
３，６−ジフェニルフルオレン、９，９−ビス（３−メ
チル−４−ヒドロキシフェニル）−３，６−ジメチルフ
ルオレン、９，９−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシ
フェニル）−３，６−ジクロロフルオレン等を挙げるこ
とができる。中で、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）フルオレン、および、９，９−ビス（３−メチル
−４−ヒドロキシフェニル）フルオレンが好ましい。
一般式（Ｉ）で表される構成単位でのベンゼン環の置換
基としては、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４
のアルコキシ基、フェニル基、ニトロ基、およびハロゲ
ン原子等が挙げられ、前記一般式（Ｉ）で表される構成
単位を得るための芳香族ジオールの具体例としは、９，
９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，
９−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）フル
オレン、９，９−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロ
キシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（３−エチル
−４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス
（３−メトキシ−４−ヒドロキシフェニル）フルオレ
ン、９，９−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェ
ニル）フルオレン、９，９−ビス（３−クロロ−４−ヒ
ドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（３−ト
リクロロメチル−４−ヒドロキシフェニル）フルオレ
ン、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，６
−ジメチルフルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）−４，５−ジメチルフルオレン、９，９−ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）−３，６−ジクロロフル
オレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−
３，６−ジフェニルフルオレン、９，９−ビス（３−メ
チル−４−ヒドロキシフェニル）−３，６−ジメチルフ
ルオレン、９，９−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシ
フェニル）−３，６−ジクロロフルオレン等を挙げるこ
とができる。中で、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）フルオレン、および、９，９−ビス（３−メチル
−４−ヒドロキシフェニル）フルオレンが好ましい。
【００１６】また、前記一般式（II）で表される構成単
位でのＲ1 としては、水素原子、メチル基およびエチル
基等の炭素数１〜４のアルキル基、並びにフェニル基等
が例示され、また、ベンゼン環の置換基は、前記一般式
（Ｉ）におけると同じであり、前記一般式（II）で表さ
れる構成単位を得るための芳香族ジオールの具体例とし
ては、ビス（４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタ
ン、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）フェ
ニルメタン、ビス（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）フェニルメタン、ビス（２，６−ジメチル−４
−ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、ビス（３，５
−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタ
ン、ビス（２，３，５−トリメチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）フェニルメタン、ビス（３−フェニル−４−ヒ
ドロキシフェニル）フェニルメタン、ビス（３−フルオ
ロ−４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、ビス
（３−ブロモ−４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタ
ン、ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）−
４−フルオロフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）−４−フルオロフェニルメタン、ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）−４−クロロフェニルメタン、ビス
