JPH0887780A

JPH0887780A - 光記録ディスクおよびその製造方法

Info

Publication number: JPH0887780A
Application number: JP6221492A
Authority: JP
Inventors: Tetsuya Handa; 哲也半田
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1994-09-16
Filing date: 1994-09-16
Publication date: 1996-04-02

Abstract

(57)【要約】【目的】樹脂の硬化収縮による反りを基板自体の反り
によって相殺することにより、実質的に反りを低減す
る。【構成】基板１の表面に記録層２を形成した後、その
上に紫外線硬化樹脂３を塗布する。次に、記録層２によ
る反り量と樹脂３の硬化収縮による反り量を考慮して基
板１を表面側に凸となるよう強制的に反らして支持リン
グ５に固定する。この状態で紫外線ＵＶを照射し、樹脂
３を硬化させる。硬化後、基板１を支持リング５から取
り外すと、記録層２および樹脂３の硬化収縮による反り
と、強制的な反りが相殺され、高い平面度を有する光記
録ディスク６を得ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、反りの少ない光記録デ
ィスクおよびその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】光記録ディスクは、その基板素材として
アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂等
の熱硬化性樹脂、あるいはガラス等を用いる。そして、
基板の表面には微細な案内溝（光ガイド用溝）が形成さ
れる。案内溝を形成する方法としては、一般に上記熱
硬化性樹脂の射出成形法によって基板と案内溝を同時に
形成する方法、樹脂またはガラス基板に紫外線硬化樹
脂（２Ｐ）を用いて形成する方法がある。このようにし
て形成された案内溝付基板の表面、すなわち案内溝側面
を、例えば光磁気記録方式ならば、記録媒体となる希土
類金属（テルビウム、ジスプロシウム、カドリニウム
等）−遷移金属（鉄、コバルト等）などの記録層と無機
保護層で覆っていた。しかしながら、この無機保護層は
きわめて薄いため、保護層としての強度が小さく、そこ
で、さらに記録層を保護するために樹脂の有機保護層を
設けている。有機保護層の材料としては一般に紫外線硬
化樹脂を用いている。

【０００３】以上により単板型光記録ディスクが製造さ
れる。単板型光記録ディスクは片面記録型であるが、さ
らにこの単板型光記録ディスクを接着剤で２枚貼り合わ
せると両面記録型の光記録ディスクとなる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た従来の製造方法では、無機保護層や記録層の成膜によ
り基板が反ったり、有機保護層として用いる硬化樹脂の
硬化時の収縮により基板が反ったり、また両面記録型光
記録ディスクの場合、接着剤の硬化時の収縮により反っ
たりするという問題があった。その結果、それぞれの反
りによりディスクの案内溝側が大きく反ってしまう。

【０００５】例えば、有機保護層について言えば、図３
（ａ）〜（ｃ）に示すように、平板状に製作した基板１
の表面に記録層２を成膜する。すると、基板１は表面側
に凹となるよう反る。次に、その上にスピンコート法に
より紫外線硬化樹脂３をディスク表面全域に均一な膜厚
で塗布して紫外線ＵＶを照射し、樹脂３を硬化させて光
記録ディスク４を製作すると、樹脂３の硬化収縮により
基板１が凹面状に反ってしまい、一層反り量が大きくな
る。因みに、光記録ディスク４の反り量は３０μｍ程度
であった。

【０００６】このように、光記録ディスクを製造する際
には上記の問題は避け難く、特に、有機保護層を形成す
る段階での樹脂３の硬化収縮による反りは避け難いとさ
れている。そして、反りの大きいディスクは記録、再生
時にトラッキングおよびフォーカシング性能に悪影響を
及ぼす。したがって、如何に反りを少なくするかが大き
な課題とされている。

【０００７】本発明は上記したような問題点に鑑みてな
されたもので、その目的とするところは、樹脂の硬化収
縮による反りを基板自体の反りによって相殺することに
より、実質的に反りを低減し得るようにした光記録ディ
スクおよびその製造方法を提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１に記載の発明に係る製造方法は、基板の案
内溝が形成されている表面に記録層および樹脂保護層を
積層形成することにより光記録ディスクを製造する方法
において、基板表面に記録層を形成した後、その上に樹
脂を塗布して基板を表面側が凸面となるよう反らし、そ
のまま樹脂を硬化させることを特徴とする。請求項２に
記載の発明に係る製造方法は、表面に案内溝を有する基
板をその表面側に凸となるよう反らして形成し、この基
板の表面に記録層を形成した後、さらにその上に樹脂を
塗布してそのまま樹脂を硬化させることを特徴とする。
請求項３に記載の発明に係る光記録ディスクは、基板の
案内溝が形成されている表面に記録層および樹脂保護層
を積層形成してなる光記録ディスクにおいて、基板表面
に記録層を形成した後、その上に樹脂を塗布して基板を
表面側が凸面となるよう反らし、そのまま樹脂を硬化さ
せることによって製造されたことを特徴とする。請求項
４に記載の発明に係る光記録ディスクは、表面に案内溝
を有する基板をその表面側に凸となるよう反らして形成
し、この基板の表面に記録層を形成した後、さらにその
上に樹脂を塗布してそのまま樹脂を硬化させることによ
って製造されたことを特徴とする。

