JP2002265462A - ニトリル誘導体の製造方法、その中間体および中間体の製造方法 - Google Patents
ニトリル誘導体の製造方法、その中間体および中間体の製造方法Info
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Abstract
せて、一般式(2) で示されるヒドロキサム酸誘導体を得、該ヒドロキサム
酸誘導体と一般式(3)
Description
製造方法、その中間体および中間体の製造方法に関す
る。
またはフェニル基で置換されていてもよい炭素数1〜1
0のアルコキシ基を表わす。)で示されるニトリル誘導
体は、医薬中間体として有用である(例えば特開昭61
−50977号公報等)。かかる一般式(4)で示され
るニトリル誘導体の製造方法としては、例えば一般式
(1) (式中、R1は上記と同一の意味を表わし、R2は炭素数
1〜6のアルキル基を表わす。)で示されるクロモン誘
導体とアンモニアガスを反応させて得られるアミド化合
物を脱水する方法が知られているが、アミド化合物を製
造する際に大量のアンモニアガスを用いなければなら
ず、反応設備および経済的な面で、必ずしも工業的に十
分満足し得るものでなかった。
本発明者らは、より工業的なニトリル誘導体の製造方法
について鋭意検討したところ、一般式(1)で示される
クロモン誘導体とヒドロキシルアミンを反応させること
により、新規なヒドロキサム酸誘導体が容易に得られ、
該ヒドロキサム酸と三塩化リン等のリン化合物を反応さ
せることにより、目的とするニトリル化合物が得られる
ことを見出し、本発明に至った。
式(1) (式中、R1は水素原子、炭素数1〜10のアルキル基
またはフェニル基で置換されていてもよい炭素数1〜1
0のアルコキシ基を表わし、R2は炭素数1〜6のアル
キル基を表わす。)で示されるクロモン誘導体とヒドロ
キシルアミンを反応させて、一般式(2) (式中、R1は上記と同一の意味を表わす。)で示され
るヒドロキサム酸誘導体を得、該ヒドロキサム酸誘導体
と一般式(3) (式中、X1、X2およびX3はそれぞれ同一または相異
なって、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭
素数1〜6のアルコキシ基またはフェニル基を表わ
す。)で示されるリン化合物を反応させることを特徴と
する一般式(4) (式中、R1は上記と同一の意味を表わす。)で示され
るニトリル誘導体の製造方法、およびその中間体である
上記一般式(2)で示される新規なヒドロキサム酸誘導
体とその製造方法を提供するものである。
またはフェニル基で置換されていてもよい炭素数1〜1
0のアルコキシ基を表わし、R2は炭素数1〜6のアル
キル基を表わす。)で示されるクロモン誘導体とヒドロ
キシルアミンを反応させて、一般式(2) (式中、R1は上記と同一の意味を表わす。)で示され
るヒドロキサム酸誘導体を得る工程について説明する。
(1)と略記する。)の式中、R1は水素原子、炭素数
1〜10のアルキル基またはフェニル基で置換されてい
てもよい炭素数1〜10のアルコキシ基を表わす。
えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピ
ル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル
基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシ
ル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル
基、n−デシル基等の直鎖状または分枝鎖状の炭素数1
〜10のアルキル基が挙げられる。
1〜10のアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、
エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n
−ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、
tert−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、n−ヘ
キシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチル
オキシ基、n−ノニルオキシ基、n−デシルオキシ基等
の直鎖状または分枝鎖状の炭素数1〜10のアルコキシ
基、およびこれらアルコキシ基の水素原子がフェニル基
に置換した例えば3−フェニルプロポキシ基、4−フェ
ニルブトキシ基等が挙げられる。
ルキル基を表わし、炭素数1〜6のアルキル基として
は、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソ
プロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブ
チル基、tert−ブチル基、n−ヘキシル基等の直鎖
状または分枝鎖状の炭素数1〜6のアルキル基が挙げら
れる。
えば8−ベンゾイルアミノ−4−オキソ−4H−1−ベ
ンゾピラン−2−カルボン酸メチル、8−ベンゾイルア
ミノ−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カル
ボン酸エチル、8−ベンゾイルアミノ−4−オキソ−4
H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸n−プロピル、
8−ベンゾイルアミノ−4−オキソ−4H−1−ベンゾ
