JPH0644354B2 - プラスチック情報記録媒体 - Google Patents
プラスチック情報記録媒体Info
- Publication number
- JPH0644354B2 JPH0644354B2 JP60152521A JP15252185A JPH0644354B2 JP H0644354 B2 JPH0644354 B2 JP H0644354B2 JP 60152521 A JP60152521 A JP 60152521A JP 15252185 A JP15252185 A JP 15252185A JP H0644354 B2 JPH0644354 B2 JP H0644354B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- recording medium
- information recording
- weight
- mol
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C45/00—Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor
- B29C45/17—Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
- B29C45/26—Moulds
- B29C45/263—Moulds with mould wall parts provided with fine grooves or impressions, e.g. for record discs
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、デジタルオーディオディスク、ビデオディス
ク、光ディスク、光磁気ディスクなどのプラスチック情
報記録媒体に関するものである。
ク、光ディスク、光磁気ディスクなどのプラスチック情
報記録媒体に関するものである。
デジタルオーデイオデイクス、ビデオデイスク、光デイ
スク情報記録媒体、光磁気デイスク等に用いるプラスチ
ツク情報記録媒体は、透明プラスチツク板表面に溝やピ
ツト等で情報パターンを設けたものである。
スク情報記録媒体、光磁気デイスク等に用いるプラスチ
ツク情報記録媒体は、透明プラスチツク板表面に溝やピ
ツト等で情報パターンを設けたものである。
このようなプラスチツク情報記録媒体は、情報パターン
を有するスタンパの情報パターン形成面と透明プラスチ
ツク板とを一定間隔に対向させて出来た空間に、１分子
当り１〜４個のアクリレート基又はメタクリレート基を
有するアクリレート又はアクリレートオリゴマーと、0.
1〜0.5重量％の光重合開始剤とを含み、粘度が1000〜15
000cpである放射線硬化性樹脂組成物、具体的にはアル
キレン−ビス（フエノキシアルキルアクリレート）に属
する(1)式の化合物又はアルキレン−ビス（フエノキシ
アルキルメタクリレート）に属する(2)式の化合物を主
成分とし、これらに光重合開始剤を加えた放射線硬化性
樹脂組成物を注入し、透明プラスチツク板側より放射線
を照射し上記放射線硬化性樹脂組成物を硬化させ、上記
スタンパと透明プラスチツク板を取り除いている。
を有するスタンパの情報パターン形成面と透明プラスチ
ツク板とを一定間隔に対向させて出来た空間に、１分子
当り１〜４個のアクリレート基又はメタクリレート基を
有するアクリレート又はアクリレートオリゴマーと、0.
1〜0.5重量％の光重合開始剤とを含み、粘度が1000〜15
000cpである放射線硬化性樹脂組成物、具体的にはアル
キレン−ビス（フエノキシアルキルアクリレート）に属
する(1)式の化合物又はアルキレン−ビス（フエノキシ
アルキルメタクリレート）に属する(2)式の化合物を主
成分とし、これらに光重合開始剤を加えた放射線硬化性
樹脂組成物を注入し、透明プラスチツク板側より放射線
を照射し上記放射線硬化性樹脂組成物を硬化させ、上記
スタンパと透明プラスチツク板を取り除いている。
しかし、上記放射線硬化性樹脂組成物は、成型条件を厳
密に選定する必要があり、かつこの組成物では硬化物の
機械強度、耐熱性、耐湿性において不十分であり、か
つ、光学的異方性の小さいプラスチツク情報記録媒体が
得られなかつた（特開昭55−160338）。
密に選定する必要があり、かつこの組成物では硬化物の
機械強度、耐熱性、耐湿性において不十分であり、か
つ、光学的異方性の小さいプラスチツク情報記録媒体が
得られなかつた（特開昭55−160338）。
本発明の目的は、成型条件の選定が厳密でなくてよく、
かつ硬化物の機械強度、耐熱性、耐湿性良く、光学的異
方性の小さいプラスチツク情報記録媒体を提供するにあ
る。
かつ硬化物の機械強度、耐熱性、耐湿性良く、光学的異
方性の小さいプラスチツク情報記録媒体を提供するにあ
る。
〔発明の概要〕 上記目的は、下記化合物（Ｉ）〜下記化合物（IV）より
なる光硬化性樹脂組成物を放射線で硬化させることで達
成される。
なる光硬化性樹脂組成物を放射線で硬化させることで達
成される。
化合物（Ｉ） １分子中に４個以上の、好ましくは４〜８個、更に好ま
しくは５〜６個のアクリル基またはメタクリル基を有
し、25℃における粘度が3000cp以下、好ましくは3000〜
10cp、更に好ましくは3000〜100cp の化合物(Ｉ)。
しくは５〜６個のアクリル基またはメタクリル基を有
し、25℃における粘度が3000cp以下、好ましくは3000〜
10cp、更に好ましくは3000〜100cp の化合物(Ｉ)。
化合物(II) 一般式(3)で示される化合物(II)。
（但し一般式(3)中、R1は−Hまたは−CH3、R2は−H，炭
