JPH0395144A - アミノフェノール誘導体の製造方法 - Google Patents

アミノフェノール誘導体の製造方法

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JPH0395144A
JPH0395144A JP1202682A JP20268289A JPH0395144A JP H0395144 A JPH0395144 A JP H0395144A JP 1202682 A JP1202682 A JP 1202682A JP 20268289 A JP20268289 A JP 20268289A JP H0395144 A JPH0395144 A JP H0395144A
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JP
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reaction
formula
acid
compound expressed
compound
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Application number
JP1202682A
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English (en)
Inventor
Hirohisa Wakatsuka
若塚 弘久
Hisao Nakai
久郎 中井
Itsuo Okumoto
五夫 奥本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ono Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Ono Pharmaceutical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕 本発明は、医薬品の中間体として有用な式要な中間体で
ある。 特開昭61 − 50977号明細書には、式(Ill
で示される医薬品が下記のスキームによって製造される
ことが開示されている。 反応工程式1 で示されるアミノフェノール誘導体およびその非毒性の
酸付加塩の製造方法に関する。 〔従来の技術〕 式(I)で示される化合物は、ロイコトリエンに起因す
るアレルギー性の各種疾患の治療剤として有用な式 で示サレる8−(4−(4−フェニルプトキシ)ベンゾ
イル〕アミノー2−(5−テトラゾリル)−4−オ#ソ
− 4H − 1−ヘ;yゾピランを製造するための重
また、式1で示される化合物は、これまで下記のスキー
ムに従って常法によシ製造されている。 反応工程式2 〔従来技術の問題点〕 しかしながら、反応工程式2に示されるニトロ合戒を必
要とする工業的製造方法としては、多くの手間と時間さ
らに大規摸な装置を必要とするため出来るかぎシ避ける
べき工程と考えられている。 〔問題点を解決するための手段〕 本発明者らは、オルト体のみが選択的に得られ、かつ工
業的に有用な製造方法について検討を重ねた結果、下記
スキームに示されるルートによって目的が違或されるこ
とを見い出し本発明を完成した。 反応工程式3 成されるため、式(I[lの化合物の製造のための原料
としては仕込量のー以下しか得られず非常に効率の悪い
方法であると言わざるを得ない。 しかも化合物lと1′との分離は非常に困雌で、カラム
クロマトグラフィーによクてしか行なえないが、一般的
に言って、カラムによる分離は大量(III) X (式中、 (F/) (V) (M) (11 Xはハロゲン原子を表わす。 ) 本発明方法によれば、式(■から(M)へのニトロ化は
オルト位にしか行なわれず、また生戒物(1)は結晶で
得られるのでカラムクロマトグラフィーによる分離精製
は不必要となる。 〔発明の構成〕 従って、本発明は、 (1)式 X1 で示される化合物をニトロ化反応に付し、(4)得られ
た式 X1 (式中、X1はハロゲン原子を表わす。)で示される化
合物をアセチル化反応に付し、(2)得られた式 X1 で示される化合物を接触還元反応(ただし、反応溶媒系
が有機層と水層との二層系となる場合は除くA)に付し
、さらに所盟により酸付加塩を形成する反応に付すこと
を特徴とする、 式 で示される化合物を7リース転位反応に付し、(3)得
られた式 で示される化合物またはその非毒性の酸付加塩の製造方
法に関する。 上記式中、x1で示されるハロゲン原子としては、フッ
素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子があげら
れ、好ましくは臭素原子である。 本発明を詳細に説明すると、 式(I[l)で示される化合物のアセチル化反応は、不
活性溶媒〔例えば、ハロゲン化炭化水素系(塩化メチレ
ン、クロロホルム、四塩化炭素、テトラクロロエタン、
ヘキサクロロエタン等)〕中または無溶媒で、アミン類
(例えば、トリエチルアミン、ピリジン、ピコリン等)
の存在下または不存在下、無水酢酸またはアセチルクロ
ライドを0℃〜100℃、好ましくは、室温で反応させ
ることによb行なわれる。または酸触媒(濃硫酸、ヤー
