JPH03176836A - 光記録媒体用基板の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は光記録媒体用基板の製造方法に関し、詳しくは
光学的に情報の記録・再生を行なう光記録媒体用基板の
製造方法に関する。

［従来の技術］ 従来、各種情報の記録には磁気テープ、磁気ディスク等
の磁気材料、各種半導体メモリー等か主として用いられ
てきた。この様な磁気メモリー、半導体メモリーは情報
の書き込みおよび読みたしを容易に行うことかできると
いう利点はあるか、反面、情報の内容を容易に改ざんさ
れたり、また高密度記録がてきないという問題点かあっ
た。かかる問題点を解決するために、多種多様の情報を
効率良く取り扱う手段として、光記録媒体による光学的
情報記録方法が提案され、その為の光学的情報記録担体
、記録再生方法、記録再生装置等が提案されている。

かかる情報記録担体としての光記録媒体は、般にレーザ
ー光を用いて光記録媒体上の光記録層の一部を揮散させ
るか、反射率の変化を生じさせるか、あるいは変形を生
じさせて、光学的な反射率や透過率の差によって情報を
記録し、あるいは再生を行なっている。この場合、光記
録層は情報の書き込み後、現像処理などの必要がなく、
「書いた後に直読する」ことのてきる、いわゆるＤＲＡ
Ｗ　（タイレフト　リート　アフター　ライト：ｄｉｒ
ｅｃｔ　ｒｅａｄ　ａｆｔｅｒ　ｗｒｉｔｅ）媒体てあ
り、高密度記録か可能てあり、また追加書き込みも可能
であることから、情報の記録・保存媒体として有効であ
る。

第２図は、従来の光記録媒体の模式的断面図である。同
第２図において、１１は透明樹脂基板、１２はトラック
溝部、１３は光記録層、　１４はスペーサー・接着層、
１５は保護層である。同第２図において、情報の記録・
再生は透明樹脂基板１１およびトラック溝部１２を通し
て光学的に書き込みと読み出しを行なう。この際、トラ
ック溝部１２の微細な凹凸を利用してレーザー光の位相
差によりトラッキングを行うことができる様に構成され
ている。

［発明が解決しようとする課題］ 第２図に示した光記録媒体の透明樹脂基板１１の製造方
法としては、一般には射出成型法か用いられているが、
成型時間が長く、かつ−枚ずつしか製造てきないという
問題点がある。本発明者らは、第１図に示した押し出し
成型によって透明樹脂基板１１を製造する方法か好まし
いことを見出した。この方法は連続製法てあり、生産性
の高い方法である。射出成型法などの従来の方法ては、
透明樹脂基板１１の材料としては、ポリカーボネート樹
脂、ポリメチルメタクリル樹脂、ポリシクロへキシルメ
タクリレート樹脂、アクリルメタクリレートとメチルメ
タクリレート、スチレンまたは他の単量体との共重合体
樹脂、嵩高いエステル基を有するメタクリル酸エステル
を含む重合体、その他か知られている。その中ても透明
性や成形性か良いポリカーボネートか多く用いられてい
る。

しかし、成型時の樹脂の冷却および流動過程において生
しだ熱応力１分子配向、ガラス転移点付近の容積変化に
よる残留応力によって複屈折を生じるという問題点があ
る。この問題点を解決するために、従来ては、樹脂の流
動性を良くするために成形時の樹脂温度を高く選ぶ方法
、数平均分子量か低い樹脂を用いる方法が行われている
。