素数１〜５のアルキル基または R3は であり、好ましくは である。） 化合物(III) 一般式(4)で示される化合物(III)。
素数１〜５のアルキル基または R3は であり、好ましくは である。） 化合物(III) 一般式(4)で示される化合物(III)。
（但し一般式(4)中R4は炭素数６〜16の炭化水素基好ま
しくは であり、更に好ましくは である。） 化合物(IV) 光重合開始剤 なお、上記化合物(Ｉ)〜(III)の配合割合は、第１図に
示す三角図のＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅで囲まれた範囲であ
り、上記化合物(IV)の配合割合は、上記化合物(Ｉ)〜(I
II)が上記の三角図のように配合されたもの100 重量部
に対して0.5 〜10重量部であり、好ましくは0.5〜５重
量部、更に好ましくは0.7〜３重量部である。
しくは であり、更に好ましくは である。） 化合物(IV) 光重合開始剤 なお、上記化合物(Ｉ)〜(III)の配合割合は、第１図に
示す三角図のＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅで囲まれた範囲であ
り、上記化合物(IV)の配合割合は、上記化合物(Ｉ)〜(I
II)が上記の三角図のように配合されたもの100 重量部
に対して0.5 〜10重量部であり、好ましくは0.5〜５重
量部、更に好ましくは0.7〜３重量部である。
但し、第１図の三角図中の点Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅは、以
下の組成を表わす。
下の組成を表わす。
なお、上記化合物(Ｉ)の配合割合が５重量％より少ない
と粘度が高くなつて注入作業が困難となり、硬化物であ
るプラスチツク情報記録媒体を高温（例えば70℃）で使
用するとそりが起こり、弾性率が実用的でなく、表面硬
化も悪くなり、50重量％より多いと硬化物の機械強度
（引張強度、弾性率）が悪く、光学的歪が大きくなり、
共に使用できない。
と粘度が高くなつて注入作業が困難となり、硬化物であ
るプラスチツク情報記録媒体を高温（例えば70℃）で使
用するとそりが起こり、弾性率が実用的でなく、表面硬
化も悪くなり、50重量％より多いと硬化物の機械強度
（引張強度、弾性率）が悪く、光学的歪が大きくなり、
共に使用できない。
上記化合物(II)の配合割合が20％より少ないと硬化物機
械強度（引張強度、弾性率）が悪くなり、90重量％より
多くなると硬化物であるプラスチツク情報記録媒体を高
温（例えば70℃）で使用するとそりが起こり、共に実用
できない。
械強度（引張強度、弾性率）が悪くなり、90重量％より
多くなると硬化物であるプラスチツク情報記録媒体を高
温（例えば70℃）で使用するとそりが起こり、共に実用
できない。
上記化合物(III)の配合割合が５重量％より少ないと光
学的歪が悪くなると共に吸湿性が大きくなるためプラス
チツク情報記録媒体のそりが大きくなり、50重量％より
多いと硬化物の機械強度（引張強度、弾性率）が悪くな
り、共に実用できない。
学的歪が悪くなると共に吸湿性が大きくなるためプラス
チツク情報記録媒体のそりが大きくなり、50重量％より
多いと硬化物の機械強度（引張強度、弾性率）が悪くな
り、共に実用できない。
上記化合物(IV)の配合割合が0.5重量％より少なくなる
と放射線硬化が不十分となり、５重量％より多くなると
硬化物の機械強度が低下し、共に実用できない。
と放射線硬化が不十分となり、５重量％より多くなると
硬化物の機械強度が低下し、共に実用できない。
次に、上記化合物(Ｉ)〜(IV)の具体例を示す。上記化合
物(Ｉ)は、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、
ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタ
エリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリ
トールヘキサメタクリレート、ジペンタエリスリトール
誘導体のヘキサアクリレートまたはヘキサメタクリレー
トなどである。これらは単独または二種類以上混合して
用いる。
物(Ｉ)は、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、
ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタ
エリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリ
トールヘキサメタクリレート、ジペンタエリスリトール
誘導体のヘキサアクリレートまたはヘキサメタクリレー
トなどである。これらは単独または二種類以上混合して
用いる。
上記化合物(II)は、一般式(3)中のR3が の、 １，１′−メチレンビス（４−イソシアナトベンゼン）
１モルと２−ヒドロキシエチルアクリレート２モルとの
反応生成物、 １，１′−メチレンビス（４−イソシアナトベンゼン）
１モルと２−ヒドロキシエチルメタクリレート２モルと
の反応生成物、 R3が の、 １，１′−メチレンビス（４−イソシアナトシクロヘキ
サン）１モルと２−ヒドロキシエチルアクリレート２モ
ルとの反応生成物、 １，１′−メチレンビス（４−イソシアナトシクロヘキ
サン）１モルと２−ヒドロキシエチルメタクリレート２
モルとの反応生成物、 R3が の、 イソホロンジイソシアネート１モルと２−ヒドロキシエ
チルアクリレート２モルとの反応生成物、 イソホロンジイソシアネート１モルと２−ヒドロキシエ
チルメタクリレート２モルとの反応生成物、 イソホロンジイソシアネート１モルと２−ヒドロキシプ