トルエンP スルホン酸、塩化亜鉛等)の存在下または不存在下、無
水酢酸を用いてO℃〜140℃で反応させることにより
行なわれる。 式(5))で示される化合物の7リース転位反応は、不
活性溶媒〔例えば、ハロゲン化炭化水素系(前記と同じ
)〕中、または無溶媒、好ましくはテトラクロロエタン
中で、ルイス酸(例えば、塩化ア?弯二ウム、四塩化チ
タン等)の存在下、室温から200℃、好まし《は10
0℃〜150℃で反応させることによシ行なわれる。 式(■で示される化合物のニトロ化反応は、不活性溶媒
〔例えば、ハロゲン化炭化水素系(前記と同じ)、炭化
水素系(ベンタン、ヘキサン、オクタン、シクロヘキサ
ン等)、酢酸系(酢酸、無水酢酸、トリフルオロ酢酸等
)、エトロメタン、水〕中で、濃硫酸の存在下または不
存在下、濃硝酸または硝酸ナトリウムを用いて室温から
100℃で反応させることによう行なわれる. 式■■■)で示される化合物の還元は、不活性溶媒〔例
えば、ハロゲン化炭化水素系(前記と同じ)、エーテル
系(テト2ヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジオキ
サン、ジエチルエーテル、ジメチルエーテル、ジイソプ
ロビルエーテル、ジフェエルエーテル、メチルエチルエ
ーテル等)、アルコール系(メタノール,エタノール、
プロパノール等)、炭化水素系(前記と同じ)、N,N
−ジメチルホルムアミト゛(以下、DMFと略記する)
、 酢酸、酢酸エチル、またはそれらの2以上の混合溶
媒、ただし反応系が有機層と水層との二層系となる場合
は除く。〕中、水素化触媒(例えば、パラジウム炭素、
パラジウム黒、パラジクム、二酸化白金、ニクケル、ラ
ネーニクケル等)の存在下、所望によう無機酸(例えば
、塩酸、硫酸等)または有機酸(例えば、酢酸、p−}
ルエンスルホン酸、ギ酸等)の存在下、常圧または加圧
下の水素ガス中、0℃〜200℃、好ましくは室温で行
なわれる。 式(1)の化合物は、所望によう公知の方法で酸付加塩
に変換される。酸付加塩は非毒性かつ水溶性であること
が好ましい。適当な酸付加塩としては、例えば塩酸塩、
臭化水素酸塩、ヨウ化水素酸塩、硫酸塩、リン酸塩、硝
酸塩のような無機酸塩、または酢酸塩、乳酸塩、酒石酸
塩、安息香酸塩、クエン酸塩、メタンスルホン酸塩,エ
タンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、トルエンス
ルホン酸塩、イセチオン酸塩、グルクa冫酸塩、グルコ
ン酸塩のような有機酸塩が挙げられる。酸付加塩は、式
(夏)の化合物を公知の方法、例えば適当な溶媒中で所
望の酸と理論量ずつ反応させることによう得られる。 さらに、本発明方法によって得られる式(I)の化合物
は、以下のスキームに示された方法によっても製造する
ことができる。 工程(a)は化合物(■のニトロ化反応のために前記し
た方法と同様にして行なわれる。工程〔b〕は化合物(
W)の還元のために前記した方法と同様にして行なわれ
る。さらに,本工程はアルコール系溶媒(前記と同じ)
中、亜鉛/アルカリ水溶液(例えば、水酸化ナトリウム
水溶液)の系、あるいはアルコール系溶媒(前記と同じ
)の存在下または不存在下、鉄、亜鉛またはスズ/酸(
例えば濃塩酸、濃硫酸、酢酸等)の系、あるいは不活性
溶媒〔例えば、アルコール系(前記と同じ)、エーテル
系(前記と同じ)〕の存在下または不存在下、硫化ナト
リウム/塩化アンモニウム/アンモニア水の系、あるい
は不活性溶媒〔例えば、工一テル系(前記と同じ)、ア
ルコール系(前記と同じ)〕の存在下または不存在下、
ハイト9ロサルファイトナトリウム( Na2S204
) /アンモニア水の系を用いても行なわれる。また工
程(b)において水素化触媒としてラネーニクケルを用
いる場合には、アミン類(例えば,トリエチルアミン)
の存在下に行なうとよシ早く反応が進行する。とシわけ
アルコール系(前記と同じ)溶媒中、酸(例えば塩酸、
酢酸等)の存在下、鉄、亜鉛、スズを用いて室温から溶
媒の還流温度で反応させるのが好ましい。本工程におい
ては、いずれの還元剤を用いても0−ニトロ体とp一二
トロ体の還元速度に差があるため、還元剤の量と反応時
間を調節することによう10−7ミノ体を主生戒物とし
て得ることができる。 工程(c)は再結晶化の工程であう、化合物1oがアミ
ンの酸付加塩として得られる場合にはアルコール系溶媒
(前記と同じ)または水に溶解し、ここへ適当な酸を加
えることによシ行なわれる。また化合物10がフリーの
アミンとして得られる場合には不活性溶媒〔ハロゲン化
炭化水素系(前記と同じ)、エーテル系(前記と同じ)
、ベンゼン系(ベンゼン、トルエン、キシレン等),酢
酸エチル等〕に溶解し、ここへ適当な酸を加えることに
よb酸付加塩とし、さらに上記の方法で再結晶化させる
ことにより精製が行逢われる。 工程〔dl〕は、化合物(m)のアセチル化反応のため
に前記した方法と同様にして行なわれる。 工程〔d2〕は化合物(IV)の7リース転位反応のた
めに前記した方法と同様に行ない、さらに酸(例えば、
塩酸、硫酸等)の存在下で還流することにより行なわれ
る。得られた生成物は所望によう工程(c)の再結晶化