（４−ヒドロキシフェニル）−４−ブロモフェニルメタ
ン、ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）−４−フルオロフェニルメタン、１，１−ビス（４
−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、１，１
−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−１−
フェニルエタン、１，１−ビス（３−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、１，１−
ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）−１−
フェニルエタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）−１−（４−ニトロフェニル）エタン、１，１−ビ
ス（３−ブロモ−４−ヒドロキシフェニル）−１−フェ
ニルエタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
−１−フェニルプロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）ジフェニルメタン等を挙げることができる。中で、
１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニ
ルエタン、および、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）−１−フェニルエタンが好ましい。
位でのＲ1 としては、水素原子、メチル基およびエチル
基等の炭素数１〜４のアルキル基、並びにフェニル基等
が例示され、また、ベンゼン環の置換基は、前記一般式
（Ｉ）におけると同じであり、前記一般式（II）で表さ
れる構成単位を得るための芳香族ジオールの具体例とし
ては、ビス（４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタ
ン、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）フェ
ニルメタン、ビス（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）フェニルメタン、ビス（２，６−ジメチル−４
−ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、ビス（３，５
−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタ
ン、ビス（２，３，５−トリメチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）フェニルメタン、ビス（３−フェニル−４−ヒ
ドロキシフェニル）フェニルメタン、ビス（３−フルオ
ロ−４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、ビス
（３−ブロモ−４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタ
ン、ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）−
４−フルオロフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）−４−フルオロフェニルメタン、ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）−４−クロロフェニルメタン、ビス
（４−ヒドロキシフェニル）−４−ブロモフェニルメタ
ン、ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）−４−フルオロフェニルメタン、１，１−ビス（４
−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、１，１
−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−１−
フェニルエタン、１，１−ビス（３−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、１，１−
ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）−１−
フェニルエタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）−１−（４−ニトロフェニル）エタン、１，１−ビ
ス（３−ブロモ−４−ヒドロキシフェニル）−１−フェ
ニルエタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
−１−フェニルプロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）ジフェニルメタン等を挙げることができる。中で、
１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニ
ルエタン、および、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）−１−フェニルエタンが好ましい。
【００１７】成分（Ａ）の芳香族ポリカーボネート共重
合体樹脂における前記一般式（Ｉ）で表される前記芳香
族ジオールに由来する構成単位（以後、「ＦＬ単位」と
略称することがある。）と、前記一般式（II）で表され
る前記芳香族ジオールに由来する構成単位（以後、「Ｔ
Ｐ単位」と略称することがある。）との構成比は、その
ＦＬ単位とＴＰ単位との合計量に対して、ＦＬ単位が１
０〜６０モル％、ＴＰ単位が９０〜４０モル％であるこ
とが必須であり、ＦＬ単位が１０〜４５モル％、ＴＰ単
位が９０〜５５モル％であるのが好ましく、ＦＬ単位が
１０〜３０モル％、ＴＰ単位が９０〜７０モル％である
のが特に好ましい。ＦＬ単位が１０モル％未満では、組
成物としての複屈折の低減効果が認められず、また、６
０モル％超過では、組成物としての透明性および光学的
均質性が低下し、さらに、成形加工性にも問題が生じ
る。なお、本発明における成分（Ａ）としては、その特
性を損なわない範囲で、前記ＦＬ単位と前記ＴＰ単位以
外の芳香族ジオールや脂肪族ジオールに由来する構成単
位が共重合されていてもよい。また、本発明における成
分（Ａ）としての芳香族ポリカーボネート共重合体樹脂
は、塩化メチレン溶液、２０℃での極限粘度［η］が、
０．２０〜０．４６ｄｌ／ｇの範囲にあるのが好まし
い。
合体樹脂における前記一般式（Ｉ）で表される前記芳香
族ジオールに由来する構成単位（以後、「ＦＬ単位」と
略称することがある。）と、前記一般式（II）で表され
る前記芳香族ジオールに由来する構成単位（以後、「Ｔ
Ｐ単位」と略称することがある。）との構成比は、その
ＦＬ単位とＴＰ単位との合計量に対して、ＦＬ単位が１
０〜６０モル％、ＴＰ単位が９０〜４０モル％であるこ
とが必須であり、ＦＬ単位が１０〜４５モル％、ＴＰ単
位が９０〜５５モル％であるのが好ましく、ＦＬ単位が
１０〜３０モル％、ＴＰ単位が９０〜７０モル％である
のが特に好ましい。ＦＬ単位が１０モル％未満では、組
成物としての複屈折の低減効果が認められず、また、６
０モル％超過では、組成物としての透明性および光学的
均質性が低下し、さらに、成形加工性にも問題が生じ
る。なお、本発明における成分（Ａ）としては、その特
性を損なわない範囲で、前記ＦＬ単位と前記ＴＰ単位以
外の芳香族ジオールや脂肪族ジオールに由来する構成単
位が共重合されていてもよい。また、本発明における成
分（Ａ）としての芳香族ポリカーボネート共重合体樹脂
は、塩化メチレン溶液、２０℃での極限粘度［η］が、
０．２０〜０．４６ｄｌ／ｇの範囲にあるのが好まし
い。
【００１８】本発明における成分（Ｂ）の前記一般式
（III)で表される構成単位でのＲ2 およびＲ3 として
は、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、およ
びブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基等が例示さ
れ、さらに、Ｒ2 とＲ3 でシクロアルキレン環を形成し
ていてもよく、また、前記一般式（III)および前記一般
式（IV）で表される構成単位でのベンゼン環の置換基
は、前記一般式（Ｉ）におけると同じであり、前記一般
式（III)で表される構成単位を得るための芳香族ジオー
ルの具体例としては、ビス（４−ヒドロキシフェニル）
メタン、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）
メタン、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）エタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロ
キシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−エチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３
−イソプロピル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、
２，２−ビス（３−ｓ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）−３−メチルブタン、２，２−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）ペンタン、２，２−ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）−４−メチルペンタン、２，２−ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサン、１，１−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−
ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、ビス
（４−ヒドロキシフェニル）ジベンジルメタン等を挙げ
ることができる。また、前記一般式（IV）で表される構
成単位を得るための芳香族ジオールの具体例としては、
４，４' −ジヒドロキシジフェニルエーテル、４，４'
