JPH0346403B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0346403B2 JPH0346403B2 JP57058379A JP5837982A JPH0346403B2 JP H0346403 B2 JPH0346403 B2 JP H0346403B2 JP 57058379 A JP57058379 A JP 57058379A JP 5837982 A JP5837982 A JP 5837982A JP H0346403 B2 JPH0346403 B2 JP H0346403B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silicic acid
- precipitated silicic
- acid
- suspension
- precipitated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 96
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 82
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 33
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 32
- 239000000725 suspension Substances 0.000 claims description 32
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 claims description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 21
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 16
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 15
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 13
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 11
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 10
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 6
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 5
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 claims description 4
- 238000010008 shearing Methods 0.000 claims description 4
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 claims description 4
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 4
- 239000012429 reaction media Substances 0.000 claims description 3
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000010790 dilution Methods 0.000 claims 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 claims 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 15
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 125000005624 silicic acid group Chemical class 0.000 description 12
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 7
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 7
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 6
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 6
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 6
- 238000007873 sieving Methods 0.000 description 6
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- 239000012065 filter cake Substances 0.000 description 5
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 5
- 238000004438 BET method Methods 0.000 description 4
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 4
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 2
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 2
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- JEGUKCSWCFPDGT-UHFFFAOYSA-N h2o hydrate Chemical compound O.O JEGUKCSWCFPDGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 2
- 239000012763 reinforcing filler Substances 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N Na2O Inorganic materials [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOJVVFBFDXDTEG-UHFFFAOYSA-N Norphytane Natural products CC(C)CCCC(C)CCCC(C)CCCC(C)C XOJVVFBFDXDTEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005372 Plexiglas® Polymers 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000005056 compaction Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000037213 diet Effects 0.000 description 1
- 235000005911 diet Nutrition 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000003925 fat Substances 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000007970 homogeneous dispersion Substances 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000013067 intermediate product Substances 0.000 description 1
- 230000002045 lasting effect Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000005022 packaging material Substances 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 238000007781 pre-processing Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 1
- 230000005070 ripening Effects 0.000 description 1
- 238000010079 rubber tapping Methods 0.000 description 1
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 1
- 239000011163 secondary particle Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- 239000000344 soap Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 1
- 239000000606 toothpaste Substances 0.000 description 1
- 229940034610 toothpaste Drugs 0.000 description 1
- 238000009489 vacuum treatment Methods 0.000 description 1
- 239000012463 white pigment Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/19—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing inorganic ingredients
- A61K8/25—Silicon; Compounds thereof
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61Q—SPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
- A61Q11/00—Preparations for care of the teeth, of the oral cavity or of dentures; Dentifrices, e.g. toothpastes; Mouth rinses