を行なうことによシ精製される。 g→9→10→(1)の反応工程をとれば、還元速度の
差を利用してO−アミノ体を主生成物として得ることが
でき、さらに再結晶化による精製が可能となるので工業
的に有利である。また、11−1→l1−2→(11の
反応工程をとれば、安価な原料から2ステップで目的化
合物が得られるので、この方法も工業的に有利である。 本発明方法によって得られた式(1)の化合物は、以下
のスキームに示された方法によって、医薬品として有用
な弐(II)で示される化合物に導びかれる。 一一 工程(e)のアミト9化反応は、例えば(1)混合酸無
水物を用いる方法、 (2)酸ハライト゛を用いる方法、 (3)ジシクロへキシルカルボジイミr(DDC)等の
縮合剤を用いる方法 にょう行なわれる。 (1)の混合酸無水物を用いる方法は、例えば式?示さ
れるカルボン酸を不活性溶媒〔例えば、ハロゲン化炭化
水素系(前記と同じ)、エーテル系(前記と同じ)〕中
、または無溶媒で、アミン類(例えば、ピリジン、トリ
エチルアミン、ピコリン等)の存在下、酸ハライド(例
えば、ピバロイ′ルクロライト9、トシルクロライト9
、メシルクロライト゜等)または酸誘導体(例えば、ク
ロロギ酸エチル、クロロギ酸イソプチル等)と−20℃
〜■■■℃で反応させ、得られた混合酸無水物をアミン
類(前記と同じ)の存在下、式(1)で示されるアミン
と不活性溶媒〔例えば、ハロゲン化炭化水素系(前記と
同じ)、エーテル系(前記と同じ)等〕中、−20’C
〜50’Cで反応させることによ9行なわれる。 (2)の酸ハライト9を用いる方法は、例えば式18の
カルボン酸を不活性溶媒〔例えば、ハロゲン化炭化水素
系(前記と同じ)、エーテル系(前記と同じ)、DMF
等〕中または無溶媒で酸ハライド(例えば、チオニルク
ロライド、オキサリルクロライド等)と−20’Cから
溶媒の還流温度で反応させ、得られた酸ハライドをアミ
ン類(前記と同じ)の存在下、式(1)のアミンと不活
性溶媒〔例えば、ハロゲン化炭化水素系(前記と同じ)
、エーテル系(前記と同じ)、DMF等〕中、一加℃〜
50’Cで反応させることにより行なわれる。 (3)の縮合剤を用いる方法は、例えば、式18のカル
ボン酸と式(I)のアミンを、不活性溶媒〔例えば、ハ
ロゲン化炭化水素系(前記と同じ)、エーテル系(前記
と同じ) , I)MF等〕中、または無溶媒で、アミ
ン類(前記と同じ)の存在下または不存在下,DCC等
の縮合剤を用いて−21〜(至)℃で反応させることに
よシ行iわれる. (1) , (21および(3)のいずれの反応も不活
性ガス(アルゴン、窒素等)中無水条件で行なうことが
望ましい。 工程(f)は、不活性溶媒〔例えば、エーテル系(前記
と同じ)、アルコール系(前記と同じ)、DMF,ジメ
チルスルホキシド(以下、DMSO.!:略記スル)、
ヘキサメチルホスファアミト9(以下、HMPA ト略
記する)等〕中、アルカリ金属(例えば、リチウム、ナ
トリウム、カリウム)のアルコキシド(例えは、メトキ
シビ、エトキシド、tert−プトキシト゛等)の存在
下、シエウ酸のジ低級アルキルエステルを室温から溶媒
の還流温度で反応させることによう行なわれる。 工程(g)は、不活性溶媒〔例えば、アルコール系(前
記と同じ)、酢酸、HMPA, DMF、水等〕中、強
酸(濃塩酸、濃硫酸、塩化水素ガス等)を室温から溶媒
の還流温度で反応させることによう行なわれる。 工程(h)は、不活性溶媒〔例えば、エーテル系(前記
と同じ)、アルコール系(前記と同じ)、DMSO ,
アセトニトリル、HMPA,DMF,水等〕中,塩化ア
ンモニウムの存在下または不存在下、アンモニア水また
はアンモニアガスを用いてO℃から溶媒の還流温度で反
応させることによシ行なわれる。本反応では一部開環し
た化合物が副或されるので、再度工程〔g〕と同様に反
応させることによシ目的化合物15に変換することがで
きる。 工程〔1〕は不活性溶媒〔例えば、ハロゲン化炭化水素
系(前記と同じ)、アセトニトリル、HMPA , D
MF Q! )中、塩(例えば塩化ナトリウム等)の存
在下または不存在下、オキシ塩化リンまたは塩化チオニ
ルを−10℃から室温で反応させることによう行なわれ
る。 工程(j)は不活性溶媒〔例えば、ケトン系(アセトン
、メチルエチルケトン、フェニルメチルケトン等)、D
MSO, HMPA%DMF 等) 中、塩化アンモニ
ウムの存在下または不存在下、アジド(例えば、アジ化
リチウム、アジ化ナトリウム、アジ化カリウム等)を室
温から溶媒の還流温度で反応させることによシ行なわれ
る。 工程〔k)は、シ為ウ酸のジ低級アルキルエステルの代
わシにオキサミド酸の低級アルキルエステルを用いて、
工程(f)と同様にして行なわれる。 工程〔0は、工程(g)と同様にして行なわれる。 前記反応工程式において、もう一方の原料として用いた
式18の化合物は、以下のスキームに示される方法によ
って製造される。 反応工程弐6 式中、R3は低級アルキル基を表わし、x2, x3,
X4 , X5およびx6はそれぞれ独立して塩素原子
、臭素原子またはヨウ素原子を表わす。 工程〔m〕は、オーガニソクシンセシス(Organi
cSynthesis ) *第2巻,571貞に詳し
く記載されておυ、例えば,ハロゲン化炭化水素系(前
