JPH03176837A - 光記録媒体用基板の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は光記録媒体用基板の製造方法に関し、詳しくは
光学的に情報の記録・再生を行なう光記録媒体用基板の
製造方法に関する。

［従来の技術］ 従来、各種情報の記録には磁気テープ、磁気ディスク等
の磁気材料、各種半導体メモリー等か主として用いられ
てきた。この様な磁気メモリー、半導体メモリーは情報
の書き込みおよび読みたしを容易に行うことかてきると
いう利点はあるか反面、情報の内容を容易に改ざんされ
たり、また高密度記録かできないという問題点があった
。かかる問題点を解決するために、多種多様の情報を効
率良く取り扱う手段として、光記録媒体による光学的情
報記録方法か提案され、その為の光学的情報記録担体、
記録再生方法、記録再生装置等が提案されている。

かかる情報記録担体としての光記録媒体は、般にレーザ
ー光を用いて光記録媒体上の光記録層の−・部を揮散さ
せるか、反射率の変化を生しさせるか、あるいは変形を
生しさせて、光学的な反射率や透過率の差によって情報
を記録し、あるいは再生を行なっている。この場合、光
記録層は情報の書き込み後、現像処理などの必要がなく
、「書いた後に直読するｊことのてきる。いわゆるＤＲ
ＡＪ　（タイレフト　リート　アフター　ライト；ｄｉ
ｒｅｃｔ　ｒｅａｄ　ａｆｔｅｒ　ｗｒｉｔｅ）媒体て
あり、高密度記録か可能であり、また追加書き込みも可
能であることから、情報の記録・保存媒体として有効で
ある。

第２図は、従来の光記録媒体の模式的断面図である。同
第２図において、１１は透明樹脂基板、１２は１〜う・
シフ溝部、１３は光記録層、１４はスペーサー・接着層
、１５は保護層である。同第２図において、情報の記録
・再生は透明樹脂基板１１およびトラック溝部１２を通
して光学的に書き込みと読み出しを行なう。この際、ト
ラック溝部１２の微細な凹凸を利用してレーザー光の位
相差によりトラッキングを行うことかてきる様に構成さ
れている。

［発明が解決しようとする課題］ 第２図に示した光記録媒体の透明樹脂基板１１の製造方
法としては、一般には射出成型法が用いられているが、
成型時間か長く、かつ−枚ずつしか製造できないという
問題点がある。本発明者らは、第１図に示した押し出し
成型によって透明樹脂基板１１を製造する方法か好まし
いことを見出した。この方法は連続製法であり、生産性
の高い方法である。射出成型法などの従来の方法ては、
透明樹脂基板１１の材料としては、ポリカーボネート樹
脂、ポリメチルメタクリル樹脂、ポリシクロヘキシルメ
タクリレート樹脂、アクリルメタクリレートとメチルメ
タクリレート、スチレンまたは他の単量体との共重合体
樹脂、嵩高いエステル基を有するメタクリル酸エステル
を含む重合体、その他が知られている。その中でも透明
性や成形性が良いポリカーボネートか多く用いられてい
る。

しかし、成型時の樹脂の冷却および流動過程において生
した熱応力、分子配向、ガラス転移点付近の容枡変化に
よる残留応力によって複屈折を生じるという問題点があ
る。この問題点を解決するために、従来ては、樹脂の流
動性を良くするために成形時の樹脂温度を高く選ぶ方法
、数平均分子量か低い樹脂を用いる方法が行われている
。