ロピルアクリレート２モルとの反応生成物、 イソホロンジイソシアネート１モルと２−ヒドロキシプ
ロピルメタクリレート２モルとの反応生成物、 イソホロンジイソシアネート１モルと２−ヒドロキシブ
チルアクリレート２モルとの反応生成物、 イソホロンジイソシアネート１モルと２−ヒドロキシブ
チルメタクリレート２モルとの反応生成物、 イソホロンジイソシアネート１モルと２−ヒドロキシ−
３−フエノキシプロピルアクリレート２モルとの反応生
成物、 イソホロンジイソシアネート１モルと２−ヒドロキシ−
３−フエノキシプロピルメタクリレート２モルとの反応
生成物などである。これらは単独もしくは二種以上混合
して用いる。
１モルと２−ヒドロキシエチルアクリレート２モルとの
反応生成物、 １，１′−メチレンビス（４−イソシアナトベンゼン）
１モルと２−ヒドロキシエチルメタクリレート２モルと
の反応生成物、 R3が の、 １，１′−メチレンビス（４−イソシアナトシクロヘキ
サン）１モルと２−ヒドロキシエチルアクリレート２モ
ルとの反応生成物、 １，１′−メチレンビス（４−イソシアナトシクロヘキ
サン）１モルと２−ヒドロキシエチルメタクリレート２
モルとの反応生成物、 R3が の、 イソホロンジイソシアネート１モルと２−ヒドロキシエ
チルアクリレート２モルとの反応生成物、 イソホロンジイソシアネート１モルと２−ヒドロキシエ
チルメタクリレート２モルとの反応生成物、 イソホロンジイソシアネート１モルと２−ヒドロキシプ
ロピルアクリレート２モルとの反応生成物、 イソホロンジイソシアネート１モルと２−ヒドロキシプ
ロピルメタクリレート２モルとの反応生成物、 イソホロンジイソシアネート１モルと２−ヒドロキシブ
チルアクリレート２モルとの反応生成物、 イソホロンジイソシアネート１モルと２−ヒドロキシブ
チルメタクリレート２モルとの反応生成物、 イソホロンジイソシアネート１モルと２−ヒドロキシ−
３−フエノキシプロピルアクリレート２モルとの反応生
成物、 イソホロンジイソシアネート１モルと２−ヒドロキシ−
３−フエノキシプロピルメタクリレート２モルとの反応
生成物などである。これらは単独もしくは二種以上混合
して用いる。
上記化合物(III)は、一般式(4)中のR4が の、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタ
クリレート、 R４が のボルニルメタクリレート、 R４が のイソボルニルアクリレート、イソボニルメタクリレー
ト、 R４が のジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンテニ
ルメタクリレート、 R４が のトリシクロデカニルアクリレート、 トリシクロデカニルメタクリレートが好ましい。
クリレート、 R４が のボルニルメタクリレート、 R４が のイソボルニルアクリレート、イソボニルメタクリレー
ト、 R４が のジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンテニ
ルメタクリレート、 R４が のトリシクロデカニルアクリレート、 トリシクロデカニルメタクリレートが好ましい。
R４がn−CH3(CH2)5−のn−ヘキシルアクリレート、ｎ−
ヘキシルメタクリレート、 の２−エチルヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシ
ルメタクリレート、 R４がn−CH3(CH2)9−のｎ−デシルアクリレート、ｎ−
デシルメタクリレート、 R４がCH3(CH2)11−のラウリルアクリレート、ラウリル
メタクリレート、 R４がCH3(CH2)12−のトリデシルアクリレート、トリデ
シルメタクリレートなども用いることができる。これら
は単独もしくは二種類以上混合して用いる。
ヘキシルメタクリレート、 の２−エチルヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシ
ルメタクリレート、 R４がn−CH3(CH2)9−のｎ−デシルアクリレート、ｎ−
デシルメタクリレート、 R４がCH3(CH2)11−のラウリルアクリレート、ラウリル
メタクリレート、 R４がCH3(CH2)12−のトリデシルアクリレート、トリデ
シルメタクリレートなども用いることができる。これら
は単独もしくは二種類以上混合して用いる。
上記化合物(IV)の光重合開始剤は、ベンジル類、ベンゾ
イン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロ
ピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテルなどのベ
ンゾイン類、ベンゾフエノン、４−メトキシベンゾフエ
ノンなどのベンゾフエノン類、アセトフエノン、２，２
−ジエトキシアセトフエノンなどのアセトフエノン類、
２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントン
などのチオキサントン類、２−エチルアントラキノン、
２−メチルアントラキノンなどのアントラキノン類、ベ
ンジルジメチルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシ
ルフエニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−
フエニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピル
フエニル）−２−ヒドロキシ−メチルプロパン−１−オ
ンなどであり、好ましくはベンゾインイソプロピルエー
テル、ベンゾインイソブチルエーテル、１−ヒドロキシ
