JPH037710A - スチレン系樹脂組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は新規なスチレン系樹脂組成物に関するものであ
る。さらに詳しくいえば、本発明は、ＯＡ機器、家電製
品、シートなどの分野において好適に用いられる優れた
光沢と高い衝撃強度、特に面衝撃強度を有する、ジエン
系ゴム状重合体とスチレン系樹脂とから成るゴム変性ス
チレン系樹脂組成物に関するものである。

〔従来の技術〕

従来、スチレン系樹脂の耐衝撃性を改良する目的で、ポ
リスチレンにゴム状重合体をブレンドしたり、あるいは
ゴム状重合体の存在下に、スチレンを重合させることに
より、該ゴム状重合体にスチレンが一部グラフト重合さ
れ、かつスチレンの残部がポリスチレンとなって、実質
上ゴム状重合体／スチレンのグラフト共重合体とポリス
チレンとが混在された状態のいわゆるゴム変性ポリスチ
レン樹脂組成物（ＨＩＰＳ）とすることが広く行われて
いる。

このようなゴム変性ポリスチレン樹脂組成物においては
、通常ゴム状重合体はスチレン系樹脂中に、粒子状に分
散しており、この粒子の大きさと、耐衝撃性、剛性及び
光沢とは密接な関係を有することは、良く知られている
。すなわち、剛性及び光沢は、該ゴム状重合体の粒子が
小さいほど優れているが、その反面、耐衝撃性は該ゴム
状重合体の粒子が小さくなるのに比例して低下し、ある
限度以下になると、実質的に耐衝撃性の改良効果がなく
なる。

従来のゴム変性ポリスチレン樹脂組成物においては、所
望の耐衝撃性を得るために、ゴム状重合体を、粒径が１
μｍ以上、通常１〜１０μｍの範囲の粒子として、ポリ
スチレン樹脂相中に分散させているが、光沢や剛性に劣
るため、用途の制限を免れないという問題があった。

そのため、最近、耐衝撃性と光沢とのバランスを改良す
る目的で種々の試みがなされており、例えばゴム分散粒
子の粒径及び構造を制御した耐衝撃性ポリスチレンから
成る成形材料（ドイツ公開特許第３３４５３７７号公報
）、ゴム重合体の性質や分散粒子の粒径、グラフト率な
どを制御したゴム変性スチレン系共重合体（特開昭６３
−１９９７１７号公報、同６．３−２０７８０３号公報
）などが開示されている。

しかしながら、これらの成形材料や共重合体においては
、ある程度耐衝撃性と光沢とのバランスが改良されてい
るものの、まだ十分ではなく、耐衝撃性と光沢とのバラ
ンスのより優れｌ；耐衝撃性ポリスチレン樹脂の開発が
望まれていた。

［発明が解決しようとする課題］ 本発明は、このような従来の耐衝撃性ポリスチレン樹脂
が有する欠点を克服し、高い衝撃強度、特に面衝撃強度
と優れた光沢を有するなど、物性バランスに優れたゴム
変性スチレン系樹脂組成物を提供することを目的として
なされたものである。

［課題を解決するための手段］ 本発明者らは前記の物性バランスに優れたゴム変性スチ
レン系樹脂組成物を開発するために鋭意研究を重ねた結
果、ゴム分散粒子径、周長パラメーター及び緩和時間Ｔ
、を規制することにより、その目的を達成しうろことを
見い出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至っ
た。

すなわち、本発明は、ジエン系ゴム状重合体とスチレン
系樹脂とから成るゴム変性スチレン系樹脂組成物におい
て、ゴム分散粒子の平均粒子径０．０８−１．００μｍ
、周長パラメーター０．１〜２．５（μｍ）−１・（重
量％）１及び緩和時間Ｔ２３００〜２０００μｓｅｃの
条件を満たすこ３ とを特徴とするスチレン系樹脂組成物を提供するもので
ある。

以下、本発明の詳細な説明する。

本発明組成物におけるスチレン系樹脂としては、芳瞥族
七ノビニル化合物単位単独又は芳香族モノビニル化合物
単位と共重合可能な単量体単位とを含有するものが挙げ
られる。