しかしながら、樹脂温度を高くすると樹脂の分解によっ
て黄変などの着色を生し、得られる成形物の透明性を損
なってしまい、機械的な強度が不足して成形時に割れが
生じたり、凹凸パターンの転写性が良くないという問題
点も生じている。いずれにしても押し出し成形に用いる
ことができる樹脂はまた得られていない。その他に、ポ
リメチルメタクリル樹脂も用いられている。ポリメチル
メタクリル樹脂は複屈折か小さいという利点かあるもの
の、吸湿性が大きいために記録膜の変質、基板の反りな
どを生じるという問題点がある。その他に、ガラス転移
点か低いため、耐熱性が悪いという問題点もあり、押し
出し成形するためには十分に温度を上げて融解すること
ができないという問題点かあった。それ以外には、シク
ロへキシルメタクリレートとメチルメタクリレートまた
はスチレンとの共重合体は耐熱性は向上するものの、例
えばメチルメタクリレートとの共重合体は吸湿性か大き
く、成形した基板が経時変化て反ってしまうという問題
点があり、一方スチレンとの共重合体はポリカーボネー
トと同様に複屈折か増大して光学特性が悪くなってしま
う。それ以外にも、」１記複屈折などの光学特性と耐熱
性、低吸収率などの特性を良くするために種々の新規な
樹脂が提案されている。（例えば、特開昭６３−２５６
６１．８号公報、特開昭６３−２６０４９０号公報）し
かしながら、従来は、十分な光学的特性、低吸湿性およ
び耐熱性を有する光学材料または光記録媒体用材料とし
ては好適な材料は殆ど得られていない。

゛特に、新規な成形方法である押し出し成形に好適な樹
脂はほとんど得られていないのが現状てあった。

本発明は、上記の問題を解決するためになされたもので
あり、複屈折が小さく、優れた透明性、耐熱性、機械的
強度を持ち、吸湿性か低く、成形性の良い光記録媒体用
基板を容易に押し出し成形によって連続的に製造する方
法を提供することを目的とするものである。

［課題を解決するだめの手段］ 即ち、本発明は、レーザービーム等の光ビームの照射に
よって、反射率、屈折率などの光学特性を変化させて情
報の記録・再生を行なう光記録媒体用の基板を製造する
方法おいて、下記一般式（Ｉ）で表わされるジオール化
合物と、環構造を有するジカルボン酸化合物またはその
ハロゲン化物とを縮合させて得られるポリエステルより
なる熱可塑性樹脂を用いて、光記録媒体用基板を押し出
し成形て連続的に製造することを特徴とする光記録媒体
用基板の製造方法である。

一般式（Ｉ） （式中、Ｒ１およびＲ２は水素原子または炭素数１〜３
のアルキル基を示し、ｎは１または２、ｐおよびｑは各
々Ｏまたは１である。） 以下、本発明の詳細な説明する。

本発明は、レーザービーム等の光ビームの照射によって
、反射率、透過率などの光学特性を変化させて情報の記
録・再生を行なう光記録媒体において、記録・再生光か
通る有効部分の複屈折が記録・再生光に対して、タプル
パスて］００ｎｍ以下である基板を押し出し成形で連続
的に製造することを特徴とする光記録媒体用基板の製造
方法である。

本発明において用いられるポリエステルよりなる熱可塑
性樹脂は、飽和吸水率が１．８％以下、アツベ数が４５
以上、かつガラス転移点か１００°Ｃ以上のものである
ことが好ましい。そのうちでも飽和吸水率は３％以下、
アツベ数は５５以上、ガラス転移点は１２０６Ｃ以上で
あることか好ましい。また、固有粘度は０．３ｄｉ）／
ｇ以上、引っ張り強度は５００ｋｇ／ｃｍ２以上である
ことか好ましい。

次に、一般式（Ｉ）で表されるジオール化合物の具体例
としては、ジメチロールトリシクロ［５，２，１，０２
６］デカン、ジメチロールメチルトリシクロ［５，２，
１，０２６］デカン、ジメチロールペンタシクロ［６，
５，ｌ、１”６゜Ｑ２．７　、　Ｑ２．Ｉ：ｌ］ペンタ
デカン、ジメチロールペンタシクロ［６，５，１，１３
６，０２７゜Ｑ２．＋３］ペンタデカン、ジメチロール
ジメチルペンタシクロ［６，５，１，１”６，０２７Ｑ
２．１″］ペンタデカン、ジヒドロキシトリシクロ［５
，２，１，０２６］デカン、ジヒドロキシメチルトリシ
クロ［５，２，１，０２６］デカン、ジヒドロキシペン
タシクロ［６，５，１，１３６Ｑ２．７　、　Ｑ２．＋
３］ペンタデカン、ジヒドロキシメチルペンタシクロ［
６，５，ｌ、１３６Ｑ２．７　、　Ｑ２．１３］ペンタ
デカン、ジヒドロキシジメチルペンタシクロ［６，５，
１，ｌ”６゜Ｑ２．７　、Ｑ２．ＩＪペンタデカンなど
を挙げることがてきる。