シクロヘキシルフエニルケトン、１−（４−イソプロピ
ルフエニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−
１−オンである。これらは単独もしくは二種類以上混合
して用いる。
イン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロ
ピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテルなどのベ
ンゾイン類、ベンゾフエノン、４−メトキシベンゾフエ
ノンなどのベンゾフエノン類、アセトフエノン、２，２
−ジエトキシアセトフエノンなどのアセトフエノン類、
２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントン
などのチオキサントン類、２−エチルアントラキノン、
２−メチルアントラキノンなどのアントラキノン類、ベ
ンジルジメチルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシ
ルフエニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−
フエニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピル
フエニル）−２−ヒドロキシ−メチルプロパン−１−オ
ンなどであり、好ましくはベンゾインイソプロピルエー
テル、ベンゾインイソブチルエーテル、１−ヒドロキシ
シクロヘキシルフエニルケトン、１−（４−イソプロピ
ルフエニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−
１−オンである。これらは単独もしくは二種類以上混合
して用いる。
次に、本発明にかゝるプラスチック情報記録媒体の製造
方法の一例を述べる。
方法の一例を述べる。
スタンパと離型性板との間に生じさせる空間は、0.8 〜
2.0 mmが望ましい。空間が0.8mmより薄いと、放射線硬
化性樹脂組成物の硬化物から成る情報パターン付プラス
チック情報記録媒体の厚さが薄くなり、板の機械的強さ
が低下したり、情報パターン付プラスチツク情報記録媒
体の情報の無い面に付着した異物が情報読取時にノイズ
となる傾向が増大し、また、空間が2.0mmより大きくな
ると、得られる情報パターン付プラスチツク情報記録媒
体が厚くなり、該板の中に未硬化成分が有つたり、必要
以上に重量増加を来たし、共に好ましくない。
2.0 mmが望ましい。空間が0.8mmより薄いと、放射線硬
化性樹脂組成物の硬化物から成る情報パターン付プラス
チック情報記録媒体の厚さが薄くなり、板の機械的強さ
が低下したり、情報パターン付プラスチツク情報記録媒
体の情報の無い面に付着した異物が情報読取時にノイズ
となる傾向が増大し、また、空間が2.0mmより大きくな
ると、得られる情報パターン付プラスチツク情報記録媒
体が厚くなり、該板の中に未硬化成分が有つたり、必要
以上に重量増加を来たし、共に好ましくない。
情報パターン付スタンパには、(a)放射線を透過せずか
つ離型性の良いNi ,Cr ,Pdなどの金属、(b)放射線を透
過せずかつ離型性の良いポリプロピレン、ポリフツ化エ
チレン、ポリフツ化エチレンプロピレン、(c)放射線を
透過しかつ離型性の悪いガラスあるいはポリカーボネイ
ト、ポリメチルメタクリレートなどの板表面に放射線硬
化樹脂で情報パターンを形成したもの、(d)放射線を透
過しかつ離型性の良いポリペンテンなどが用いられる。
そして、上記(a)，(b)に属するスタンパは情報パターン
面をジメチルシリコーンなどの離型剤を離型処理したも
のを用いる。なかでも上記(c)が好ましい。
つ離型性の良いNi ,Cr ,Pdなどの金属、(b)放射線を透
過せずかつ離型性の良いポリプロピレン、ポリフツ化エ
チレン、ポリフツ化エチレンプロピレン、(c)放射線を
透過しかつ離型性の悪いガラスあるいはポリカーボネイ
ト、ポリメチルメタクリレートなどの板表面に放射線硬
化樹脂で情報パターンを形成したもの、(d)放射線を透
過しかつ離型性の良いポリペンテンなどが用いられる。
そして、上記(a)，(b)に属するスタンパは情報パターン
面をジメチルシリコーンなどの離型剤を離型処理したも
のを用いる。なかでも上記(c)が好ましい。
平滑面を有する離型性板には、(c)上記(a)と同一材質の
もの、(f)上記(b)と同一材質のもの、(g)ガラス板、(h)
上記(d)と同一材質のもの用いる。なかでも(e)が好まし
い。
もの、(f)上記(b)と同一材質のもの、(g)ガラス板、(h)
上記(d)と同一材質のもの用いる。なかでも(e)が好まし
い。
また、情報パターン付スタンパに上記(g)，(h)のガラス
板またはポリペンテンを用い、離型性板側から放射線を
照射する。
板またはポリペンテンを用い、離型性板側から放射線を
照射する。
さらに、情報パターン付スタンパに上記(c)，(d)を用
い、平滑面を有する離型性板に上記(g)，(h)を用いた時
は、少なくとも一方の側から放射線を照射する。
い、平滑面を有する離型性板に上記(g)，(h)を用いた時
は、少なくとも一方の側から放射線を照射する。
以上のようにして製作したプラスチツク情報記録媒体
は、光学的歪が小さく、透明性を有し、耐湿性が良好な
ので吸湿によつてそらないし、耐熱性が良好なので70℃
で使用してもそらない。機械強度が良好なので衝撃によ
つて破損しないと言うすぐれた特性を有している。
は、光学的歪が小さく、透明性を有し、耐湿性が良好な
ので吸湿によつてそらないし、耐熱性が良好なので70℃
で使用してもそらない。機械強度が良好なので衝撃によ
