JPH04107444A - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
ハロゲン化銀写真感光材料Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ハロゲン化銀写真感光材料に関し、詳しくは
へリウムーネオンレーザー光源に適した印刷製版用ハロ
ゲン化銀写真感光材料に関する。
へリウムーネオンレーザー光源に適した印刷製版用ハロ
ゲン化銀写真感光材料に関する。
印刷製版工程において、写真原稿を印刷するためには、
連続階調の原稿を網点に変換する必要がある。またカラ
ー印刷を行うにはさらに原稿を色分解して、イエロー、
マゼンタ、シアン、黒の4版の分解ネガやポジをつくる
必要がある。従来は製版カメラにより色分解フィルター
を用いて色分解を行い、さらにコンタクトスクリーンを
用いて網点変換を行ってきた。しかしながらこれらの作
業をすべて力、メラワークで行うためには高度の熟練と
複雑な写真操作を要する。そのためすべてを電子的なコ
ントロールのもとに自動化するためにカラースキャナー
が開発された。
連続階調の原稿を網点に変換する必要がある。またカラ
ー印刷を行うにはさらに原稿を色分解して、イエロー、
マゼンタ、シアン、黒の4版の分解ネガやポジをつくる
必要がある。従来は製版カメラにより色分解フィルター
を用いて色分解を行い、さらにコンタクトスクリーンを
用いて網点変換を行ってきた。しかしながらこれらの作
業をすべて力、メラワークで行うためには高度の熟練と
複雑な写真操作を要する。そのためすべてを電子的なコ
ントロールのもとに自動化するためにカラースキャナー
が開発された。
近年、カラースキヤリ−は、光源として強力なレーザー
光を用いて電気的に網点を発生させるドツトジェネレー
タータイプが主流になってきた。
光を用いて電気的に網点を発生させるドツトジェネレー
タータイプが主流になってきた。
これまで、ドツトジェネレータータイプスキャナーの光
源としてはアルゴンレーザーが用いうしてきた。しかし
アルゴンレーザーは高出力であるが、高価でありかつ寿
命が短いという欠点がある。
源としてはアルゴンレーザーが用いうしてきた。しかし
アルゴンレーザーは高出力であるが、高価でありかつ寿
命が短いという欠点がある。
そのため最近はアルゴンレーザーにかわる光源としてヘ
リウム−ネオンレーザ−が実用化されてきている。ヘリ
ウム−ネオンレーザ−はアルゴンレーザーに比へ、安価
で寿命か長いという特徴があ=3− る。
リウム−ネオンレーザ−が実用化されてきている。ヘリ
ウム−ネオンレーザ−はアルゴンレーザーに比へ、安価
で寿命か長いという特徴があ=3− る。
しかしながら、このヘリウム−ネオンレーザ−光源を搭
載したカラースキャナーで露光する際、感光材料にゴミ
なとの異物が付着していると、巻き付は時に浮きが生ず
ることがある。そしてその部分が黒くボケたり、画像の
ピントかボケたりする現象、いわゆる「焼きボケ」が発
生して製版作業に支障をきたすことがあり、改良か強く
望まれていた。
載したカラースキャナーで露光する際、感光材料にゴミ
なとの異物が付着していると、巻き付は時に浮きが生ず
ることがある。そしてその部分が黒くボケたり、画像の
ピントかボケたりする現象、いわゆる「焼きボケ」が発
生して製版作業に支障をきたすことがあり、改良か強く
望まれていた。
上記のような問題に対し、本発明の目的は、焼きボケの
少なく、ヘリウムーイ・オンレーザー光源に対して高い
感度を有するハロゲン化銀写真感光材料を提供すること
にある。
少なく、ヘリウムーイ・オンレーザー光源に対して高い
感度を有するハロゲン化銀写真感光材料を提供すること
にある。
本発明の上記目的は、支持体上の少なくとも一方ノ側に
、少なくとも1層のハロゲン化銀乳剤層を有するハロゲ
ン化銀写真感光材料において、該ハロゲン化銀写真感光
材料の少なくともいずれか1層に下記一般式〔I〕また
は(II)で表される化合物から選ばれる少なくとも1
種の化合物を含有し、前記ハロゲン化銀乳剤層と支持体
の中間、及び/又は該乳剤層に対して支持体の反対側に
導電性層を有することを特徴とするノーロゲン化銀写真
感光材料により達成される。
、少なくとも1層のハロゲン化銀乳剤層を有するハロゲ
ン化銀写真感光材料において、該ハロゲン化銀写真感光
材料の少なくともいずれか1層に下記一般式〔I〕また
は(II)で表される化合物から選ばれる少なくとも1
種の化合物を含有し、前記ハロゲン化銀乳剤層と支持体
の中間、及び/又は該乳剤層に対して支持体の反対側に
導電性層を有することを特徴とするノーロゲン化銀写真
感光材料により達成される。
一般式〔I〕
R,R2(X)m
式中、Yl、Y2はそれぞれ硫黄原子、セレン原子を表
す。ただしYl、Y2が同時にセレン原子であることは
ない。R3、R2はそれぞれ低級アルキル基、スルホ基
を有するアルキル基、カルボキシル基を有するアルキル
基を表す。
す。ただしYl、Y2が同時にセレン原子であることは
ない。R3、R2はそれぞれ低級アルキル基、スルホ基
を有するアルキル基、カルボキシル基を有するアルキル
基を表す。
Rは低級アルキル基を表し、A、Bはナフトチアゾール
環、ベンゾチアソール環、ナフトセレナゾール環または
ペンツセレナソール環を完成するのに必要な非金属原子
群を表す。Xはアニオンを表ず。mは1またけOを表し
、分子内塩の時はm”0を表す。
環、ベンゾチアソール環、ナフトセレナゾール環または
ペンツセレナソール環を完成するのに必要な非金属原子
群を表す。Xはアニオンを表ず。mは1またけOを表し
、分子内塩の時はm”0を表す。
一般式(IT)
。/興2 X、。
上記一般式中、2.及びZ2は、それぞれシアニン色素
で通常用いられる5員環及び/又は6員環の含窒素複素
環を形成するに必要な原子群を表す。
で通常用いられる5員環及び/又は6員環の含窒素複素
環を形成するに必要な原子群を表す。
R3及びR4は、各々飽和又は不飽和脂肪族基を表す。
QlとQ2は、4−チアソリジノンまたは4−イミタソ
リジノン環を形成するに必要な原子群を表す。
リジノン環を形成するに必要な原子群を表す。
Ll、R2、R3はメチン基、またLlどR3、R3と
R4かそれぞれメチレン鎖で結合して含窒素複素環を形
成してもよい。Xは、鉱酸または有機酸アニオンを表す
。R3、n、は0またはlの整数を表す。
R4かそれぞれメチレン鎖で結合して含窒素複素環を形
成してもよい。Xは、鉱酸または有機酸アニオンを表す
。R3、n、は0またはlの整数を表す。
尚、本発明の好ましい態様としては、上記導電性層が、
水溶性導電性ポリマーと疎水性ポリマー粒子と硬化剤を
含有すること、または導電性層が、金属酸化物を含有す
ることが望ましい。
水溶性導電性ポリマーと疎水性ポリマー粒子と硬化剤を
含有すること、または導電性層が、金属酸化物を含有す
ることが望ましい。
以下、本発明の詳細について述べる。
本発明における一般式(I 〕で示される色素について
説明する。
説明する。
一般式〔I)中、Yl及びY2はそれぞれ硫黄原子、セ
レン原子を表す。ただし、Yl、Y2が同時にセレン原
子を表すことはない。
レン原子を表す。ただし、Yl、Y2が同時にセレン原
子を表すことはない。
A、Bは各々ベンゾチアゾール環、ベンゾセレナ−ゾー
ル環、ナノl−チアゾール環、ナフトセレナ−ゾール環
を形成するのに必要な非金属原子群を表し、これらの複
素環は低級アルキル基、アルコキン基、ヒドロキシル基
、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、水素原子で
置換されていてもよい。尚、低級アルキル基は置換され
た場合を含む。R1,R2は、それぞ4L低級アルキル
基、スルホ基を有するアルキル基又はカルボキシル基を
有するアルキル基を表す。Rは、メチル基、エチル基、
プロピル基を表す。Xは、シアニン色素に通常用いられ
るアニオン例えばノ\ロゲンイオン、ベンゼンスルホン
酸イオン、p−トルエンスルホン酸−8= イオン等を表す。mは、I又はOを表し、分子内塩の時
はm−0を表す。
ル環、ナノl−チアゾール環、ナフトセレナ−ゾール環
を形成するのに必要な非金属原子群を表し、これらの複
素環は低級アルキル基、アルコキン基、ヒドロキシル基
、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、水素原子で
置換されていてもよい。尚、低級アルキル基は置換され
た場合を含む。R1,R2は、それぞ4L低級アルキル
基、スルホ基を有するアルキル基又はカルボキシル基を
有するアルキル基を表す。Rは、メチル基、エチル基、
プロピル基を表す。Xは、シアニン色素に通常用いられ
るアニオン例えばノ\ロゲンイオン、ベンゼンスルホン
酸イオン、p−トルエンスルホン酸−8= イオン等を表す。mは、I又はOを表し、分子内塩の時
はm−0を表す。
次に一般式〔I〕で表される増感色素の具体的な例を示
すが、これのみに限定されるものではない。尚本発明の
ハロダレ1ヒ銀写真感光材料に使用される増感色素類は
米国特許2503776号、英国特許742112号、
仏画特許20651iLi2号、特公昭40−2346
号を参照すれば容易に合成づることができる。
すが、これのみに限定されるものではない。尚本発明の
ハロダレ1ヒ銀写真感光材料に使用される増感色素類は
米国特許2503776号、英国特許742112号、
仏画特許20651iLi2号、特公昭40−2346
号を参照すれば容易に合成づることができる。
T−7
し113
■ −10
■ −12
=11−
■ −15
■ −16
■ −18
(し1I2)3bu3− L21
1S■ −19 ■ −20 ■ o3e ■ −22 ■ −23 ■ −24 ■ −25 ■ −26 ■ −27 ■ −28 ■ −29 つぎに一般式〔II〕について説明する。
1S■ −19 ■ −20 ■ o3e ■ −22 ■ −23 ■ −24 ■ −25 ■ −26 ■ −27 ■ −28 ■ −29 つぎに一般式〔II〕について説明する。
一般式[]T)中、Zl及びZ2は、各々5員環及び/
又は6員環の含窒素複素環を形成するに必要な原子群を
表す。この複素環の炭素原子には増感性に悪影響を与え
ない置換基がついていてもよい。
又は6員環の含窒素複素環を形成するに必要な原子群を
表す。この複素環の炭素原子には増感性に悪影響を与え
ない置換基がついていてもよい。
この複素環どしては例えばヂアソリン環、チアソール環
、ベンゾチアゾール環、ナフトデアソール環、セレナゾ
ール環、ベンズセレナゾール環、ナフトセレナゾール環
、オギサソール環、ペンズオギサゾール環、ナフトオキ
サゾール環、2−キノリン環、4−キノリン環、2−ピ
リジン環、4−ピリジン環、3,3−ジアルキルインド
レニン環、ベンズイミダソール環等であって、この複素
環の炭素原子にはハロゲン原子、アルギル基、アルコキ
シ基、ヒドロキシ基、モノアリール基などの置換基かつ
いていてもよい。
、ベンゾチアゾール環、ナフトデアソール環、セレナゾ
ール環、ベンズセレナゾール環、ナフトセレナゾール環
、オギサソール環、ペンズオギサゾール環、ナフトオキ
サゾール環、2−キノリン環、4−キノリン環、2−ピ
リジン環、4−ピリジン環、3,3−ジアルキルインド
レニン環、ベンズイミダソール環等であって、この複素
環の炭素原子にはハロゲン原子、アルギル基、アルコキ
シ基、ヒドロキシ基、モノアリール基などの置換基かつ
いていてもよい。
R3及びR1は、各々飽和又は不飽和脂肪族例え1よ低
級アルキル基(炭素数8以下のもの)、置換アルギル基
(好ましくはアルキル基ラジカルの炭素数5以下のもの
)を表す。QlとQ2は、4−チアゾリジノン、4−イ
ミダソリジノンを形成するに必要な原子群を表す。
級アルキル基(炭素数8以下のもの)、置換アルギル基
(好ましくはアルキル基ラジカルの炭素数5以下のもの
)を表す。QlとQ2は、4−チアゾリジノン、4−イ
ミダソリジノンを形成するに必要な原子群を表す。
チアゾリジノンまたはイミダゾリノンの3の位置の窒素
原子についている置換基としては、例えばアルギル基、
アリル基、アラルギル基、アリール基、ヒドロキシアル
キル基、カルボキシアルキル基、アルコキシ力ルホニル
アルキル基等をあけることかできる。
原子についている置換基としては、例えばアルギル基、
アリル基、アラルギル基、アリール基、ヒドロキシアル
キル基、カルボキシアルキル基、アルコキシ力ルホニル
アルキル基等をあけることかできる。
L、、L2及び丁−3は、メチン基又は置換メチン基ま