ピラン−2−カルボン酸イソプロピル、8−ベンゾイル
アミノ−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カ
ルボン酸n−ブチル、8−ベンゾイルアミノ−4−オキ
ソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸イソブチ
ル、8−ベンゾイルアミノ−4−オキソ−4H−1−ベ
ンゾピラン−2−カルボン酸tert−ブチル、8−ベ
ンゾイルアミノ−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン
−2−カルボン酸n−ヘキシル、
4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸
メチル、8−(4−ペンチルベンゾイル)アミノ−4−
オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸エチ
ル、8−(4−ペンチルベンゾイル)アミノ−4−オキ
ソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸n−プロ
ピル、8−(4−ペンチルベンゾイル)アミノ−4−オ
キソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸イソプ
ロピル、8−(4−ペンチルベンゾイル)アミノ−4−
オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸n−
ブチル、8−(4−ペンチルベンゾイル)アミノ−4−
オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸イソ
ブチル、8−(4−ペンチルベンゾイル)アミノ−4−
オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸te
rt−ブチル、8−(4−ペンチルベンゾイル)アミノ
−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン
酸n−ヘキシル、
4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸
メチル、8−(4−ヘキシルベンゾイル)アミノ−4−
オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸エチ
ル、8−(4−ヘキシルベンゾイル)アミノ−4−オキ
ソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸n−プロ
ピル、8−(4−ヘキシルベンゾイル)アミノ−4−オ
キソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸イソプ
ロピル、8−(4−ヘキシルベンゾイル)アミノ−4−
オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸n−
ブチル、8−(4−ヘキシルベンゾイル)アミノ−4−
オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸イソ
ブチル、8−(4−ヘキシルベンゾイル)アミノ−4−
オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸te
rt−ブチル、8−(4−ヘキシルベンゾイル)アミノ
−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン
酸n−ヘキシル、
4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸
メチル、8−(4−ヘプチルベンゾイル)アミノ−4−
オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸エチ
ル、8−(4−ヘプチルベンゾイル)アミノ−4−オキ
ソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸n−プロ
ピル、8−(4−ヘプチルベンゾイル)アミノ−4−オ
キソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸イソプ
ロピル、8−(4−ヘプチルベンゾイル)アミノ−4−
オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸n−
ブチル、8−(4−ヘプチルベンゾイル)アミノ−4−
オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸イソ
ブチル、8−(4−ヘプチルベンゾイル)アミノ−4−
オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸te
rt−ブチル、8−(4−ヘプチルベンゾイル)アミノ
−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン
酸n−ヘキシル、
4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸
メチル、8−(4−オクチルベンゾイル)アミノ−4−
オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸エチ
ル、8−(4−オクチルベンゾイル)アミノ−4−オキ
ソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸n−プロ