−ジヒドロキシジフェニルスルフォン、４，４' −ジヒ
ドロキシジフェニルスルフィド等を挙げることができ
る。これらの中で、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メ
タン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパ
ン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン、および、２，２−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）ヘキサフルオロプロパンが好ましく、２，２
−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンが特に好ま
しい。
（III)で表される構成単位でのＲ2 およびＲ3 として
は、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、およ
びブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基等が例示さ
れ、さらに、Ｒ2 とＲ3 でシクロアルキレン環を形成し
ていてもよく、また、前記一般式（III)および前記一般
式（IV）で表される構成単位でのベンゼン環の置換基
は、前記一般式（Ｉ）におけると同じであり、前記一般
式（III)で表される構成単位を得るための芳香族ジオー
ルの具体例としては、ビス（４−ヒドロキシフェニル）
メタン、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）
メタン、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）エタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロ
キシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−エチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３
−イソプロピル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、
２，２−ビス（３−ｓ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）−３−メチルブタン、２，２−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）ペンタン、２，２−ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）−４−メチルペンタン、２，２−ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサン、１，１−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−
ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、ビス
（４−ヒドロキシフェニル）ジベンジルメタン等を挙げ
ることができる。また、前記一般式（IV）で表される構
成単位を得るための芳香族ジオールの具体例としては、
４，４' −ジヒドロキシジフェニルエーテル、４，４'
−ジヒドロキシジフェニルスルフォン、４，４' −ジヒ
ドロキシジフェニルスルフィド等を挙げることができ
る。これらの中で、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メ
タン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパ
ン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン、および、２，２−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）ヘキサフルオロプロパンが好ましく、２，２
−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンが特に好ま
しい。
【００１９】なお、本発明における成分（Ｂ）として
は、前記一般式（III)および／または（IV）で表される
構成単位（以後、「ＢＰ単位」と略称することがあ
る。）の過半量からなることが必須であり、そのＢＰ単
位が８０モル％以上であることが好ましく、その際の他
の構成単位としては、前記成分（Ａ）における前記ＦＬ
単位、ＴＰ単位、および脂肪族ジオールに由来する構成
単位等が用いられるが、ＢＰ単位のみからなるものが好
適に用いられる。また、本発明における成分（Ｂ）とし
ての芳香族ポリカーボネート樹脂は、塩化メチレン溶
液、２０℃での極限粘度［η］が、０．２６〜０．６４
ｄｌ／ｇの範囲にあるのが好ましい。
は、前記一般式（III)および／または（IV）で表される
構成単位（以後、「ＢＰ単位」と略称することがあ
る。）の過半量からなることが必須であり、そのＢＰ単
位が８０モル％以上であることが好ましく、その際の他
の構成単位としては、前記成分（Ａ）における前記ＦＬ
単位、ＴＰ単位、および脂肪族ジオールに由来する構成