記と同じ)中、または無溶媒で塩化水素ガスを吹き込み
ながら室温から溶媒の還流温度で反応させることによυ
行なわれる。 工程(n)は、ハロゲン化炭化水素系溶媒(前記と同じ
)中、または無溶媒でルイス酸(前記と同じ)の存在下
、ベンゼンを用いてθ℃から溶媒の還流温度で反応させ
ることによう行なわれる。 工程
〔0〕は、ハロゲン化炭化水素系溶媒(前記と同じ
)中、または無溶媒で、臭化水素酸水溶液と濃硫酸、ま
たは臭化チオニルまたは三臭化リンを用いて室温から溶
媒の還流温度で反応させることにより行なわれる。 工程〔p〕ハ、ジ+’/クス( J. Am. Che
m. Soc. ) ,96巻, 7101頁(197
4年)に詳しく記載されておシ、例えば、エーテル系溶
媒(前記と同じ)中、ベンゼンマグネシウムプロマイト
3と1,4−ジハロプタンを銅触媒(例えば、シアン化
鋼、ジリチウムテトラクロロクプレート、塩化第一銅)
の存在下または不存在下、O℃から溶媒の還流温度で反
応させることによう行なわれる。 工程(q)はケミカルアブストラクト(Chemica
lAbstracts )、11242 9 ( 19
63年)に詳しく記載されておシ、工程(n)と同様に
して行なわれる。 工程(r)は、不活性溶媒〔例えば、エーテル系(前記
と同じ)、ケトン系(前記と同じ)、DMSO, HM
PA. DMF等〕中、アルカリ金R(例えば、リチウ
ム、ナトリウム、カリウム)のアルコキシト9(例えば
、メトキシト9、エトキシド、tert−プトキシ1等
)または炭酸塩(例えば、炭酸ナトリウム等)の存在下
、p−ヒドロキシ安息香酸の低級アルキルエステルを用
いて、0℃から溶媒の還流温度で反応させることによう
行なわれる。 工程〔s〕は、不活性溶媒〔例えば、アルコール系(前
記と同じ)、エーテル系(前記と同じ)等〕中、アルカ
リ金属(前記と同じ)またはアルカリ土類金属(例えば
、バリウム、カルシウム、マグネシウム)の水酸化物ま
たは炭酸塩の水溶液を用いて、O℃から溶媒の還流温度
で反応させることによう行なわれる。 本明細書に記載した各反応で用いる溶媒は、単独で使用
できるのはもちろんのこと、必要に応じて2種以上の混
合溶媒として使用することもできる。また各反応は、必
要により不活性ガス(アルゴン、窒素等)雰囲気下で行
なわれる。 各反応の生或物は工程ごとに単離、洗浄、乾燥、精製を
行ない次の反応に供してもよいし、またそれらの操作を
まったく行なわないかあるいは適当な段階で中止し、次
の工程に進んでもよい。 〔効 果〕 本発明による式(1)で示される化合物の製造方法番末
、 (11  目的とする出発物質だけが選択的に得られ、
かつ (2)  カラムクロマトグラフィーによる分離が不必
要で容易に精製できる、 工業的にすぐれた方法である。 〔参考例および実施例〕 以下、参考例および実施例によって本発明を詳述するが
、本発明はこれらに限定されるものではない。 実施例 1 酢酸4−,’ロモフエニルエステル Br p−プロモフェノール(10k9)と無水酢酸(8.1
8l)の混合物にピリジン( 9.34 l ’)を室
温下かきまぜながら15分間かけて滴下し、同温度で3
時間かきまぜた。反応混合物よりピリジンと未反応の無
水酢酸をエジェクターを用いて除去した。得られた残留
物を蒸留して次の物性値を有する標題化合物( 12.
08k9 )  を無色液体として得た。 沸点:85℃〜86℃/ 1 wprH9。 実施例 2 2−アセチルー4−プロモフェノール Br テトラクロロエタン(2!M)中へ塩化アル宿二ウム(
IL3v)をかきまぜながら加えた後、蒸気で110℃
まで昇温し、アセテート化合物(実施例1で製造した、
12.08X+)を加分間かけて滴下した。混合物を1
30℃〜135℃で1,5時間かきまぜた。反応混合物
を約110℃まで冷却したのち、氷(100l)中へ注
ぎ、塩化メチレン(15 l )と工業用塩酸(4l)
を加え、さらに水(IOl)を加えて抽出した。有機層
を水洗(20lで2回)した後活性炭を加えてF遇し、
さらに水洗(207!で1回)した後100lグ2スラ
イニング反応釜で濃縮した。 残留物にエタノール(11!)を加え−15℃付近まで
冷却して、生じた結晶を遠心分離により分取した。結晶
を送風乾燥して次の物性値を有する標題化合物(10.
19kl?)を得た。 NMR(CDCl3溶液):δ 12.18(IH,s
)、7.84(IH,d)、7.s4(tH,aa)、
6.89(IH,d)、2.64(3H,s)。 実施例 3 2−アセチルー4−プロモー6一二トロフェノールBr フェノール体(実施例2で製造した、9.64k9)と
四塩化炭素(28.M)の混合物を72℃前後で還流し
、ここへ60%硝酸(5.12J)を40分間かけて滴
下して、滴下後10分間還流を続けた。反応混合物を−
15℃付近まで冷却して、生じた結晶を遠心分離によシ
分取した。結晶を水洗、さらに冷メタノール(10lで
2回)掛洗した後送風乾燥して、次の物性値を有する標
題化合物(10.25kl?)を淡黄色固体として得た
。 NMR(CDCl3溶液):δ 12.90(1}1.
s)、8.32(IH,a)、8.14(IH,d)、
2.74(3H,s)。 実施例 4 2−アセチルー6−アミノフェノール・臭化水素酸塩?