ピル、8−(4−オクチルベンゾイル)アミノ−4−オ
キソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸イソプ
ロピル、8−(4−オクチルベンゾイル)アミノ−4−
オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸n−
ブチル、8−(4−オクチルベンゾイル)アミノ−4−
オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸イソ
ブチル、8−(4−オクチルベンゾイル)アミノ−4−
オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸te
rt−ブチル、8−(4−オクチルベンゾイル)アミノ
−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン
酸n−ヘキシル、
−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸メ
チル、8−(4−ノニルベンゾイル)アミノ−4−オキ
ソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸エチル、
8−(4−ノニルベンゾイル)アミノ−4−オキソ−4
H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸n−プロピル、
8−(4−ノニルベンゾイル)アミノ−4−オキソ−4
H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸イソプロピル、
8−(4−ノニルベンゾイル)アミノ−4−オキソ−4
H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸n−ブチル、8
−(4−ノニルベンゾイル)アミノ−4−オキソ−4H
−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸イソブチル、8−
(4−ノニルベンゾイル)アミノ−4−オキソ−4H−
1−ベンゾピラン−2−カルボン酸tert−ブチル、
8−(4−ノニルベンゾイル)アミノ−4−オキソ−4
H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸n−ヘキシル、
4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸
メチル、8−(4−ブトキシベンゾイル)アミノ−4−
オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸エチ
ル、8−(4−ブトキシベンゾイル)アミノ−4−オキ
ソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸n−プロ
ピル、8−(4−ブトキシベンゾイル)アミノ−4−オ
キソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸イソプ
ロピル、8−(4−ブトキシベンゾイル)アミノ−4−
オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸n−
ブチル、8−(4−ブトキシベンゾイル)アミノ−4−
オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸イソ
ブチル、8−(4−ブトキシベンゾイル)アミノ−4−
オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸te
rt−ブチル、8−(4−ブトキシベンゾイル)アミノ
−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン
酸n−ヘキシル、
ミノ−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カル
ボン酸メチル、8−(4−ペンチルオキシベンゾイル)
アミノ−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カ
ルボン酸エチル、8−(4−ペンチルオキシベンゾイ
ル)アミノ−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2
−カルボン酸n−プロピル、8−(4−ペンチルオキシ
ベンゾイル)アミノ−4−オキソ−4H−1−ベンゾピ
ラン−2−カルボン酸イソプロピル、8−(4−ペンチ
ルオキシベンゾイル)アミノ−4−オキソ−4H−1−
ベンゾピラン−2−カルボン酸n−ブチル、8−(4−
ペンチルオキシベンゾイル)アミノ−4−オキソ−4H
−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸イソブチル、8−
(4−ペンチルオキシベンゾイル)アミノ−4−オキソ
−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸tert−
ブチル、8−(4−ペンチルオキシベンゾイル)アミノ
−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン
酸n−ヘキシル、
ミノ−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カル
ボン酸メチル、8−(4−ヘキシルオキシベンゾイル)
アミノ−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カ