また、以上のジオール化合物と縮合されるジカルボン酸
化合物は、その分子構造中に環構造を有する芳香族若し
くは脂環族ジカルボン酸化合物またはそれらの酸ハロゲ
ン化物を成分として含有するものであることが必要てあ
り、この様な環構造を有するジカルボン酸化合物を縮合
させることにより、最終的に得られるポリエステルは、
極めて優れた耐熱性を有するものとなる。

環構造を有するジカルボン酸化合物のうち芳香族ジカル
ボン酸化合物の具体例としては、フタル酸、イソフタル
酸、テレフタル酸、４．４１−ジフェニルエーテルジカ
ルボン酸、３，４′−ジフェニルエーテルジカルボン酸
、３，３′−シ　０ フェニルエーテルジカルボン酸、４，４′−ベンゾフェ
ノンジカルボン酸、３．４′−ベンゾフェノンジカルボ
ン酸、２，４′−ベンゾフェノンジカルボン酸、３．３
′〜ベンゾフエノンジカルボン酸、４．４’−ジフェニ
ルスルフィトジカルボン酸、３，４′−ジフェニルスル
フィドジカルボン酸、２，４′−ジフェニルスルフィト
ジカルボン酸、３，３′−ジフェニルスルフィトジカル
ボン酸、４，４′−ジフェニルスルホンジカルボン酸、
３．４′−ジフェニルスルホンジカルボン酸、２，４′
−ジフェニルスルホンジカルボン酸、３，３′−ジフェ
ニルスルホンジカルボン酸、４．４′−ビフェニルジカ
ルボン酸、３゜４′−ビフェニルジカルボン酸、２，４
′−ビフェニルジカルボン酸、３，３′−ビフェニルジ
カルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、１．４
−ナフタレンジカルボン酸、１，５−ナフタレンジカル
ボン酸、１．８−ナフタレンジカルボン酸、４，４′−
ジフェニルメタンジカルボン酸、３，４′−ジフェニル
メタンジカルボン酸、３．３′−ジフェニルメタンジカ
ルボン酸、２゜４′−ジフェニルメタンジカルボン酸、
１．■。

３−トリメチル−５−カルボキシ−３−（ｐ−カルボキ
シフェニル）インダンなどを挙げることかできる。

また、脂肪族ジカルボン酸化合物の具体例としては、前
記芳香族ジカルボン酸化合物を水素添加して得られるジ
カルボン酸化合物、ジカルボキシトリシクロ［５，２，
１，０２６コデカン、ジカルボキシメチルトリシクロ［
５，２，１，０２６］デカン、ジカルボキシジメチルト
リシクロ［５２、ｌ　Ｏ２６］デカン、ジカルボキシペ
ンタシクロ［５，５，ｌ　、１ｆｆ６．Ｏ２，７、Ｏ２
，ＩＪペンタデカン、ジカルボキシメチルペンタシクロ
［６，ｓ、ｔ　、　　１ｆｆ６．０２．７．０２．＋３
］ペンタデカン、シカルボキシシメチルベンタシクロ［
６５、ｌ、　　１３．６　、　Ｏ２，７、Ｏ２，＋３］
ペンタデカンなどを挙げることかてきる。ここでいうジ
カルボン酸化合物には、ジカルボン酸およびこれらの誘
導体てあって、上記ジオール化合物と縮重合し１ ２ 得るもの、すなわち当該ジカルボン酸化合物のカルボキ
シル基の水素原子かメチル基などの低級アルキルと置換
されたエステルや、カルボキシル基の水酸基が塩素原子
、臭素原子などのハロゲン原子て置換された酸ハロゲン
化物、その他か含まれるか、本発明においては、これら
の環構造を有するジカルボン酸化合物のうち、特にテレ
フタル醜またはその誘導体を用いることが好ましい。

また、環構造を有するジカルボン酸化合物と共に用いる
ことか好ましい脂肪族ジカルボン酸化合物の具体例とし
ては、シュウ酸、マロン酸、グルタル酸、アジピン酸、
ピメリン酸、スペリン酸、アゼライン酸、セパシル酸な
どを挙げることかてきるか、特にアジピン酸などの炭素
数か６以下のものを用いることか好ましい。