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
- C01B33/18—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof
- C01B33/187—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by acidic treatment of silicates
- C01B33/193—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by acidic treatment of silicates of aqueous solutions of silicates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
- C09C1/00—Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
- C09C1/28—Compounds of silicon
- C09C1/30—Silicic acid
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K2800/00—Properties of cosmetic compositions or active ingredients thereof or formulation aids used therein and process related aspects
- A61K2800/40—Chemical, physico-chemical or functional or structural properties of particular ingredients
- A61K2800/41—Particular ingredients further characterized by their size
- A61K2800/412—Microsized, i.e. having sizes between 0.1 and 100 microns
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/50—Agglomerated particles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/51—Particles with a specific particle size distribution
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/60—Particles characterised by their size
- C01P2004/61—Micrometer sized, i.e. from 1-100 micrometer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/10—Solid density
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/11—Powder tap density
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/12—Surface area
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/19—Oil-absorption capacity, e.g. DBP values
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/22—Rheological behaviour as dispersion, e.g. viscosity, sedimentation stability
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/60—Optical properties, e.g. expressed in CIELAB-values
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/80—Compositional purity
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/80—Compositional purity
- C01P2006/82—Compositional purity water content
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/90—Other properties not specified above
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Public Health (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Oral & Maxillofacial Surgery (AREA)
- Birds (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Cosmetics (AREA)