単位等が用いられるが、ＢＰ単位のみからなるものが好
適に用いられる。また、本発明における成分（Ｂ）とし
ての芳香族ポリカーボネート樹脂は、塩化メチレン溶
液、２０℃での極限粘度［η］が、０．２６〜０．６４
ｄｌ／ｇの範囲にあるのが好ましい。
【００２０】本発明の芳香族ポリカーボネート樹脂組成
物における成分（Ａ）および成分（Ｂ）の各々の芳香族
ポリカーボネート樹脂は、工業的に用いられている公知
の方法で製造することができる。例えば、公知の触媒を
用いて、前記芳香族ジオールとホスゲンから界面重合
（ホスゲン法、または界面重合法）によって、あるい
は、前記芳香族ジオールとジフェニルカーボネート等の
炭酸エステルとのエステル交換（エステル交換法、また
は溶融重合法）によって、等の方法により製造すること
ができる。
物における成分（Ａ）および成分（Ｂ）の各々の芳香族
ポリカーボネート樹脂は、工業的に用いられている公知
の方法で製造することができる。例えば、公知の触媒を
用いて、前記芳香族ジオールとホスゲンから界面重合
（ホスゲン法、または界面重合法）によって、あるい
は、前記芳香族ジオールとジフェニルカーボネート等の
炭酸エステルとのエステル交換（エステル交換法、また
は溶融重合法）によって、等の方法により製造すること
ができる。
【００２１】本発明の芳香族ポリカーボネート樹脂組成
物は、成分（Ａ）としての芳香族ポリカーボネート共重
合体樹脂と成分（Ｂ）としての芳香族ポリカーボネート
樹脂との組み合わせとして、具体的に、以下のものが例
示できる。 ・ＦＬ単位／ＴＰ単位共重合体 ＋ ＢＰ単位重合体 ・ＦＬ単位／ＴＰ単位共重合体 ＋ ＢＰ単位／ＦＬ単
位共重合体 ・ＦＬ単位／ＴＰ単位共重合体 ＋ ＢＰ単位／ＴＰ単
位共重合体 ・ＦＬ単位／ＴＰ単位／ＢＰ単位共重合体 ＋ ＢＰ単
位重合体 ・ＦＬ単位／ＴＰ単位／ＢＰ単位共重合体 ＋ ＢＰ単
位／ＦＬ単位共重合体 ・ＦＬ単位／ＴＰ単位／ＢＰ単位共重合体 ＋ ＢＰ単
位／ＴＰ単位共重合体
物は、成分（Ａ）としての芳香族ポリカーボネート共重
合体樹脂と成分（Ｂ）としての芳香族ポリカーボネート
樹脂との組み合わせとして、具体的に、以下のものが例
示できる。 ・ＦＬ単位／ＴＰ単位共重合体 ＋ ＢＰ単位重合体 ・ＦＬ単位／ＴＰ単位共重合体 ＋ ＢＰ単位／ＦＬ単
位共重合体 ・ＦＬ単位／ＴＰ単位共重合体 ＋ ＢＰ単位／ＴＰ単
位共重合体 ・ＦＬ単位／ＴＰ単位／ＢＰ単位共重合体 ＋ ＢＰ単
位重合体 ・ＦＬ単位／ＴＰ単位／ＢＰ単位共重合体 ＋ ＢＰ単
位／ＦＬ単位共重合体 ・ＦＬ単位／ＴＰ単位／ＢＰ単位共重合体 ＋ ＢＰ単
位／ＴＰ単位共重合体
【００２２】本発明の芳香族ポリカーボネート樹脂組成
物における成分（Ａ）と成分（Ｂ）との組成割合は、成
分（Ａ）が１〜９９重量％、成分（Ｂ）が９９〜１重量
％であり、成分（Ａ）が５〜６０重量％、成分（Ｂ）が
９５〜４０重量％であるのが好ましい。成分（Ａ）が１
重量％未満であると、組成物としての複屈折の低減効果
が認められず、また、９９重量％超過では、組成物とし
ての成形加工性に問題が生じる。
物における成分（Ａ）と成分（Ｂ）との組成割合は、成
分（Ａ）が１〜９９重量％、成分（Ｂ）が９９〜１重量
％であり、成分（Ａ）が５〜６０重量％、成分（Ｂ）が
９５〜４０重量％であるのが好ましい。成分（Ａ）が１
重量％未満であると、組成物としての複屈折の低減効果
が認められず、また、９９重量％超過では、組成物とし
ての成形加工性に問題が生じる。
【００２３】本発明の芳香族ポリカーボネート樹脂組成
物は、成分（Ａ）と成分（Ｂ）とを、例えば、それぞれ
の粉末または粒状物をスーパーミキサー、ヘンシェルミ
キサー、タンブラー等の混合機で混合した後、二軸押出
機、ニーダー、ロール等で溶融混練する方法、あるいは
溶液状で混合する方法等の公知の方法で製造することが
できる。なお、本発明の芳香族ポリカーボネート樹脂組
成物には、成形材料として使用するに当たって要求され
る熱安定性、離型性、帯電防止性等を付与するために、
例えば、亜燐酸エステル系、ヒンダードフェノール系の
酸化防止剤、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン
系、ジベンゾイルメタン系、サリチレート系等の光安定
剤、シリコン系、脂肪酸系、脂肪酸エステル系、脂肪酸
グリセリド系、蜜ろう系等の滑剤や離型剤、ポリアルキ
レングリコール系、脂肪酸グリセリド系等の帯電防止剤
等を添加することができる。
物は、成分（Ａ）と成分（Ｂ）とを、例えば、それぞれ
の粉末または粒状物をスーパーミキサー、ヘンシェルミ
キサー、タンブラー等の混合機で混合した後、二軸押出
機、ニーダー、ロール等で溶融混練する方法、あるいは
溶液状で混合する方法等の公知の方法で製造することが
できる。なお、本発明の芳香族ポリカーボネート樹脂組
成物には、成形材料として使用するに当たって要求され
る熱安定性、離型性、帯電防止性等を付与するために、
例えば、亜燐酸エステル系、ヒンダードフェノール系の
酸化防止剤、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン
系、ジベンゾイルメタン系、サリチレート系等の光安定
剤、シリコン系、脂肪酸系、脂肪酸エステル系、脂肪酸
グリセリド系、蜜ろう系等の滑剤や離型剤、ポリアルキ