たLlとR,L3とR1かそれぞれメチレン基で結合し
て含窒素複素環(例えは5員、6員等)を形成していて
もよい。nI+ niはそれぞれOまたはlを表す。
たLlとR,L3とR1かそれぞれメチレン基で結合し
て含窒素複素環(例えは5員、6員等)を形成していて
もよい。nI+ niはそれぞれOまたはlを表す。
0のとき色素はベタイン構造を形成する。
Xは鉱酸もしくは有機酸アニオン例え1ツクロライド、
ブロマイド、ヨータイ1−、パークロレイ[・、ペンセ
ンスルホ不−1−1p−トルエンスルポ/r、−1・、
メチルザルフェート、エチルザルフェート等を表す。
ブロマイド、ヨータイ1−、パークロレイ[・、ペンセ
ンスルホ不−1−1p−トルエンスルポ/r、−1・、
メチルザルフェート、エチルザルフェート等を表す。
次に本発明に使用される一般式〔II〕で示される増感
色素を例記する。しかし増感色素はこれにド ド 一19= ■− I−5 ド I−6 I−7 ド f−8 Tl−10 ド l−11 l−12 ■− ■ −13 ド ■ −14 l−15 ド l−16 ド ■ −17 ド ■ −18 ■ −19 ド ■ −20 ド I[−21 ■ −22 ド ■ −23 ド ■ −24 ■ −25 一 ■ −26 ■ −27 =27− ■ −28 ド ■ −29 CH2CH2COO− ■ −30 ■ −31 ■ −32 ■ −33 シ2 n s c2 H6C2Hs
■ −34 ■ −35 ■ −36 ■ −37 ■− ■ −38 C2H5CHs C2H5 ド 上記一般式[:I]f:n)で示される化合物をハロゲ
ン化銀乳剤に使用するには、塗布液中に添加溶解せしめ
るか、水あるいはメタノール、エタノール、アセトン等
の有機溶媒の単独もしくはそれらの混合溶媒を溶解して
添加すればよい。但し、必要に応して写真性能上影響の
ない範囲でハロゲン化銀乳剤層に隣接する層、例えは保
護層、中間層にも添加することがてきる。
色素を例記する。しかし増感色素はこれにド ド 一19= ■− I−5 ド I−6 I−7 ド f−8 Tl−10 ド l−11 l−12 ■− ■ −13 ド ■ −14 l−15 ド l−16 ド ■ −17 ド ■ −18 ■ −19 ド ■ −20 ド I[−21 ■ −22 ド ■ −23 ド ■ −24 ■ −25 一 ■ −26 ■ −27 =27− ■ −28 ド ■ −29 CH2CH2COO− ■ −30 ■ −31 ■ −32 ■ −33 シ2 n s c2 H6C2Hs
■ −34 ■ −35 ■ −36 ■ −37 ■− ■ −38 C2H5CHs C2H5 ド 上記一般式[:I]f:n)で示される化合物をハロゲ
ン化銀乳剤に使用するには、塗布液中に添加溶解せしめ
るか、水あるいはメタノール、エタノール、アセトン等
の有機溶媒の単独もしくはそれらの混合溶媒を溶解して
添加すればよい。但し、必要に応して写真性能上影響の
ない範囲でハロゲン化銀乳剤層に隣接する層、例えは保
護層、中間層にも添加することがてきる。
また本発明で用いる化合物をハロゲン化銀乳剤に添加す
る場合の使用量についてはハロゲン化銀乳剤の種類、化
合物の種類によっても異なるが、通常ハロゲン化銀1モ
ル当り5mgから1000mgの範囲がよい。
る場合の使用量についてはハロゲン化銀乳剤の種類、化
合物の種類によっても異なるが、通常ハロゲン化銀1モ
ル当り5mgから1000mgの範囲がよい。
本発明に係る化合物をハロゲン化銀乳剤に添加する時期
は任意の時期でよいが通常は熟成中の任意の時期又は熟
成終了後の塗布“直前までの任意の時期に添加するのが
望ましい。
は任意の時期でよいが通常は熟成中の任意の時期又は熟
成終了後の塗布“直前までの任意の時期に添加するのが
望ましい。
また、本発明で用いる前記一般式1:I) (IT:
]で示される化合物は単独で用いてもよく、2種類以」
二併用してもよい。
]で示される化合物は単独で用いてもよく、2種類以」
二併用してもよい。
一32=
本発明において導電性層を形成する代表的方法としては
、水溶性導電性ポリマー、疎水性ポリマー粒子、硬化剤
等で用いて形成する方法ど金属酸化物を用いて形成する
方法かある。
、水溶性導電性ポリマー、疎水性ポリマー粒子、硬化剤
等で用いて形成する方法ど金属酸化物を用いて形成する
方法かある。
本発明の水溶性導電性ポリマーについては、スルホン酸
基、硫酸エステル基、4級アンモニウム塩、3級アンモ
ニウム塩、カルボキシル基、がら選ばれる少なくとも1
つの導電性基を有するポリマーか挙げられる。導電性基
はポリマー1分子当たり5重量%以上を必要とする。水
溶性の導電性 −ポリマー中には、ヒドロキシ基、ア
ミノ基、エポキシ基、アジリジン基、活性メチレン基、
スルフィン酸基、アルデヒド基、ヒニルスルホン基ヲ含
んでいてもよい。
基、硫酸エステル基、4級アンモニウム塩、3級アンモ
ニウム塩、カルボキシル基、がら選ばれる少なくとも1
つの導電性基を有するポリマーか挙げられる。導電性基
はポリマー1分子当たり5重量%以上を必要とする。水
溶性の導電性 −ポリマー中には、ヒドロキシ基、ア
ミノ基、エポキシ基、アジリジン基、活性メチレン基、
スルフィン酸基、アルデヒド基、ヒニルスルホン基ヲ含
んでいてもよい。
ポリマーの分子量は、3000〜1.00000であり
、好ましくは3500〜50000である。
、好ましくは3500〜50000である。
以下、本発明に用いられる水溶性導電性ポリで−の化合
物例を挙げるかこれに限定されるもので−I A−2 CH3 鵞 A−10 デキストランザルフエイト 置換度 3.0 Mn=500000SO2N3 A 15 CH3 ■ O3Na S03に A−]7 A−18 A −19 A−20デキストランザルフエイト 置換度 2.0 Mn−10000080°9°
篇#10000尚、上記A−1〜A−2
1において、Mnは平均分子量(本明細書中、平均分子
量とは数平均分子量を示す。)を表し、ポリエチレング
リコール換算で表したGPCによる測定値によるもので
ある。
物例を挙げるかこれに限定されるもので−I A−2 CH3 鵞 A−10 デキストランザルフエイト 置換度 3.0 Mn=500000SO2N3 A 15 CH3 ■ O3Na S03に A−]7 A−18 A −19 A−20デキストランザルフエイト 置換度 2.0 Mn−10000080°9°
篇#10000尚、上記A−1〜A−2
1において、Mnは平均分子量(本明細書中、平均分子
量とは数平均分子量を示す。)を表し、ポリエチレング
リコール換算で表したGPCによる測定値によるもので
ある。
本発明の水溶性導電性ポリマー層中に含有させる疎水性
ポリマー粒子は、実質的に水に溶解しない所謂ラテック
スで構成されている。この疎水性ポリマーは、スチレン
、スチレン誘導体、アルキルアクリレート、アルキルメ
タクリレート、オレフィン誘導体、ハロゲン化エチレン
誘導体、ビニルエステル誘導体、アクリルニトリル等の
中から任意の組み合わせで選ばれる千ツマ−を重合して
得られる。特にスチレン誘導体、アルキルアクリレート
、アルキルメタクリレートが少なくとも30モル%含有
されているのが好ましい。特に50モル%以上が好まし
い。
ポリマー粒子は、実質的に水に溶解しない所謂ラテック
スで構成されている。この疎水性ポリマーは、スチレン
、スチレン誘導体、アルキルアクリレート、アルキルメ
タクリレート、オレフィン誘導体、ハロゲン化エチレン
誘導体、ビニルエステル誘導体、アクリルニトリル等の
中から任意の組み合わせで選ばれる千ツマ−を重合して
得られる。特にスチレン誘導体、アルキルアクリレート
、アルキルメタクリレートが少なくとも30モル%含有
されているのが好ましい。特に50モル%以上が好まし
い。
本発明のラテックスに含有させるアミド基を有するモノ
マーとしては、下記一般式[’l)で表されるものが好
ましい。
マーとしては、下記一般式[’l)で表されるものが好
ましい。
一般式〔I〕
CH2=C
■
C式中、Rは水素原子、炭素数1〜4の低級アルキル基
を表す。Lは2価の基、aはO又はlを表す。R1,R
2は水素原子、炭素数1〜6の低級アルキル基を表す。
を表す。Lは2価の基、aはO又はlを表す。R1,R
2は水素原子、炭素数1〜6の低級アルキル基を表す。
〕
本発明の七ツマ−の具体例を挙げる。
1゜
CH2=CH
■
0NH2
2゜
C1)3
CH3−C
0NH2
=40−
3 。
C)I2=CH
■
C0NHCH。
疎水性ポリマーをラテックス状にするには乳化重合をす
る、固体状のポリマーを低沸点溶媒に溶かして微分散後
、溶媒を溜去するという2つの方法があるが、粒径が細
かくしかもそろったものができるという点で乳化重合す
ることが好ましい。
る、固体状のポリマーを低沸点溶媒に溶かして微分散後
、溶媒を溜去するという2つの方法があるが、粒径が細
かくしかもそろったものができるという点で乳化重合す
ることが好ましい。
疎水性ポリマーの分子量は3000以上であれば良く、
分子量による透明性の差はほとんとない。
分子量による透明性の差はほとんとない。
本発明の疎水性ポリマーの具体例を挙げる。
本発明の疎水性ボリマーラテンクスにポリアルキレンオ
キシド鎖を導入する方法としては、ポリアルキレンオキ
シド鎖を有するモノマーを共重合さゼることによる方法
か好ましい。
キシド鎖を導入する方法としては、ポリアルキレンオキ
シド鎖を有するモノマーを共重合さゼることによる方法
か好ましい。
モノマーどしては下記一般式CM)で表されるものが好
ましい。
ましい。
一般式(M:] lン1
CH2=C
■、−X
ここでRは、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基
、−CH2−L−Xを表し、Lは、−〇〇〇−1■ −CON−1又は炭素数6から12のアリール基を表す
。R1は、水素原子、アリール基、低級アルキル基、X
、を表し、Xは、fR2−0すnR3を表す。R2は−
CH2CH2−1 H3CH3 CH2CH2CH2CH2−1−Ctl 2 CHCH
2−から選ばれる少なくとも1種からなり、R3は水素
原子、低級アルキル基アルキルスルホン酸又はその塩、
アルキルカルボン酸基又はその塩を表す。nは2以上で
70以下の整数である。
、−CH2−L−Xを表し、Lは、−〇〇〇−1■ −CON−1又は炭素数6から12のアリール基を表す
。R1は、水素原子、アリール基、低級アルキル基、X
、を表し、Xは、fR2−0すnR3を表す。R2は−
CH2CH2−1 H3CH3 CH2CH2CH2CH2−1−Ctl 2 CHCH
2−から選ばれる少なくとも1種からなり、R3は水素
原子、低級アルキル基アルキルスルホン酸又はその塩、
アルキルカルボン酸基又はその塩を表す。nは2以上で
70以下の整数である。
次にこれらモノマー具体例を挙げる。
M−7CH3M −8
M−9M−10
M 1.I CH2””CH
COO(CH2CH20)−g (CH20HO”hH
■ CH2 一41ト− M−129H3 CH2=C COO)CH2CHzOh1(CH2CHCH2チrn
H■ H Mi3 CH CH2=〔I( C00nCH2CH20:J−T−+SO3NaM−1
9 CH2=CH Coo(CH2CH20…SO3Na M−206H3 CH2=C ■ Coo(−CH2CH20h So 3 tJaM−2
1oH3 M−24?H・ M−25♀H・ CH3 ■ M−290H3 ・M−31oI(3 ■ =48− 以下に本発明のラテックスの具体例を挙げる。
■ CH2 一41ト− M−129H3 CH2=C COO)CH2CHzOh1(CH2CHCH2チrn
H■ H Mi3 CH CH2=〔I( C00nCH2CH20:J−T−+SO3NaM−1
9 CH2=CH Coo(CH2CH20…SO3Na M−206H3 CH2=C ■ Coo(−CH2CH20h So 3 tJaM−2
1oH3 M−24?H・ M−25♀H・ CH3 ■ M−290H3 ・M−31oI(3 ■ =48− 以下に本発明のラテックスの具体例を挙げる。
CH3
園
CH3CH3
■
CH 3CH3
B−9
CH。
CH3
B −12
CH。
?H・
CH3
■
Coo(C2H,0)5SO3Na
CH2Cl 3
8 20 CH3I
CH3Co。
I
03Na
B −25
?H・ ?H・本発明のエポキ
シ化イ、物としては、ヒドロキシ基又はエーテル縮合を
含11するものか好まし17翫。
シ化イ、物としては、ヒドロキシ基又はエーテル縮合を
含11するものか好まし17翫。
本発明のエポキシ化名物の具体例を挙げる。
\0/
0H(ill
0HC1l+
XO!