本発明においては、上記一般式（Ｉ）で表されるジオー
ル化合物と、環構造を有するジカルボン酸化合物または
その酸ハロゲン化合物との縮合体であるポリエステルよ
り光記録媒体用基板を製造するものであり、用いられる
ジオール化合物とジカルボン酸化合物またはその酸ハロ
ゲン化合物との割合は、反応様式にもよるか、溶液縮重
合の場合には、一方の成分を他方の成分の１．５〜２．
０倍モルの割合て使用して縮重合反応を進行させること
かでき、また酸ハロゲン化物を用いる溶液縮重合の場合
には、通常、両成分を等モル使用して反応を進行させる
ことが、高分子量のものを得る上て好ましい。そして、
得られるポリエステルの分子量の大きさを調整するため
には、一方の成分を例えば、約１０モル％の範囲内で増
減することかできる。

また、用いるジカルボン酸化合物における環構造を有す
るジカルボン酸化合物の割合は２０モル％以上とするの
か好ましい。そして、芳香族または脂環族ジカルボン酸
化合物のほかに脂肪族ジカルボン酸化合物をも用いる場
合における当該脂肪族ジカルボン酸化合物の割合は、全
ジカルボン酸化合物中、５モル％以上であることか好ま
しい。

本発明に係わるポリエステルを製造するためには、公知
の方法を使用することかてきる。また、　３ ４ この縮重合の反応においては、必要に応じては分子量調
整剤を用いることかてき、その具体例としては、フェノ
ール、クレゾール、ｐ−フェニルフェノール、０−フェ
ニルフェノール、２−ナフトールなとの一官能性フエノ
ール類を好ましいものとして挙げることかてきる。重合
温度は０〜２００°Ｃの範囲において適宜選択されるか
、特に、５０〜１２０°Ｃか好ましい。

溶液重合法による場合における溶媒としては、ベンゼン
、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソフチルケトン、酢酸エチル、酢酸ツチル、ジクロルエ
チレン、クロロホルム、四塩化炭素、アニソール、ニト
ロベンゼン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトア
ミド、Ｎ−メチルピロリドンなどを使用することかてき
る。本発明に係るポリエステルには、その使用に際して
、老化防止性、熱安定性、成型性あるいは加工性の向上
を目的として、フェノール系、ホスファイト系、チオエ
ーテル系などの抗酸化剤、脂肪族アルコール、脂肪族エ
ステル、フタル酸エステル、トリグリセライド類、フッ
素系界面活性剤、高級脂肪酸金属塩などの離型剤、その
他潤滑、可塑剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、重金属不
活性剤などの添加剤を添加することかてきる。

本発明において用いられる重合体は、その分子量は特に
制限されるものではないか、優れた耐熱性および機械的
強度か得られる点から、数平均分子量は１００００〜１
００００００か適当てあり、より好ましくは２５０００
〜５ｏｏｏｏである。数平均分子量か１００００００を
こえて高いと、樹脂の溶融粘度が高いために溶融・成形
の温度が高くなってしまい、樹脂の熱分解による黄変を
生じ易くなり、その上凹凸パターンの転写性か悪くなる
。その反対に樹脂の数平均分子量か１００００未満て小
さいと、機械的な強度か低くなってしまい成形時に割れ
などが生じ易くなり、また樹脂の耐久性・耐溶剤性など
が悪くなってしまう。　また、押し出し成形ては、樹脂
温度か２００〜４００°Ｃの高い温度に加熱して成形す
るために、樹脂のガラス転移点は１００℃以上か望まし
い。

　５ ６ 本発明において用いられる押し出し成形法ては、従来の
射出成形法に比べて溶融した樹脂の成形時の流動速度か
小さいために、平均分子量が高い樹脂ても歪みが小さい
透明樹脂基板を製造することかできるが、その反面、押
し出した樹脂を巻き取るために張力がかかるために、機
械的な強度は必要である。

