JPH0410638A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
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- JPH0410638A JPH0410638A JP11429490A JP11429490A JPH0410638A JP H0410638 A JPH0410638 A JP H0410638A JP 11429490 A JP11429490 A JP 11429490A JP 11429490 A JP11429490 A JP 11429490A JP H0410638 A JPH0410638 A JP H0410638A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- air bridge
- gate electrode
- transistor
- transparent material
- electrodes
- Prior art date
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- Pending
Links
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- 239000012780 transparent material Substances 0.000 claims abstract description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 6
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- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 abstract 2
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- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 4
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- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
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Landscapes
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は例えば数10MHz以上の高周波帯で動作す
る半導体集積回路等の微細な回路パタニンを必要とする
半導体装置に関するものである。
る半導体集積回路等の微細な回路パタニンを必要とする
半導体装置に関するものである。
第3図は従来のマイクロ波帯トランジスタの斜視図、第
4図(a)は第3図のトランジスタの平面図である。図
において、(2)はゲート電極、(3)はドレイン電極
、(4)はソース電極、(5)は2つのソース電極(4
)間を接続する橋げた状交差配線(以下エアブリッジと
呼ぶ)である。
4図(a)は第3図のトランジスタの平面図である。図
において、(2)はゲート電極、(3)はドレイン電極
、(4)はソース電極、(5)は2つのソース電極(4
)間を接続する橋げた状交差配線(以下エアブリッジと
呼ぶ)である。
次に動作について説明する。マイクロ波帯の増幅器を例
にとった場合、ソース電極(4)を接地させてドレイン
電極(3)に正の電位を与える事により、両電極間に電
流を流す。ゲート電極(2)の電位を変化させてドレイ
ン電流を制御する事によりトランジスタを動作せる。
にとった場合、ソース電極(4)を接地させてドレイン
電極(3)に正の電位を与える事により、両電極間に電
流を流す。ゲート電極(2)の電位を変化させてドレイ
ン電流を制御する事によりトランジスタを動作せる。
従来のマイクロ波帯トランジスタは以上のように構成さ
れていたので、第4図(b)に示すようにゲート電極(
2)が断線した場合、あるいは第4図(C)に示すよう
にゲート電極(2)とソース電極(4)やドレイン電極
(3)が、直接接触した場合には正常な動作を行えない
。しかしながら従来のエアブリッジを有するトランジス
タでは、ゲート電極の上部にAuめっき等の手段で形成
されたエアブリッジが存在するため、上方からの光学的
(肉視)検査をゲート電極(2)に対して実施できず、
例えば衛星搭載用IC等の高信頼性を要求されるICへ
の適用が困難であるという問照点があった。
れていたので、第4図(b)に示すようにゲート電極(
2)が断線した場合、あるいは第4図(C)に示すよう
にゲート電極(2)とソース電極(4)やドレイン電極
(3)が、直接接触した場合には正常な動作を行えない
。しかしながら従来のエアブリッジを有するトランジス
タでは、ゲート電極の上部にAuめっき等の手段で形成
されたエアブリッジが存在するため、上方からの光学的
(肉視)検査をゲート電極(2)に対して実施できず、
例えば衛星搭載用IC等の高信頼性を要求されるICへ
の適用が困難であるという問照点があった。
この発明は上記のような問題点を解決するためになされ
たもので、実際に使用する前に光学的(肉視)検査をゲ
ート電極に対して実施ができる半導体装置を得ることを
目的とする。
たもので、実際に使用する前に光学的(肉視)検査をゲ
ート電極に対して実施ができる半導体装置を得ることを
目的とする。
(課題を解決するための手段)
この発明に係る半導体装置は、導電性を有する透明材料
(例えばインジウム・すず酸化物)を用いてエアブリッ
ジを構成したものである。
(例えばインジウム・すず酸化物)を用いてエアブリッ
ジを構成したものである。
この発明におけるエアブリッジは、透明な材料を用いて