前記芳香族モノビニル化合物単位を構成する単量体とし
ては、例えばスチレンをはじめ、ｆｆ−メチルスチレン
、α−エチルスチレン、σ−メチルーｐ−メチルスチレ
ンなどのび一アルキル置換スチレン、０−メチルスチレ
ン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、２，４
−ジメチルスチレン、エチルスチレン、ｏ−ｔ−ブチル
スチレン、ｐ−ｔ−ブチルスチレンなどの核アルキル置
換スチレン、０−クロロスチレン、ｍ−クロロスチレン
、ｐ−クロロスチレン、ｐ−ブロモスチレン、ジクロロ
スチレン、ジプロモスチレン、トリクロロスチレン、ト
リブロモスチレン、テトラクロロスチレン、テトラブロ
モスチレン、２−メチ４− ルー４−クロロスチレンなどの核ハロゲン化スチレン、
さらにはｐ−ヒドロキシスチレン、０−メトキシスチレ
ン、ビニルナフタレンなどが挙げられるが、これらの中
で特にスチレン及びａ−メチルスチレンが好ましい。こ
れらの芳香族モノビニル化合物は、それぞれ単独で用い
てもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

また、共重合可能な単量体単位を構成する単量体として
は、例えばアクリロニトリル、メタクリロニトリル、フ
マロニトリル、マレオニトリル、ａ−クロロアクリロニ
トリルなどのシアン化ビニルが好ましく挙げられるが、
これらの中でアクリロニトリルが特に好適である。これ
らのシアン化ビニルは１種用いてもよいし、２種以上を
組み合わせて用いてもよいが、スチレン系樹脂中に、シ
アン化ビニル単位が４５重量％以下、好ましくは４０重
量％以下の割合で含有されるように用いるのが有利であ
る。該スチレン系樹脂中に該シアン化ビニル単位の含有
量が４５重量％を超えると熱安定性や流動性などが低下
したりするので好ましくない。

さらに、前記スチレン系樹脂には、シアン化ビニル単位
以外の共重合可能な単量体単位、例えば無水マレイン酸
、無水イタコン酸、オキシ無水マレイン酸、無水シトラ
コン酸、無水フェニルマレイン酸、無水アコニット酸、
無水エチルマレイン酸、無水クロロマレイン酸などの無
水不飽和ジカルボン酸、マレイミド、Ｎ−フェニルマレ
イミドなどのマレイミド、メチルメタクリレートなどの
メタクリル酸エステル、メチルアクリレートなどのアク
リル酸エステル、メタクリル酸やアクリル酸などの不飽
和子ノカルポン酸などの単量体の単位１種又は２種以上
が、１〜３５重量％の割合で含有されていてもよい。こ
れらの中では、特に無水マレイン酸単位が好ましい。

本発明組成物におけるジエン系ゴム状重合体の種類につ
いては特に制限はなく、従来ゴム変性スチレン系樹脂組
成物に慣用されているもの、例えば天然ゴムや、ポリブ
タジェンゴム、ポリイソプレンゴム、スチレン−ブタジ
ェンブロック又はランダム共重合体ゴム、スチレン−イ
ソプレンブロック又はランダム共重合体ゴム、ブチルゴ
ムなどの合成ゴム、あるいはこれらのゴムとスチレンと
のグラフト共重合体ゴムなどが用いられる。

これらのゴム状重合体は１種用いてもよいし、２種以上
を組み合わせて用いてもよい。この中で、スチレン−ブ
タジェンブロック共重合体ゴム（特にスチレン含有率が
２０〜５０重量％のもの）、ポリブタジェンあるいはそ
の併用が好ましい。

本発明のスチレン系樹脂組成物の調製方法については特
に制限はなく、従来ゴム変性スチレン系樹脂組成物の調
製において慣用されている方法を用いることができる。

例えば、ジエン系ゴム状重合体の存在下、芳香族モノビ
ニル化合物又は芳香族モノビニル化合物と共重合可能な
単量体とを重合させることによって調製することができ
る。この重合方法については特に制限はなく、従来慣用
されている方法、例えば乳化重合法、塊状重合法、溶液
重合法、懸濁重合法、あるいは塊状−懸濁二段重合法の
ような多段重合法などを用いることができる。この中で
、連続式の塊状もしくは溶液重合法が好ましい。