本発明においては、上記のようにして調製した樹脂を、
押し出し成形を行なって光記録媒体用基板を作製する。

第１図は本発明の光記録媒体用基板の製造方法の一例を
示す説明図である。同第１図において、■は樹脂基板、
２は成形ロール、３は加圧ロール、４はＴダイ、５はル
ーダ−１６はホッパー、７は引き取りロールである。成
形ロール２と加圧ロール３のロールの間隔は、樹脂基板
１の表面に成形ロール２に設けられスタンバの凹凸か充
分に転写し得る様に調整することか可能に構成されてい
る。　第１図において、ルーダ−５のＴダイ４から押し
出しされた樹脂シートは、軟化した状態で成形ロール２
と加圧ロール３のロール間に挿入され、成形ロール２の
凹凸面と加圧ロール３の鏡面により押圧されて、樹脂基
板ｌの表面にスタンバの凹凸状の信号か逐次転写される
。好ましい押し出し成形の条件は、ルータ−温度が２５
０〜３５０°Ｃ，Ｔタイ温度か２５０〜３５０８Ｃ１成
形ロールの温度が１００〜２００℃である。この成形に
おいて、ルータ−またはＴダイの温度を３５０°Ｃ以上
に高くすると樹脂か熱分解して黒くコゲたり、または黄
変したりするのて好ましくない。また、その逆にルーダ
−またはＴダイの温度を２５０°Ｃよりも低くすると、
溶融した樹脂の流動性か悪くなり、基板の厚さか不均一
になったり、また成形品に歪みか生したりする。使用す
る樹脂によって上記の問題が生しなければ、ルーダ−ま
たはＴタイの温度が２００〜４００℃の範囲でも溶融す
ることかてきる。押し出し速度は２１１１分以上、好ま
しくは１０ｍ１分以上である。成形ロールの好ましい温
度は、成形ロール、加圧ロールともに１００〜２０００
Ｃである。このロール温度が２００°Ｃを超えて高くな
ると成形する樹脂がロールに貼り付いてしまっ　７ ８ て剥がれにくくなフたり、離型時に樹脂の端面か割れた
りする。また、その逆にロール温度か１００未満て低い
とロールに形成しである凹凸パターンを転写することが
てきなくなる。

本発明の光記録媒体用基板の製造方法により製造された
基板には、光記録層または反射層、その他必要に応じて
保護層などを設けて光記録媒体を作成する。これらの方
法または材料は一般に光記録媒体に用いられているもの
を自由に選択して用いることがてきる。

本発明の光記録媒体用基板は、例えば、光ディスク、光
カード、光テープ、光コイン等のあらゆる光記録媒体に
用いることかてきる。

［実施例］ 以下、実施例を示し、本発明をさらに具体的に説明する
か、本発明がこれらに限定されるものではない。

実施例１ 攪拌機を備えたガラス製反応容器内を窒素ガスて十分に
置換した後、この反応容器内に、窒素ガス雰囲気下にお
いて、以下の物質を添加した。

ジメチロールトリシクロ ［５，２，１，０２・６］デカン　３９．２６ｇテレフ
タル酸クロライド　　　　　　４０．６０ｇ１．２−ジ
クロロエタン　　　　　６００　　＋ｎｊ）トリエチル
アミン　　　　　　　　　５６．８　ｍｊ’そして、反
応温度を１０°Ｃに維持しなから４時間反応を行なった
。反応終了後、反応溶液にメタノールを添加してポリマ
ーを沈殿させて回収し、このポリマごをトルエンとメタ
ノールとの混合液により再度沈殿させることにより精製
し、真空乾燥を行なってポリエステルを得た。得られた
ポリエステルを粉砕した後に、塩化メチレン中て数平均
分子量を測定すると　３００００てあった。ＤＳＣの測
定からガラス転移点はＴｇ＝　１３０°Ｃてあった。飽
和吸水率は０．２１％て十分に小さかった。メルトフロ
ーレイト（ＭＦＲ）は８０て良好てあった（ＡＳＴＭＤ
１２３８）。熱分解温度は３４０℃で良好であった。