【０００９】

【作用】本発明において、樹脂の硬化収縮を考慮して基
板を表面側が凸面となるよう反らして形成するかもしく
は樹脂を硬化させる時に強制的に反らして樹脂を硬化さ
せると、樹脂の硬化収縮による反りを相殺し、高い平面
度を有する光記録ディスクを製作することができる。

【００１０】

【実施例】以下、本発明を図面に示す実施例に基づいて
詳細に説明する。図１（ａ）〜（ｄ）は請求項１に記載
された発明に係る光記録ディスクの製造方法を示す図で
ある。本発明で用いられる基板１の材質としては特に限
定されるものではないが、それは基板１への溝形成方法
にかかわってくる。熱硬化性樹脂の射出成形法によるな
らばアクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹
脂等の樹脂が用いられる。この場合、基板１は平面状に
形成されて反りを有さず、その表面には案内溝（図示せ
ず）が形成されている。案内溝は基板１と同時に形成さ
れる。基板１に紫外線硬化樹脂（２Ｐ）を用いて溝を形
成する場合は、前記の樹脂製、あるいはガラス製の円形
基板を用いる。

【００１１】いずれの材質からなる基板であっても、案
内溝が形成されている表面に記録層２を成膜する。記録
層２を成膜すると、上記した通り基板１は表面側に凹と
なるように反る（ｂ）。次に、記録層２の上に紫外線硬
化樹脂３をスピンコート法によって均一な膜厚で塗布す
る（ｃ）。しかる後このままの状態で紫外線ＵＶを照射
して樹脂３を硬化させると、樹脂３の硬化収縮に伴い基
板１が図３（ｃ）に示したように凹面状に反り、一層反
り量が大きくなる。そこで、本発明方法では図１（ｃ）
に示すように、基板１を予め表面側に凸となるように強
制的に反らしておき、しかる後樹脂３を硬化させて光記
録ディスク６を製造する。

【００１２】基板１の反らし量は特に限定されないが、
成膜、有機保護膜形成、接着工程での反り量を考慮して
決定し、基板１の反らし量と上記各工程での反りを丁度
相殺するようにすると反りを低減することができ、
（ｄ）に示すように高い平面度を有する光記録ディスク
６を製作することができる。

【００１３】〔実施例〕次に、同一基板を用いて本発明
方法と従来方法により光記録ディスクを製造し、その各
々の反り量を測定したところ、次のような結果が得られ
た。基板素材としては射出成形法によりトラッキング用
の溝を形成し、外径１３０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍのポリ
カーボネート製基板素材を作製した。この基板素材の反
り量は０μｍであった。次に、基板素材上に無機保護層
としてＳｉＮ膜を７００Å、記録層２としてＴｂ₂₂Ｆｅ
₇₄Ｃｏ₄ 膜を５００Å形成した。以上により、光記録デ
ィスクの基板１（ａ）が完成した。この基板１の反り量
を測定したところ、記録層２を有する表面側が２０μｍ
凹であった。次に、紫外線硬化樹脂３をスピンコート法
により基板１の表面全域に均一な膜厚で塗布した。次
に、樹脂３の硬化収縮による反り量が１０μｍ程度とす
ると、表面側に約３０μｍ凸となるように基板１を強制
的に反らして半径１５ｍｍ、６０ｍｍの各々の位置を支
持リング５に固定し（ｃ）、この状態で紫外線ＵＶを照
射して樹脂３を硬化させた。硬化後、支持リング５を取
り外すと、記録層２による反り量と樹脂３の硬化収縮に
よる反り量の和が強制的に反らされた基板１の反り量と
等しくなって相殺されるため、結果的に基板１の反り量
は略０μｍとなった。