しかしなから、樹脂温度を高くすると樹脂の分解によっ
て黄変などの着色を生じ、得られる成形物の透明性を損
なってしまい、機械的な強度か不足して成形時に割れが
生じたり、凹凸パターンの転写性が良くないという問題
点も生じている。いずれにしても押し出し成形に用いる
ことかてきる樹脂はまだ得られていない。その他に、ポ
リメチルメタクリル樹脂も用いられている。ポリメチル
メタクリル樹脂は複屈折か小さいという利点かあるもの
の、吸湿性か大きいために記録膜の変質、基板の反りな
どを生しるという問題点かある。その他に、ガラス転移
点か低いため、耐熱性か悪いという問題点もあり、押し
出し成形するためには十分に温度を」二げて融解するこ
とかてきないという問題点かあった。それ以外には、シ
クロへキシルメタクリレートとメチルメタクリレートま
たはスチレンとの共重合体は耐熱性は向上するものの、
例えばメチルメタクリレートとの共重合体は吸湿性か大
きく、成形した基板か経時変化て反ってしまうという問
題点かあり、一方スチレンとの共重合体はポリカーボネ
ートと同様に複屈折か増大して光学特性か悪くなってし
まう。それ以外にも、」１記複屈折などの光学特性と耐
熱性、低吸収率などの特性を良くするために種々の新規
な樹脂か提案されている。（例えば、特開昭６３−２５
６６１８号公報、特開昭６３−２６０４９０号公報）し
かしながら、従来は、十分な光学的特性、低吸湿性およ
び耐熱性を有する光学材料または光記録媒体用材料とし
ては好適な材料は殆ど得られていない。

特に、新規な成形方法である押し出し成形に好適な樹脂
はほとんど得られていないのが現状であった。

本発明は、上記の問題を解決するためになされたもので
あり、複屈折が小さく、優れた透明性、耐熱性、機械的
強度を持ち、吸湿性が低く、成形性の良い光記録媒体用
基板を容易に押し出し成形によって連続的に製造する方
法を提供することを目的とするものである。

［課題を解決するための手段］ 即ち、本発明は、レーザービーム等の光ビームの照射に
よって、反射率、屈折率などの光学特性を変化させて情
報の記録・再生を行なう光記録媒体用の基板を製造する
方法おいて、下記一般式（■）、一般式（ＩＩ）、一般
式（ＩＩＩ）および一般式（ＩＶ）で表されるカルボン
酸化合物から選ばれた一種または二種以上と、１分子中
に２つの水酸基を有する化合物とを縮合させて得られる
ポリニスデルよりなる熱可塑性樹脂を用いて、光記録媒
体用基板を押し出し成形して連続的に製造することを特
徴とする光記録媒体用基板の製造方法である。

一般式（Ｔ） 一般式（ＩＩ） 一般式（ＩＩＩ） −・般式（ＩＶ） （式中、Ｒは炭素数１〜６のアルキレン基、Ｒ１および
Ｒ２は各々水素原子または炭素数１〜３のアルキル基を
示し、ＸＩは水素原子または炭素数１〜３のアルキル基
、ｘ２はハロゲン原子を示し、ｎは１または２である。

） 以下１本発明の詳細な説明する。

本発明は、レーザービーム等の光ビームの照射によって
、反射率、透過率などの光学特性を変化させて情報の記
録・再生を行なう光記録媒体において、記録・再生光か
通る有効部分の複屈折か記録・再生光に対して、ダフル
パスて１１００ｎ以下である基板を押し出し成形で連続
的に製造することを特徴とする光記録媒体用基板の製造
方法である。

本発明において用いられるポリエステルよりな　０ る熱可塑性樹脂は、飽和吸水率か１．８％以下、アツベ
数か４５以上、かつガラス転移点が１００℃以上のもの
であることが好ましい。そのうちても飽和吸水率は３％
以下、アツベ数は５５以上、ガラス転移点は１２０℃以
上であることか好ましい。また、固有粘度は０Ｊｄｊ２
／ｇ以上、引っ張り強度は５００ｋｇ／ｃｍ２以上であ
ることか好ましい。

本発明において、前記一般式（Ｉ）〜（ＩＶ）て表され
るカルボン酸化合物は、一般式（Ｉ）〜（ＩＶ）て表さ
れるカルボン酸化合物またはその誘導体、すなわちカル
ボン酸のカルボキシル基の水素原子か塩素原子、臭素原
子などのハロゲン原子またはメチル基と置換されたもの
か好ましい。

また、一般式（Ｉ）〜（１’Ｖ）て表されるカルボン酸
化合物のうち、得られるポリエステルか熱変形温度か高
いものとなる点て、特に一般式（Ｉ）または一般式（Ｉ
Ｉ　）て表されるカルボン酸化合物が好ましい。