- Silicates, Zeolites, And Molecular Sieves (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
低構造性の沈殿ケイ酸を製造する若干の方法が
知られている： ドイツ特許出願公開第2344316号明細書によれ
ば、ケイ酸ナトリウム溶液に硫酸ナトリウム５〜
10重量％を加え、次いで酸の添加によつてケイ酸
を沈殿させるかまたはプレポリマー化されたケイ
酸ナトリウム溶液の一部を装入し、酸を用いてPH
値を6.5ないし11の間に調整し、そして最後に一
定のPH値においてケイ酸ナトリウムおよび酸を同
時に添加することによつてケイ酸を沈殿させるこ
とによつて、まずプレポリマー化されたケイ酸ナ
トリウムが製造される。 ドイツ特許出願公開第2344805号明細書には、
アルカリ金属ケイ酸溶液を沈殿ケイ酸の沈殿の始
まる点まで酸性化し、次いで酸の添加を中断し、
反応溶液を一時的に４時間まで熟成し、そして所
望の生成物が得られるまで酸およびアルカリ金属
ケイ酸塩の同時的供給を継続するといる方法が記
載されている。 ドイツ特許出願公開第2446038号明細書によれ
ば、電解質を含有する溶液受器中で硫酸ナトリウ
ム３〜15重量％に９のPH値および65℃において同
時にプレポリマー化されたケイ酸ナトリウム溶液
に７重量％の電解質の添加および希釈された（10
〜25重量％の）酸が添加されるという製造方法が
記載されている。 ドイツ特許出願第2522486号明細書には、全体
として使用されたアルカリ金属ケイ酸塩のうちの
一部（８〜50％）を仕込物として使用し、その中
にアルカリ金属ケイ酸塩溶液および酸を同時に流
入せしめ、しかもアルカリ金属ケイ酸塩および酸
の添加が終了した際に、最初に装入されたアルカ
リ金属ケイ酸塩溶液の20〜500％が反応するまで
流入せしめることによつて、沈殿ケイ酸を製造す
る方法が記載されている。その後で、PH値は、６
以下まで低下せしめられる。それは希硫酸（８〜
22重量％）を用いて実施しなければならない。 1953年10月３日付けのドイツ特許出願
S35743IVa／12iに記載された方法によれば、“軽
質ケイ酸”（製法は開示されていない）および水
から調製される２重量％の分散物上に80℃におい
て７ないし7.5のPH範囲において希釈されたケイ
酸ナトリウム溶液（密度＝1.152）および希塩酸
（2n）を用いて２時間の期間に亘つて沈殿せしめ
られる。次いで水で希釈される。得られたケイ酸
は、嵩密度が極めて低いという点において卓越し
ている。 たとい上記の製造方法が低構造性のケイ酸に導
くものであらうとも、これらの製造方法は、ゴム
用の補強剤ケイ酸を得るための通例の方法に比較
してその工業的実施を比較的煩雑でしかも経済的
に劣つたものにする若干の欠点を伴なつている。
それは下記のような欠点である： −ケイ酸または電解質含有沈殿装入物、電解質含
有反応体の調製のための付加的な部分的工程の
導入、および −そのようなケイ酸を沈殿せしめるに当つて、そ
の際必要な中断期間（熟成工程）の導入によ
る、希釈された反応成分の使用によるそして比
較的長い沈殿時間の必要性による空時収量の明
らかな低下。 このような事情においては、低分子構造を有す
る沈殿ケイ酸を、簡単で、経済的な、最適な、補
強用充填剤の生産過程に適合した方法へと調整す
ることが生産技術的要請である。 ドイツ特許公告第1467019号明細書によれば、
一定の操作条件をまもりつつアルカリ性の装入物
に酸およびアルカリ金属ケイ酸塩の溶液の同時的
添加によつて無定形の沈殿ケイ酸を沈殿させるこ
とが知られている。この方法によつて得られる沈
殿ケイ酸は、比較的高度の構造（比較的高い油吸
収度）、比較的高い比表面積、低い嵩密度および
そのフイルターケーキの低い固体含量を有する物
質として分類される。それらは、ゴム混合物中に
おけるそれらの卓越した分散性のゆえにゴム工業
におけるすぐれた補強充填物質であつて、ゴム
底、タイヤのトレツドおよびシランを含有しまた
は含有しない工業製品の製造に多くの用途を見出
している。この型の沈殿ケイ酸は、補強性標準充
填剤としてまたそれぞれの充填剤製造の主製品と
して、日常的に用いられている。このことは、電
解質を分離するためにフイルタープレスに供給さ
れる前に中間生成物として大きな懸濁液貯蔵タン
ク中に貯蔵される原料沈殿懸濁液にとつても当て
はまることである。 本発明者らは、この度、驚くべきことには、ド
イツ特許公告第1467019号によつて得られる原始
沈殿ケイ酸懸濁液を、それに関連する改変および
加工の際に一定の手段を実行するならば、低い構
造性、高い硬度を有する沈殿ケイ酸をそしてそれ
自体を高い純度において得るための低廉な出発物
質として使用しうることを見出した。このように
して、操作技術的に煩雑であり、付加的でありか
つしばしば不経済でもある、沈殿仕込物として使
用される塩溶液の調製、すでに乾燥した沈殿ケイ
酸粉末の沈殿仕込物としてのケイ酸分離液への経
済的に全く許容され得ない再分散ならびに電解質
含有アルカリ金属ケイ酸塩溶液または酸溶液の調
製を完全に避けることができ、そしてそれによつ
て従来技術による方法を著しく簡略化しかつ低廉
化することができる。このことは、低下した空時
収量のその他の欠点についても当てはまることで
ある。何故ならば、本発明による方法は、中断期
間を設けることなく、比較的短かい沈殿時間およ
び濃縮された反応成分で間に合うからである。 本発明の対象は、それぞれその粉砕度に従つて
下記の物質データを有することを特徴とする沈殿