つて破損しないと言うすぐれた特性を有している。
なお、プラスチツク情報記録媒体を製造する際の放射線
硬化性樹脂組成物の硬化性は、硬化状態の外観を観察し
て判定した。硬化後の樹脂のレタデーシヨン、耐熱性、
引張り強さは、以下のようにして測定して判定した。
硬化性樹脂組成物の硬化性は、硬化状態の外観を観察し
て判定した。硬化後の樹脂のレタデーシヨン、耐熱性、
引張り強さは、以下のようにして測定して判定した。
レタデーシヨン： 波長830 nmにおけるシングルパスのレタデーシヨンを測
定した。
定した。
耐熱性： 長さ45mm、幅５mmの放射線硬化樹脂の長手方向の一端を
固定し、他端に10ｇの荷重をかけたまま、10℃／30min
の速度で昇温し、変形を開始する温度を測定する。
固定し、他端に10ｇの荷重をかけたまま、10℃／30min
の速度で昇温し、変形を開始する温度を測定する。
引張り強さ： JISK6745に定められたダンベルを作成し、これを引張り
試験機により破断させた時の引張強さを求めた。
試験機により破断させた時の引張強さを求めた。
以下、本発明を実施例により詳述する。
実施例１ ジペンタエリスリトール誘導体のヘキサアクリレート
（日本化薬社製商品名DPCA30）40重量％，イソホロンジ
イソシアネート１モルと２−ヒドロキシエチルメタクリ
レート２モルとの反応生成物30重量％，イソボルニルメ
タクリレート28重量％，光重合開始剤ベンゾインイソプ
ロピルエーテル２重量％から成る第１表NO.1の光硬化性
樹脂組成物を準備した。
（日本化薬社製商品名DPCA30）40重量％，イソホロンジ
イソシアネート１モルと２−ヒドロキシエチルメタクリ
レート２モルとの反応生成物30重量％，イソボルニルメ
タクリレート28重量％，光重合開始剤ベンゾインイソプ
ロピルエーテル２重量％から成る第１表NO.1の光硬化性
樹脂組成物を準備した。
また、第２図(a)〜第２図(c)に示すように、溝（深さ：
0.09μm，巾：0.40μm）およびピツト（深さ：0.16μ
m，巾：0.60μm）を有する外形300 mmのニツケル製情報
パターン付スタンパ１を用意した。
0.09μm，巾：0.40μm）およびピツト（深さ：0.16μ
m，巾：0.60μm）を有する外形300 mmのニツケル製情報
パターン付スタンパ１を用意した。
ジメチルシリコーン離型剤を焼付けた外径300 mmのガラ
ス円板（厚さ：10mm）よりなる平滑面を有する離型性板
２の平滑面を上記スタンパの情報パターン形成面と向い
合わせ、1.3mmの空間３−１を形成し、この中へ、真空
下で注入口４より前述の光硬化性樹脂組成物３−２を注
入した。平滑面を有する離型性板２の側より、波長領域
320〜400nmにおける光強度が400 mW／cm2の紫外線を高
圧水銀灯５を用いて40秒間照射し、光硬化性樹脂組成物
３−２を硬化させた。次いで、光硬化樹脂を情報パター
ン付スタンパ１と平滑面を有する離型性板２からとり出
し、プラスチツク情報記録媒体３−３を得た。
ス円板（厚さ：10mm）よりなる平滑面を有する離型性板
２の平滑面を上記スタンパの情報パターン形成面と向い
合わせ、1.3mmの空間３−１を形成し、この中へ、真空
下で注入口４より前述の光硬化性樹脂組成物３−２を注
入した。平滑面を有する離型性板２の側より、波長領域
320〜400nmにおける光強度が400 mW／cm2の紫外線を高
圧水銀灯５を用いて40秒間照射し、光硬化性樹脂組成物
３−２を硬化させた。次いで、光硬化樹脂を情報パター
ン付スタンパ１と平滑面を有する離型性板２からとり出
し、プラスチツク情報記録媒体３−３を得た。
この情報記録媒体は、1.2mmの厚さを有し、スタンパの
溝とピツトの転写像を正確に保有し、かつ第１表NO.1に
示すように波長830 nmにおける光学的リターデーシヨン
が0.5nm、熱変形温度が110 ℃、引張り強さが550 Kg/cm
2、波長830 nmにおける光透過率が99％、板の反りが0.1
mm／300mmφ以下であり、光デイスク用基板として優れ
た特性を有していた。
溝とピツトの転写像を正確に保有し、かつ第１表NO.1に
示すように波長830 nmにおける光学的リターデーシヨン
が0.5nm、熱変形温度が110 ℃、引張り強さが550 Kg/cm
2、波長830 nmにおける光透過率が99％、板の反りが0.1
mm／300mmφ以下であり、光デイスク用基板として優れ
た特性を有していた。
実施例２ ジペンタエリスリトール誘導体のヘキサアクリレート
（日本化薬社製商品名DPCA 60）40重量％、１，３ビス
（イソシアナトメチル）シクロヘキサン１モルと２−ヒ
ドロキシエチルメタクリレート２モルとの反応生成物30
重量％、シクロヘキシルメタクリレート28重量％、光重
合開始剤ベンゾインイソブチルエーテル２重量％から成
る第１表NO.２の光硬化製樹脂組成物を準備した。
（日本化薬社製商品名DPCA 60）40重量％、１，３ビス
（イソシアナトメチル）シクロヘキサン１モルと２−ヒ
ドロキシエチルメタクリレート２モルとの反応生成物30
重量％、シクロヘキシルメタクリレート28重量％、光重
合開始剤ベンゾインイソブチルエーテル２重量％から成
る第１表NO.２の光硬化製樹脂組成物を準備した。
また、第２図(a)〜第２図(c)に示すように、溝（深さ：
0.09μm，巾：0.40μm）およびピツト（深さ：0.16μ
m，巾：0.60μm）を有する外径300mm の透明樹脂製情報
パターン付スタンパ１を用意した。上記透明樹脂製スタ
ンパは、厚さ10mmのポリメチルメタクリレート板上に、
厚さ約80μm の溝およびピツト付光硬化性樹脂（ポリプ
ロピレングリコールジメタクリレート50重量％とネオペ
ンチルグリコールジメタクリレート48重量％と光重合開