この共重合体を１．６　ｐ、ｒｓピッチ、０．６　ｇｍ
幅、深さ７（］（ｌ　Ａの連続溝か形成されたφ８δｍ
ｍのニッケ　９ ０ ル製スタンバ−が接着剤（Ｗ−ボンド、　Ａ１．　目止
精工）により接着されたロール径３００■の鉄製ロール
が取り付けられた押し出し成形機（日立造船、５ＩＩＴ
　９Ｏ−３２ＤＶＧ）に投入して、ルータ−温度２７０
°Ｃ，Ｔダイ温度２６５°Ｃ１成形・加圧ロール温度か
それぞれ１２０’ｃの条件で、上記共重合体を成形して
、２．３ｎ／分の速度て、１．２ＩＩｍ厚さに押し出し
た。押し出した基板を測定したところ、複屈折はダブル
パスて１０ｎｍ以下てあった（日本電子光学社、複屈折
測定機、入＝　８３Ｏｎ＋ｓで測定）。また、光透過率
は８９％で十分に透明てあった（日立Ｕ３４００、入＝
　８３０ｎ履て測定）。　面振れ量はｐ−ｐで５０ｇｍ
以下て十分小さかった（カールツアイス社、三次元測定
機で測定）。また、糸引きなどは見られなかった。

次に、この基板を８６■■φに切断して、下記構造式　
［ＩＩ］で示される、光記録材料を溶剤塗布した。

（Ｃ２Ｈ８）２Ｎ＋　　　　　　＜　Ｎ（１１：２Ｈ５
）２Ｃβ０“　　　　　　　［ＩＩ］ 保護基板には０．３ｍｍ厚のポリカーボネート（音大化
成、パンライト２５Ｉ）を８６ｔｒｒｍφに切断して、
０．３ａ＋ｍのエアーギャップを持つように接着した。

記録゛再生したところ、ディスクの回転数１８０Ｏｒｐ
ｍ　、書き込み周波数３ＭＨｚ、書き込みパワー６ｍＷ
、読み出しパワー０．５ｍＷて、ＣＡＮ比て５７ｄＢ、
ピットエラーレイトは１　ｘ　１０−５であった。この
値は６０°Ｃ１９０％ＲＨの条件で１０００時間保存し
ても、読み取り特性、書き込み特性ともに変化かなかっ
た。

実施例２ 実施例１で用いたテレフタル酸クロライドの代わりに、
イソフタル酸クロライドを用いたこと以外は実施例１と
同様にして重合および後処理を行なってポリエステルを
得た。

１ ２ 得られたポリエステルを粉砕した後に塩化メチレン中て
数平均分子量を測定すると　３００００てあった。ＤＳ
Ｃの測定からガラス転移点は７ｇ＝　＋３０°Ｃてあっ
た。飽和吸水率は０．１４％て十分に小さかった。メル
トフローレイト（ＭＰＩ＋）は８０て良好であった（Ａ
ＳＴＭＤ　Ｉ２３８）。熱分解温度は３４０°Ｃて良好
てあった。

実施例１と同様にして光記録媒体用基板を作製した。作
製した基板を実施例１と回しように測定すると、複屈折
はＩＯｎ＋ｓ以下て十分小さかった。また、光透過率は
９０％て十分に透明てあった。面振れ量はｐ−ｐで３０
ｇｍと十分に小さかった。また、糸引きなどは見られな
かった。この基板を実施例１と同様に光記録層を形成し
て記録・再生を行なったところ、Ｃ／Ｎ比で５８ｄＢ、
ピットエラーレートはＩ　Ｘ　１０−６以下てあった。

実施例１と同様に保存したところ、ＣＡＮ　、ピットエ
ラーレートともに変化しなかった。

実施例３ 実施例工で用いたテレフタル酸クロライドの代わりに、
テレフタル酸クロライド３０．４５ｇとイソフタル酸ク
ロライド１．０．１５ｇを用いたこと以外は実施例１と
同様にして重合および後処理を行なってポリエステルを
得た。

得られたポリエステルを粉砕した後に塩化メチレン中で
数平均分子量を測定すると　３００００てあった。ＤＳ
Ｃの測定からガラス転移点は７ｇ＝　１３０°Ｃてあっ
た。飽和吸水率は０．１９％で十分に小さかった。メル
トフローレイト（ＭＦＲ）は８０て良好てあった（ＡＳ
ＴＭＤ　１２３８）。熱分解温度は３４０°Ｃて良好て
あった。