化メチレン( 5oI!t )に溶かしたニトロ化合物
(実施例3で製造した、139)にメタノール(350
m)を加えた。アルゴン置換した後パラジウム炭X(含
量5優、2.0 9 )を加えた後、水素雰囲気下室温
で5.0時間かきまぜた。触媒を戸別し、塩化メチレン
およびメタノールで順次洗浄した後、得られたF液を濃
縮して次の物性値を有する標題化合物( IL5 9 
)を濃緑色固体として得た。 IR(KBr) :ν3420, 3340、1650
c+ys−”実施例 4(ml 2−アセチルー6−ア■ノフェノールの別途合成法二ト
ロ化合物(実施例3で製造した、30g)、メタノー,
A/(460d)、パラジウム炭素(含量5優、129
)、2N塩酸(58d)および塩化メチレン(460d
)の混合物を水素雰囲気下、室温で6時間反応させた。 触媒を戸別し、塩化メチレンとメタノール(l:1)の
混合物で洗浄した後、得られた戸液の体積が%になるま
で濃縮した。濃縮残渣を水に溶かし活性炭処理した後、
炭酸水素ナ} IJウムでpH7〜8に調整した。冷却
後析出した結晶を戸取し減圧乾燥して、標題化合物(1
5.0 g’)を得た。 参考例 1 2−アセチルー4または6−ニトロフェノール4 2−ヒドロキシアセト7エノン(xok9)と四塩化炭
素(20l)の混合物に、濃硫酸(1001Lt)を加
熱還流下に加え、次い唖40嘩硝酸( 19.64 l
 )を3時マ“ 間かけてゆっくシ滴下した。TLCで反応終了を確認後
、反応液を靜置し有機層を分離し放冷した。 さらに0℃で冷却して一晩放置し、析出した結晶を遠心
分離で炉取し、水で練b洗いおよびかけ洗いした後、一
日真空乾燥し、以下の物性値を有する標題化合物( 1
3.5skP )を淡黄色結晶として得た。 融点=52℃〜(資)℃. 参考例 2 2−アセチルー6−アミノフェノール・塩酸塩エトロ化
合物(参考例1で製造した、13.58kl9)、メタ
ノール(IOJ)および濃塩酸(30A!)の混合物に
鉄粉(7.712k9)を室温で少量ずつ(約2.5時
間かけて)加えた。加えるに従って発熱したが、適時水
冷し6℃〜70℃を保つようにした。TLCで反応終了
を確認後、反応混合物を氷水番上かきまぜながら放冷し
、さらに0℃で一晩放置した。析出した結晶を炉取し、
酢酸エチルでよく練シ洗いし、続いてかけ洗いした。得
られた粗結晶(0−アミノ体とp−アミノ体の混合物)
を濃塩酸(23.5 1 )で室温で鉛分間練シ洗いし
た後、O℃で2時間冷却した。 結晶を済取し、酢酸エチルでかけ洗いし精製結晶を得た
。得られた精製結晶とメタノール(36J)を70℃で
1時間加熱還流した後、ω℃で濃塩酸(187 ’)を
加え、放冷させ、さらにO℃で2時間かきまぜながら冷
却し、次いでO℃で一晩放置した。析出した結晶を遠心
分離で炉取し、酢酸エチルでかけ洗いし、真空乾燥して
次の物性値を有する標題化合物(3.833k9)を淡
カツ色結晶として得た。 融点:170℃以上で分解。 参考例 2(a) 2−アセチルー6−アミノフェノール・塩酸塩の別途合
成法 オートクレープにニトロ化合物(参考例1で製造した、
10g)、酢酸エチル(201ll)、トリエチルアミ
ン(1d)およびラネーニクケル(1.5g)を仕込み
、常法によう水素雰囲気(20気圧→15気圧)、室温
で3.5時間反応させた。反応終了後、触媒を炉別し、
F液に濃塩酸を加えて−2に調整し、析出した結晶を炉
取し酢酸エチルでよく洗浄した。 得られた粗結晶を温水(30d)に溶解させ、熱時濃塩
酸(15d)を加え、 0℃で1時間かきませた後生じ
た結晶を炉取した。結晶を酢酸エチル(50一)で洗浄
し、真空乾燥して標題化合物(3.19 )を得た. 参考例 3 2−7−i!!?ルーe−yミノフェノール・p一トル
エンスルホン酸塩 HUl 窒素雰囲気下、塩化アルミニウム(3.469)とテト
ラクロロエタン(61!0の混合物を120℃まで加熱
し、溶解させ、ここへ酢酸2−(アセチルアミノ)フェ
ニルエステル(後記の方法で製造した。)( 2.5 
9 ’)を約10分間かけてすこしずつ加え、さらに1
30℃で1時間かきまぜた。反応混合物に希塩酸を加え
て還流した。水層を塩化メチレンで抽出して中性物質を
除去した後、水層に炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて
塩基性にして酢酸エチルで抽出した。抽出液にp−トル
エンスルホン酸を少しずつ加えていくと、標題化合物の
4−アミノ異性体の1)−}ルエンスルホン酸塩が沈殿
した。次に母液部分に大過剰のp一トルエンスルホン酸
ヲ加えて標題化合物(0.83 g)を得た。 前記反応に用いた酢酸2−(アセチルアミノ)フェニル
エステルは以下の方法によシ製造した。 すなわちO−アミノフェノール( 54.565 9 
)に無水酢酸( 113d)およびピリジン(226d
)を加えて、閉℃で6時間かきまぜた。反応混合物よシ
溶媒を留去し、得られた粗結晶をエーテルで洗浄して、
酢酸2−(アセチルアミノ)フエニルエステル(97.
3g)を得た。 参考例 4 1−プロモ−4−フェニルブタン 窒素雰囲気下、2lの4径フラスコにマグネシウム(1
2.15 9 )を入れ2時間かきまぜた。次にテトラ
ヒト9ロフラン(197.31Lt)に溶かしたプロモ
ベンゼン( 78.51 9 )を少し加えて、少量の
ヨート゛と一緒にかきまぜてグリニャール反応を開始さ
せた後、残bのプロモベンゼンのテトラヒドロフラン溶
液を15分間かけて還流がゆっくや続くように滴下した
。滴下終了後1時間かきまぜると内温は5℃となった。 次に、テトラヒト9ロフラン(189m)に溶かした1
.4−ジプロモブタン(108g)ヲ加エ、さらにテト
ラヒドロフランに溶かしたジリチウムテトラクooクプ
レート( L i 2CuCZ 4 )の0,I M溶
液(1.25id)を加えて、そのままゆっくシ加熱し
ていった。内温ω℃〜6℃で還流が開始した。温和な還
流を1時間、続いて激しい還流を1時間かきまぜながら
行なった。反応終了後放冷し、ゆっくシと希塩酸を加え
た。反応混合物にn−へキサンを加えて抽出した後、抽
出液を水及び飽和食塩水で順次洗浄し、乾燥後減圧濃縮
して標題化合物の粗生成物を得た。粗生或物を蒸留して
次の物性値を有する標題化合物(57.IH)を得た。 沸点=100℃〜105℃/ 5 m Hg。 参考例 5 4−クロロプタノール Qll\/\/○H テトラヒト9ロフラン( 129d)を還流させ、ここ
へ塩化水素ガスを約8時間にわたって吹き込んだ(発泡
させて)。沸点が104℃〜105℃になった時反応を
終了し、そのまま濃縮した。残留物を蒸留して次の物性
値を有する標題化合物(95g)を得た。 沸点:75℃/15鴎H9。 参考例 6 4−7エニルプタノール 窒素雰囲気下、ベンゼン(1301ll)に溶かした4
−クロロ化合物(参考例5で製造した、23.569)
に水冷しなかり1つかきまぜながら塩化アルミニ/ウム
(34.79)を少量ずつ加え、添加後約2時間かきま
ぜた.反応混合物を塩酸一氷水中へ注ぎ、酢酸エチルで
抽出した。抽出液を炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し
乾燥後減圧濃縮した。残留物を蒸留して次の物性値を有
する標題化合物(23.79g)を得た。 沸点:75℃/ 1 ttrm Hg。 参考例 7 1−プロモ−4−7エニルブタン 4−7エニルプタノール(参考例6で製造した、13.