帯電防止層に含まれる疎水性ポリマーラテックスの添加
量は、好ましくは10mgm2〜1000mg/m2、
特に好ましくは100mg/m2〜500mg/m2、
水溶性導電性ポリマーの添加量は、好ましくは50mg
/m”〜2000mg/m2、特に好ましくは100m
g/m2− 1000mg/m2、51i− エポキシ系化合物の添加量は、好ましくはlOmg/m
2〜500mg/m2、特に好ましくは50mg/m2
〜300mg/m2である。
量は、好ましくは10mgm2〜1000mg/m2、
特に好ましくは100mg/m2〜500mg/m2、
水溶性導電性ポリマーの添加量は、好ましくは50mg
/m”〜2000mg/m2、特に好ましくは100m
g/m2− 1000mg/m2、51i− エポキシ系化合物の添加量は、好ましくはlOmg/m
2〜500mg/m2、特に好ましくは50mg/m2
〜300mg/m2である。
帯電防止層には分散剤を用いることができ、かかる分散
剤としてはノニオン活性剤が用いられ、ポリアルキレン
オキサイド化合物が好ましく用いられる。
剤としてはノニオン活性剤が用いられ、ポリアルキレン
オキサイド化合物が好ましく用いられる。
本発明において用いられるポリアルキレンオキサイド化
合物とは、分子中に少なくとも2以上、多くとも500
以下のポリアルキレンオキサイド鎖を含む化合物をいい
、例えばポリアルキレンオキサイドと脂肪族アルコール
、フェノール類、脂肪酸、脂肪族メルカプタン、有機ア
ミンなどの活性水素原子を有する化合物との縮合反応に
より、またはポリプロピレングリコール、ポリオキシテ
トラメチレン重合体などのポリオールに脂肪族メルカプ
タン、有機アミン、エチレンオキサイド、プロピレンオ
キサイドなとを縮合させて合成することかできる。
合物とは、分子中に少なくとも2以上、多くとも500
以下のポリアルキレンオキサイド鎖を含む化合物をいい
、例えばポリアルキレンオキサイドと脂肪族アルコール
、フェノール類、脂肪酸、脂肪族メルカプタン、有機ア
ミンなどの活性水素原子を有する化合物との縮合反応に
より、またはポリプロピレングリコール、ポリオキシテ
トラメチレン重合体などのポリオールに脂肪族メルカプ
タン、有機アミン、エチレンオキサイド、プロピレンオ
キサイドなとを縮合させて合成することかできる。
上記ポリアルキレンオキサイド化合物は、分子中のポリ
アルキレンオキサイド鎖は1個ではなく2ケ所以上に分
割されたブロック共重合体であってもよい。
アルキレンオキサイド鎖は1個ではなく2ケ所以上に分
割されたブロック共重合体であってもよい。
この際、ポリアルキレンオキサイドの合計重合度は3以
上で100以下か好ましい。
上で100以下か好ましい。
本発明において任意に用いられる上記ポリアルキレンオ
キサイド化合物の具体例を以下に示す。
キサイド化合物の具体例を以下に示す。
(AO−1) HO(CH2CH20)nH(n =
4:](Ao 2 〕HO(CH2CH2O)nH
(n=35)(Ao 3 〕HOCCH2CH20)
nH〔n=135)[: Ao 4 :l HO(
CH2CH20)nH[:n−225)〔Ao 5
) HO(CH2CH20)nil (
n=450:1(Ao−6) n−C4H90(CH
2C1120)、H(ff=20)(Ao 7 )
n CsH+yO(CH2t:H□O%H(i2=3
0)(Ao−8) n−012H250(C1(、
〔I(20)、HC(1=30’Jしa=:1u) CAo 10:l n 〔I 。H25S
(CH−CH20) H((1−30:](Ao11
〕C4H,5(CH2CH20)IIcOcH2CH2
COOH(n=50)〔Ao−’12) HO(CH
2CH20)o、(t、’ll、)m(CH2CH20
)ncOcH2CH2COOH(4+n=70. m=
5:1 (Ao 17〕HO(CH2CH20)(2(1’H
zcH2cH2cH20)m(CH2CH20)nH(
4+n=23. m=21) (Ao Ig:] HO(CH2CH20)4(〔
IhCH2CH2CHzO)m(CH2CH20)nH
(1−n=38. m=15) −54+− [:Ao−23:] OH00CCH
2CH2CO(f’、112cH20)Q(CH2CH
2−〇 CH2lCH2CH20)、、fll:0)nCCH2
CH2COOH(a+n=]5.m=]、5:] 〔AO−24〕 O ((t+n=15. m=20:1 CO+ n = 30) 〔AO−26〕 C,、H33COまCH−tit20ケiH〔Ao−2
7〕 c+m+n=20 〔Ao−28〕 α+n1−12 次に金属酸化物を用いて導電性層を形成する方法を説明
する。
4:](Ao 2 〕HO(CH2CH2O)nH
(n=35)(Ao 3 〕HOCCH2CH20)
nH〔n=135)[: Ao 4 :l HO(
CH2CH20)nH[:n−225)〔Ao 5
) HO(CH2CH20)nil (
n=450:1(Ao−6) n−C4H90(CH
2C1120)、H(ff=20)(Ao 7 )
n CsH+yO(CH2t:H□O%H(i2=3
0)(Ao−8) n−012H250(C1(、
〔I(20)、HC(1=30’Jしa=:1u) CAo 10:l n 〔I 。H25S
(CH−CH20) H((1−30:](Ao11
〕C4H,5(CH2CH20)IIcOcH2CH2
COOH(n=50)〔Ao−’12) HO(CH
2CH20)o、(t、’ll、)m(CH2CH20
)ncOcH2CH2COOH(4+n=70. m=
5:1 (Ao 17〕HO(CH2CH20)(2(1’H
zcH2cH2cH20)m(CH2CH20)nH(
4+n=23. m=21) (Ao Ig:] HO(CH2CH20)4(〔
IhCH2CH2CHzO)m(CH2CH20)nH
(1−n=38. m=15) −54+− [:Ao−23:] OH00CCH
2CH2CO(f’、112cH20)Q(CH2CH
2−〇 CH2lCH2CH20)、、fll:0)nCCH2
CH2COOH(a+n=]5.m=]、5:] 〔AO−24〕 O ((t+n=15. m=20:1 CO+ n = 30) 〔AO−26〕 C,、H33COまCH−tit20ケiH〔Ao−2
7〕 c+m+n=20 〔Ao−28〕 α+n1−12 次に金属酸化物を用いて導電性層を形成する方法を説明
する。
金属酸化物として好ましいのは、結晶性の金属酸化物粒
子であるが、酸素欠陥を含むもの及び用いられる金属酸
化物に対してドナーを形成する異=62 種原子全少介含むもの等は一般的に言って導電性か高い
ので特に好ましく、特に後者の用いられる金属酸化物に
対してドナーを形成する異種原子を少量含むものは、ハ
ロケン化銀乳剤にカブリを与えないので特に好ましい。
子であるが、酸素欠陥を含むもの及び用いられる金属酸
化物に対してドナーを形成する異=62 種原子全少介含むもの等は一般的に言って導電性か高い
ので特に好ましく、特に後者の用いられる金属酸化物に
対してドナーを形成する異種原子を少量含むものは、ハ
ロケン化銀乳剤にカブリを与えないので特に好ましい。
金属酸化物の例としては、ZnO2、TlO2,5nO
2、Aa2o3、In2O3、SiO3、MgO、Ba
O,MoO3、V2O5等或はこれらの複合酸化物か好
ましく、特にZnO2、TlO2、SnO2か好ましい
。
2、Aa2o3、In2O3、SiO3、MgO、Ba
O,MoO3、V2O5等或はこれらの複合酸化物か好
ましく、特にZnO2、TlO2、SnO2か好ましい
。
異種原子を含む例としては例えばSnO2に対してSl
)等の添加あるいけTie、、に対してはNb、 Ta
等の添加か効果的である。これら異種原子の添加量は0
.01〜30モル%の範囲か好ましいが、0.1〜10
モル%の範囲であれば特に好ましい。
)等の添加あるいけTie、、に対してはNb、 Ta
等の添加か効果的である。これら異種原子の添加量は0
.01〜30モル%の範囲か好ましいが、0.1〜10
モル%の範囲であれば特に好ましい。
本発明に用いられる金属酸化物の粒子は、導電性を有す
るものであり、その体積抵抗率は10’Ωcm以下、特
に1050cm以下であることが好ましい。
るものであり、その体積抵抗率は10’Ωcm以下、特
に1050cm以下であることが好ましい。
この酸化物については特開昭56−143431号、同
56−1.20519号、同58−62647号に記載
されている。
56−1.20519号、同58−62647号に記載
されている。
金属酸化物の粒子はバインター中に分散又は溶解さセて
用いられる。使用できるバインダーはフィルム形成能を
有するものであれは特に限定されないが、例えば、ゼラ
チン、カセイン等の蛋白質、カルボキンメチルセルロー
ス、ヒドロキシエチルセルロース、アセチルセルロース
、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース等の
セルロース化合物、デキストラン、寒天、アルギン酸ソ
ーダ、澱粉誘導体等の糖類、ポリビニルアルコール、ポ
リ酢酸ビニル、ポリアクリル酸エステル、ポリメタクリ
ル酸エステル、ポリスチレン、ポリアクリルアミド、ポ
リ−N−ビニルピロリドン、ポリエステル、ポリ塩化ビ
ニル、ポリアクリル酸等の合成ポリマー等を挙げること
ができる。
用いられる。使用できるバインダーはフィルム形成能を
有するものであれは特に限定されないが、例えば、ゼラ
チン、カセイン等の蛋白質、カルボキンメチルセルロー
ス、ヒドロキシエチルセルロース、アセチルセルロース
、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース等の
セルロース化合物、デキストラン、寒天、アルギン酸ソ
ーダ、澱粉誘導体等の糖類、ポリビニルアルコール、ポ
リ酢酸ビニル、ポリアクリル酸エステル、ポリメタクリ
ル酸エステル、ポリスチレン、ポリアクリルアミド、ポ
リ−N−ビニルピロリドン、ポリエステル、ポリ塩化ビ
ニル、ポリアクリル酸等の合成ポリマー等を挙げること
ができる。
特にゼラチン(石灰処理セラチン、酸処理ゼラチン、酸
素分解ゼランチ、フタル化ゼラチン、アセチル化ゼラチ
ン等)、アセチルセルロース、ジアセチルセルロース、
トリアセチルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリ
酢酸ビニル、ポリアクリル酸ブチル、ポリアクリルアミ
ド、デキストランが好ましい。
素分解ゼランチ、フタル化ゼラチン、アセチル化ゼラチ
ン等)、アセチルセルロース、ジアセチルセルロース、
トリアセチルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリ
酢酸ビニル、ポリアクリル酸ブチル、ポリアクリルアミ
ド、デキストランが好ましい。
一6/l−
金属酸化物をより効果的に使用して導電性層の抵抗を下
げるために、導電性層中における金属酸化物の体積含有
率は高い方が好ましいか、層としての強度を十分に持た
せるために最低5%程度のハイターか必要であるので、
金属酸化物の体積百分率は5〜95%の範囲か好ましい
。
げるために、導電性層中における金属酸化物の体積含有
率は高い方が好ましいか、層としての強度を十分に持た
せるために最低5%程度のハイターか必要であるので、
金属酸化物の体積百分率は5〜95%の範囲か好ましい