実施例１と同様にして光記録媒体用基板を作製した。作
製した基板を実施例１と同じように測定すると、複屈折
は１０ｎｍ以下で十分小さかった。また、光透過率は９
０％で十分に透明であった。面振れ量はｐ−ｐて３０Ｉ
ｉ、＋１と十分に小さかった。また、糸引きなどは見ら
れなかった。この基板を実施例１と同様に光記録層を形
成して記録・再生を行なったところ、　Ｃ／Ｎ比て５９
ｄＢ、ピットエラーレートは１　ｘ　１０−６以下であ
った。実施例１と同様に保存　３ ４ したところ、ＣＡＮ　、ピットエラーレートともに変化
しなかった。

実施例４ 実施例１て用いたものと同様のポリニスデルを用いて、
実施例１と同様の方法て、１２μｍピッチ、２．３７ｐ
ｍ幅、深さ３０　［１０Ａの平行な溝が形成された５イ
ンチ角のニッケル製スタンバ−を実施例１と同しロール
に接着した。実施例１と同し押し出し成形機を用いて、
ルーダ−温度２７０℃、Ｔダイ温度２６５°Ｃ１成形・
加圧ロール温度かそれぞれ１２０°Ｃの条件て、上記共
重合体を成形して、２．３ｍ／分の速度て、０．４ｍｍ
厚さに押し出して光記録媒体用基板を作製した。作製し
た基板を実施例１と同しように測定すると、複屈折はＩ
ｎｎ５以下で十分小さかった。また、光透過率は９０％
で十分に透明であった。　面振れ量はｐ−ｐで３０ＪＬ
１１であり十分小さかった。また、糸引きなどは見られ
なかった。

次に、この基板を実施例１と同様に光記録層を形成して
、下記の条件て記録・再生を行なったところ、Ｃ／Ｎ比
で４７ｄＢ、ピットエラーレートはｌＸ１０−６以下て
あった。実施例１と同様に保存したところ、ＣＡＮ　、
ピットエラーレートともに変化しなかった。

記録・再生装置二人＝８３００ｍ 光ビームのスポット径＝３川ｍ 記録条件　：レーザーバワー＝４．０ｍＷカートの送り
速度＝　６０Ｉ１ｍ／秒 周波数＝　７．６５ＫＨｚ 再生条件　：レーザーバワー＝０．２■Ｗカードの送り
速度＝４００＋ｓｍ／秒 周波数＝５１．０ＫＨｚ ［発明の効果コ 以上説明した様に、本発明によれば、複屈折が小さく、
優れた透明性、耐熱性、機械的強度を持ち、吸湿性か低
く、成型性の良い光記録媒体用基板を容易に押し出し成
型によって連続的に製造できる効果が得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の光記録媒体用基板の製造方法　５ ６ の−例を示す説明図および第２図は従来の光記録媒体を
示す断面図である。 ■・・・樹脂基板 ２・・・成形ロール ３・・−加圧ロール ４・・・Ｔダイ ５・・・ルータ− ６・・・ホッパー ７・・・引き取りロール １１・・・透明樹脂基板 １２・・・トラック溝部 １３・・・光記録層 １４・・・スペーサー・接着層 １５・・・保護層

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）レーザービーム等の光ビームの照射によって、反
   射率、屈折率などの光学特性を変化させて情報の記録・
   再生を行なう光記録媒体用の基板を製造する方法おいて
   、下記一般式（ I ）で表わされるジオール化合物と、
   環構造を有するジカルボン酸化合物またはそのハロゲン
   化物とを縮合させて得られるポリエステルよりなる熱可
   塑性樹脂を用いて、光記録媒体用基板を押し出し成形で
   連続的に製造することを特徴とする光記録媒体用基板の
   製造方法。 一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１およびＲ＾２は水素原子または炭素数１
   〜３のアルキル基を示し、ｎは１または２、ｐおよびｑ
   は各々０または１である。）
2. （２）前記押し出し成形によって成形された基板の記録
   ・再生光が通る有効部分の複屈折が記録・再生光に対し
   て、ダブルパスで１００ｎｍ以下である請求項１記載の
   光記録媒体用基板の製造方法。