589)に臭化水素酸の47%水溶液(20.6 d 
)を加え、さらに濃硫酸(4.9d)を加えて5時間還
流した。反応混合物をn−ヘキサンで抽出し、抽出液を
水洗し、乾燥後減圧濃縮した。残留物を蒸留して、参考
例1の生成物と同様の沸点を有する標題化合物(16.
41 9 )を得た。 参考例 8 1−プロモ−4−7エニルブタンの別途合或法◎八〜B
r 窒素雰囲気下、ベンゼン(90m)に溶かした1一プロ
モ−4−クロロブタン(11.6d)に塩化アルミニウ
ムを20’Cで少しずつ加えて、添加後刃分間かきまぜ
た。添加中ば内温を20’C〜30’Cに保つため水冷
した。反応混合物をn−ヘキサンで希釈し、希塩酸及び
水で順次洗浄し、乾燥後減圧濃縮した。 残留物を蒸留して、参考例1の生成物と同様の沸点を有
する標題化合物(6.139)を得た。 参考例 9 4−(4−7エニル7’}キシ)安息香酸メチルエステ
ル窒素雰囲気下、N,N−ジメチルホルムアミド(以下
、DMFと略記する。)(30l)に懸濁させたナトリ
ウムメトキシト”(3.296k9)に、DMF(31
l)に溶かしたp−オキシ安息香酸メチルエステル(7
.9′Kg)を室温で滴下し、滴下後70℃で1時間か
きまぜてから再度室温まで冷却して、DMF ( 3l
)に溶かしたプロム化合物(参考例4.7または8で製
造した、10kli+)を滴下した。滴下後6℃〜70
℃で1時間かきまぜた。反応終了後室温まで冷却し、混
合物を水(30J)と酢酸エチル(40A!)の混合液
中に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液をIN水酸化
ナトリウム水溶液および飽和食塩水で順次洗浄した後濃
縮した。残留物にメタノールを加え濃縮し、標題化合物
の粗生或物を得た。 参考例 10 4−(4−7ェニルプトキシ)安息香酸粗メチルエステ
ル体(参考例9で製造した。)、メタノール(3o1お
よび3N水酸化ナトリウム水溶液(水酸化ナトリウム3
kl?を水271に溶解した?の)をかきまぜながら2
時間加熱還流した。反応終了後、メタノールを減圧下に
留去し、残留液に氷水(70l)を加えてエーテルで洗
浄した.工一テル洗液t−2N水酸化ナトリウム水溶液
で再逆抽出した。併せた水眉に濃塩酸( 10.5 1
 )を室温で加えてI)H2に調整した。析出した結晶
を戸取し、水洗後送風乾燥して次の物性値を有する標題
化合物(10.6k&)を白色結晶として得た。 融点:120℃。 参考例 11 2−アセチルー6−(4−(4−フェニルプトキシ)ベ
ンゾイル〕ア■ノフェノール 窒素雰囲気下、塩化メチレン(安定剤としてのメタノー
ルが含まれていないものを使用、13l)とDMF(2
6ml)の混合溶媒に懸濁させた安息香酸化合物(参考
例lOで製造した、7.06zk!g)に室温で5分間
かけて塩化チオニル( 2.195 J )を加えた。 混合物を30℃〜40℃に加温し2時間還流した。得ら
れた酸クロライドは放冷後以下のアミド化反応に用いた
。 次に、塩化メチレン(40l)に懸濁させたアミン化合
物(実施例4(a)で製造した, 4.35k9)に室
温でピリジン( 10.58 1 )を加え、さらに1
5℃〜18℃で先に合或した酸クロライド溶液を約加分
間かけて滴下した後、同温度で2時間かきまぜた。反応
混合物を2N塩酸(60l)中へ注ぎ塩化メチレンで抽
出し、抽出液を2N塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液及び飽和食塩水で順次洗浄した後濃縮して標題化合物
の粗結晶を得た。 粗結晶を酢酸エチル(23J)中で還流溶解し、加℃ま
でかきまぜながら空冷し、室温で一晩放置した。析出し
た結晶を遠心分離して済取し、メタノールでかけ洗いし
、(資)℃で送風乾燥して、次の物性値を有する標題化
合物( 9.165k9)を黄色結晶として得た。 融点:102℃〜104℃。 参考例 12 4−〔2−ヒビロキシ−3−(4−(4−フェニルプト
キシ)ヘンゾイルアミノ〕フエニル〕−4−オキソー2
−ヒト゛ロキシー2EZ−7’テン酸エチルエステル窒
素雰囲気下、無水エタノール(7、5l)に室温で15
分間かけてナトリウムエトキシ}”(5069)t−加
え、次いでアセチル化会物(参考例11で製造した、l
kl?)およびシェウ酸ジエチルエステル(1.087
k!9)をそれぞれ2分問および6分間かけて順次加え
た。 得られた懸濁液をω℃で加熱し、十分溶解させた後、蒸
気で加熱し加分間還流した。反応混合物を室温まで冷却
した後、濃塩酸(625d)と氷水(75l)の混合液
中へかきまぜながら注ぎ、その後1時間かきまぜた。析
出した結晶を遠心分離によって戸取し、水でかけ洗いし
、次の物性値を有する標題化合物(約3.2 y )を
黄色結晶として得た。生或物は乾燥させることなく次の
工程に用いた。 HPLC : retention time : 1
7.9分column : YMC A212−as 
(登録商標、YMC社製)flow rate : 1
.2m/Mmobile phase : 0.02M
KH2PO4/OH3CN/CH30H=40/60/
8 参考例 13 8−(4−(4−7ェニルプトキシ)ベンゾイル〕アミ
ノー4−オキンー4}{−1−ペンソヒラン−2−カル
ボン酸エチルエステル プテン酸化合物(参考例12で製造した、3.2ゆ)、
無水エタノー# ( 9.25 l )および濃塩酸(
 3201IL/!)の混合物を蒸気で加熱し2.5時
間還流した。反応混合物を10℃まで冷却した後、析出
した結晶を遠心分離によって戸取し,水およびエタノー
ルでかけ洗いし次の物性値を有する標題化合物(約1.