ケイ酸である：
知られている： ドイツ特許出願公開第2344316号明細書によれ
ば、ケイ酸ナトリウム溶液に硫酸ナトリウム５〜
10重量％を加え、次いで酸の添加によつてケイ酸
を沈殿させるかまたはプレポリマー化されたケイ
酸ナトリウム溶液の一部を装入し、酸を用いてPH
値を6.5ないし11の間に調整し、そして最後に一
定のPH値においてケイ酸ナトリウムおよび酸を同
時に添加することによつてケイ酸を沈殿させるこ
とによつて、まずプレポリマー化されたケイ酸ナ
トリウムが製造される。 ドイツ特許出願公開第2344805号明細書には、
アルカリ金属ケイ酸溶液を沈殿ケイ酸の沈殿の始
まる点まで酸性化し、次いで酸の添加を中断し、
反応溶液を一時的に４時間まで熟成し、そして所
望の生成物が得られるまで酸およびアルカリ金属
ケイ酸塩の同時的供給を継続するといる方法が記
載されている。 ドイツ特許出願公開第2446038号明細書によれ
ば、電解質を含有する溶液受器中で硫酸ナトリウ
ム３〜15重量％に９のPH値および65℃において同
時にプレポリマー化されたケイ酸ナトリウム溶液
に７重量％の電解質の添加および希釈された（10
〜25重量％の）酸が添加されるという製造方法が
記載されている。 ドイツ特許出願第2522486号明細書には、全体
として使用されたアルカリ金属ケイ酸塩のうちの
一部（８〜50％）を仕込物として使用し、その中
にアルカリ金属ケイ酸塩溶液および酸を同時に流
入せしめ、しかもアルカリ金属ケイ酸塩および酸
の添加が終了した際に、最初に装入されたアルカ
リ金属ケイ酸塩溶液の20〜500％が反応するまで
流入せしめることによつて、沈殿ケイ酸を製造す
る方法が記載されている。その後で、PH値は、６
以下まで低下せしめられる。それは希硫酸（８〜
22重量％）を用いて実施しなければならない。 1953年10月３日付けのドイツ特許出願
S35743IVa／12iに記載された方法によれば、“軽
質ケイ酸”（製法は開示されていない）および水
から調製される２重量％の分散物上に80℃におい
て７ないし7.5のPH範囲において希釈されたケイ
酸ナトリウム溶液（密度＝1.152）および希塩酸
（2n）を用いて２時間の期間に亘つて沈殿せしめ
られる。次いで水で希釈される。得られたケイ酸
は、嵩密度が極めて低いという点において卓越し
ている。 たとい上記の製造方法が低構造性のケイ酸に導
くものであらうとも、これらの製造方法は、ゴム
用の補強剤ケイ酸を得るための通例の方法に比較
してその工業的実施を比較的煩雑でしかも経済的
に劣つたものにする若干の欠点を伴なつている。
それは下記のような欠点である： −ケイ酸または電解質含有沈殿装入物、電解質含
有反応体の調製のための付加的な部分的工程の
導入、および −そのようなケイ酸を沈殿せしめるに当つて、そ
の際必要な中断期間（熟成工程）の導入によ
る、希釈された反応成分の使用によるそして比
較的長い沈殿時間の必要性による空時収量の明
らかな低下。 このような事情においては、低分子構造を有す
る沈殿ケイ酸を、簡単で、経済的な、最適な、補
強用充填剤の生産過程に適合した方法へと調整す
ることが生産技術的要請である。 ドイツ特許公告第1467019号明細書によれば、
一定の操作条件をまもりつつアルカリ性の装入物
に酸およびアルカリ金属ケイ酸塩の溶液の同時的
添加によつて無定形の沈殿ケイ酸を沈殿させるこ
とが知られている。この方法によつて得られる沈
殿ケイ酸は、比較的高度の構造（比較的高い油吸
収度）、比較的高い比表面積、低い嵩密度および
そのフイルターケーキの低い固体含量を有する物
質として分類される。それらは、ゴム混合物中に
おけるそれらの卓越した分散性のゆえにゴム工業
におけるすぐれた補強充填物質であつて、ゴム
底、タイヤのトレツドおよびシランを含有しまた
は含有しない工業製品の製造に多くの用途を見出
している。この型の沈殿ケイ酸は、補強性標準充
填剤としてまたそれぞれの充填剤製造の主製品と
して、日常的に用いられている。このことは、電
解質を分離するためにフイルタープレスに供給さ
れる前に中間生成物として大きな懸濁液貯蔵タン
ク中に貯蔵される原料沈殿懸濁液にとつても当て
はまることである。 本発明者らは、この度、驚くべきことには、ド
イツ特許公告第1467019号によつて得られる原始
沈殿ケイ酸懸濁液を、それに関連する改変および
加工の際に一定の手段を実行するならば、低い構
造性、高い硬度を有する沈殿ケイ酸をそしてそれ
自体を高い純度において得るための低廉な出発物
質として使用しうることを見出した。このように
して、操作技術的に煩雑であり、付加的でありか
つしばしば不経済でもある、沈殿仕込物として使
用される塩溶液の調製、すでに乾燥した沈殿ケイ
酸粉末の沈殿仕込物としてのケイ酸分離液への経
済的に全く許容され得ない再分散ならびに電解質
含有アルカリ金属ケイ酸塩溶液または酸溶液の調
製を完全に避けることができ、そしてそれによつ
て従来技術による方法を著しく簡略化しかつ低廉
化することができる。このことは、低下した空時
収量のその他の欠点についても当てはまることで
ある。何故ならば、本発明による方法は、中断期
間を設けることなく、比較的短かい沈殿時間およ
び濃縮された反応成分で間に合うからである。 本発明の対象は、それぞれその粉砕度に従つて
下記の物質データを有することを特徴とする沈殿
ケイ酸である：
【表】
本発明による沈澱ケイ酸は、下記のような有利
な性質を有する： ゴム補強用の公知の沈殿ケイ酸のかさ密度値の
３倍に相当する高いかさ密度は、包装材料、袋詰