始剤ベンゾインイソプロピルエーテル２重量％から成る
硬化物）を付着せしめたものである。
0.09μm，巾：0.40μm）およびピツト（深さ：0.16μ
m，巾：0.60μm）を有する外径300mm の透明樹脂製情報
パターン付スタンパ１を用意した。上記透明樹脂製スタ
ンパは、厚さ10mmのポリメチルメタクリレート板上に、
厚さ約80μm の溝およびピツト付光硬化性樹脂（ポリプ
ロピレングリコールジメタクリレート50重量％とネオペ
ンチルグリコールジメタクリレート48重量％と光重合開
始剤ベンゾインイソプロピルエーテル２重量％から成る
硬化物）を付着せしめたものである。
ジメチルシリコーン離型剤を焼付けた外径300 mmのニツ
ケル製円板（厚さ５mm）よりなる平滑面を有する離型性
板の平滑面を上記透明樹脂製スタンパの情報パターン面
と向い合わせ、1.3mmの空間３−１を形成し、この中
へ、真空下で注入口４よりあらかじめ準備した前述の光
硬化性樹脂組成物３−２を注入した。
ケル製円板（厚さ５mm）よりなる平滑面を有する離型性
板の平滑面を上記透明樹脂製スタンパの情報パターン面
と向い合わせ、1.3mmの空間３−１を形成し、この中
へ、真空下で注入口４よりあらかじめ準備した前述の光
硬化性樹脂組成物３−２を注入した。
平滑面を有する離型性板２の側おり、波長320 〜400 nm
における光強度が400 mW／cm2の紫外線を高圧水銀灯を
用いて40秒間照射し、光硬化性樹脂組成物を硬化させ
た。
における光強度が400 mW／cm2の紫外線を高圧水銀灯を
用いて40秒間照射し、光硬化性樹脂組成物を硬化させ
た。
次いで、光硬化樹脂を情報パターン付スタンパ１と平滑
面を有する離型性板２とからとり出し、プラスチツク情
報記録媒体３−３を得た。
面を有する離型性板２とからとり出し、プラスチツク情
報記録媒体３−３を得た。
この情報記録媒体は、1.2mmの厚さを有し、スタンパの
溝とピツトの転写像を正確に有し、かつ第１表NO.2に示
すように波長830 nmにおける光学的リターデーシヨンが
0.4nm、熱変形温度が100 ℃、引張り強さが500 Kg／c
m2、波長830 nmにおける光透過率が95％、板の反りが0.
1mm/300mmφ以下であり、光デイスク用基板として優れ
た特性を有していた。
溝とピツトの転写像を正確に有し、かつ第１表NO.2に示
すように波長830 nmにおける光学的リターデーシヨンが
0.4nm、熱変形温度が100 ℃、引張り強さが500 Kg／c
m2、波長830 nmにおける光透過率が95％、板の反りが0.
1mm/300mmφ以下であり、光デイスク用基板として優れ
た特性を有していた。
実施例３ 前記化合物(Ｉ)〜(IV)を第２表のNO.3〜NO.12のように
配合し、実施例１と同様にしてプラスチツク情報記録媒
体を製作した。その結果第２表NO.３〜NO.12 は硬化
性、レタデーシヨン、耐熱性、引張り強さいずれも目標
値以上で実用に供することができた。それに反し、第２
表のNO.13〜NO.24はこれらの特性を満足せず実用に供す
ることができなかつた。
配合し、実施例１と同様にしてプラスチツク情報記録媒
体を製作した。その結果第２表NO.３〜NO.12 は硬化
性、レタデーシヨン、耐熱性、引張り強さいずれも目標
値以上で実用に供することができた。それに反し、第２
表のNO.13〜NO.24はこれらの特性を満足せず実用に供す
ることができなかつた。
実施例４ 前記化合物(Ｉ)〜(IV)を第３表のNO.25 〜30のように配
合すると共に、従来品のNO.31 ，NO. 32を用いて実施例
と同様にしてプラスチツク情報媒体を製作した。その結
果第３表のNO.25 〜30は、硬化性、レタデーシヨン、耐
熱性、引張り強さいずれも目標値以上で実用に供するこ
とができた。
合すると共に、従来品のNO.31 ，NO. 32を用いて実施例
と同様にしてプラスチツク情報媒体を製作した。その結
果第３表のNO.25 〜30は、硬化性、レタデーシヨン、耐
熱性、引張り強さいずれも目標値以上で実用に供するこ
とができた。
それに反し、第３表のNO.31 ，NO.32 はレターデーシヨ
ン、耐熱性、引張り強さが目標値に到達せず実用に供す
ることができなかつた。
ン、耐熱性、引張り強さが目標値に到達せず実用に供す
ることができなかつた。
実施例５ 実施例１〜３で製造した光デイスク用基板の情報パター
ン側へTe−Sn径相転移型記録膜を30nmの厚さに真空蒸着
した後、SiO2膜を10 nm の厚さに真空蒸着し、保護コー
トした。さらに、この上へ厚さ１mmのポリメチルメタク
リレート板又はポリカーボネイト板をエポキシ樹脂によ
り貼り合わせ、光デイスク記録媒体を形成した。本発明
に係る透明板の側より、830 nmの半導体レーザ光を用い
て書込みおよび読取り特性を評価し、正常動作すること
を確認した。
ン側へTe−Sn径相転移型記録膜を30nmの厚さに真空蒸着
した後、SiO2膜を10 nm の厚さに真空蒸着し、保護コー
トした。さらに、この上へ厚さ１mmのポリメチルメタク
リレート板又はポリカーボネイト板をエポキシ樹脂によ
り貼り合わせ、光デイスク記録媒体を形成した。本発明
に係る透明板の側より、830 nmの半導体レーザ光を用い
て書込みおよび読取り特性を評価し、正常動作すること
を確認した。
実施例６ ジペンタエリスリトール誘導体のヘキサアクリレート
（日本化薬社製商品名DPCA60）、30重量部、イソホロン
ジイソシアネート１モルと２−ヒドロキシエチルアクリ
レート２モルとの反応生成物60重量部、イソボルニルメ
タクリレート10重量部、光重合開始剤１−ヒドロキシシ
クロヘキシルフエニルケトン１重量部から成る光硬化性
樹脂を準備した。
（日本化薬社製商品名DPCA60）、30重量部、イソホロン