13k9)を黄色結晶として得た。生放物は乾燥させる
ことなく次の工程に用いた。 HPLC : retention time :Z3
分(測定条件は参考例9と同じ) 参考例13(a) 8−(4−(4−7エニルプトキシ)ベンゾイル〕アミ
ノー4−オキンー4H−1−ペンゾピラン−2−カルボ
ン酸メチルエステルと相当するエチルエステル窒素雰囲
気下、メタノール(225d)に溶解させたナトリウム
エトキシ}”(34g)に40″Cでアセチル化合物(
参考例11で製造した、50g)、次いでシエウ酸ジエ
チルエステル(50.5mJ)を加え、6℃に加温し3
時間還流させた。反応終了後、混合物に約50’Cで濃
塩酸( 125iu)を激しくかきまぜなからゆクくシ
と滴下した。混合物が高粘度となったためメタノール(
x25m)を加え、70℃〜71℃で2時間かきまぜた
。反応混合物を15℃まで冷却し、結晶を炉取し、メタ
ノールでかけ洗いして次の物性値を有する標題化合物の
混合物(約150g)を得た。生放物は乾燥させること
なく次の工程に用いた。 HPLC: retention time : 14
.41分(相当するメチルエステル) 18.87分 (相当するエチルエステル) (測定条件はf工ow rate : L5I14//
T!@とした以外は参考例9と同じ) 参考例 14 8−(4−(4−フェニルプトキシ)ベンゾイル〕アミ
ノー4−オキソー4H−1−ペンゾビラン−2−カルボ
キサミ ト9 エチルエステル化合物(参考例l3で製造した、1.1
3ゆ)、塩化アンモニウム(1.985ゆ)、28多ア
ンモニア水( 5.1 1 )およびエタノール(14
.2l)の混合物を40℃で5時間かきまぜた。反応終
了後14℃まで冷却し、反応混合物を遠心分離にかけ結
晶を戸取し、得られた結晶をよく水洗し、さらにエタノ
ールでかけ洗い、laシ洗い、かけ洗いの順で洗浄し、
送風乾燥して標題化合物と4−(2一ヒト゛ロキシー3
−(4−(4−7ェニルプトキシ)ペンゾイルアミノ〕
フェニル〕−4−オキソー2−アミノー2EZ−プテン
酸アミト゛(以下、副生成物という)の混合物(計92
8 g h色結晶として得た。 得られた混合物を濃塩酸(11.25 1 )中に懸濁
させ、室温で1時間明分かきまぜた。TLCで副生或物
のスポットが消失したのを確認して遠心分離した。戸取
した結晶をpH7までよ《水洗し、さらにエタノールで
かけ洗い、練シ洗い、かけ洗いの順で洗浄し、送風乾燥
して次の物性値を有する標題化合物( 888 9 )
を白色結晶として得た。 t{PLC : retention time : 
7.7分。 (測定条件は参考例9と同じ) ?考例 14(a) 8−(4−(4−フェニルプトキシ)ベンゾイル〕ア■
ノ4−オキソー4H−1−ペンゾピラン−2−カルボキ
サミト゛の別途合戒法 エステル化合物(参考例13(a)で製造した、609
)、イソプロパノール(156d)、塩化アンモ二ウム
( 38.4 9 ’)および28%アンモニア水(9
4su)の混合物を40℃で5時間かきまぜた。反応混
合物を10℃まで冷却し、結晶を炉取し、メタノールで
かけ洗いした。 次に得られた結晶を濃塩& ( 200!l/)中に懸
濁させ、室温で5時間かきまぜた。反応終了後、結晶を
炉取し,水洗およびメタノールでかけ洗いし真空乾燥し
て、参考例14の生成物と同様の物性値を有する標題化
合物( 20.2 9 )を得た。 参考例 14(b) 8−(4−(4−7エニルプトキシ)ベンゾイル〕アミ
ノー4−オキソー4H−1−ペンゾピラン−2−カルボ
キサミト9の別途合或法 ?−(4−(4−フエニルプトキシ)ベンゾイル〕ア■
ノー4−オキソー4H−1−ペンゾピラン−2−カルボ
ニトリル エステル化合物(参考例13 (a)で製造した、30
9)、メタノール(150d)および塩化アンモニウム
(51g)の混合物に、アンモニアーメタノール混合物
(メタノール360−にアンモニアガス429を吹き込
むと全量410−になった。このうち300dを用いた
。)を加え、30’C〜36’Cで5.5時間かきまぜ
た。反応混合物を8℃まで冷却し、結晶を済取し水洗し
た。 次に、得られた結晶を参考例11および11(a)と同
様の方法によシ濃塩酸中で反応させた後、後処理を行な
い、参考例14の生或物と同様の物性値を有.する標題
化合物(26.39)を得た。 参考例 15 窒素雰囲気下、カルボキサミド化合物(参考例14で製
造した、700 9 )、DMF (5.18 6 )
および塩化ナトリウム(700 9 )の混合物をメタ
ノール/ト゛ライアイスのバス上で内温をO℃まで冷却
した。 ここヘオキシ塩化リン(571d)を40分間かけて滴
下した後、内温O℃で3時間かきませた。反応混合物を
氷水(10l)中へかきまぜながら加えた後鉛分間かき