。
金属酸化物の使用量は0.05〜lOg/m2か好まし
く、より好ましくは0.O1〜5 g/m2である。こ
れにより帯電防止性か得られる。
く、より好ましくは0.O1〜5 g/m2である。こ
れにより帯電防止性か得られる。
本発明において、導電性層はハロゲン化銀乳剤層と支持
体の中間および/または該乳剤層に対して支持体の反対
側に設けられる。即ち透明支持体の感光性乳剤面側に設
(プられてもよいし、あるいは感光性乳剤面に対し透明
支持体の反対側、いわゆる背面に設けられてもよい。
体の中間および/または該乳剤層に対して支持体の反対
側に設けられる。即ち透明支持体の感光性乳剤面側に設
(プられてもよいし、あるいは感光性乳剤面に対し透明
支持体の反対側、いわゆる背面に設けられてもよい。
かかる導電性層は、透明支持体上に塗布によって形成さ
れる。
れる。
透明支持体は写真用のもの全てが使えるか、好ましくは
可視光を90%以上透過するように作られたポリエチレ
ンテレフタレー1〜又はセルローストリアセテートであ
る。
可視光を90%以上透過するように作られたポリエチレ
ンテレフタレー1〜又はセルローストリアセテートであ
る。
これらの透明支持体は、当業者に良く知られた方法で作
成されるものであるが、場合によっては光透過を実質的
に阻害しないように染料を若干添加して青味付けしたり
しても良い。
成されるものであるが、場合によっては光透過を実質的
に阻害しないように染料を若干添加して青味付けしたり
しても良い。
支持体は、コロナ放電処理をした後ラテックスポリマー
を含有する下引層か塗設されていてもよい。コロナ放電
処理は、エイ・ルギー値どして1mW〜l kw/m2
m1nか特に好ましく適用される。又特に好ましくは、
ラテックス下引層塗布後導電性層を塗設する前にコロナ
放電処理を再度行うとよい。
を含有する下引層か塗設されていてもよい。コロナ放電
処理は、エイ・ルギー値どして1mW〜l kw/m2
m1nか特に好ましく適用される。又特に好ましくは、
ラテックス下引層塗布後導電性層を塗設する前にコロナ
放電処理を再度行うとよい。
前記の導電性層を有する支持体の上には少なくとも1層
の感光性ハロケン化銀乳剤層が設けられる。
の感光性ハロケン化銀乳剤層が設けられる。
本発明においては感光性ハロゲン化銀乳剤層にヒドラジ
ン化合物が含有されることか好ましく、ヒドラジン化合
物としては、下記一般式CH)て一般式〔H〕 Q、Q□ X。
ン化合物が含有されることか好ましく、ヒドラジン化合
物としては、下記一般式CH)て一般式〔H〕 Q、Q□ X。
R,−N −N −C−R2
式中、R1は1価の有機残基を表し、R2は水素原子ま
たは1価の有機残基を表し、Ql及びQ2は水素原子、
アルギルスルホニル基(置換基を有するものも含む)、
アリールスルホニル基(置換基を有するものも含む)を
表し、Xlは酸素原子またはイオウ原子を表す。一般式
〔I〕で表される化合物のうち、Xlが酸素原子であり
、かつR2か水素原子である化合物か更に好ましい。
たは1価の有機残基を表し、Ql及びQ2は水素原子、
アルギルスルホニル基(置換基を有するものも含む)、
アリールスルホニル基(置換基を有するものも含む)を
表し、Xlは酸素原子またはイオウ原子を表す。一般式
〔I〕で表される化合物のうち、Xlが酸素原子であり
、かつR2か水素原子である化合物か更に好ましい。
上記R1及びR2の1価の有機残基としては、芳香族残
基、複素環残基及び脂肪族残基が包含される。
基、複素環残基及び脂肪族残基が包含される。
芳香族残基としては、フェニル基、ナフチル基及びこれ
らに置換基(例えばアルキル基、アルコキシ基、アシル
ヒドラジノ基、ジアルキルアミノ基、アルコキシカルボ
ニル基、シアン基、カルボキシ基、ニトロ基、アルキル
チオ基、ヒドロキシ基、スルホニル基、カルバモイル基
、ハロゲン原子、アシルアミノ基、スルホンアミド基、
ウレア基、チオウレア基など)のついたものを含む。置
換基のついたものの具体例として、例えは、4−メチル
フェニル基、4−エチルフェニル基、4−オキンx−f
−ルフェニル基、4−ドデシルフェニル基、4−カルボ
キシフェニル基、4−ジエチルアミノフェニル基、4−
オクチルアミノフェニル基、4−ベンジルアミノフェニ
ル基、4−アセトアミド−2−メチルフェニル基、4−
(3−エチルチオウレイド)フェニル基、4−[2−(
2,4−ジーtert−ブチルフェノキシ)ブチルアミ
ド]フェニル基、4−[2−(2,4−ジーtert−
ブチルフェノキシ)ブチルアミド]フェニル基などを挙
げることができる。
らに置換基(例えばアルキル基、アルコキシ基、アシル
ヒドラジノ基、ジアルキルアミノ基、アルコキシカルボ
ニル基、シアン基、カルボキシ基、ニトロ基、アルキル
チオ基、ヒドロキシ基、スルホニル基、カルバモイル基
、ハロゲン原子、アシルアミノ基、スルホンアミド基、
ウレア基、チオウレア基など)のついたものを含む。置
換基のついたものの具体例として、例えは、4−メチル
フェニル基、4−エチルフェニル基、4−オキンx−f
−ルフェニル基、4−ドデシルフェニル基、4−カルボ
キシフェニル基、4−ジエチルアミノフェニル基、4−
オクチルアミノフェニル基、4−ベンジルアミノフェニ
ル基、4−アセトアミド−2−メチルフェニル基、4−
(3−エチルチオウレイド)フェニル基、4−[2−(
2,4−ジーtert−ブチルフェノキシ)ブチルアミ
ド]フェニル基、4−[2−(2,4−ジーtert−
ブチルフェノキシ)ブチルアミド]フェニル基などを挙
げることができる。
複素環残基としては、酸素、窒素、硫黄、またはセレン
原子のうち少なくとも一つを有する三員もしくは六員の
単環または縮合環で、これらに置換基がついてもよい。
原子のうち少なくとも一つを有する三員もしくは六員の
単環または縮合環で、これらに置換基がついてもよい。
具体的には例えば、ピロリン環、ピリジン環、キノリン
環、インドール環、オキサゾール環、ペンゾオキザソー
ル環、ナフトオキサゾール環、イミダゾール環、ベンゾ
イミダ6フー ゾール環、デアゾリン環、チアゾール環、ベンゾチアゾ
ール環、ナフトチアゾール環、セレナゾール環、ベンゾ
セレナゾール環、ナフトセレナゾール環なとの残基を挙
げることが出来る。
環、インドール環、オキサゾール環、ペンゾオキザソー
ル環、ナフトオキサゾール環、イミダゾール環、ベンゾ
イミダ6フー ゾール環、デアゾリン環、チアゾール環、ベンゾチアゾ
ール環、ナフトチアゾール環、セレナゾール環、ベンゾ
セレナゾール環、ナフトセレナゾール環なとの残基を挙
げることが出来る。
これらの複素環は、メチル基、エチル基等炭素数1〜4
のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基等炭素数1〜4
のアルコキノ基、フェニル基等の炭素数6〜18のアリ
ール基や、クロル、ブロム等のハロゲン原子、アルコキ
シカルボニル基、シアン基、アミン基等で置換されてい
てもよい。
のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基等炭素数1〜4
のアルコキノ基、フェニル基等の炭素数6〜18のアリ
ール基や、クロル、ブロム等のハロゲン原子、アルコキ
シカルボニル基、シアン基、アミン基等で置換されてい
てもよい。
脂肪族残基としては、直鎖及び分岐のアルキル基、シク
ロアルキル基及びこれらに置換基のついたもの、並びに
アルケニル基及びアルキニル基を含む。
ロアルキル基及びこれらに置換基のついたもの、並びに
アルケニル基及びアルキニル基を含む。
直鎖及び分岐のアルキル基としては、例えば炭素数1−
18、好ましくは1〜8のアルキル基であって、具体的
には例えはメチル基、エチル基、イソブヂル基、1−オ
クチル基等である。
18、好ましくは1〜8のアルキル基であって、具体的
には例えはメチル基、エチル基、イソブヂル基、1−オ
クチル基等である。
シクロアルキル基としては、例えは炭素数3〜10のも
ので、具体的には例えは/クロプロピル基、=68− ンクロヘキシル基、アクマンチル基等である。アルキル
基やシクロアルキル基に対する置換基としてはアルコキ
シ基(例えはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、
ブトキシ基等)、アルコキシカルボニル基、カルバモイ
ル基、ヒドロキシ基、アルキルチオ基、アミド基、アシ
ロキシ基、シアノ基、スルホニル基、ハロゲン原子(例
えば塩素、臭素、弗素、沃素なと)、アリール基(例え
ばフェニル基、ハロゲン置換フェニル基、アルキル置換
フェニル基)等であり、置換されたものの具体例として
は例えば3−メ]・キンプロピル基、エトキシカルボニ
ルメチル基、4−タロロシクロヘキシル基、ベンジル基
、p−メチルベンジル!、piフロロンジル基などを挙
げることができる。また、アルケニル基としては例えは
アリル(allyl)基、アルキニル基としては例えは
プロパルギル基を挙げることができる。
ので、具体的には例えは/クロプロピル基、=68− ンクロヘキシル基、アクマンチル基等である。アルキル
基やシクロアルキル基に対する置換基としてはアルコキ
シ基(例えはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、
ブトキシ基等)、アルコキシカルボニル基、カルバモイ
ル基、ヒドロキシ基、アルキルチオ基、アミド基、アシ
ロキシ基、シアノ基、スルホニル基、ハロゲン原子(例
えば塩素、臭素、弗素、沃素なと)、アリール基(例え
ばフェニル基、ハロゲン置換フェニル基、アルキル置換
フェニル基)等であり、置換されたものの具体例として
は例えば3−メ]・キンプロピル基、エトキシカルボニ
ルメチル基、4−タロロシクロヘキシル基、ベンジル基
、p−メチルベンジル!、piフロロンジル基などを挙
げることができる。また、アルケニル基としては例えは
アリル(allyl)基、アルキニル基としては例えは
プロパルギル基を挙げることができる。
本発明のヒドラジン化合物の好ましい具体例を以下に示
すが、本発明は何等これによって限定されるものではな
い。
すが、本発明は何等これによって限定されるものではな
い。
H−3
C11つ
し■13
H−8
H−12
H3
H−24
CH3
CH3
CH
一般式( H )で表わされるヒドラジン化合物の添加
位置はハロゲン化銀乳剤層及び/または支持体上のハロ
ゲン化銀乳剤層側にある非感光層であるが、好ましくは
、ハロゲン化銀乳剤層及び/またはその下層である。添
加量は、10−5〜10−1モル/銀1モルが好ましく
、更に好ましくは10−4〜lO−2モル/銀1モルで
ある。
位置はハロゲン化銀乳剤層及び/または支持体上のハロ
ゲン化銀乳剤層側にある非感光層であるが、好ましくは
、ハロゲン化銀乳剤層及び/またはその下層である。添
加量は、10−5〜10−1モル/銀1モルが好ましく
、更に好ましくは10−4〜lO−2モル/銀1モルで
ある。
一般式( H )で表されるヒドラジン化合物とともに
造核促進剤としてアミン化合物、4級オニウム塩、ヒド
ロキンベンセン化合物なとを併用することができる。
造核促進剤としてアミン化合物、4級オニウム塩、ヒド
ロキンベンセン化合物なとを併用することができる。
次に本発明に用いられるテトラツリウム化合物について
説明する。
説明する。
テトラゾリウム化合物は下記一般式で示すことかできる