次に、連続式の塊状もしくは溶液重合法による本発明の
樹脂組成物の好適な製造方法の１例について説明すると
、まず芳香族モノビニル化合物又は芳香族モノビニル化
合物とシアン化ビニルや他の共重合可能な単量体との混
合物に、ジエン系ゴム状重合体を添加し、例えば２０〜
７０°Ｃの温度において溶解させる。次に、この溶液を
、撹拌機付の１段以上、好ましくは２段以上の重合器に
供給して、通常７０〜１５０℃の範囲の温度において重
合を行い、重合の最終段から、固形成分と未反応単量体
、溶剤などの揮発成分とを分離する脱揮発分工程を経て
、所望の組成物が得られる。

この方法においては、第１段目の重合器には単量体に溶
解したゴム状重合体が供給される。

この際、第１段目の転化率は、原料中のゴム濃度に対し
て、０．５〜３倍までが好ましい。０．５倍以下では、
第２段目以降での除熱負荷が増加し、温度制御が困難と
なる恐れがある。また３倍以上８− では、高粘度のため、混合不良を起こしやすく、肥大化
したゴム粒子が形成され、光沢の低下を招く恐れがある
。また、単量体及び所望に応じて用いられる重合開始剤
や連鎖移動剤は、任意の段階で重合器に供給される。最
終重合器においては、転化率が６５ｗｔ％以上となるこ
とが好ましい。

６５ｗｔ％未満では、ゴム粒子が安定化しておらず、続
く脱揮発分工程にて、ゴム粒子が破壊し、光沢の低下を
招く恐れがある。さらに、脱揮発分工程においては、通
常５０ｍｍＨｇ以下、好ましくは３０１１１１１１８９
以下の減圧度で、通常２００〜３００℃、好ましくは２
３０〜２９０℃、さらに好ましくは２４０〜２８０℃の
範囲の温度において、揮発分の除去処理が行われる。特
に、この工程における温度は該緩和時間Ｔ２に影響を与
える。本発明のゴム変性スチレン系樹脂組成物の好まし
い製造方法は、前記連続式の溶液もしくは塊状重合方法
であるが、この方法によって得られるゴム変性スチレン
系樹脂組成物は、ジエン系ゴム状重合体をゴム粒子とし
て含有するものであって、いわゆる乳化重合のゴムラテ
ックスに、芳香族モノビニル化合物とシアン化ビニルや
他の共重合可能な単量体とを加えてグラフト重合する方
法は好ましくない。

前記重合方法において、所望に応じて用いられる分子量
調節剤としては、例えばα−メチルスチレンダイマー　
ｎ−ドデシルメルカプタン、ｔ−ドデシルメルカプタン
、１−フェニルブテン−２−フルオレン、ジペンテン、
クロロホルムなどのメルカプタン類、テルペン類、ハロ
ゲン化合物などを挙げることができる。

また、所望に応じて用いられる重合開始剤としては、例
えば１．１−ビス（ｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキ
サン、１．１−ビス（１−ブチルペルオキシ）　−３，
３，５−トリメチルシクロヘキサンなどのベルオキシケ
タール類、ジクミルペルオキシド、ジ−ｔ−ブチルペル
オキシド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチル
ペルオキシ）ヘキサンなどのジアルキルペルオキシド類
、ベンゾイルペルオキシド、ｍ−トルオイルペルオキシ
ドなどのジアリールペルオキシド類、ジミリスチルペル
オキシジカーポネートなどのペルオキシジカーボネート
類、ｔ−プチルベルオキシイソプロピルカーポネートな
どのパーオキシエステル類、シクロヘキサノンペルオキ
シドなどのケトンペルオキシド類、ｐ−メンタハイドロ
ペルオキシドなどのハイドロペルオキシド類などの有機
過酸化物などを挙げることができる。

本発明組成物においては、スチレン系樹脂とジエン系ゴ
ム状重合体は、それぞれ７０〜９５重量％及び３０〜５
重量％の割合で含有することが望ましい。該ゴム状重合
体の含有量が５重量％未満では耐衝撃性の改良効果が十
分に発揮されないし、３０重量％を超えると光沢や流動
性が低下する傾向が生じ、好ましくない。