ジイソシアネート１モルと２−ヒドロキシエチルアクリ
レート２モルとの反応生成物60重量部、イソボルニルメ
タクリレート10重量部、光重合開始剤１−ヒドロキシシ
クロヘキシルフエニルケトン１重量部から成る光硬化性
樹脂を準備した。
また、第２図(a)〜第２図(c)に示すように、溝（深さ：
0.09μm，巾：0.40μm）およびピツト（深さ：0.16μ
m，巾：0.60μm）を有する外径130 mmの透明樹脂製スタ
ンパ１を用意した。上記透明樹脂製スタンパは厚さ10mm
のポリメチルメタクリレート板上に厚さ約８０μmの溝
およびピツト付光硬化製樹脂（ポリエチレングリコール
ジメタクリレート50重量％とヘキサンジオールジメタク
リレート48重量％と光重合開始剤ベンゾインイソプロピ
ルエーテル２重量％から成るものの硬化物）を付着せし
めたものである。
0.09μm，巾：0.40μm）およびピツト（深さ：0.16μ
m，巾：0.60μm）を有する外径130 mmの透明樹脂製スタ
ンパ１を用意した。上記透明樹脂製スタンパは厚さ10mm
のポリメチルメタクリレート板上に厚さ約８０μmの溝
およびピツト付光硬化製樹脂（ポリエチレングリコール
ジメタクリレート50重量％とヘキサンジオールジメタク
リレート48重量％と光重合開始剤ベンゾインイソプロピ
ルエーテル２重量％から成るものの硬化物）を付着せし
めたものである。
ジメチルシリコーン系離型剤を焼付けた外径130 mmのガ
ラス円板（厚さ：10mm）２を上記透明樹脂製スタンパ１
と向い合わせ、1.3mmの空間3-1 を形成し、この中へ、
真空下で注入口４よりあらかじめ準備した前述の光硬化
性樹脂３−２を注入した。
ラス円板（厚さ：10mm）２を上記透明樹脂製スタンパ１
と向い合わせ、1.3mmの空間3-1 を形成し、この中へ、
真空下で注入口４よりあらかじめ準備した前述の光硬化
性樹脂３−２を注入した。
透明樹脂製スタンパ１とガラス円板２の側に波長365 ｎ
における紫外線強度が100 mW／cm2となるように高圧水
銀灯を配置した。(a)透明樹脂製スタンパ１の側より光
照射する、(b)ガラス円板２の側より光照射する、(c)透
明樹脂製スタンパ１とガラス円板２の側より同時に光照
射する３つの異なつた照射方法により前記光硬化性樹脂
を硬化させた。次いで、光硬化性樹脂硬化物を透明樹脂
製スタンパ１とガラス円板２とからとり出し、溝および
ピツト付透明板を得た。
における紫外線強度が100 mW／cm2となるように高圧水
銀灯を配置した。(a)透明樹脂製スタンパ１の側より光
照射する、(b)ガラス円板２の側より光照射する、(c)透
明樹脂製スタンパ１とガラス円板２の側より同時に光照
射する３つの異なつた照射方法により前記光硬化性樹脂
を硬化させた。次いで、光硬化性樹脂硬化物を透明樹脂
製スタンパ１とガラス円板２とからとり出し、溝および
ピツト付透明板を得た。
溝およびピツト付透明板３−３は、1.2mmの厚さを有
し、スタンパの溝とピツトの転写像を正確に有してい
た。
し、スタンパの溝とピツトの転写像を正確に有してい
た。
上記溝およびピツト付透明板にTe系などの穴あけ型記録
膜を付着させて光デイスク記録媒体を形成する場合、該
透明板は、記録膜蒸着後の結晶化処理、エア・サンドイ
ッチ構造のデイスク組立時などに100 ℃１時間程度の高
温雰囲気にさらされる。
膜を付着させて光デイスク記録媒体を形成する場合、該
透明板は、記録膜蒸着後の結晶化処理、エア・サンドイ
ッチ構造のデイスク組立時などに100 ℃１時間程度の高
温雰囲気にさらされる。
そこで、光照射条件（ａ，ｂ，ｃ）と光照射時間を変え
て作成した溝およびピツト付透明板について加熱処理
（100 ℃／ｈ）前後のそりを測定したところ、第４表の
結果を得た。
て作成した溝およびピツト付透明板について加熱処理
（100 ℃／ｈ）前後のそりを測定したところ、第４表の
結果を得た。
片側から光照射したもの（ａ，ｂ）は、加熱処理により
そりがやや生じるのに反し、両側から同時に照射したも
の(c)は、加熱処理によつてもそりが認められない。ま
た、両側から同時に照射したものは、照射時間の短縮も
はかれる傾向がある。
そりがやや生じるのに反し、両側から同時に照射したも
の(c)は、加熱処理によつてもそりが認められない。ま
た、両側から同時に照射したものは、照射時間の短縮も
はかれる傾向がある。
実施例７ 実施例６でスタンパとガラス円板の両側から同時に光照
射(c)して製造した光デイスク用基板の情報パターン側
へTe・Se 系の穴あけ型記録膜を30mmの厚さに真空蒸着し
た。
射(c)して製造した光デイスク用基板の情報パターン側
へTe・Se 系の穴あけ型記録膜を30mmの厚さに真空蒸着し
た。
記録膜付基板を２枚用意し、記録膜側を向い合わせに配
置した。基板の内外周部に厚さ２mmのエポキシ樹脂製環
状ギヤツプを用い、記録膜付基板とエポキシ樹脂製環状
ギヤツプとエポキシ樹脂接着剤で貼り合わせ、該接着剤
を100 ℃／ｈかけて硬化せしめ、エア・サンドイツチ構
造の光デイスク記録媒体を形成した。この光デイスク記
録媒体は、830 nmの半導体レーザ光を用いて書込みおよ
び読取りが可能であり、正常に動作することを確認し
た。
置した。基板の内外周部に厚さ２mmのエポキシ樹脂製環
状ギヤツプを用い、記録膜付基板とエポキシ樹脂製環状
ギヤツプとエポキシ樹脂接着剤で貼り合わせ、該接着剤
を100 ℃／ｈかけて硬化せしめ、エア・サンドイツチ構
造の光デイスク記録媒体を形成した。この光デイスク記
録媒体は、830 nmの半導体レーザ光を用いて書込みおよ
び読取りが可能であり、正常に動作することを確認し
た。
〔発明の効果〕 以上述べたよううに本発明によれば成型条件の選定を厳