めおよび輸送ならびに貯蔵のための費用を永続的
に低減させる。全体として消費者は、比較的小さ
な加工容積を評価することができる。 正確に調整しうる高いCu−摩耗値は、研摩材
および研摩剤としての使用を可能にする。その場
合、驚くべきことは、磨滅度は−常とは異なり−
ケイ酸基礎材料の微細さが増すに従つて持続的に
低下し、従つてこの摩耗性と高い微細性との組合
わされた性質は、このケイ酸をして価値ある練歯
磨用充填剤となしていることが判明している。従
つて、同時的に高い微細度における摩耗作用を保
有することは、それによつてジエツトミル（空気
−または水蒸気ジエツトミル）の使用を可能にす
る。ジエツトミルは、圧倒的な相互的粒子粉砕の
原理によつて粉砕装置の壁部の摩耗を避けそして
それによつて機械的衝撃装置を備えた粉砕機より
もより淡色の純粋な最終生成物をもたらす。 歯ミガキ中の研摩体として本発明による沈殿ケ
イ酸を使用するために特に興味あることは、摩耗
作用と増粘作用の唯一の組合せである。ジエツト
により粉砕された微細な製品の場合にのみ観察さ
れるこの組合わされた性質は、化粧品工業におい
て単一のケイ酸成分のみで、またその少量のみで
間に合わせることを可能にする。 本発明のもう一つの対象は、それぞれの粉砕度
に応じて下記の物理的−化学的特性データ：
な性質を有する： ゴム補強用の公知の沈殿ケイ酸のかさ密度値の
３倍に相当する高いかさ密度は、包装材料、袋詰
めおよび輸送ならびに貯蔵のための費用を永続的
に低減させる。全体として消費者は、比較的小さ
な加工容積を評価することができる。 正確に調整しうる高いCu−摩耗値は、研摩材
および研摩剤としての使用を可能にする。その場
合、驚くべきことは、磨滅度は−常とは異なり−
ケイ酸基礎材料の微細さが増すに従つて持続的に
低下し、従つてこの摩耗性と高い微細性との組合
わされた性質は、このケイ酸をして価値ある練歯
磨用充填剤となしていることが判明している。従
つて、同時的に高い微細度における摩耗作用を保
有することは、それによつてジエツトミル（空気
−または水蒸気ジエツトミル）の使用を可能にす
る。ジエツトミルは、圧倒的な相互的粒子粉砕の
原理によつて粉砕装置の壁部の摩耗を避けそして
それによつて機械的衝撃装置を備えた粉砕機より
もより淡色の純粋な最終生成物をもたらす。 歯ミガキ中の研摩体として本発明による沈殿ケ
イ酸を使用するために特に興味あることは、摩耗
作用と増粘作用の唯一の組合せである。ジエツト
により粉砕された微細な製品の場合にのみ観察さ
れるこの組合わされた性質は、化粧品工業におい
て単一のケイ酸成分のみで、またその少量のみで
間に合わせることを可能にする。 本発明のもう一つの対象は、それぞれの粉砕度
に応じて下記の物理的−化学的特性データ：
【表】
を有する沈殿ケイ酸を製造すべく、溶液１当り
SiO2約５−25ｇの濃度を有する予め仕込んだア
ルカリ金属ケイ酸溶液から、酸およびアルカリ金
属ケイ酸塩の溶液を用いて一定の溶液濃度および
一定の供給速度をもつて80ないし90℃の反応媒質
中の沈殿温度を維持しつつケイ酸を沈殿させるこ
とにより、次のような条件で、すなわち、上記反
応媒質の粘度が全沈殿時間の少くとも30％の時間
の間一様に低くそしてそのPH値が10ないし12の間
に保たれ、そして反応成分の添加が上記粘度が最
高値に達した後、最初の粘度を超えること100％
以内の値まで低下した時に漸く終了するという条
件で、調製された原始沈殿ケイ酸懸濁液を、熱水
を用いて10−30ｇ／の沈殿ケイ酸含量および６
−20ｇNa2SO4／の硫酸ナトリウム含量まで希
釈し、85−95℃に加熱し、そのPH値を硫酸で７な
いし９に調整しそしてこのPH値を一定に保ちつつ
同時にアルカリ金属ケイ酸塩溶液、硫酸および場
合によつては熱水を15ないし180分間の沈殿時間
に亘つて添加することによつて40ないし80ｇ／
の沈殿ケイ酸の最終濃度に調整し、上記懸濁液を
濃硫酸を用いて７以下のPH値まで酸性化し、この
懸濁液からフイルタープレスを用いて沈殿ケイ酸
を分離し、洗滌し、乾燥し、そしてピンミルを用
いて粉砕することを特徴とする、前記沈殿ケイ酸
の製造方法である。 好ましい実施態様においては、その製造中にド
イツ特許公告第1467019号に従つて強力に剪断さ
れる原始沈殿ケイ酸懸濁液を使用することができ
る。それは特に高いかさ密度および高いCu−摩
耗値を得べき場合には常に有利である。本発明に
よる特別な実施態様においては、ドイツ特許第
1767332号による剪断を行なうことができる。 使用されるアルカリ金属ケイ酸塩溶液は、２な
いし４のSiO2：Na2Oの重量比を有しうる。本発
明による好ましい実施態様においては、アルカリ
金属ケイ酸塩は、Na2O8.0重量％およびSiO226.8
重量％の濃度を有しうる。これは、SiO2：Na2O
＝3.46の重量比に相当する。 アルカリ金属ケイ酸塩溶液、硫酸および場合に
よつては熱水を同時に供給する場合には、沈殿ケ
イ酸懸濁液10につき1.353の密度および3.46の
SiO2：Na2Oの比を有するアルカリ金属ケイ酸塩
溶液を毎時0.5ないし10、硫酸（96％）を毎時
0.05ないし１および熱水を毎時10まで添加す
ることができる。 使用された硫酸の濃度は、96重量％とすること
ができる。好ましい実施態様においては、硫酸の
濃度は、50重量％でありうる。 本発明による沈殿ケイ酸の製造方法は、下記の
利点を有する： −50重量％までのフイルターケーキ中の高い固物
質含量は、乾燥工程のエネルギー需要を減少せ