本発明のスチレン系樹脂組成物においては、ゴム分散粒
子の平均粒子径が０．０８〜１．００μｍ、好ましくは
、０．１０−０．７０ｐｍ周長パラメーターがｏ、１−
２．ｓ（μｍ）−’−（重量％）−１、好ましくは、０
．３−２．Ｑ（μｍ）−’・（重量％）−１及び緩和時
間Ｔ２が３００−２０００Ｉｌｓｅｃ、好ま１１ しくは、４００〜１８００μｓｅｃの範囲にあることが
必要である。ここで周長パラメーターとは、ゴム分散形
態を示す透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）写真において、単
位面積当たりに存在するそれぞれのゴム粒子の外周長さ
の総和を組成物中のジエン成分の濃度で除した値のこと
である。また、緩和時間Ｔ２とは、パルスＮＭＲ装置を
用い、水素核を測定核とし、測定周波数９０ＭＨｚ、９
０°パルス幅１．５〜２．０μｓｅｃの条件で、温度３
０°Ｃにおけるバーンエコー法（ＨａｈｎＥｃｈｏ　　
Ｍｅｔｈ’ｏｄ、９０’−ｒ−１８０゜パルス法）によ
り測定した、該組成物におけるゴム成分のスピン−スピ
ン緩和時間のことである。

前記ゴム粒子の平均粒子径が０．０８μｍ未満では耐衝
撃性が不十分であるし、１．００　ｐｍを超えると光沢
が低下する。また、該周長パラメーターが前記範囲を逸
脱したり、該緩和時間Ｔ２が前記範囲を逸脱したりする
と耐衝撃性が低下する。

前記の分散ゴム粒子の粒径、周長パラメーター緩和時間
Ｔ２は、各重合器の撹拌回転数や脱揮発１２− 分槽の温度を変化させることにより、制御することがで
きる。

本発明のスチレン系樹脂組成物には、所望に応じ、従来
スチレン系樹脂組成物に慣用されている各種添加剤、例
えば滑剤、酸化防止剤、可塑剤、離燃剤、光安定剤、着
色剤などを添加してもよいし、さらに、ガラス繊維など
の繊維補強剤や無機充填剤などのフィラーを充填させて
もよい。該滑剤としては、例えばステアリン酸、ベヘニ
ン酸、ステアロアミド、メチレンビスステアロアミド、
エチレンビスステアロアミドなどが、酸化防止剤として
は、例えば２．６−ジーｔ−ブチル−４−メチルフェノ
ール、ステアリル−β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４
−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、トリエチレン
グリコール−ビス−３−（３−ｔ−ビナルー４−ヒドロ
キシ−５−メチルフェニル）プロピオネートなどのヒン
ダードフェノール系やトリ（２，４−ジ−ｔ−ブチルフ
ェニル）ホスファイト、４．４’−ブチリデンビス（３
−メチル−６−ｔ−プチルフェニルージートリゾシル）
ホスファイトなどのリン系などが、可塑剤としては、例
えばミネラルオイルやポリエチレングリコールなどが用
いられる。また、難燃剤としては、例えばテトラブロモ
ビスフェノールＡ１デカブロモジフエニルオキシド、臭
素化ポリカーボネートなどの有機ハロゲン系難燃剤と酸
化アンチモンとの組合せなどを好ましく挙げることがで
きる。

さらに、本発明のスチレン系樹脂組成物には、所望に応
じ、例えばＡＢＳ樹脂、ポリ塩化ビニル、スチレン−ア
クリロニトリル樹脂、ポリカーボネート、ポリブチレン
テレフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ナイロ
ン６、ナイロン１１、ナイロン１２、ポリフェニレンオ
キシド、ポリフェニレンスルフィドなどの樹脂とブレン
ドし、成形材料として用いることもできる。

［実施例］ 次に、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、
本発明はこれらの例によってなんら限定されるものでは
ない。

なお、組成物の各物性は、次に示す方法に従って測定し
た。

（１）メルトインデックス（Ｍｌ） ＩＳＯＲ−１１３３に準拠して求めた。

（２）光沢度 ＪＩＳＫ−７１０５に準拠して求めた。

（３）面衝撃強度 （イ）試験片形状ニ ア　５　Ｘ　７５　Ｘ　３　ｍｍ、射出成形品（ロ）試
験機： レオメトリックス社製、ドロップウェ イト試験機（ＲＤＴ５０００） （ハ）測定条件： ダート全荷重　３．７６に９ ダート先端直径　１／２インチ 試験片固体用受は台直径　２インチ ダート打撃点　試験片中央 試験速度　１．５ｍ／ｓｅｅ 以上の条件により測定した。