。
。
一般式〔T〕
本発明において、上記一般式〔T〕で示されるl・リフ
ェニルテトラゾリウム化合物のフェニル基の置換基R1
、R2、R3は水素原子もしくは電子吸引仕度を示すハ
メットのシグマ値(σP)か負又は正のものか好ましい
。特に負のものが好ましい。
ェニルテトラゾリウム化合物のフェニル基の置換基R1
、R2、R3は水素原子もしくは電子吸引仕度を示すハ
メットのシグマ値(σP)か負又は正のものか好ましい
。特に負のものが好ましい。
フェニル置換におけるハメットのシグマ値は多くの文献
、例えばジャーナル・オブ・メディカル−79= ケ ミ ス ト リ − (Journal
of Medical Che+n1str
y)第20巻、304頁、1977年、記載のC,ハン
クス(C。
、例えばジャーナル・オブ・メディカル−79= ケ ミ ス ト リ − (Journal
of Medical Che+n1str
y)第20巻、304頁、1977年、記載のC,ハン
クス(C。
Hansch)等の報文等に見ることが出来、とくに好
ましい負のシグマ値を何する基としては、例えばメヂル
基(σP=−0.1.7以下いずれもσP値)エチル基
(−0,15)、シクロプロピル基(−0,21)、n
−プロピル基(−0,13)、isoプロピル基(−0
,15)、シクロブチル基(−0,15)、n−ブチル
基(−0,16)、1sO−ブチル基(−0,20)、
n−ペンチル基(−0,15)、シクロヘキシル基(−
0,22)、アミノ基(−0,66)、アセチルアミノ
基(−0,15)、ヒドロキシル基(−0,37)、メ
トキシ基(−0,27)、工1−キシ基(−0,2/l
)、プロポキシ基(−0,25)、ブ)・キシ基(−0
,32)、ペントキシ基(−0,34)等か挙げられ、
これらはいずれも本発明の一般式〔T〕の化合物の置換
基として有用である。
ましい負のシグマ値を何する基としては、例えばメヂル
基(σP=−0.1.7以下いずれもσP値)エチル基
(−0,15)、シクロプロピル基(−0,21)、n
−プロピル基(−0,13)、isoプロピル基(−0
,15)、シクロブチル基(−0,15)、n−ブチル
基(−0,16)、1sO−ブチル基(−0,20)、
n−ペンチル基(−0,15)、シクロヘキシル基(−
0,22)、アミノ基(−0,66)、アセチルアミノ
基(−0,15)、ヒドロキシル基(−0,37)、メ
トキシ基(−0,27)、工1−キシ基(−0,2/l
)、プロポキシ基(−0,25)、ブ)・キシ基(−0
,32)、ペントキシ基(−0,34)等か挙げられ、
これらはいずれも本発明の一般式〔T〕の化合物の置換
基として有用である。
以下本発明に用いられる一般式〔T〕の化合物の具体例
を挙げるか、本発明の化合物はこれに限(例示化合物) T−] T−9 T −10 本発明に用いられるテトラツリウム化合物は、例えばケ
ミカル・レヒ、:L−(Chemical Revie
ws)第55巻、第335頁〜483頁に記載の方法に
従って容易に合成することができる。
を挙げるか、本発明の化合物はこれに限(例示化合物) T−] T−9 T −10 本発明に用いられるテトラツリウム化合物は、例えばケ
ミカル・レヒ、:L−(Chemical Revie
ws)第55巻、第335頁〜483頁に記載の方法に
従って容易に合成することができる。
本発明のテトラゾリウム化合物は、本発明のハロゲン化
銀写真感光材料中に含有されるハロゲン化銀1モル当り
約1mg以上10gまで、好ましくは約10mg以上約
2gまでの範囲で用いられるのが好ましい。
銀写真感光材料中に含有されるハロゲン化銀1モル当り
約1mg以上10gまで、好ましくは約10mg以上約
2gまでの範囲で用いられるのが好ましい。
本発明に使用するテトラツリウム化合物は、単−t’l
!I− 独でもちいることにより好ましい特性を得ることができ
るか、複数をいかなる比率で組み合わせても好ましい特
性を劣化させることはない。
!I− 独でもちいることにより好ましい特性を得ることができ
るか、複数をいかなる比率で組み合わせても好ましい特
性を劣化させることはない。
本発明の好ましい一つの実施態様として、本発明に係わ
るテトラツリウム化合物をハロゲン化銀乳剤層中に添加
することが挙げられる。又本発明の別の好ましい実施態
様においては、ハロゲン化銀乳剤層に直接隣接する親水
性コロイド層、又は中間層を介して隣接する親水性コロ
イド層に添加される。
るテトラツリウム化合物をハロゲン化銀乳剤層中に添加
することが挙げられる。又本発明の別の好ましい実施態
様においては、ハロゲン化銀乳剤層に直接隣接する親水
性コロイド層、又は中間層を介して隣接する親水性コロ
イド層に添加される。
又別の態様としては、本発明に係わるテトラゾリウム化
合物を適当な有機溶媒、例えばメタノール、エタノール
等のアルコール類やエーテル類、エステル類等に溶解し
てオーバーコート法等によりハロゲン化銀写真感光材料
のハロゲン化銀乳剤層側の最外層になる部分に直接塗布
してハロケン化銀写真感光材料に含有せしめてもよい。
合物を適当な有機溶媒、例えばメタノール、エタノール
等のアルコール類やエーテル類、エステル類等に溶解し
てオーバーコート法等によりハロゲン化銀写真感光材料
のハロゲン化銀乳剤層側の最外層になる部分に直接塗布
してハロケン化銀写真感光材料に含有せしめてもよい。
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料に用いるハロゲ
ン化銀は、任意の組成の塩化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀
等の通常のハロゲン化銀乳剤に使用される任意のものを
用いることかでき、ハロゲン化銀粒子は、酸性法、中性
法およびアンモニア法のいずれで得られたものでもよい
。
ン化銀は、任意の組成の塩化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀
等の通常のハロゲン化銀乳剤に使用される任意のものを
用いることかでき、ハロゲン化銀粒子は、酸性法、中性
法およびアンモニア法のいずれで得られたものでもよい
。
ハロゲン化銀粒子は、粒子内において均一なハロゲン化
銀組成分布を有するものでも、粒子の内部と表面層とで
ハロゲン化銀組成が異なるコア/シェル粒子てあっても
よく、潜像が主として表面に形成されるような粒子であ
っても、また主として粒子内部に形成されるような粒子
でもよい。
銀組成分布を有するものでも、粒子の内部と表面層とで
ハロゲン化銀組成が異なるコア/シェル粒子てあっても
よく、潜像が主として表面に形成されるような粒子であ
っても、また主として粒子内部に形成されるような粒子
でもよい。
例えば米国特許第3,567.4.56号、同3,61
5,639、同3.579,345、同3,615,6
08、同3,598,596、同3,598゜955、
同3,592,653、同3,582,343号、特公
昭40−26751、同40−27332、同43−1
3167、同45−8833、同47−8746号等の
明細書に記載されている減感色素及び/又は紫外線吸収
剤を用いることかできる。
5,639、同3.579,345、同3,615,6
08、同3,598,596、同3,598゜955、
同3,592,653、同3,582,343号、特公
昭40−26751、同40−27332、同43−1
3167、同45−8833、同47−8746号等の
明細書に記載されている減感色素及び/又は紫外線吸収
剤を用いることかできる。
さらに本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤は、例えは
米国特許第2,444,607号、同第2,716,0
62号、同第3.51.2,982号、西独国出願公告
第1.189,380号、同第2,058,626号、
同第2,118,41.1号、特公昭43−4133号
、米国特許第3,342,596号、特公昭47−44
17号、西独国出願公告第2,149.789号、特公
昭39−2825号、特公昭49−13566号等に記
載されている化合物、好ましくは、例えば5.6−)リ
メチレン−7−ヒドロキシン−5−1−リアゾo (L
5−a)ピリミジン、5.6−チトラメチレンー7−ヒ
ドロキシーS−)リアゾロ(1,5−a)ピリミジン、
5−メチル−7−ビトロキシ−S−トリアゾロ(1,5
−a)ピリミジン、5−メチル−7−ヒドロキシ−8−
トリアゾロ(1,5−a)ピリミジン、7−ヒドロキシ
ン−s−トリアシロン(1,5−a)ピリミジン、5−
メチル−6−ブロモーフーヒトロキシーs−トリアゾロ
(1゜5−a)ピリミジン、没食子酸エステル(例えば
没食子酸イソアミル、没食子酸ドデシル、没食子酸プロ
ピル、没食子酸ナトリウム)、メルカプクン類(1−7
二二ルー5−メルカプl−テトラソール、2−メルカプ
トヘンツチアゾール)、ベンツトリアゾール類(5−7
’ロムベンツトリアゾール、5−メチルベンツトリアゾ
ール)、ベンツイミダゾール類(6−二1〜口ペンツィ
ミクソール)等を用いて安定化することができる。
米国特許第2,444,607号、同第2,716,0
62号、同第3.51.2,982号、西独国出願公告
第1.189,380号、同第2,058,626号、
同第2,118,41.1号、特公昭43−4133号
、米国特許第3,342,596号、特公昭47−44
17号、西独国出願公告第2,149.789号、特公
昭39−2825号、特公昭49−13566号等に記
載されている化合物、好ましくは、例えば5.6−)リ
メチレン−7−ヒドロキシン−5−1−リアゾo (L
5−a)ピリミジン、5.6−チトラメチレンー7−ヒ
ドロキシーS−)リアゾロ(1,5−a)ピリミジン、
5−メチル−7−ビトロキシ−S−トリアゾロ(1,5
−a)ピリミジン、5−メチル−7−ヒドロキシ−8−
トリアゾロ(1,5−a)ピリミジン、7−ヒドロキシ
ン−s−トリアシロン(1,5−a)ピリミジン、5−
メチル−6−ブロモーフーヒトロキシーs−トリアゾロ
(1゜5−a)ピリミジン、没食子酸エステル(例えば
没食子酸イソアミル、没食子酸ドデシル、没食子酸プロ
ピル、没食子酸ナトリウム)、メルカプクン類(1−7
二二ルー5−メルカプl−テトラソール、2−メルカプ
トヘンツチアゾール)、ベンツトリアゾール類(5−7
’ロムベンツトリアゾール、5−メチルベンツトリアゾ
ール)、ベンツイミダゾール類(6−二1〜口ペンツィ
ミクソール)等を用いて安定化することができる。
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料及び/又は現像
液中には、アミノ化合物を含有することが好ましい。
液中には、アミノ化合物を含有することが好ましい。
本発明に好ましく用いられるアミノ化合物は、第1級〜
第4級アミンすべてを包含する。好ましいアミノ化合物
の例としてアルカノールアミン類か挙げられる。以下、
好ましい具体例を列挙するか、これらに限定されるもの
でない。
第4級アミンすべてを包含する。好ましいアミノ化合物
の例としてアルカノールアミン類か挙げられる。以下、
好ましい具体例を列挙するか、これらに限定されるもの
でない。
ジエチルアミノエタノール
ジエチルアミノブタノール
ンエチルアミンプロパンー1.2−ジオールジメチルア