ルボン酸エチル、8−(4−ヘキシルオキシベンゾイ
ル)アミノ−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2
−カルボン酸n−プロピル、8−(4−ヘキシルオキシ
ベンゾイル)アミノ−4−オキソ−4H−1−ベンゾピ
ラン−2−カルボン酸イソプロピル、8−(4−ヘキシ
ルオキシベンゾイル)アミノ−4−オキソ−4H−1−
ベンゾピラン−2−カルボン酸n−ブチル、8−(4−
ヘキシルオキシベンゾイル)アミノ−4−オキソ−4H
−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸イソブチル、8−
(4−ヘキシルオキシベンゾイル)アミノ−4−オキソ
−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸tert−
ブチル、8−(4−ヘキシルオキシベンゾイル)アミノ
−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン
酸n−ヘキシル、
ミノ−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カル
ボン酸メチル、8−(4−ヘプチルオキシベンゾイル)
アミノ−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カ
ルボン酸エチル、8−(4−ヘプチルオキシベンゾイ
ル)アミノ−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2
−カルボン酸n−プロピル、8−(4−ヘプチルオキシ
ベンゾイル)アミノ−4−オキソ−4H−1−ベンゾピ
ラン−2−カルボン酸イソプロピル、8−(4−ヘプチ
ルオキシベンゾイル)アミノ−4−オキソ−4H−1−
ベンゾピラン−2−カルボン酸n−ブチル、8−(4−
ヘプチルオキシベンゾイル)アミノ−4−オキソ−4H
−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸イソブチル、8−
(4−ヘプチルオキシベンゾイル)アミノ−4−オキソ
−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸tert−
ブチル、8−(4−ヘプチルオキシベンゾイル)アミノ
−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン
酸n−ヘキシル、
ミノ−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カル
ボン酸メチル、8−(4−オクチルオキシベンゾイル)
アミノ−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カ
ルボン酸エチル、8−(4−オクチルオキシベンゾイ
ル)アミノ−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2
−カルボン酸n−プロピル、8−(4−オクチルオキシ
ベンゾイル)アミノ−4−オキソ−4H−1−ベンゾピ
ラン−2−カルボン酸イソプロピル、8−(4−オクチ
ルオキシベンゾイル)アミノ−4−オキソ−4H−1−
ベンゾピラン−2−カルボン酸n−ブチル、8−(4−
オクチルオキシベンゾイル)アミノ−4−オキソ−4H
−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸イソブチル、8−
(4−オクチルオキシベンゾイル)アミノ−4−オキソ
−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸tert−
ブチル、8−(4−オクチルオキシベンゾイル)アミノ
−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン
酸n−ヘキシル、
ノ−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボ
ン酸メチル、8−(4−ノニルオキシベンゾイル)アミ
ノ−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボ
ン酸エチル、8−(4−ノニルオキシベンゾイル)アミ
ノ−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボ
ン酸n−プロピル、8−(4−ノニルオキシベンゾイ
ル)アミノ−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2
−カルボン酸イソプロピル、8−(4−ノニルオキシベ
ンゾイル)アミノ−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラ
ン−2−カルボン酸n−ブチル、8−(4−ノニルオキ
シベンゾイル)アミノ−4−オキソ−4H−1−ベンゾ
ピラン−2−カルボン酸イソブチル、8−(4−ノニル
オキシベンゾイル)アミノ−4−オキソ−4H−1−ベ
ンゾピラン−2−カルボン酸tert−ブチル、8−
(4−ノニルオキシベンゾイル)アミノ−4−オキソ−
4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸n−ヘキシ
ル、
ンゾイル〕アミノ−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラ
ン−2−カルボン酸メチル、8−〔4−(3−フェニル
プロポキシ)ベンゾイル〕アミノ−4−オキソ−4H−