レングリコール系、脂肪酸グリセリド系等の帯電防止剤
等を添加することができる。
【００２４】本発明の芳香族ポリカーボネート樹脂組成
物を用いて光学製品部材等を成形するには、押出成形、
射出成形、ブロー成形、圧縮成形、射出圧縮成形等の公
知の成形法を用いることができるが、本発明の一つであ
る光学製品部材を成形するには、射出圧縮成形が好適で
ある。本発明の芳香族ポリカーボネート樹脂組成物を用
いて成形される光学製品部材の具体例としては、高密度
の光ディスク基板、光ディスク用ピックアップレンズ、
光学レンズ、ＬＣＤ基板、ＰＤＰ基板、プロジェクショ
ン用テレビスクリーン、位相差フィルム等が挙げられ
る。
物を用いて光学製品部材等を成形するには、押出成形、
射出成形、ブロー成形、圧縮成形、射出圧縮成形等の公
知の成形法を用いることができるが、本発明の一つであ
る光学製品部材を成形するには、射出圧縮成形が好適で
ある。本発明の芳香族ポリカーボネート樹脂組成物を用
いて成形される光学製品部材の具体例としては、高密度
の光ディスク基板、光ディスク用ピックアップレンズ、
光学レンズ、ＬＣＤ基板、ＰＤＰ基板、プロジェクショ
ン用テレビスクリーン、位相差フィルム等が挙げられ
る。
【００２５】
【実施例】以下、実施例にて本発明を具体的に説明する
が、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実施例に
限定されるものではない。 芳香族ポリカーボネート樹脂の製造 製造例１ ＦＬ単位用としての９，９−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）フルオレン１７重量部、ＴＰ単位用としての１，
１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエ
タン８３重量部、水酸化ナトリウム４１重量部、水６２
０重量部、および塩化メチレン２９０重量部との混合物
を、撹拌機付き反応機に仕込み、８００ｒｐｍで攪拌
し、これにホスゲン６３重量部を１時間の間に吹き込ん
で界面重合を行い、反応終了後にポリカーボネートオリ
ゴマーを含有する塩化メチレン溶液のみを捕集した。得
られたオリゴマーの塩化メチレン溶液を以下の方法で分
析し、以下の結果を得た。 ・オリゴマー濃度（蒸発乾固させて測定）；２０．３重
量％ ・末端クロロホーメート基濃度（アニリンと反応させて
得られたアニリン塩酸塩を０．２規定水酸化ナトリウム
水溶液で中和滴定）；０．２７規定 ・末端フェノール性水酸基濃度（四塩化チタン、酢酸溶
液に溶解させたときの発色を５４６ｎｍで比色定量）；
０．０２５規定 引き続いて、このオリゴマー溶液１００重量部、３−ペ
ンタデシルフェノール１．８重量部、および塩化メチレ
ン１４０重量部の混合物を撹拌機付き反応機に仕込み、
５５０ｒｐｍで撹拌し、さらに、水酸化ナトリウム４重
量％水溶液４８重量部、およびトリエチルアミン２重量
％水溶液０．２７重量部を加え、７時間界面重合を行っ
た後、反応物を分液し、ポリカーボネート樹脂を含む塩
化メチレン溶液を、水酸化ナトリウム水溶液、塩酸水溶
液、水の順に用いて洗浄し、最後に塩化メチレンを蒸発
させて樹脂を採取した。この樹脂の極限粘度［η］は
０．２９ｄｌ／ｇであった。以上の結果を表１に示し
た。
が、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実施例に
限定されるものではない。 芳香族ポリカーボネート樹脂の製造 製造例１ ＦＬ単位用としての９，９−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）フルオレン１７重量部、ＴＰ単位用としての１，
１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエ
タン８３重量部、水酸化ナトリウム４１重量部、水６２
０重量部、および塩化メチレン２９０重量部との混合物
を、撹拌機付き反応機に仕込み、８００ｒｐｍで攪拌
し、これにホスゲン６３重量部を１時間の間に吹き込ん
で界面重合を行い、反応終了後にポリカーボネートオリ
ゴマーを含有する塩化メチレン溶液のみを捕集した。得
られたオリゴマーの塩化メチレン溶液を以下の方法で分
析し、以下の結果を得た。 ・オリゴマー濃度（蒸発乾固させて測定）；２０．３重
量％ ・末端クロロホーメート基濃度（アニリンと反応させて
得られたアニリン塩酸塩を０．２規定水酸化ナトリウム
水溶液で中和滴定）；０．２７規定 ・末端フェノール性水酸基濃度（四塩化チタン、酢酸溶
液に溶解させたときの発色を５４６ｎｍで比色定量）；
０．０２５規定 引き続いて、このオリゴマー溶液１００重量部、３−ペ
ンタデシルフェノール１．８重量部、および塩化メチレ
ン１４０重量部の混合物を撹拌機付き反応機に仕込み、
５５０ｒｐｍで撹拌し、さらに、水酸化ナトリウム４重
量％水溶液４８重量部、およびトリエチルアミン２重量
％水溶液０．２７重量部を加え、７時間界面重合を行っ
た後、反応物を分液し、ポリカーボネート樹脂を含む塩
化メチレン溶液を、水酸化ナトリウム水溶液、塩酸水溶
液、水の順に用いて洗浄し、最後に塩化メチレンを蒸発
させて樹脂を採取した。この樹脂の極限粘度［η］は
０．２９ｄｌ／ｇであった。以上の結果を表１に示し
た。
【００２６】製造例２〜８
表１に示したように諸条件を変更した（ただし、製造例