密に行わなくてもプラスチツク情報記録媒体が製造で
き、かつ硬化物の機械強度、耐熱性、耐湿性が良好であ
り、光学的異方性の小さいプラスチツク情報記録媒体が
得られる。
密に行わなくてもプラスチツク情報記録媒体が製造で
き、かつ硬化物の機械強度、耐熱性、耐湿性が良好であ
り、光学的異方性の小さいプラスチツク情報記録媒体が
得られる。
第１図は本発明にかゝるプラスチック情報記録媒体の光
硬化性樹脂組成物の組成範囲を示す三角図、第２図は本
発明のプラスチツク情報記録媒体の製造プロセスの一例
を示す図である。 １……情報パターン付スタンパ、２……離型性板、３−
１……空間、３−２……光硬化性樹脂組成物、３−３…
…プラスチツク情報記録体、４……注入口、５……高圧
水銀灯。
硬化性樹脂組成物の組成範囲を示す三角図、第２図は本
発明のプラスチツク情報記録媒体の製造プロセスの一例
を示す図である。 １……情報パターン付スタンパ、２……離型性板、３−
１……空間、３−２……光硬化性樹脂組成物、３−３…
…プラスチツク情報記録体、４……注入口、５……高圧
水銀灯。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ２９Ｌ 17:00 4Ｆ (72)発明者 田島 哲夫 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株 式会社日立製作所生産技術研究所内 (56)参考文献 特開 昭58−173623（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−173624（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】下記化合物（Ｉ）〜下記化合物（IV）より
なる光硬化性樹脂組成物を放射線で硬化させて得たプラ
スチック情報記録媒体。 化合物（Ｉ） １分子中に４個以上のアクリル基またはメタクリル基を
有し、かつ２５℃における粘度が３０００ｃｐ以下の化
合物。 化合物（II） 一般式（３）で示される化合物。 （但し一般式（３）中、Ｒ1は−Ｈまたは−ＣＨ3、Ｒ2
は−Ｈ，炭素数１〜５のアルキル基または R3は である。） 化合物（III） 一般式（４）で示される化合物（III） （但し一般式（４）中Ｒ4は炭素数１〜１６の炭化水素
基である） 化合物（IV） 光重合開始剤 よりなり、かつ上記（Ｉ）〜（III）の化合物の配合割
合は三角図のＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅで囲まれた範囲にあ
り、上記化合物（IV）の配合割合は、上記化合物（Ｉ）
〜（III）が上記三角図で示されるように配合されたも
の１００重量部に対して０．５〜１０重量部である。 但し三角図中の点Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅは以下の組成を表
わす。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60152521A JPH0644354B2 (ja) | 1985-07-12 | 1985-07-12 | プラスチック情報記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60152521A JPH0644354B2 (ja) | 1985-07-12 | 1985-07-12 | プラスチック情報記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6213307A JPS6213307A (ja) | 1987-01-22 |
| JPH0644354B2 true JPH0644354B2 (ja) | 1994-06-08 |
Family
ID=15542254
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60152521A Expired - Lifetime JPH0644354B2 (ja) | 1985-07-12 | 1985-07-12 | プラスチック情報記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0644354B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5931057B2 (ja) * | 2011-05-16 | 2016-06-08 | 三井化学株式会社 | 歯科材料、歯科材料組成物、歯科修復材料および硬化物 |
| JP5819415B2 (ja) | 2011-05-16 | 2015-11-24 | 三井化学株式会社 | 新規な化合物、該化合物を含む組成物および硬化物 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58173623A (ja) * | 1982-04-07 | 1983-10-12 | Toshiba Corp | 情報デイスクの複製製造方法 |
| JPS58173624A (ja) * | 1982-04-07 | 1983-10-12 | Toshiba Corp | 情報デイスクの複製製造方法 |
-
1985
- 1985-07-12 JP JP60152521A patent/JPH0644354B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6213307A (ja) | 1987-01-22 |
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