1−ベンゾピラン−2−カルボン酸エチル、8−〔4−
(3−フェニルプロポキシ)ベンゾイル〕アミノ−4−
オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸n−
プロピル、8−〔4−(3−フェニルプロポキシ)ベン
ゾイル〕アミノ−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン
−2−カルボン酸イソプロピル、8−〔4−(3−フェ
ニルプロポキシ)ベンゾイル〕アミノ−4−オキソ−4
H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸n−ブチル、8
−−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボ
ン酸イソブチル、8−〔4−(3−フェニルプロポキ
シ)ベンゾイル〕アミノ−4−オキソ−4H−1−ベン
ゾピラン−2−カルボン酸tert−ブチル、8−〔4
−(3−フェニルプロポキシ)ベンゾイル〕アミノ−4
−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸n
−ヘキシル、
ゾイル〕アミノ−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン
−2−カルボン酸メチル、8−〔4−(4−フェニルブ
トキシ)ベンゾイル〕アミノ−4−オキソ−4H−1−
ベンゾピラン−2−カルボン酸エチル、8−〔4−(4
−フェニルブトキシ)ベンゾイル〕アミノ−4−オキソ
−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸n−プロピ
ル、8−〔4−(4−フェニルブトキシ)ベンゾイル〕
アミノ−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カ
ルボン酸イソプロピル、8−〔4−(4−フェニルブト
キシ)ベンゾイル〕アミノ−4−オキソ−4H−1−ベ
ンゾピラン−2−カルボン酸n−ブチル、8−〔4−
(4−フェニルブトキシ)ベンゾイル〕アミノ−4−オ
キソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸イソブ
チル、8−〔4−(4−フェニルブトキシ)ベンゾイ
ル〕アミノ−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2
−カルボン酸tert−ブチル、8−〔4−(4−フェ
ニルブトキシ)ベンゾイル〕アミノ−4−オキソ−4H
−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸n−ヘキシル等が
挙げられる。
よいし、例えばヒドロキシルアミン・塩酸塩、ヒドロキ
シルアミン・硫酸塩等のヒドロキシルアミンと鉱酸との
塩を用いてもよい。ヒドロキシルアミンと鉱酸との塩を
用いる場合には、予めアルカリで該塩を中和するか、反
応系中に該塩を構成する鉱酸を中和するに足る塩基を加
える必要がある。また、ヒドロキシルアミンはそのまま
用いてもよいが、操作性等を考慮すると、水溶液として
用いることが好ましい。
誘導体(1)に対して、通常1モル倍以上、好ましくは
1.1モル倍以上であり、その上限は特に制限されない
が、あまり多すぎると、経済的に不利になりやすいた
め、実用的にはクロモン誘導体(1)に対して、5モル
倍以下、好ましくは3モル倍以下である。
くく、またあまり高いと副反応が起こりやすいため、通
常−30〜100℃である。
ンの反応は、通常有機溶媒の存在下に実施される。有機
溶媒としては、例えばN,N−ジメチルホルムアミド、
N−メチルピロリドン、1,3−ジメチル−2−イミダ
ゾリジノン等のアミド系溶媒、メタノール、エタノール
等のアルコール系溶媒、例えばアセトニトリル、プロピ
オニトリル等のニトリル系溶媒、例えばピリジン、5−
エチル−2−メチルピリジン等のピリジン系溶媒、例え
ばトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、例え
ばジエチルエーテル、メチル−tert−ブチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、例えば酢
酸エチル等のエステル系溶媒、例えばジクロロメタン、
ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等
のハロゲン化炭化水素系溶媒等が挙げられ、その使用量
は特に制限されない。
ヒドロキシルアミンの反応を実施することにより、目的
とする一般式(2)で示されるヒドロキサム酸誘導体を
さらに収率よく得ることができる。
ナトリウム等のアルカリ金属炭酸塩、例えば水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、例
えば炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム等のアルカ
リ金属炭酸水素塩、例えば酢酸カリウム、酢酸ナトリウ
ム等のアルカリ金属酢酸塩、例えばトリエチルアミン、
ピリジン等のアミン類等が挙げられる。
対して、通常0.1モル倍以上、好ましくは0.5モル
倍以上であり、その上限は特にないが、あまり多いと経
済的に不利になるため、実用的には、クロモン誘導体に
対して、5モル倍以下、好ましくは2モル倍以下であ
る。なお、上記したように、ヒドロキシルアミンと鉱酸
との塩を用いた場合には、該塩を構成する鉱酸を中和す
るに必要な量の塩基を別途用いる必要がある。