２〜６では、重合体製造時の撹拌速度を２００ｒｐｍと
した。）外は、製造例１と同様にして、オリゴマーを製
造し、その溶液を分析し、さらに、ポリカーボネート樹
脂を製造し、その極限粘度を測定した。それらを表１に
示した。
２〜６では、重合体製造時の撹拌速度を２００ｒｐｍと
した。）外は、製造例１と同様にして、オリゴマーを製
造し、その溶液を分析し、さらに、ポリカーボネート樹
脂を製造し、その極限粘度を測定した。それらを表１に
示した。
【００２７】実施例１〜６、比較例１〜１０
製造例１〜８で得られたポリカーボネート樹脂、およ
び、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン
に由来する構成単位のみからなるポリカーボネート樹脂
（三菱瓦斯化学社製、ユーピロンＨ４０００、極限粘度
［η］０．３６ｄｌ／ｇ）を用いて、表２に示す配合割
合で、スーパーミキサーで混合した後、二軸押出機を用
いて樹脂温度３００〜３２０℃の温度条件で溶融混練し
て樹脂組成物を製造した。さらに、得られた樹脂組成物
を住友重機社製の射出圧縮成形機（ディスク５ＡＭ３）
を用いて射出圧縮成形し、直径１３０ｍｍ、厚さ１．２
ｍｍの光ディスク基板を成形した。それぞれ得られた光
ディスク基板について、全光線透過率、光学的均質性、
複屈折、および成形転写性を以下の方法で評価し、結果
を表２および表３に示した。
び、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン
に由来する構成単位のみからなるポリカーボネート樹脂
（三菱瓦斯化学社製、ユーピロンＨ４０００、極限粘度
［η］０．３６ｄｌ／ｇ）を用いて、表２に示す配合割
合で、スーパーミキサーで混合した後、二軸押出機を用
いて樹脂温度３００〜３２０℃の温度条件で溶融混練し
て樹脂組成物を製造した。さらに、得られた樹脂組成物
を住友重機社製の射出圧縮成形機（ディスク５ＡＭ３）
を用いて射出圧縮成形し、直径１３０ｍｍ、厚さ１．２
ｍｍの光ディスク基板を成形した。それぞれ得られた光
ディスク基板について、全光線透過率、光学的均質性、
複屈折、および成形転写性を以下の方法で評価し、結果
を表２および表３に示した。
【００２８】・全光線透過率
日本電色社製Σ８０を用い、ＡＳＴＭ Ｄ１００３に準
拠して測定した。 ・光学的均質性 ＰＵＬＳＴＥＣ社製テスター（光学系：レーザー波長６
８０ｎｍ、ＮＡ＝０．６）を用い、トラッキングＯＮの
状態でフォーカスエラー信号（ＦＥＳ）を測定し、前記
「ユーピロンＨ４０００」の振幅値に対する比で示し
た。なお、フォーマットは４．６ＧＢ容量の光磁気ディ
スクとした。 ・複屈折 オーク製作所製ＡＤＲ−１３０Ｎを用い、半径２７〜６
２ｍｍの範囲を波長６３２ｎｍのレーザーにて斜め３０
度入射角で測定したものを垂直複屈折の平均値で示し
た。 ・成形転写性 ショット数１５００とし、１０枚中のダブルスタンピン
グ（Ｄ／Ｓ）発生枚数で評価した。また、ピットにおけ
る基板レプリカとガラスマスターとの深さ比および形状
から判断し、以下の基準で評価した。 ◎；非常に良好 ○；良好 △；不十分 ×；非常に悪い
拠して測定した。 ・光学的均質性 ＰＵＬＳＴＥＣ社製テスター（光学系：レーザー波長６
８０ｎｍ、ＮＡ＝０．６）を用い、トラッキングＯＮの
状態でフォーカスエラー信号（ＦＥＳ）を測定し、前記
「ユーピロンＨ４０００」の振幅値に対する比で示し
た。なお、フォーマットは４．６ＧＢ容量の光磁気ディ
スクとした。 ・複屈折 オーク製作所製ＡＤＲ−１３０Ｎを用い、半径２７〜６
２ｍｍの範囲を波長６３２ｎｍのレーザーにて斜め３０
度入射角で測定したものを垂直複屈折の平均値で示し
た。 ・成形転写性 ショット数１５００とし、１０枚中のダブルスタンピン
グ（Ｄ／Ｓ）発生枚数で評価した。また、ピットにおけ
る基板レプリカとガラスマスターとの深さ比および形状
から判断し、以下の基準で評価した。 ◎；非常に良好 ○；良好 △；不十分 ×；非常に悪い
【００２９】比較例１１
成分（Ａ）として、製造例７で得られた樹脂２８重量％
と製造例８で得られた樹脂７２重量％との混合組成物
（極限粘度［η］０．３０ｄｌ／ｇ）を用いた外は、前
記実施例１〜６等と同様にして樹脂組成物を製造した。
結果を表３に併記した。
と製造例８で得られた樹脂７２重量％との混合組成物
（極限粘度［η］０．３０ｄｌ／ｇ）を用いた外は、前
記実施例１〜６等と同様にして樹脂組成物を製造した。
結果を表３に併記した。
【００３０】
【表１】
【００３１】
【表２】
【００３２】
【表３】
【００３３】
【発明の効果】本発明は、透明性、光学的均質性、低複
屈折性等の、優れた光学的特性を備えると共に、成形加
工性にも優れた芳香族ポリカーボネート樹脂組成物、お
よびそれからなる光学製品部材を提供することができ
る。
屈折性等の、優れた光学的特性を備えると共に、成形加
工性にも優れた芳香族ポリカーボネート樹脂組成物、お
よびそれからなる光学製品部材を提供することができ
る。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 平７−268197（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C08L 69/00
Claims (5)