まぜた。生じた白色結晶を遠心分離を用いて済取し、水
で練シ洗いし、さらにエタノールでかけ洗い、練り洗い
、かけ洗いの順で洗浄し、送風乾燥して次の物性値を有
する標題化合物( 644 9 )を淡カツ色結晶とし
て得た。 HPLO : retention time : 1
7分。 (測定条件は参考例9と同じ) 参考例 16 8−(4−(4−フエニルプトキシ)ベンゾイル〕アミ
ノー2−(5−テトラゾリル)−4−オキンー4H−1
−ペンゾピラン 窺素雰囲気下、カルボニトリル化合物(参考例15で製
造した、29)、DMF ( 14d )および塩化ア
ンモニウム( 0.244 9 ’)の混合物に40℃
でアジ化ナトリウム(0.3 9 )を加え、70℃〜
75℃で2.5時間かきまぜた。反応終了後、混合物に
IN塩酸(14一)を70℃で加えた。混合物を冷却し
、10℃で亜硝酸ナトリウム水溶液(亜硝酸ナトリウム
0.38 9を水1,2−に溶かしたもの)を加えて、
結晶を済取した。結晶を水洗し、次いでメタノールで練
シ洗い、かけ洗いの順で洗浄し、真空乾燥して標題化合
物の粗結晶1.979を得た。 粗結晶(19)をDMF ( 2.5 d )に溶かし
、メタノール(5114)t加えて4時間静置し、生じ
た結晶を炉取し、メタノールでかけ洗いした後真空乾燥
して再結晶の標題化合物(0.899)を得た。 再結晶標題化合物(10g)、水(80m/)およびエ
タノール( 40d )からなる懸濁液に炭酸水素ナト
リウム( 2.1 9 )を室温で加え、ω℃〜70℃
で2時間かきまぜた。反応混合物に活性炭を加え、熱時
枦過し、p液に熱時酢1! (4.311j ”)を加
えて、水冷下2時間かきませた。析出した結晶を済取し
、水およびエタノールで順次洗浄し真空乾燥して、次の
物性値を有する標題化合物( 9.5 9 )を淡茶褐
色結晶として得た。 IR(KBr) :ν3600 〜2300. 164
5、1600、1580、1525、1505、142
5、1380、1290、1255、1180、106
0. 1030、885、835、810、760、7
40傭−1参考例 17 4−〔2−ヒドロキシ−3−[:4−(4−フエニルプ
トキシ〕ペンゾイルアミノ〕フェニル〕−4−オキソー
2−ヒト゛ロキシー2EZ−プテン酸アミド アルゴン雰囲気下、カリウムtert−プトキシト9(
2.048kl?)とDMF(13l)の混合物を刃℃
でよくかきまぜて溶解させ、ここへアセチル化合物(参
考例11で製造した、1kg)を水冷下約10分間かけ
て加え、次いてオキサミド酸エチルエステル(453.
69’)を約5分間かけて加えた。 混合物を加℃で加
分間かきまぜた後、冷IN塩酸(20l)中へ注いだ。 10℃まで冷却した後、遠心分離して結晶を炉取し、水
洗後送風乾燥して次の物性値を有する標題化合物(1.
12m)を黄色結晶として得た。 TLC:(塩化メチレン;メタノール=9:1):Rf
 O.56。 参考例 18 8−(4−(4−7エニルブトキシ)ベンゾイル〕アミ
ノー4−オキンー4H−1−インゾビラ/−2−カルボ
キサミド プテン酸アくド化合物(参考例17で製造した、50o
 g)、酢酸(3.77l)および濃硫酸(38d)の
混合物を70℃〜75℃で2時間かきまぜた。反応混合
物を冷却し、45’Cになったところで氷水3.8l中
へ注ぎ、生じた結晶を戸取した。結晶を水およびエタノ
ールで十分洗浄した後,送風乾燥して参考例14の生成
物と同様の物性値を有する標題化合物(380 9 )
を得た。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)式 ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中、X^1はハロゲン原子を表わす。)で示される
    化合物をアセチル化反応に付し、(2)得られた式 ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) で示される化合物をフリース転位反応に付し、(3)得
    られた式 ▲数式、化学式、表等があります▼(V) で示される化合物をニトロ化反応に付し、 (4)得られた式 ▲数式、化学式、表等があります▼(VI) で示される化合物を接触還元反応(ただし、反応溶媒系
    が有機層と水層との二層系となる場合は除く。)に付し
    、さらに所望により酸付加塩を形成する反応に付すこと
    を特徴とする、 式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) で示される化合物またはその非毒性の酸付加塩の製造方
    法。
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