【００１４】これに対して、上記と同一の素材からなる
基板素材に記録層を成膜して基板とし、この基板にスピ
ンコート法により硬化樹脂を塗布し、基板を反らさない
でそのまま紫外線を照射して樹脂を硬化させたところ、
図３（ｃ）に示したように表面側に凹となった。そし
て、その反り量は、記録層２による反り量と樹脂３の硬
化収縮による反り量の和、すなわち３０μｍ凹であっ
た。このことからも本発明方法においては、樹脂の硬化
収縮に伴う基板の反りを著しく軽減することができるこ
とは明かであろう。

【００１５】図２（ａ）〜（ｄ）は請求項１に記載され
た発明に係る光記録ディスクの製造方法を示す図であ
る。この製造方法は、記録層２による反り量と、樹脂３
の硬化収縮による反り量を考慮して基板１を表面側に凸
となるよう予め製作し、しかる後記録層２と樹脂３によ
る有機保護層を順次積層形成するようにしたものであ
る。この場合、記録層２による反り量が２０μｍ程度、
樹脂３の硬化収縮による反り量が１０μｍ程度とする
と、予め表面側に３０μｍ凸となるように基板１を製作
すればよい。なお、基板１は塗布した樹脂３を硬化させ
る際、単に支持リング５上に載置される。

【００１６】このような製造方法においても図１に示し
た上記製造方法と同様に、記録層２による反り量と樹脂
３の硬化収縮による反り量の和が基板１の反らし量と等
しくなって相殺されるため、結果的に基板１の反り量を
略０μｍにすることができる。また、本製造方法におい
ては樹脂の硬化時に基板１を強制的に反らす必要がない
ので、製造が容易である。なお、基板１としては上記実
施例と全く同様のものが使用される。

【００１７】

【発明の効果】以上説明したように請求項１に記載の発
明に係る光記録ディスクの製造方法は、基板の案内溝が
形成されている表面に記録層および樹脂保護層を積層形
成することにより光記録ディスクを製造する方法におい
て、基板表面に記録層を形成した後、その上に樹脂を塗
布して基板を表面側が凸面となるよう反らし、そのまま
樹脂を硬化させるようにしたので、樹脂の硬化収縮によ
る反り、さらにはディスク製造工程全般での反りを相殺
することができる。

【００１８】また、請求項２に記載の発明に係る光記録
ディスクの製造方法は、表面に案内溝を有する基板をそ
の表面側に凸となるよう反らして形成し、この基板の表
面に記録層を形成した後、さらにその上に樹脂を塗布し
てそのまま樹脂を硬化させるようにしたので、樹脂の硬
化収縮による反り、さらにはディスク製造工程全般での
反りを相殺することができる。

【００１９】また、上記請求項１または２に記載の製造
方法によって製作された光記録ディスクは高い平面度を
有するので、記録、再生時にトラッキングおよびフォー
カシング性能に悪影響を及ぼすことがない。

【図面の簡単な説明】

【図１】（ａ）〜（ｄ）は請求項１記載の発明に係る
光記録ディスクの製造方法を説明するための図である。

【図２】（ａ）〜（ｄ）は請求項２に記載の発明に係
る光記録ディスクの製造方法を説明するための図であ
る。

【図３】（ａ）〜（ｃ）は光記録ディスクの従来の製
造方法を説明するための図である。

【符号の説明】

１…基板、２…記録層、３…紫外線硬化樹脂、４…光記
録ディスク、５…支持リング、６…光記録ディスク。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板の案内溝が形成されている表面に記
録層および樹脂保護層を積層形成することにより光記録
ディスクを製造する方法において、基板表面に記録層を
形成した後、その上に樹脂を塗布して基板を表面側が凸
面となるよう反らし、そのまま樹脂を硬化させることを
特徴とする光記録ディスクの製造方法。
【請求項２】表面に案内溝を有する基板をその表面側
に凸となるよう反らして形成し、この基板の表面に記録
層を形成した後、さらにその上に樹脂を塗布してそのま
ま樹脂を硬化させることを特徴とする光記録ディスクの
製造方法。
【請求項３】基板の案内溝が形成されている表面に記
録層および樹脂保護層を積層形成してなる光記録ディス
クにおいて、基板表面に記録層を形成した後、その上に
樹脂を塗布して基板を表面側が凸面となるよう反らし、
そのまま樹脂を硬化させることによって製造されたこと
を特徴とする光記録ディスク。
【請求項４】表面に案内溝を有する基板をその表面側
に凸となるよう反らして形成し、この基板の表面に記録
層を形成した後、さらにその上に樹脂を塗布してそのま
ま樹脂を硬化させることによって製造されたことを特徴
とする光記録ディスク。