次に、カルボン酸化合物の具体例としては、■ ５ １　に こに芳香族ジオールとは、芳香環と２個の水酸基を有す
る化合物である。芳香族ジオールの具体例としては、以
下のものを挙げることかてきるか、本発明においては、
これらの芳香族ジオールのうち、特にビスフェノールＡ
を用いることか好ましい。

（芳香族ジオール） 並びに上記各化合物の式における基−Ｃ２Ｈ，−が式−
Ｃｐｌ（２ｐ−（ｐは３以上の整数）て表わされる基に
変更された化合物などを挙げることかてきる。

また、以上のカルボン酸化合物と縮合される１分子中に
２つの水酸基を有する化合物、すなわちジオールは、そ
の分子中に芳香環を有する芳香族ジオールを成分として
含有するものであることが好ましい。芳香族ジオールを
縮合成分として用いることにより、最終的に得られるポ
リエステルは、きわめて優れた耐熱性を有するものとな
る。

　７ ８ ｅｌｌ。

１ ）１０　＋ＣＩ−１□＋Ｔ−０＋ＣＨ２＋Ｔ−ＯＨ（脂
環族ジオール） ■ オールかあり、 その具体例としては、 以下のもの を挙げるととかてきる。

（脂肪族ジオール） Ｉ　Ｏ−（−ＣＨ□子叶 （ＩＩＩ−２〜１０） 　０ ２ 以上の脂肪族ジオールのうち、特に１，４−フタンシオ
ール、１．６−ヘキサンジオール、エチレンタリコール
などの炭素数か６以下のものを用いると、得られるポリ
エステルの熱変形温度の低下を抑制することがてきるの
で好ましい。

本発明の光記録媒体用基板の製造方法では、般式（Ｉ）
〜（ＩＶ）て表されるカルボン酸化合物から選ばれた一
種または二種以上と、１分子中に２つの水酸基を有する
化合物との縮合体であるポリエステルを用いて押し出し
成形するか、用いられるカルボン酸化合物と上記ジオー
ルとの割合は、ポリエステルを得るための縮重合の方法
によって異なり、エステエル化触媒やエステル交換触媒
の存在下における溶融縮重合の場合には、方の成分を他
方の１．５〜２倍モルの割合て使用して縮重合反応を進
行させることかてき、また酸ハロゲン化物を用いる溶液
縮重合の場合には、通常両成分を等モル使用して反応を
進行させることか、高分子量のものを得る上て好ましい
。分子量の大きさを調整するためには、一方の成分を例
え　３ ４ ば約１Ｄモル％の範囲て増減することかてきる。また、
本発明において用いられる上記ジオールは芳香族ジオー
ルを含むものであることが好ましく、その含有割合は全
ジオール中２０モル％以上であることか好ましい。

本発明に係わるポリエステルを製造するためには、公知
の方法を使用することかてきる。また、この縮重合の反
応においては、必要に応しては分子量２Ｘｇ整剤を用い
ることかでき、その具体例としては、フェノール、クレ
ゾール、ｐ−フェニルフェノール、０−フェニルフェノ
ール、２−ナフトールなどの一官能性フエノール類を好
ましいものとして挙げることかてきる。重合温度は０〜
２００℃の範囲において適宜選択されるが、特に、５０
〜１．２０’Ｃが好ましい。溶液重合法による場合にお
ける溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、メ
チルエチルケトン、メチルイソツチルケトン、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、ジクロルエチレン、クロロホルム、四
塩化炭素、アニソール、ニトロベンゼン、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリド
ンなどを使用することがてきる。本発明に係るポリエス
テルには、その使用に際して、老化防止性、熱安定性、
成形性あるいは加工性の向上を目的として、フェノール
系、ホスファイト系、チオエーテル系などの抗酸化剤、
脂肪族アルコール、脂肪族エステル、フタル酸エステル
、トリクリセライト類、フッ素系界面活性剤、高級脂肪
酸金属塩なとの離型剤、その他潤滑、可塑剤、帯電防止
剤、紫外線吸収剤、重金属不活性剤などの添加剤を添加
することがてきる。