- 【請求項１】下記の成分（Ａ）と成分（Ｂ）とからなる
ことを特徴とする芳香族ポリカーボネート樹脂組成物。 成分（Ａ）；下記一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、それぞれのベンゼン環は置換基を有していても
よい。）で表される構成単位１０〜６０モル％と、下記
一般式（II） 【化２】 （式中、Ｒ1 は、水素原子、置換基を有していてもよい
アルキル基、または置換基を有していてもよいフェニル
基を表し、それぞれのベンゼン環は置換基を有していて
もよい。）で表される構成単位９０〜４０モル％とから
なる芳香族ポリカーボネート共重合体樹脂１〜９９重量
％ 成分（Ｂ）；下記一般式（III) 【化３】 （式中、Ｒ2 およびＲ3 は、水素原子、置換基を有して
いてもよいアルキル基を表し、それぞれのベンゼン環は
置換基を有していてもよい。）で表される構成単位、お
よび／または、下記一般式（IV） 【化４】 （式中、Ｘは、エーテル結合、チオエーテル結合、また
はスルホン結合を表し、それぞれのベンゼン環は置換基
を有していてもよい。）で表される構成単位、の過半量
からなる芳香族ポリカーボネート樹脂９９〜１重量％ - 【請求項２】 成分（Ａ）における前記一般式（Ｉ）で
表される構成単位が１０〜３０モル％、前記一般式（I
I）で表される構成単位が９０〜７０モル％である請求
項１に記載の芳香族ポリカーボネート樹脂組成物。 - 【請求項３】 成分（Ａ）が５〜６０重量％、成分
（Ｂ）が９５〜４０重量％である請求項１または２に記
載の芳香族ポリカーボネート樹脂組成物。 - 【請求項４】 請求項１乃至３のいずれかに記載の芳香
族ポリカーボネート樹脂組成物からなることを特徴とす
る光学製品部材。 - 【請求項５】 光学製品部材が光ディスク用基板である
請求項４に記載の光学製品部材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12206197A JP3478053B2 (ja) | 1997-05-13 | 1997-05-13 | 芳香族ポリカーボネート樹脂組成物およびそれからなる光学製品部材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12206197A JP3478053B2 (ja) | 1997-05-13 | 1997-05-13 | 芳香族ポリカーボネート樹脂組成物およびそれからなる光学製品部材 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10310692A JPH10310692A (ja) | 1998-11-24 |
| JP3478053B2 true JP3478053B2 (ja) | 2003-12-10 |
Family
ID=14826663
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12206197A Expired - Lifetime JP3478053B2 (ja) | 1997-05-13 | 1997-05-13 | 芳香族ポリカーボネート樹脂組成物およびそれからなる光学製品部材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3478053B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2016137445A1 (en) | 2015-02-24 | 2016-09-01 | South Dakota Board Of Regents | Polycarbonates having superior dielectric properties suitable for energy dense capacitors |
| WO2017203852A1 (ja) * | 2016-05-27 | 2017-11-30 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 光学用ポリカーボネート樹脂組成物及びその製造方法並びにそれを含むメガネレンズ及びカメラレンズ |
| CN113396183B (zh) * | 2019-02-06 | 2022-02-22 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 树脂组合物和成型品 |
| WO2021112082A1 (ja) * | 2019-12-04 | 2021-06-10 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 平板状成形体および多層体 |
-
1997
- 1997-05-13 JP JP12206197A patent/JP3478053B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH10310692A (ja) | 1998-11-24 |
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|---|---|---|---|
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