ミノプロパン−1,2−ジオールジェタノールアミン ジエチルアミノ−1−プロパツール ]・リエタノールアミン ジプロピルアミノプロパン−1,2−ジオールジオクチ
ルアミノ−1−エタノール ジオクチルアミンプロパン−1,2−ジオールドデシル
アミノプロパン−1,2−ジオールドデシルアミノ−1
−プロパノール トデンルアミノ−1−エタノール アミノプロパン−1,2−ジオール ジエチルアミノ−2−プロパノール ジブロバノールアミン グリシン トリエチルアミン トリエチレンジアミン アミン化合物はハロゲン化銀写真感光材料の感光層側の
塗設層(例えばハロケン化銀乳剤層、保護層、下引層の
親水性コロイド層)の少なくとも1層及び/又は現像液
中に含有させればよく、好ましい実施態様は現像液中に
含有する態様である。
ミノプロパン−1,2−ジオールジェタノールアミン ジエチルアミノ−1−プロパツール ]・リエタノールアミン ジプロピルアミノプロパン−1,2−ジオールジオクチ
ルアミノ−1−エタノール ジオクチルアミンプロパン−1,2−ジオールドデシル
アミノプロパン−1,2−ジオールドデシルアミノ−1
−プロパノール トデンルアミノ−1−エタノール アミノプロパン−1,2−ジオール ジエチルアミノ−2−プロパノール ジブロバノールアミン グリシン トリエチルアミン トリエチレンジアミン アミン化合物はハロゲン化銀写真感光材料の感光層側の
塗設層(例えばハロケン化銀乳剤層、保護層、下引層の
親水性コロイド層)の少なくとも1層及び/又は現像液
中に含有させればよく、好ましい実施態様は現像液中に
含有する態様である。
アミノ化合物の含有量は含有さセる対象、アミノ化合物
の種類等によって異なるか、コントラスト促進量が必要
である。
の種類等によって異なるか、コントラスト促進量が必要
である。
又現像性を高めるために、フェニドンやハイハロキノン
のような現像主薬、ヘンソトリアゾールのような抑制剤
を乳剤側に含有せしめることかできる。あるいは処理液
の処理能力を」二げるために、ハソキング層に現像主薬
や抑制剤を含有せしめることができる。
のような現像主薬、ヘンソトリアゾールのような抑制剤
を乳剤側に含有せしめることかできる。あるいは処理液
の処理能力を」二げるために、ハソキング層に現像主薬
や抑制剤を含有せしめることができる。
本発明に特に有利に用いられる親水性コロイドはゼラチ
ンであるが、セラチン以外の親水性コロイドとしては、
例えばコロイド状アルブミン、寒天、アラヒアゴム、ア
ルギン酸、加水分解されたセルロースアセテ−1・、ア
クリルアミド、イミド化ポリアミド、ポリヒニルアルコ
ール、加水分解されたポリヒニルrセテ−1〜、ゼラチ
ン誘導体、例えは米国特許第2,614.928号、同
第2,525,753号に記載されている如きンエニル
力ルバミルゼラチン、アシル化ゼラヂン、フタル化ゼラ
チン、あるいは米国特許第2,548,520号、同第
2 、831 、767号に記載されている如きアクリ
ル酸スヂレン、アクリル酸エステル、メタクリル酸、メ
゛タクリル酸エステル等のエチレン基を持つ重合可能な
単量体をゼラチンにグラフト重合したもの等を挙げるこ
とかでき、これらの親水性コロイドはハロケン化銀を含
有しない層、例えはハレーション防止層、保護層、中間
層等にも適用てきる。
ンであるが、セラチン以外の親水性コロイドとしては、
例えばコロイド状アルブミン、寒天、アラヒアゴム、ア
ルギン酸、加水分解されたセルロースアセテ−1・、ア
クリルアミド、イミド化ポリアミド、ポリヒニルアルコ
ール、加水分解されたポリヒニルrセテ−1〜、ゼラチ
ン誘導体、例えは米国特許第2,614.928号、同
第2,525,753号に記載されている如きンエニル
力ルバミルゼラチン、アシル化ゼラヂン、フタル化ゼラ
チン、あるいは米国特許第2,548,520号、同第
2 、831 、767号に記載されている如きアクリ
ル酸スヂレン、アクリル酸エステル、メタクリル酸、メ
゛タクリル酸エステル等のエチレン基を持つ重合可能な
単量体をゼラチンにグラフト重合したもの等を挙げるこ
とかでき、これらの親水性コロイドはハロケン化銀を含
有しない層、例えはハレーション防止層、保護層、中間
層等にも適用てきる。
本発明に用いる支持体としては、例えはバライタ紙、ポ
リエチレン被覆紙、ポリプロピレン合成紙、ガラス板、
セルロースアセテート、セルロースナイトレート、例え
はポリエチレンテレフタレート等のポリエステルフィル
ム、ポリアミドフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポ
リカーボネートフィルム、ホリスチレンフィルム等が代
表的なものとして包含される。これらの支持体は、それ
ぞれハロゲン化銀写真感光材料の使用目的に応して適宜
選択される。
リエチレン被覆紙、ポリプロピレン合成紙、ガラス板、
セルロースアセテート、セルロースナイトレート、例え
はポリエチレンテレフタレート等のポリエステルフィル
ム、ポリアミドフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポ
リカーボネートフィルム、ホリスチレンフィルム等が代
表的なものとして包含される。これらの支持体は、それ
ぞれハロゲン化銀写真感光材料の使用目的に応して適宜
選択される。
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料の現像に用いら
れる現像主薬としては次のものか挙げられる。HO−(
CH−CH)、−OH型現像主薬の代表的なものとして
は、ハイドロキノンかあり、その他にカテコール、ピロ
ガロール及びその誘導体ならびにアスコルビン酸、クロ
ロハイドロキノン、ブロモハイドロキノン、メチルハイ
ドロキノン、2.3−ジブロモハイドロキノン、2.5
−ジエチルハイドロキノン、カテコール、4−クロロカ
テコール、4−フェニル−カテコール、3−メトキシ−
カテコール、4−アセチル−ピロガロール、アスコルビ
ン酸ソータ等かある。
れる現像主薬としては次のものか挙げられる。HO−(
CH−CH)、−OH型現像主薬の代表的なものとして
は、ハイドロキノンかあり、その他にカテコール、ピロ
ガロール及びその誘導体ならびにアスコルビン酸、クロ
ロハイドロキノン、ブロモハイドロキノン、メチルハイ
ドロキノン、2.3−ジブロモハイドロキノン、2.5
−ジエチルハイドロキノン、カテコール、4−クロロカ
テコール、4−フェニル−カテコール、3−メトキシ−
カテコール、4−アセチル−ピロガロール、アスコルビ
ン酸ソータ等かある。
一91=
また、HO−(〔I= CH)。−NH2型現像剤とし
ては、オルト及びパラのアミンフェノールが代表的なも
のて、4−アミノフェノール、2−アミノ−6−フェニ
ルフェノール、2−アミノ−4−クロロ−6−フェニル
フェノール、N−メチル−p−アミノフェニール等かあ
る。
ては、オルト及びパラのアミンフェノールが代表的なも
のて、4−アミノフェノール、2−アミノ−6−フェニ
ルフェノール、2−アミノ−4−クロロ−6−フェニル
フェノール、N−メチル−p−アミノフェニール等かあ
る。
更に、H2N−(CH= CH)、、−NH2型現像剤
としては例えは4−アミノ−2−メチル−N、N−ジエ
チルアニリン、2.4−ジアミノ=N、N−ジエヂルア
ニリン、N−(4−アミノ−3−メチルフェニル)−モ
ルホリン、p−フェニレンジアミン等がある。
としては例えは4−アミノ−2−メチル−N、N−ジエ
チルアニリン、2.4−ジアミノ=N、N−ジエヂルア
ニリン、N−(4−アミノ−3−メチルフェニル)−モ
ルホリン、p−フェニレンジアミン等がある。
ペテロ環型現像剤としては、■−フェニルー3−ピラゾ
リドン、■−フェニルー4,4−ジメヂルー3−ピラゾ
リ[・ン、1−7エニルー4−メチル−4−ヒドロキン
メチル−3−ビラソリトンのような3−ビラソリトン類
、l−フェニル−4−アミノ−5−ピラゾロン、5−ア
ミノラウシル等を挙げることかできる。
リドン、■−フェニルー4,4−ジメヂルー3−ピラゾ
リ[・ン、1−7エニルー4−メチル−4−ヒドロキン
メチル−3−ビラソリトンのような3−ビラソリトン類
、l−フェニル−4−アミノ−5−ピラゾロン、5−ア
ミノラウシル等を挙げることかできる。
その他、T H,ジェームス著ザ・セオリイ・オブ・ザ
・ホトグラフィック・プロセス第4版(The Th
eory of PhotogI−aphic
Process FourLhEc1口1on)第2
91〜334頁及びンヤーナル・オブ・ジ・アメリカン
・ケミカル・ソサエティ(Jou’rnal ofLb
e American Chemical 5ocie
Ly)第73巻、第3,100頁(1951)に記載さ
れているごとき現像剤が本発明に有効に使用し得るもの
である。これらの現像剤は単独で使用しても2挿置」二
組み合わせてもよいが、2種以上を組み合わせて用いる
方が好ましい。また本発明にかかる感光材料の現像に使
用する現像液には保恒剤として、例えば亜硫酸ソーダ、
亜硫酸カリ、等の亜硫酸塩を用いても、本発明の効果が
損なわれることはない。又保恒剤としてヒドロキシルア
ミン、とトラシト化合物を用いることかでき、この場合
その使用量は現像液IQ当たり5〜500gが好ましく
、より好ましくは20〜200gである。
・ホトグラフィック・プロセス第4版(The Th
eory of PhotogI−aphic
Process FourLhEc1口1on)第2
91〜334頁及びンヤーナル・オブ・ジ・アメリカン
・ケミカル・ソサエティ(Jou’rnal ofLb
e American Chemical 5ocie
Ly)第73巻、第3,100頁(1951)に記載さ
れているごとき現像剤が本発明に有効に使用し得るもの
である。これらの現像剤は単独で使用しても2挿置」二
組み合わせてもよいが、2種以上を組み合わせて用いる
方が好ましい。また本発明にかかる感光材料の現像に使
用する現像液には保恒剤として、例えば亜硫酸ソーダ、
亜硫酸カリ、等の亜硫酸塩を用いても、本発明の効果が
損なわれることはない。又保恒剤としてヒドロキシルア
ミン、とトラシト化合物を用いることかでき、この場合
その使用量は現像液IQ当たり5〜500gが好ましく
、より好ましくは20〜200gである。
また現像液には有機溶媒としてグリコール類を含有させ
てもよく、そのようなグリコール類としてはエチレング
リコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、l−リエチレングリコール、1.4−ブタンジオー
ル、115−ベンタンジオール等があるか、ジエチレン
グリコールが好マしく用いられる。そしてこれらグリコ
ール類の好ましい使用量は現像液IQ当たり5〜500
gで、より好ましくは20〜200gである。これらの
有機溶媒は単独でも併用しても用いることかできる。
てもよく、そのようなグリコール類としてはエチレング
リコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、l−リエチレングリコール、1.4−ブタンジオー
ル、115−ベンタンジオール等があるか、ジエチレン
グリコールが好マしく用いられる。そしてこれらグリコ
ール類の好ましい使用量は現像液IQ当たり5〜500
gで、より好ましくは20〜200gである。これらの