本発明において用いられる重合体は、その分子量は特に
制限されるものではないか、優れた耐熱性および機械的
強度か得られる点から、数平均分子量は１００００〜１
００００００か適当てあり、より好ましくは２５０００
〜５ｏｏｏｏである。数平均分子量が】Ωｏｏｏｏｏを
こえて高いと、樹脂の溶融粘度が高いために溶融・成形
の温度が高くなってしまい、樹脂の熱分解による黄変を
生じ易くなり、その上凹凸パターンの転写性か悪くなる
。その反対に樹脂　５ ６ の数平均分子量か］００００未満て小さいと、機械的な
強度か低くなってしまい成形時に割れなどが生じ易くな
り、また樹脂の耐久性・耐溶剤性などが悪くなってしま
う。　また、押し出し成形ては、樹脂温度が２００〜４
００°Ｃの高い温度に加熱して成形するために、樹脂の
ガラス転移点は１００℃以上が望ましい。

本発明において用いられる押し出し成形法では、従来の
射出成形法に比べて溶融した樹脂の成形時の流動速度か
小さいために、平均父子量か高い樹脂でも歪みか小さい
透明樹脂基板を製造することかできるか、その反面、押
し出した樹脂を巻き取るために張力がかかるために、機
械的な強度は必要である。

本発明においては、上記のようにして調製した樹脂を、
押し出し成形を行なって光記録媒体用基板を作製する。

第１図は本発明の光記録媒体用基板の製造方法の一例を
示す説明図である。同第１図において、１は樹脂基板、
２は成形ロール、３は加圧ロール、４はＴダイ、５はル
ーダ−１６はホッパー、７は引き取りロールである。成
形ロール２と加圧ロール３のロールの間隔は、樹脂基板
１の表面に成形ロール２に設けられスタンバの凹凸か充
分に転写し得る様に調整することか可能に構成されてい
る。　第１図において、ルータ−５のＴダイ４から押し
出しされた樹脂シートは、軟化した状態て成形ロール２
と加圧ロール３のロール間に挿入され、成形ロール２の
凹凸面と加圧ロール３の鏡面により押圧されて、樹脂基
板ｌの表面にスタンバの凹凸状の信号か逐次転写される
。好ましい押し出し成形の条件は、ルータ−温度が２５
０〜３５０℃、Ｔタイ温度が２５０〜３５０°Ｃ成形ロ
ールの温度か１００〜２００°Ｃである。この成形にお
いて、ルーダ−またはＴダイの温度を３５０°Ｃ以上に
高くすると樹脂か熱分解して黒くコゲたり、または黄変
したりするのて好ましくない。また、その逆にルータ−
またはＴタイの温度を２５υ°Ｃよりも低くすると、溶
融した樹脂の流動性が悪くなり、基板の厚さが不均一に
なったり、また成形品に歪みか生したりする。使用する
樹脂によつ　７ ８ て上記の問題が生しなければ、ルーダ−またはＴダイの
温度か２００〜４００°Ｃの範囲でも溶融することかて
きる。押し出し速度は２Ｉｌ１分以上、好ましくは１．
０＋ｏ／分以上である。成形ロールの好ましい温度は、
成形ロール、加圧ロールともに１００〜２０００Ｃであ
る。このロール温度が２００°Ｃを超えて高くなると成
形する樹脂がロールに貼り付いてしまって剥かれにくく
なったり、離型時に樹脂の端面か割れたりする。また、
その逆にロール温度か１００未満て低いとロールに形成
しである凹凸パターンを転写することかできなくなる。

本発明の光記録媒体用基板の製造方法により製造された
基板には、光記録層または反射層、その他必要に応じて
保護層などを設けて光記録媒体を作成する。これらの方
法または材料は一般に光記録媒体に用いられているもの
を自由に選択して用いることができる。