晶析処理等して、目的とする一般式(2) (式中、R1は上記と同一の意味を表わす。)で示され
るヒドロキサム酸誘導体(以下、ヒドロキサム酸誘導体
(2)と略記する。)を取り出すことができる。塩基の
存在下に反応を実施した場合には、反応液を塩酸、硫酸
等の鉱酸水溶液で中和処理した後、晶析処理等により、
ヒドロキサム酸誘導体(2)を取り出すことが好まし
い。この場合、中和処理により生じる塩を含むヒドロキ
サム酸誘導体(2)が得られることがあるが、このとき
には、例えば得られたヒドロキサム酸誘導体(2)を水
洗浄し、塩を除去すればよい。また、反応液に、必要に
応じて水に不溶の有機溶媒を加え、抽出処理し、得られ
る有機層を、濃縮処理、晶析処理等することにより、ヒ
ドロキサム酸誘導体(2)を取り出してもよい。水に不
溶の有機溶媒としては、例えばトルエン、キシレン等の
芳香族炭化水素系溶媒、例えばジエチルエーテル、メチ
ル−tert−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン等
のエーテル系溶媒、例えば酢酸エチル等のエステル系溶
媒、例えばジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホ
ルム、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素系溶媒等
が挙げられ、その使用量は特に制限されない。
導体(2)は、水和物として得られることもあり、この
ときには、得られたヒドロキサム酸誘導体(2)の水和
物と有機溶媒を混合、接触させることにより、ヒドロキ
サム酸誘導体(2)に導くことができる。
は、例えばリパルプ洗浄、再結晶、カラムクロマトグラ
フィ等によりさらに精製してもよい。
には、ヒドロキサム酸誘導体(2)を該反応液から取り
出すことなく、次工程に用いてもよいが、反応液中に水
が含まれている場合には、該反応液から水を次工程に悪
影響を及ぼさない程度に除去した後、用いることが好ま
しい。
(2)は、新規化合物であり、例えば8−ベンゾイルア
ミノ−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カル
ボヒドロキサム酸、8−(4−ペンチルベンゾイル)ア
ミノ−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カル
ボヒドロキサム酸、8−(4−ヘキシルベンゾイル)ア
ミノ−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カル
ボヒドロキサム酸、8−(4−ヘプチルベンゾイル)ア
ミノ−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カル
ボヒドロキサム酸、8−(4−オクチルベンゾイル)ア
ミノ−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カル
ボヒドロキサム酸、8−(4−ノニルベンゾイル)アミ
ノ−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボ
ヒドロキサム酸、
4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボヒド
ロキサム酸、8−(4−ペンチルオキシベンゾイル)ア
ミノ−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カル
ボヒドロキサム酸、8−(4−ヘキシルオキシベンゾイ
ル)アミノ−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2
−カルボヒドロキサム酸、8−(4−ヘプチルオキシベ
ンゾイル)アミノ−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラ
ン−2−カルボヒドロキサム酸、8−(4−オクチルオ
キシベンゾイル)アミノ−4−オキソ−4H−1−ベン
ゾピラン−2−カルボヒドロキサム酸、8−(4−ノニ
ルオキシベンゾイル)アミノ−4−オキソ−4H−1−
ベンゾピラン−2−カルボヒドロキサム酸、8−〔4−
(3−フェニルプロポキシ)ベンゾイル〕アミノ−4−
オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボヒドロキ
サム酸、8−〔4−(4−フェニルブトキシ)ベンゾイ
ル〕アミノ−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2
−カルボヒドロキサム酸等が挙げられる。
式(3) (式中、X1、X2およびX3はそれぞれ同一または相異
なって、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭
素数1〜6のアルコキシ基またはフェニル基を表わ
す。)で示されるリン化合物を反応させ、一般式(4) (式中、R1は上記と同一の意味を表わす。)で示され
るニトリル誘導体を製造する工程について説明する。
する。)の式中、X1、X2およびX3は、それぞれ同一
または相異なって、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアル
キル基、炭素数1〜6のアルコキシ基またはフェニル基
を表わす。
素が挙げられ、炭素数1〜6のアルキル基としては、例
えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピ
ル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル
基、tert−ブチル基、n−ヘキシル基等の直鎖状ま
たは分枝鎖状の炭素数1〜6のアルキル基が挙げられ
る。炭素数1〜6のアルコキシ基としては、例えばメト
キシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキ
シ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブト
キシ基、tert−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ
基、n−ヘキシルオキシ基等の直鎖状または分枝鎖状の
炭素数1〜6のアルコキシ基、およびフェノキシ基が挙
げられる。
三塩化リン、三臭化リン、ジクロロメチルホスファイ
ト、クロロジメチルホスファイト、トリメチルホスファ
イト、トリフェニルホスフィン等が挙げられる。
ム酸誘導体(2)に対して、通常1モル倍以上、好まし
くは1.5モル倍以上であり、その上限は特にないが、
あまり多いと経済的に不利になるため、実用的には、ヒ
ドロキサム酸誘導体(2)に対して、5モル倍以下であ
る。
(3)の反応は、通常有機溶媒の存在下に実施される。
有機溶媒としては、例えばトルエン、キシレン等の芳香
族炭化水素系溶媒、例えばジクロロメタン、ジクロロエ
タン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン
化炭化水素系溶媒、例えばジエチルエーテル、メチル−
tert−ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、例えば
酢酸エチル等のエステル系溶媒、ピリジン、5−エチル
−2−メチルピリジン等のピリジン系溶媒等が挙げら
れ、その使用量は特に制限されない。
度の範囲である。
分液処理し、得られる有機層を濃縮処理、晶析処理等す
ることにより、目的とする一般式(4) (式中、R1は上記と同一の意味を表わす。)で示され
るニトリル誘導体(以下、ニトリル誘導体(4)と略記
する。)を取り出すことができる。取り出したニトリル
誘導体(4)は、例えば再結晶、カラムクロマトグラフ
ィ等の通常の精製手段によりさらに精製してもよい。ま
た溶媒として、ピリジン系溶媒を用いた場合には、水に
代えて、例えば硫酸水溶液、塩酸水溶液等の酸水溶液を
用いてもよい。
しては、例えば8−ベンゾイルアミノ−4−オキソ−4
H−1−ベンゾピラン−2−カルボニトリル、8−(4
−ペンチルベンゾイル)アミノ−4−オキソ−4H−1
−ベンゾピラン−2−カルボニトリル、8−(4−ヘキ
シルベンゾイル)アミノ−4−オキソ−4H−1−ベン
ゾピラン−2−カルボニトリル、8−(4−ヘプチルベ
ンゾイル)アミノ−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラ
ン−2−カルボニトリル、8−(4−オクチルベンゾイ
ル)アミノ−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2
−カルボニトリル、8−(4−ノニルベンゾイル)アミ
ノ−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボ
ニトリル、
4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボニト
リル、8−(4−ペンチルオキシベンゾイル)アミノ−
4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボニト
リル、8−(4−ヘキシルオキシベンゾイル)アミノ−
4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボニト
リル、8−(4−ヘプチルオキシベンゾイル)アミノ−
4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボニト
リル、8−(4−オクチルオキシベンゾイル)アミノ−
4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボニト
リル、8−(4−ノニルオキシベンゾイル)アミノ−4
−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボニトリ
ル、8−〔4−(3−フェニルプロポキシ)ベンゾイ
ル〕アミノ−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2
−カルボニトリル、8−〔4−(4−フェニルブトキ
シ)ベンゾイル〕アミノ−4−オキソ−4H−1−ベン
ゾピラン−2−カルボニトリル等が挙げられる。
規化合物であるヒドロキサム酸誘導体を経ることによ
り、容易にニトリル誘導体を得ることができ、工業的に
有利である。
明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものでは
ない。
に、N,N−ジメチルホルムアミド400gおよび8−
〔4−(4−フェニルブトキシ)ベンゾイル〕アミノ−
4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボン酸
エチルエステル47gを仕込んだ。内温15℃に調整
し、50重量%ヒドロキシルアミン水溶液10.2gお
よび40重量%炭酸カリウム水溶液46.4gをそれぞ
れ滴下した後、同温度で18時間攪拌、保持した。その
後、反応液に98重量%硫酸31gをゆっくり滴下した
後、内温60℃まで昇温した。同温度で水200gを滴
下後、1時間攪拌、保持し、2時間かけて室温まで冷却
した。析出した結晶を濾取し、水200gで洗浄した。