有機溶媒は単独でも併用しても用いることかできる。
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料は、上記の如き
現像抑制剤を含んだ現像液を用いて現像処理することに
より極めて保存安定性に優れた感光材料を得ることがで
きる。
現像抑制剤を含んだ現像液を用いて現像処理することに
より極めて保存安定性に優れた感光材料を得ることがで
きる。
上記の組成になる現像液のpH値は好ましくは9〜13
であるが、保恒性及び写真特性上からpH値はlO〜1
2の範囲か更に好ましい。現像液中の陽イオンについて
は、ナI〜リウムよりカリウムイオンの比率か高い程現
像液の活性度を高めることができるので好ましい。
であるが、保恒性及び写真特性上からpH値はlO〜1
2の範囲か更に好ましい。現像液中の陽イオンについて
は、ナI〜リウムよりカリウムイオンの比率か高い程現
像液の活性度を高めることができるので好ましい。
本発明に係るハロケン化銀写真感光材料は、種々の条件
で処理することができる。処理温度は、例えば現像温度
は50°C以下か好ましく、特に25°C〜40°C前
後が好ましく、又現像時間は2分以内に終了することが
一般的であるか、特に好ましくは10秒〜50秒か好効
果をもたらすことか多い。又現像以外の処理工程、例え
は水洗、停止、安定、定着、更に必要に応じて前硬膜、
中和等の工程を採用することは任意であり、これらは適
宜省略することもできる。更にまた、これらの処理は皿
現像、枠現像なといわゆる手現像処理でも、ローラー現
像、ハンガー現像なと機械現像であってもよい。
で処理することができる。処理温度は、例えば現像温度
は50°C以下か好ましく、特に25°C〜40°C前
後が好ましく、又現像時間は2分以内に終了することが
一般的であるか、特に好ましくは10秒〜50秒か好効
果をもたらすことか多い。又現像以外の処理工程、例え
は水洗、停止、安定、定着、更に必要に応じて前硬膜、
中和等の工程を採用することは任意であり、これらは適
宜省略することもできる。更にまた、これらの処理は皿
現像、枠現像なといわゆる手現像処理でも、ローラー現
像、ハンガー現像なと機械現像であってもよい。
以下実施例によって本発明を具体的に説明する。
尚、当然のことではあるが、本発明は以下述べる実施例
に限定されるものてはない。
に限定されるものてはない。
実施例1
下引き処理したポリエチレンテレフタレートに8 W/
(m2・m1n)のエネルギーでコロナ放電した後下記
構成の帯電防止液を、下記の付量になる様に30m/m
inの速さでロールフィツトコーティングパン及びエア
ーナイフを使用して塗布した。
(m2・m1n)のエネルギーでコロナ放電した後下記
構成の帯電防止液を、下記の付量になる様に30m/m
inの速さでロールフィツトコーティングパン及びエア
ーナイフを使用して塗布した。
(導電性層を有する支持体の調製)
下引き処理した厚さ100μmのポリエチレンテレフタ
レートにコロナ放電した後、下記構成の帯電−(]5− 防止液を、下記の(−j量になる様に70m/minの
速さでロールフィントコ−ティングパン及びエアーナイ
フを使用して塗布した。
レートにコロナ放電した後、下記構成の帯電−(]5− 防止液を、下記の(−j量になる様に70m/minの
速さでロールフィントコ−ティングパン及びエアーナイ
フを使用して塗布した。
水溶性導電性ポリマー A(表1)0゜6g/m2疎水
性ポリマー粒子B(表1. ) 0.4g/m2
ポリエチレンオキ→ノーイド化合物 (分子量 500) 0.06g/m2
硬化剤E(表1 ) 0.2g/m
2これを90°a、2分間乾燥し、140°0190秒
間熱処理した。この導電性層を支持体の片側のみ及び両
側に塗布したものをそれぞれ表1のように調製しlこ
。
性ポリマー粒子B(表1. ) 0.4g/m2
ポリエチレンオキ→ノーイド化合物 (分子量 500) 0.06g/m2
硬化剤E(表1 ) 0.2g/m
2これを90°a、2分間乾燥し、140°0190秒
間熱処理した。この導電性層を支持体の片側のみ及び両
側に塗布したものをそれぞれ表1のように調製しlこ
。
(乳剤層塗布液の調製)
溶液A
水
9.7Q塩化ナトリウム
20gゼラチン 105g溶
液B 溶液
3,8Q塩化すトリウム
365gゼラチン 94g臭
化カリウム 450gへキサクロ
ロイリジウム酸 カリウム塩の0.01%水溶液 28mf2へキ
サブロモロジウム酸 カリウム塩の0.01%水溶液 1.Qmo。
9.7Q塩化ナトリウム
20gゼラチン 105g溶
液B 溶液
3,8Q塩化すトリウム
365gゼラチン 94g臭
化カリウム 450gへキサクロ
ロイリジウム酸 カリウム塩の0.01%水溶液 28mf2へキ
サブロモロジウム酸 カリウム塩の0.01%水溶液 1.Qmo。
溶液C
水
3.8Q硝酸銀 1
、700g40°Cに保温された上記溶液A中に、pt
(3、pAg7.7に保ちながら上記溶液B及び溶液C
を同時に関数的に60分間にわたって加え、更に10分
間攪拌し続けた後炭酸すl・リウム水溶液でpHを6.
0に調整し、20%硫酸マグネシウム水溶液2Q及びポ
リナフタレンスルホン酸の5%水溶液2.55ffを加
え、乳剤を40°Cにて70キュレート化し、デカンテ
ーションを行い水洗して過剰の水溶液の塩を除去する。
3.8Q硝酸銀 1
、700g40°Cに保温された上記溶液A中に、pt
(3、pAg7.7に保ちながら上記溶液B及び溶液C
を同時に関数的に60分間にわたって加え、更に10分
間攪拌し続けた後炭酸すl・リウム水溶液でpHを6.
0に調整し、20%硫酸マグネシウム水溶液2Q及びポ
リナフタレンスルホン酸の5%水溶液2.55ffを加
え、乳剤を40°Cにて70キュレート化し、デカンテ
ーションを行い水洗して過剰の水溶液の塩を除去する。
次いで、それに3.7Qの水を加えて分散させ再び20
%の硫酸マグ坏ンウム水溶液0.9Qを加えて同様に過
剰の水溶液の塩を除去する。それに、3.7ffの水と
141gのゼラチンを加えて、55°030分間分散さ
せる。これによって臭化銀35モル%、塩化銀65モル
%、平均0.25μm単分散度9の粒子が得られる。
%の硫酸マグ坏ンウム水溶液0.9Qを加えて同様に過
剰の水溶液の塩を除去する。それに、3.7ffの水と
141gのゼラチンを加えて、55°030分間分散さ
せる。これによって臭化銀35モル%、塩化銀65モル
%、平均0.25μm単分散度9の粒子が得られる。
この乳剤にハロゲン化銀1モル当たり、クエン酸120
mg、臭化カリウム250 +n gを加えてpH,E
Agを調製した。こうして得た乳剤に塩化金酸14mg
とチオ硫酸ナトリウム5水塩11mgを加えて60 ’
Oて純正することで最高感度にした。
mg、臭化カリウム250 +n gを加えてpH,E
Agを調製した。こうして得た乳剤に塩化金酸14mg
とチオ硫酸ナトリウム5水塩11mgを加えて60 ’
Oて純正することで最高感度にした。
上記乳剤にハロゲン化wi1モル当たり、1〜フェニル
−5−メルカプI〜テi・ンゾール35mg、4−ヒド
ロキン−6−メチル−1,3,3a、7−チトラザイン
デン570mgを添加して、熟成を停止させた。
−5−メルカプI〜テi・ンゾール35mg、4−ヒド
ロキン−6−メチル−1,3,3a、7−チトラザイン
デン570mgを添加して、熟成を停止させた。
この乳剤にハロゲン化銀1モル当たり、前記−般式〔I
〕及び(IT)から選ばれる化合物を表1に示すように
塗布量か120mgになるように添加し、更にサポニン
を3.4g、ハイドロキノンを4g、アクリル酸エチル
の高分子ポリマーを8.5g、クエン酸を120mg、
スヂレンーマレイン酸重合体を1.7g添加した。
〕及び(IT)から選ばれる化合物を表1に示すように
塗布量か120mgになるように添加し、更にサポニン
を3.4g、ハイドロキノンを4g、アクリル酸エチル
の高分子ポリマーを8.5g、クエン酸を120mg、
スヂレンーマレイン酸重合体を1.7g添加した。
(乳剤保護膜層塗布液の調製)
l m2当たり、ゼラチン1.4gを含む水溶液に臭化
カリウム24mg、 1−デシル−2−(3−インペン
チル)サクシネート−2−スルホン酸ソーダ8.5mg
、塩化すトリウム4.5mg、平均粒径3μmのシリカ
20mgを1−デシル−2−(3−イソペンチル)サク
シネート−2−スルホン酸ソーダ水溶液で分散したもの
を添加し撹拌し、更に硬膜剤としてホルマリンと2.4
−ジクロロ−6=ヒドロキシアジンのナトリウム塩を添
加した。
カリウム24mg、 1−デシル−2−(3−インペン
チル)サクシネート−2−スルホン酸ソーダ8.5mg
、塩化すトリウム4.5mg、平均粒径3μmのシリカ
20mgを1−デシル−2−(3−イソペンチル)サク
シネート−2−スルホン酸ソーダ水溶液で分散したもの
を添加し撹拌し、更に硬膜剤としてホルマリンと2.4
−ジクロロ−6=ヒドロキシアジンのナトリウム塩を添
加した。
(バッキング層塗布液の調製)
1m2当たり、ゼラチン2.4gを含む水溶液に、後記
水溶性染料化合物l11−1を110mg、同m−2を
24mg、同Tll−3を100 +n g、臭化カリ
ウム24mg、サポニンを135mg、アクリル酸エチ
ルの高分子ポリマーを50mg、 5−ニトロインダソ
ールを20mg、スチレン−マレイン酸重合体を20m
g、クエン酸を150mg。
水溶性染料化合物l11−1を110mg、同m−2を
24mg、同Tll−3を100 +n g、臭化カリ
ウム24mg、サポニンを135mg、アクリル酸エチ
ルの高分子ポリマーを50mg、 5−ニトロインダソ
ールを20mg、スチレン−マレイン酸重合体を20m
g、クエン酸を150mg。
コロイダルンリ力を300 m g 、グリオキザール
を37mg1前記例示化合物E−8を55mg添加し撹
拌した。
を37mg1前記例示化合物E−8を55mg添加し撹
拌した。
(バッキング層保護膜層塗布液の調製)1m2当たり、
ゼラチン1.4gを含む水溶液に、1−デシル−2−(
3−インペンチル)サクシネート−2−スルホン酸ソー
ダ12mg、塩化す1ヘリウム80mg、平均粒径4μ
mのポリメチルメタアクリレートの分散物を添加し撹拌
し、更に硬膜剤としてグリオキザールを添加した。
ゼラチン1.4gを含む水溶液に、1−デシル−2−(
3−インペンチル)サクシネート−2−スルホン酸ソー
ダ12mg、塩化す1ヘリウム80mg、平均粒径4μ
mのポリメチルメタアクリレートの分散物を添加し撹拌
し、更に硬膜剤としてグリオキザールを添加した。
(試料の作成)
上記帯電防止層を有する支持体を用いて、支持体上の片
側に15W/(m2・m1n)のエネルギーでコロナ放
電した後、以上のようにして調製したバッキング層塗布
液及びバッキング層保護膜層塗布液を塗布した。また支
持体」二の片側に15W/(m2・m1n)のエネルギ
ーてコロナ放電した後、乳剤層及び乳剤保護膜層を塗布
した。尚乳剤層は銀量4.2mg/m2、ゼ(試料の作
成に用いた化合物) 化合物111−1 化合物■−2 化合物III−3 〈処理条件〉 処理条件は以下の通りである。
側に15W/(m2・m1n)のエネルギーでコロナ放
電した後、以上のようにして調製したバッキング層塗布
液及びバッキング層保護膜層塗布液を塗布した。また支