本発明の光記録媒体用基板は、例えば、光ディスク、光
カート、光テープ、光コイン等のあらゆる光記録媒体に
用いることかてきる。

［実施例］ 以下、実施例を示し、本発明をさらに具体的に説明する
が１本発明かこれらに限定されるものてはない。

実施例１ 攪拌機を備えたガラス製反応容器内を窒素ガスで十分に
置換した後、この反応容器内に、窒素ガス雰囲気下にお
いてビス（クロロホルミル）［５２，１，０２６］デカ
ン５２．８８ｇ、１，２−ジクロロエタン　６００ｆｆ
ｌ！、ビスフェノールＡ　３４．２４ｇ、１．４−ブタ
ンジオール４．５０ｇおよびトリエチルアミン５６．８
ｍＡ’を添加し１反応源度をｌＯｏＣに維持しながら４
時間反応を行なった。反応終了後、反応溶液にメタノー
ルを添加してポリマーを沈殿させて回収し、このポリマ
ーをトルエンとメタノールとの混合液により再度沈殿さ
せることにより精製し、真空乾燥を行なってポリエステ
ルを得た。得られたポリエステルを塩化メチレン中て数
平均分子量を測定すると　３００００であった。ＤＳＣ
の測定からガラス転移点はＴｇ＝１３０℃てあった。飽
和吸水　９ ０ 率は０．４２％て十分に小さかった。メルトフローレイ
ト（ＭＦＲ）は８０て良好てあった（ＡＳＴＭＤ　１．
２３８）。熱分解温度ば３４０°Ｃで良好てあった。

この共重合体を１．６　ｐ、ｒａピッチ、０．６　ｐ−
ｍ幅、深さ７００への連続溝か形成されたφ８６ｍｍの
ニッケル製スタンバ−か接着剤（Ｗ−ボンド、ＡＩ、目
止精工）により接着されたロール径３００ｍｍの鉄製ロ
ールか取り付けられた押し出し成形機（日立造船、ＳＨ
Ｔ　９Ｏ−３２ＤＶＧ）　ニ投入して、ルーダ−温度２
７０°Ｃ，Ｔタイ温度２６５°Ｃ１成形・加圧ロール温
度がそれぞれ１２０°Ｃの条件で、上記共重合体を成形
して、　２．３ｒｓ１分の速度て、　１．２ｍｎ＋厚さ
に押し出した。押し出した基板を測定したところ、複屈
折はダフルパスて］Ｏｎｍ以下てあった（日本電子光学
社、複屈折測定機、入＝　８３Ｏｎｍて測定）。また、
光透過率は８９％て十分に透明てあった（日立Ｕ３４０
０、入＝　８３０ｎｍて測定）。　面振れ量はｐ−ｐて
５０７ｐｍ以下てモ分小さかった（カールツアイス社、
三次元測定機て測定）。また、糸引きなどは見られなか
った。

次に、この基板を８６＋＋ｕｓφに切断して、下記構造
式［Ｖ］て示される、光記録材料を溶剤塗布した。

（Ｃ２Ｈｓ）２ＮイＹ　　　　　＜　Ｎ　（Ｃ２Ｈ６）
２ＣＩ！０−　°ｃ　ｖ］ 保護基板には０．３■厚のポリカーボネート（奇人化成
、パンライト２５１）を８６＋ａ厘φに切断して、０．
３ｍｍのエアーギャップを持つように接着した。

記録・再生したところ、ディスクの回転数１８００ｒｐ
ｍ　、書き込み周波数３Ｍ１１ｚ、書き込みパワー６１
１ＩＷ、読み出しパワー０．５ｍＷで、Ｃ／Ｎ比で５７
ｄＢ、ピットエラーレイトはＩ　Ｘ　１０−５であった
。こめ値は６０°Ｃ１９０％Ｒ１１の条件て１０００時
間保存しても、読み取り特性、書き込み特性ともに変化
がなかった。

実施例２ 実施例１で用いたビスフェノールＡと、１．４１ ２ ブタンジオールの量を以下のように変更した以外は実施
例１と同様にして重合および後処理を行なってポリニス
デルを得た。

ビスフェノールＡ　　　　　　　　４１．１０ｇ１．４
ブタンジオール　　　　　　１．８０ｇ得られたポリエ
ステルを粉砕した後に塩化メチレン中て数平均分子量を
測定すると　３００００であった。ＤＳＣの測定からガ
ラス転移点はＴｇ＝　１３０℃であった。飽和吸水率は
０．４８％で十分に小さかった。メルトフローレイト（
ＭＦＲ）は８０て良好であった（ＡＳＴＭＤ　Ｉ２３８
）。熱分解温度は３４０℃て良好てあった。