濾取した結晶をフラスコに入れ、水600gを加え、内
温60℃に昇温、1時間攪拌、保持した後、結晶を濾取
し、水200gで洗浄した。濾取した結晶をフラスコに
入れ、メタノール280gを加え、内温60℃に昇温
し、1時間攪拌、保持し、2時間かけて室温まで冷却し
た。結晶を濾取し、減圧条件下、70℃で乾燥し、8−
〔4−(4−フェニルブトキシ)ベンゾイル〕アミノ−
4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボヒド
ロキサム酸38gを得た。収率:80%。
準,単位:ppm) δ12.08(1H、br)、10.17(1H、
s)、9.78(1H、br)、8.44(1H、d)、
7.97(2H、d)、7.83(1H、d)、7.53(1
H、t)、7.2〜7.3(5H、m)、7.10(2
H、d)、6.86(1H、s)、4.10、(2H、
t)、2.66(2H、t)、1.76(4H、m)
たフラスコに、5−エチルー2−メチルピリジン20g
および実施例1で得た8−〔4−(4−フェニルブトキ
シ)ベンゾイル〕アミノ−4−オキソ−4H−1−ベン
ゾピラン−2−カルボヒドロキサム酸1.0gを仕込ん
だ。これに、ジクロロメチルホスファイト0.56gを
滴下した後、内温80℃に昇温し、3時間攪拌、保持し
た。反応液を、28重量%硫酸水30gおよびトルエン
30gの混合液に、内温40℃を保ちながら、滴下した
後、内温70℃まで昇温した。同温度で30分攪拌、保
持した後、分液処理し、有機層を得た。該有機層を5重
量%塩酸水20g、次いで飽和食塩水20gで洗浄した
後、減圧下で濃縮し、8−〔4−(4−フェニルブトキ
シ)ベンゾイル〕アミノ−4−オキソ−4H−1−ベン
ゾピラン−2−カルボニトリル0.69gを得た。収
率:75%(ヒドロキサム酸基準)。
に、室温でトルエン20gおよび実施例1で得た8−
〔4−(4−フェニルブトキシ)ベンゾイル〕アミノ−
4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボヒド
ロキサム酸1.0gを混合した。これに、ジクロロメチ
ルホスファイト0.56gを滴下した後、100℃に昇
温し、さらに7時間攪拌保持した。40℃で水30gに
反応溶液を滴下した後、同温度で30分混合攪拌し、分
液した。有機層をさらに飽和食塩水20gで洗浄した。
得られた有機層を液体クロマトグラフィーで分析したと
ころ、8−〔4−(4−フェニルブトキシ)ベンゾイ
ル〕アミノ−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2
−カルボニトリルが0.66g生成していた。収率:7
1%。
に、トルエン20gおよび実施例1で得られた8−〔4
−(4−フェニルブトキシ)ベンゾイル〕アミノ−4−
オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボヒドロキ
サム酸1.0gを仕込んだ。これに三塩化リン0.87
gを滴下した後、内温100℃に昇温し、4時間攪拌、
保持した。反応液を、40℃で水30gに反応溶液を滴
下した後、同温度で30分攪拌、保持し、分液処理し、
有機層を得た。該有機層を飽和食塩水20gで洗浄した
後、液体クロマトグラフィーで分析したところ、8−
〔4−(4−フェニルブトキシ)ベンゾイル〕アミノ−
4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−2−カルボニト
リルが0.41g生成していた。収率:44%。
Claims (4)
- 【請求項1】一般式(1) (式中、R1は水素原子、炭素数1〜10のアルキル基
またはフェニル基で置換されていてもよい炭素数1〜1
0のアルコキシ基を表わし、R2は炭素数1〜6のアル
キル基を表わす。)で示されるクロモン誘導体とヒドロ
キシルアミンを反応させて、一般式(2) (式中、R1は上記と同一の意味を表わす。)で示され
るヒドロキサム酸誘導体を得、該ヒドロキサム酸誘導体
と一般式(3) (式中、X1、X2およびX3はそれぞれ同一または相異
なって、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭
素数1〜6のアルコキシ基またはフェニル基を表わ
す。)で示されるリン化合物を反応させることを特徴と
する一般式(4) (式中、R1は上記と同一の意味を表わす。)で示され
るニトリル誘導体の製造方法。 - 【請求項2】一般式(2)で示されるヒドロキサム酸誘
導体。 - 【請求項3】一般式(1)で示されるクロモン誘導体と
ヒドロキシルアミンを反応させることを特徴とする一般
式(2)で示されるヒドロキサム酸誘導体の製造方法。 - 【請求項4】一般式(2)で示されるヒドロキサム酸誘
導体と一般式(3)で示されるリン化合物を反応させる
ことを特徴とする一般式(4)で示されるニトリル誘導
体の製造方法。
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JPS6150977A (ja) * | 1984-08-20 | 1986-03-13 | Ono Pharmaceut Co Ltd | 新規な縮合ベンズ(チオ)アミド、それらの製造方法およびそれらを有効成分として含有する薬剤 |
JPH0395144A (ja) * | 1989-08-04 | 1991-04-19 | Ono Pharmaceut Co Ltd | アミノフェノール誘導体の製造方法 |
-
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