５− （４）平均粒子径 ゴム分散粒子における平均粒子径は以下の方法で求めた
。

該組成物を四酸化オスミウムで染色し、超薄切片法に基
づきウルトラミクロトームにより切片の厚さ０．１μｍ
の超薄切片を作製し、透過型電子顕微鏡を用いて、この
超薄切片におけるゴム粒子分散形態を示す透過型電子顕
微鏡（ＴＥＭ）写真をとる。このＴＥＭ写真に撮影され
ているそれぞれのゴム粒子において、直径０．０２μｍ
以上の大きさのゴム粒子について、そのゴム粒子の直径
を画像解析装置で測定し、次式により面積平均粒径Ｄｓ
（μｍ）を求め、これを平均粒子径とする。

（ｎ＋はゴム粒子の直径り、のゴム状重合体粒子の個数
） なお、ゴム粒子の直径はゴム粒子の最大長（最大長とは
、１個のゴム粒子内における任−１６〜 意の２点間の距離のうちで最大の長さのことである。）
とし、測定するゴム粒子の粒子数Ｎ（Σｎ＋）は３００
０個以上とする。

（５）周長パラメーターＣｉ 前記平均粒子径の測定で示した同じ方法で、該組成物の
ゴム粒子分散形態を示すＴＥＭ写真をとり、この写真に
おいて、画像解析装置を用いて面積Ａ（μｍ　２　）中
に存在するそれぞれのゴム粒子の外周の長さの総和しく
μｍ）を求め、次式より周長密度Ｃｄを求める。

周長密度Ｃｄ［（μｍ）−’］＝Ａ 一方、組成物中のジエン成分の濃度（重量％）を”Ｃ−
ＮＭＲにより求める。すなわち、核オーバーハウザー効
果（ＮＯＥ）を消去したプロトンゲーテッドデカップリ
ング法により、２００ＭＨｚのＮＭＲ装置を用いて試料
の”Ｃ−ＮＭＲを、試料濃度１６重量％、溶媒重クロロ
ホルム、温度２３℃、パルス輻６．９μ５ｅｃ（４５°
）、スペクトル幅１００００Ｈｚの測定条件で測定して
スペクトルを得る。該スペクトル中のスチレン単位とジ
エン系単位の特有のシグナルの積分強度を比較して、該
試料中のジエン成分の濃度（重量％）を求める。

次に、前記の周長密度Ｃｄ、とジエン成分の濃度から、
次式に従って、周長パラメーター［（μｍ）−１・（重
量％）−ｌ］　を求める。

周長パラメーターＣｉ　［（μｍ）−１・（１Ｉｌ％）
−１］（６）緩和時間Ｔ。

パルスＮＭＲ装置を用い、水素核を測定、核とし、測定
周波数９０ＭＨｚ、９０°パルス幅１．５〜２．０μｓ
ｅｃの条件で、温度３０℃におけるバーンエコー法（Ｈ
ａ　ｈ　ｎＥｃｈｏ　　Ｍｅｔｈｏｄ、９０’−ｒ−１
８０゜パルス法）により、該組成物におけるゴム成分の
スピン−スピン緩和時間Ｔ２を求め、これを緩和時間Ｔ
２とする。