実施例１と同様にして光記録媒体用基板を作製した。作
製した基板を実施例１と同じように測定すると、複屈折
は１０ｎｍ以下で十分小さかった。また、光透過率は９
１％て十分に透明てあった。面振れ量はｐ−ｐて３０ｐ
、ｒｘと十分に小さかった。また、糸引きなどは見られ
なかった。この基板を実施例１と同様に光記録層を形成
して記録・再生を行なったところ、Ｃ／Ｎ比て５５ｄＢ
、ピットエラーレートは１　ｘ　１０−６以下であった
。実施例１と同様に保存したところ、ＣＡＮ　、ピット
エラーレートともに変化しなかった。

実施例３ 実施例１で用いた１、４ツタンシオールの代わりに下記
の量のエチレングリコールを用い、またビスフェノール
Ａの量を下記のように変更した以外は実施例１と同様に
して重合および後処理を行なってポリエステルを得た。

ビスフェノールＡ　　　　　　　　４１．１０ｇエチエ
チレングリコール　　　　　１．８０ｇ得られたポリエ
ステルを粉砕した後に塩化メチレン中で数平均分子量を
測定すると　３００００であった。ＤＳＣの測定からガ
ラス転移点はＴｇ＝　１３０　℃てあった。飽和吸水率
は０．５１％て十分に小さかった。メルトフローレイト
（ＭＦＲ）は８ｏて良好てあった（ＡＳＴＭＤ　Ｉ２３
８）。熱分解温度は３３５℃で良好てあった。

実施例１と同様にして光記録媒体用基板を作製した。作
製した基板を実施例１と同じように測定　３ ４ すると、複屈折は］　Ｏｎｍ以下で十分小さかった。ま
た、光透過率は９０％で十分に透明てあった。面振れ量
はｐ−ｐて３０ｇｍと十分に小さかった。また、糸引き
などは見られなかった。この基板を実施例１と同様に光
記録層を形成して記録・再生を行なったところ、Ｃ／Ｎ
比で５６ｄＢ、ピットエラーレートは１　ｘ　１０−’
以下であった。実施例１と同様に保存したところ、Ｃ／
Ｎ　、ピットエラーレートともに変化しなかった。

［発明の効果］ 以上説明した様に、本発明によれば、複屈折が小さく、
優れた透明性、耐熱性、機械的強度を有し、吸湿性が低
く、成形性の良い光記録媒体用基板を容易に押し出し成
形によって連続的に製造てきる効果か得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の光記録媒体用基板の製造方法の一例を
示す説明図および第２図は従来の光記録媒体を示す断面
図である。 １・・・樹脂基板 ２・・・成形ロール ３・・・加圧ロール ４・・・Ｔタイ ５・・・ルーダ− ６・・・ホッパー ７・・・引き取りロール １１・・・透明樹脂基板 １２・・・トラック溝部 １３・・・光記録層 １４・・・スペーサー・接着層 １５・・・保護層

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）レーザービーム等の光ビームの照射によって、反
   射率、屈折率などの光学特性を変化させて情報の記録・
   再生を行なう光記録媒体用の基板を製造する方法おいて
   、下記一般式（ I ）、一般式（II）、一般式（III）お
   よび一般式（IV）で表されるカルボン酸化合物から選ば
   れた一種または二種以上と、１分子中に２つの水酸基を
   有する化合物とを縮合させて得られるポリエステルより
   なる熱可塑性樹脂を用いて、光記録媒体用基板を押し出
   し成形して連続的に製造することを特徴とする光記録媒
   体用基板の製造方法。 一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼ 一般式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼ 一般式（III） ▲数式、化学式、表等があります▼ 一般式（IV） ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒは炭素数１〜６のアルキレン基、Ｒ＾１およ
   びＲ＾２は各々水素原子または炭素数１〜３のアルキル
   基を示し、Ｘ＾１は水素原子または炭素数１〜３のアル
   キル基、Ｘ＾２はハロゲン原子を示し、ｎは１または２
   である。）
2. （２）前記押し出し成形によって成形された基板の記録
   ・再生光が通る有効部分の複屈折が記録・再生光に対し
   て、ダブルパスで１００ｎｍ以下である請求項１記載の
   光記録媒体用基板の製造方法。