構成したので、上方よりゲート電極の光学的検査を目視
によって実施する事ができる。
構成したので、上方よりゲート電極の光学的検査を目視
によって実施する事ができる。
以下、この発明の一実施例を図について説明する。
第1図はこの発明の一実施例であるマイクロ波帯トラン
ジスタの斜視図である。図において、(1)は導電性透
明材料を用いたエアブリッジである。
ジスタの斜視図である。図において、(1)は導電性透
明材料を用いたエアブリッジである。
次に動作について説明する。第2図は本発明の一実施例
であるマイクロ波帯トランジスタを上方より光学的に検
査している状態を示す斜視図である。例えば、エアブリ
ッジ(1)がインジウム・すず酸化物の場合、光の透過
率は80〜90%/ 1500人であり、エアブリッジ
(1)直下部分のゲート電極に断線等の異常があった場
合、容易にこれを目視によって発見することが可能であ
る。また、抵抗率は10−3Ω−cm程度であり、トラ
ンジスタの電気的特性に与える影響はほとんどない。
であるマイクロ波帯トランジスタを上方より光学的に検
査している状態を示す斜視図である。例えば、エアブリ
ッジ(1)がインジウム・すず酸化物の場合、光の透過
率は80〜90%/ 1500人であり、エアブリッジ
(1)直下部分のゲート電極に断線等の異常があった場
合、容易にこれを目視によって発見することが可能であ
る。また、抵抗率は10−3Ω−cm程度であり、トラ
ンジスタの電気的特性に与える影響はほとんどない。
なお、上記実施例ではソース電極(4)同志をエアブリ
ッジ(1)を用いて接続している場合を示したが、ドレ
イン電極(3)同志あるいはゲート電極(2)同志をエ
アブリッジを用いて接続してもよく、上記実施例と同様
の効果を奏する。
ッジ(1)を用いて接続している場合を示したが、ドレ
イン電極(3)同志あるいはゲート電極(2)同志をエ
アブリッジを用いて接続してもよく、上記実施例と同様
の効果を奏する。
以上のようにこの発明によれば、透明な材料(例えばイ
ンジウム・すず酸化物など)を用いてエアブリッジを構
成したので、上方よりゲート電極の光学的検査を実施す
る事が可能となり、高僧顕性を要求される用途の使用が
可能となるという効果がある。
ンジウム・すず酸化物など)を用いてエアブリッジを構
成したので、上方よりゲート電極の光学的検査を実施す
る事が可能となり、高僧顕性を要求される用途の使用が
可能となるという効果がある。
第1図はこの発明のマイクロ波帯トランジスタの一実施
例を示す斜視図、第2図は第1図のマイクロ波帯トラン
ジスタの上方よりゲート電極の光学的検査を実施してい
る状態を示す斜視図、第3図は従来のマイクロ波帯トラ
ンジスタの斜視図、第4図(a)は第3図のトランジス
タの平面図、第4図(b)はゲート電極が断線している
状態のトランジスタを示す平面図、第4図(e)はゲー
ト電極とソース電極、ドレイン電極が接触している状態
のトランジスタを示す平面図である。 図において、(1)はエアブリッジ、(2)はゲート電
極、(3)はドレイン電極、(4)はソース電極を示す
。 なお、図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。
例を示す斜視図、第2図は第1図のマイクロ波帯トラン
ジスタの上方よりゲート電極の光学的検査を実施してい
る状態を示す斜視図、第3図は従来のマイクロ波帯トラ
ンジスタの斜視図、第4図(a)は第3図のトランジス
タの平面図、第4図(b)はゲート電極が断線している
状態のトランジスタを示す平面図、第4図(e)はゲー
ト電極とソース電極、ドレイン電極が接触している状態
のトランジスタを示す平面図である。 図において、(1)はエアブリッジ、(2)はゲート電
極、(3)はドレイン電極、(4)はソース電極を示す
。 なお、図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。
Claims (1)
- 複数の電極間を電気的に接続する橋げた状交差配線を
有し、この橋げた状交差配線が導電性を有する透明材料
を用いて構成された事を特徴とする半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11429490A JPH0410638A (ja) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11429490A JPH0410638A (ja) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0410638A true JPH0410638A (ja) | 1992-01-14 |
Family
ID=14634261
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11429490A Pending JPH0410638A (ja) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0410638A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0886850A (ja) * | 1994-08-30 | 1996-04-02 | Lg Semicon Co Ltd | 導電性マイクロブリッジの製造方法 |
-
1990
- 1990-04-27 JP JP11429490A patent/JPH0410638A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0886850A (ja) * | 1994-08-30 | 1996-04-02 | Lg Semicon Co Ltd | 導電性マイクロブリッジの製造方法 |
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