実施例１ 毎時５．８Ｉｌの供給速度で、次の沈金物を容量７、Ｂ
Ｑのイカリ型撹拌機付き第１重合器番こ連続的に送液し
た。

スチレン−ブタジェン共重合体 （日本ゼオン社製、ＺＬＳ−０１、スチレン含有率２２
重量％）　　　　　１０．０重量％スチレン　　　　　
　　　　８３．７重量％エチルベンゼン　　　　　　　
５．０重量％ｎ−ドデシルメルカプタン　０．０１重量
％イルガノックス１０７６　（チバガイギー社製、酸化
防止剤）　　　　　　　　０．０９重量％鉱油（出光興
産社製）　　　　１．００重量％シリコンオイル（東し
シリコン社製） ０．２０重量％ 第１重合器の温度は１４０℃であり、出口のスチレンの
転化率は２１重量％であった。次し飄で、この重合物を
容量１１．（ｌのイカリ型撹拌機付き第２重合器、統い
て容量１１．０１１のイカリ型撹拌機付き第３重合器に
送液し、重合を続行した１９− のち、２６０℃、１０ｍｍｈの真空槽にて揮発成分を除
去して、ベレット状のゴム変性スチレン系組成物を得た
。なお、第３重合器の転化率は７２ｗｔ％であった。結
果を第１表に示す。なお、第１重合槽の撹拌回転数はｌ
ｏｏｒｐｍ、第２重合槽の撹拌回転数は１５０　ｒ　ｐ
ｍ　ｓ温度は１４５℃、第３重合槽の撹拌回転数は５０
ｒｐｍｓ温度は１６０℃とした。

実施例２．３ 実施例１における真空槽の温度を２８０℃（実施例２）
、２４５°０（実施例３）とした以外は、実施例１と同
様にして実施した。その結果を第１表に示す。

実施例４ 実施例１において、第１重合器と第２重合器の回転数を
、それぞれ１４Ｏｒｐｍ、１８０ｒｐｍとした以外は、
実施例１と同様にして実施した。

その結果を第１表に示す。

実施例５ 実施例４において、ゴム状重合体をポリブタ２０− ジエン（旭化成社製、ＮＦ−３５ＡＳ）に変え、開始剤
として１．１−ビス（ｔ−ブチルペルオキシ）−３，３
，５−１リメチルシクロヘキサン０．０３重量％（厘料
混合物の重量基準）を添加し、かつ第１重合器の温度を
１１５℃とした以外は、実施例４と同様にして実施した
。その結果を第１表に示す。なお、第１重合器の転化率
は２４ｗｔ％、第３重合器の転化率は７６ｗｔ％であっ
た。

実施例６ 実施例１において、スチレンをスチレンとアクリロニト
リルとの組合せ（重量比７５：２５）に変え、開始剤と
して１，１−ビス（Ｅ−ブチルペルオキシ）−３，３，
５−トリメチルシクロヘキサン０．０３重量％（厚料混
合物の重量基準）を添加し、かつ第１重合器の温度を１
１５°Ｃとした以外は、実施例１と同様にして実施した
。その結果を第１表に示す。なお、第１重合器の転化率
は２８ｗｔ％、第３重合器の転化率は７７ｗｔ％であっ
た。

比較例１，２ 実施例１において、真空槽の温度を２９５℃（比較例１
）、２２５°０（比較例２）とした以外は、実施例１と
同様にして実施した。その結果を第１表に示す。

比較例３ 実施例４において、ゴム状重合体として、ポリブタジェ
ン（旭化成社製、ＮＦ−３５ＡＳ）を用いた以外は、実
施例４と同様にして実施した。その結果を第１表に示す
。

比較例４ 実施例１において、第１重合器と第２重合器の回転数を
それぞれ１ｇＯｒｐｍ、２２０ｒｐｍとした以外は、実
施例１と同様にして実施した。その結果を第１表に示す
。

参考例１ 実施例６において、スチレン：アクリロニトリル重量比
を５０　：　５０に変えた以外は、実施例６と同様にし
て実施した。その結果を第１表に示す。

［発明の効果］ 本発明のスチレン系樹脂組成物は、優れた光沢と高い衝
撃強度、特に面衝撃強度を有する、ジエン系ゴム状重合
体とスチレン系樹脂とから成るゴム変性スチレン系樹脂
組成物であって、例えばＯＡ機器、家電製品、シートな
どの分野において、好適に用いられる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １　ジエン系ゴム状重合体とスチレン系樹脂とから成る
   ゴム変性スチレン系樹脂組成物において、ゴム分散粒子
   の平均粒子径０．０８〜１．００μｍ、周長パラメータ
   ー０．１〜２．５（μｍ）＾−＾１・（重量％）＾−＾
   １及び緩和時間Ｔ＿２３００〜２０００μｓｅｃの条件
   を満たすことを特徴とするスチレン系樹脂組成物。