持体」二の片側に15W/(m2・m1n)のエネルギ
ーてコロナ放電した後、乳剤層及び乳剤保護膜層を塗布
した。尚乳剤層は銀量4.2mg/m2、ゼ(試料の作
成に用いた化合物) 化合物111−1 化合物■−2 化合物III−3 〈処理条件〉 処理条件は以下の通りである。
(組成A)
純水(イオン交換水) 150m4工
チレンジアミン四酢酸二トナリウム塩g ジエチレングリコール 50g亜硫酸カ
リウム(55%W/V水溶液) ]、 00 m
Q炭酸カリウム 50gハイド
ロキノン 15g5−メチルヘ
ンソトリアソール 200mθ1−フェニルー
5−メルカプトテトラソーリレ水酸化カリウム 使用液
のpHを10.9にする量臭化カリウム
4.5g(組成り) 純水(イオン交換水) 3mffジ
エチレングリコール 50gエチレンジ
アミン四酢酸二すl〜リウム塩5mg 酢酸(90%水溶液) 0.3mf
f5−ニトロインタゾール 11.0m
gl−7エニルー3−ビラソリトン 500
mg現像液の使用時に水500mα中に上記組成A1組
成りの順に溶かし、IQに仕上げて用いた。
チレンジアミン四酢酸二トナリウム塩g ジエチレングリコール 50g亜硫酸カ
リウム(55%W/V水溶液) ]、 00 m
Q炭酸カリウム 50gハイド
ロキノン 15g5−メチルヘ
ンソトリアソール 200mθ1−フェニルー
5−メルカプトテトラソーリレ水酸化カリウム 使用液
のpHを10.9にする量臭化カリウム
4.5g(組成り) 純水(イオン交換水) 3mffジ
エチレングリコール 50gエチレンジ
アミン四酢酸二すl〜リウム塩5mg 酢酸(90%水溶液) 0.3mf
f5−ニトロインタゾール 11.0m
gl−7エニルー3−ビラソリトン 500
mg現像液の使用時に水500mα中に上記組成A1組
成りの順に溶かし、IQに仕上げて用いた。
(組成A)
チオ硫酸アンモニウム( 72.5%W/V水溶液)2
30m0。
30m0。
亜硫酸ナトリウム 9.5g酢酸ナ
トリウム・3水塩 15.9g硼酸
6.7gクエン酸ナトリウ
ム・2水塩 2g酢酸(90%W/W水溶液)
8.1mo。
トリウム・3水塩 15.9g硼酸
6.7gクエン酸ナトリウ
ム・2水塩 2g酢酸(90%W/W水溶液)
8.1mo。
(組成り)
純水(イオン交換水) 1 7m4硫
酸(50%W/W水溶液) 5.8g硫
酸アルミニウム( i203換算含量が8、1%W/W
水溶液) 26.5g定着液の使
用時に水500n+Q中に上記組成A1組成りの順に溶
かし、IQに仕上げて用いた。この定着液のpHは約4
.3であった。
酸(50%W/W水溶液) 5.8g硫
酸アルミニウム( i203換算含量が8、1%W/W
水溶液) 26.5g定着液の使
用時に水500n+Q中に上記組成A1組成りの順に溶
かし、IQに仕上げて用いた。この定着液のpHは約4
.3であった。
工程 温度 時間 タンク容量現像
34°O 15秒 204定着 34
°O 15秒 2Off水洗 常温
10秒 154乾燥 40°0
10秒 各工程時間は次工程までのいわゆるワタリ搬送時間も含
む。
34°O 15秒 204定着 34
°O 15秒 2Off水洗 常温
10秒 154乾燥 40°0
10秒 各工程時間は次工程までのいわゆるワタリ搬送時間も含
む。
こうして得られた試料(表1に示す)を環境温度23°
C、環境相対湿度20%の条件下に2時間調湿したのち
、下記焼きボケ強制劣化テストを実施口lこ 。
C、環境相対湿度20%の条件下に2時間調湿したのち
、下記焼きボケ強制劣化テストを実施口lこ 。
結果を表1に示す。
(焼きボケ強制劣化テスト)
前記の様に調湿された試料を環境温度23°C120%
の相対湿度で、ゴムローラーにて強制的に帯電させ、タ
バコの灰にフィルム面を接触させた。その後、付着した
タバコの灰をハケで軽くはらった後、該フィルムを大日
本スクリーン製造株式会社製のヘリウムーイ・オンレー
ザースキャナーSG−608■のドラムに巻きつけ、5
0%の網点画像を焼きつけ後、自動現像機で処理した。
の相対湿度で、ゴムローラーにて強制的に帯電させ、タ
バコの灰にフィルム面を接触させた。その後、付着した
タバコの灰をハケで軽くはらった後、該フィルムを大日
本スクリーン製造株式会社製のヘリウムーイ・オンレー
ザースキャナーSG−608■のドラムに巻きつけ、5
0%の網点画像を焼きつけ後、自動現像機で処理した。
得られた画像の焼きボケの発生程度を以下の基準で評価
した。
した。
○:光発生し
△:発生は認められるか、程度は微小であり、実用上は
問題ないレベル ×:実用不可 表1から明ら′かなように、本発明構成のNo.2〜8
の試料は焼きボケの発生が少なく、好ましいことかわか
る。
問題ないレベル ×:実用不可 表1から明ら′かなように、本発明構成のNo.2〜8
の試料は焼きボケの発生が少なく、好ましいことかわか
る。
実施例2
実施例1において、乳剤塗布液中にテトラゾリウム化合
物T−2を添加した以外は同様にして実験を行った。
物T−2を添加した以外は同様にして実験を行った。
その結果、実施例1と同等の結果か得られた。
実施例3
実施例2で用いたテトラゾリウム化合物T−2に代えて
、ヒドラジン化合物(H−32)及び造核促進剤として
下記NA−1を用いた以外は、同様に実験したところ、
実施例2と同様の結果が得られ lこ 。
、ヒドラジン化合物(H−32)及び造核促進剤として
下記NA−1を用いた以外は、同様に実験したところ、
実施例2と同様の結果が得られ lこ 。
A−1
実施例4
(導電性層を有する支持体の調製)
厚さ1.00μの下引処理したポリエチレンテレフタレ
−1・支持体上にコロナ放電した後、下記構成の導電性
層を塗布した。
−1・支持体上にコロナ放電した後、下記構成の導電性
層を塗布した。
ゼラチン 35mg/m2s
no2/5b(8/2) (粒径0.3+zm)
250mg/m2これを90°c、2分間乾燥し、
]40°Cで90秒間熱処理した。この導電層を支持体
の片側のみ及び両側に塗布したものをそれぞれ調製した
。
no2/5b(8/2) (粒径0.3+zm)
250mg/m2これを90°c、2分間乾燥し、
]40°Cで90秒間熱処理した。この導電層を支持体
の片側のみ及び両側に塗布したものをそれぞれ調製した
。
実施例1と全く同様にして、乳剤層、乳剤保護層、裏面
層、裏面保護層を設けて試料を作成した。
層、裏面保護層を設けて試料を作成した。
但し、乳剤層中にはヒドラジン化合物(H−33)及び
造核促進剤NA−1を添加した。得られた試料を用いて
焼きボケ強制劣化テトスを行った。
造核促進剤NA−1を添加した。得られた試料を用いて
焼きボケ強制劣化テトスを行った。
その結果、本発明の上記導電層を設けた試料は設けない
試料に比へて焼きボケの発生がなく、良好な結果が得ら
れることか判った。
試料に比へて焼きボケの発生がなく、良好な結果が得ら
れることか判った。
以上の説明から明らかなように、本発明によれは、焼き
ボケの発生の少ないヘリウム−ネオンレーザ−光源に対
して高い感度を有するハロゲン化銀写真感光材料を提供
することができる。
ボケの発生の少ないヘリウム−ネオンレーザ−光源に対
して高い感度を有するハロゲン化銀写真感光材料を提供
することができる。
Claims (3)
- (1)支持体上の少なくとも一方の側に、少なくとも1
層のハロゲン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光
材料において、該ハロゲン化銀写真感光材料の少なくと
もいずれか1層に下記一般式〔 I 〕または〔II〕で表
される化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物を含
有し、前記ハロゲン化銀乳剤層と支持体の中間、及び/
又は該乳剤層に対して支持体の反対側に導電性層を有す
ることを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。 一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Y_1、Y_2はそれぞれ硫黄原子、セレン原
子を表す。ただしY_1、Y_2が同時にセレン原子で
あることはない。R_1、R_2はそれぞれ低級アルキ
ル基、スルホ基を有するアルキル基、カルボキシル基を
有するアルキル基を表す。 Rは低級アルキル基を表し、A、Bはナフトチアゾール
環、ベンゾチアゾール環、ナフトセレナゾール環または
ベンゾセレナゾール環を完成するのに必要な非金属原子
群を表す。Xはアニオンを表す。mは1または0を表し
、分子内塩の時はm=0を表す。〕 一般式〔II〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔上記一般式中、Z_1及びZ_2は、それぞれシアニ
ン色素で通常用いられる5員環及び/又は6員環の含窒
素複素環を形成するに必要な原子群を表す。R_3及び
R_4は、各々飽和又は不飽和脂肪族基を表す。Q_1
とQ_2は、4−チアゾリジノンまたは4−イミダゾリ
ジノン環を形成するに必要な原子群を表す。L_1、L
_2、L_3はメチン基、またL_1とR_3、L_3
とR_4がそれぞれメチレン鎖で結合して含窒素複素環
を形成してもよい。Xは、鉱酸または有機酸アニオンを
表す。n_3、n_4は0または1の整数を表す。〕 - (2)導電性層が、水溶性導電性ポリマーと疎水性ポリ
マー粒子と硬化剤を含有することを特徴とする請求項1
記載のハロゲン化銀写真感光材料。 - (3)導電性層が、金属酸化物を含有することを特徴と
する請求項1記載のハロゲン化銀写真感光材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22697190A JP2906175B2 (ja) | 1990-08-28 | 1990-08-28 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22697190A JP2906175B2 (ja) | 1990-08-28 | 1990-08-28 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04107444A true JPH04107444A (ja) | 1992-04-08 |
JP2906175B2 JP2906175B2 (ja) | 1999-06-14 |
Family
ID=16853490
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22697190A Expired - Fee Related JP2906175B2 (ja) | 1990-08-28 | 1990-08-28 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2906175B2 (ja) |
-
1990
- 1990-08-28 JP JP22697190A patent/JP2906175B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2906175B2 (ja) | 1999-06-14 |
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