しめ、そして従つて乾燥費をゴム工業において
用いられる補強剤用ケイ酸の値の約25％まで減
少せしめる、 −50重量％までのフイルターケーキ中の高い固体
物質含量は、フイルタープレスの能力を倍増せ
しめる、 −低度の構造を有する沈殿ケイ酸の比較的低い比
表面積は、洗滌時間の明らかな減少とそして従
つて洗滌水およびその他のフイルタープレスの
能力の節約へと導く、そして −本発明によるケイ酸の最も重要な物質データに
調整しうる可能性がある。 本発明による沈殿ケイ酸およびそれらを製造す
る方法を以下の諸例に基づいてより詳細に説明し
記載する。 例 １（比較例） この例はドイツ特許出願公開第1467019号によ
る沈殿ケイ酸の製造を記載する。 ゴムで被覆された120の沈殿容器中で、熱水
73およびケイ酸ナトリウム溶液（密度：1.353
ｇ／ml；割合：SiO2：Na2O＝3.46）5.25を撹
拌下に85℃に加熱する。このアルカリ性沈殿容器
中に、次の90分の間に撹拌下にそして85℃の温度
に保ちつつ同時にケイ酸ナトリウム溶液（密度：
1.353ｇ／ml；割合：SiO2：Na2O＝3.46）を11
／ｈの量でそして濃硫酸（96％）を0.965／
ｈの量で配量する。 その後で上記の沈殿ケイ酸懸濁液を濃硫酸（96
％）を用いて8.5のPH値に調整し、これは数分間
継続する酸の1.25／ｈの量での供給によつて行
なわれる。この方法で得られた沈澱ケイ酸懸濁液
は、約85ｇ／の固体物質含量を有する。その
Na2SO4含量は、約55ｇ／である。それは、以
下の例において記載された本発明による沈殿ケイ
酸の製造用のいわゆる「原始沈殿ケイ酸懸濁液」
として使用される。 上記の沈殿ケイ酸懸濁液は、その後の過程にお
いて濃硫酸（96％）を用いて3.5のPH値まで酸性
化され、この沈殿ケイ酸は、実験室用フイルター
プレスを用いて上記懸濁液から分離され、フイル
ターケーキは水を洗滌され、110〜120℃において
乾燥され、そして実験室用ピンミルを用いて粉砕
される。物理的−化学的データは、第１表に記載
されている。 例 ２ 例１の「原始沈殿ケイ酸懸濁液」は、沈殿ケイ
酸含量が20ｇ／でありそしてNa2SO4含量が13
ｇ／となるような量の水で希釈される。 この懸濁液10.5をゴムで被覆された30の沈
殿用容器中で撹拌下に85℃に加熱する。この温度
および8.5のPH値を維持しつつ、30分間に亘つて
同時に水ガラス溶液（Na2O8.0％およびSiO226.8
％密度：1.353ｇ／ml；割合SiO2：Na2O＝3.46）
が92.4ml／minの速度で、硫酸（50％）が19.6
ml／minの速度でそして水が185.4ml／minの速度
で沈殿ケイ酸懸濁液に添加される。この沈殿ケイ
酸懸濁液は、次いで硫酸（50％）を用いて約3.5
のPH値に調整される。沈殿時間の終了後、この懸
濁液の沈殿ケイ酸含量は、64ｇ／である。得ら
れたケイ酸を実験室用フイルタープレスを用いて
懸濁液から分離し、フイルターケーキを水で塩で
含まなくなるまで洗滌し、110〜120℃において乾
燥しそして実験室用ピンミルで粉砕する。特性デ
ータは、第１表に記載されている。 例 ３ 例２と同様に操作されるが、ただし成分である
水ガラス、硫酸および水の同時的配量は半分にさ
れる。この手段によつて例２に比較して、かさ密
度は実際上２倍となり、一方耐摩耗性は、明らか
に低下する。懸濁液の沈殿ケイ酸含量は、49ｇ／
である。特性データは、第１表に記載されてい
る。 例 ４ 例３と同様に操作されるが、ただし沈殿時間
は、30分から60分に延長された。沈殿ケイ酸含量
は、64ｇ／と測定された。例２および３におい
て得られた沈殿ケイ酸に比較して、かさ密度は、
明らかにより高くなつている。これはCu−摩耗
度についても当てはまる。特性データは、第１表
において記載されている。 例 ５ 例４に従つて操作されるが、ただし沈殿時間
は、60分から120分に増加される。それに並行し
て、成分たる水ガラス、硫酸および水の同時的配
量は、半分にされる。配量は次のとおりである：
水ガラス：23.1ml／min、硫酸：4.9ml／min、
水：46.35ml／min、沈殿ケイ酸含量は、64ｇ／
に調整される。かさ密度および摩耗度は、更に
高くなつている。特性データは、第１表に記載さ
れている。 例 ６ 例４に従つて操作されるが、ただし例１の「原
始沈殿ケイ酸懸濁液」が沈殿ケイ酸含量が30ｇ／
でありそしてNa2SO4含量が約20ｇ／となる
ように希釈される点において例４と異なつてい
る。この懸濁液の10.5がその後の沈殿に使用さ
れる。調整された沈殿ケイ酸含量は、71ｇ／で
ある。かさ密度および摩耗度は、例４による沈殿
ケイ酸のデータに比較して僅かに低下しているに
すぎない。特性データは、第１表に記載されてい
る。 例 ７ 例４に従つて操作される。ただし、例１による
いわゆる「原始沈殿ケイ酸懸濁液」は、水を添加
することによつて沈殿ケイ酸含量が13ｇ／で
Na2SO4含量が8.5ｇ／となるように希釈される
点において例４と異なつている。その代りに、沈
殿中に水92.7ml／minを供給することは、行なわ
れない。沈殿ケイ酸含有含量は、64ｇ／に調整
される。得られた沈殿ケイ酸の特性データは、第
１表に記載されている。 例 ８ 例７に従つて操作される。ただし、沈殿は、95
℃において実施され、そしてそれに並行して沈殿
時間は60分から45分に短縮された点において異な
つている。52ｇ／の沈殿ケイ酸が得られる。得
られた沈殿ケイ酸の特性データは、第１表に記載
されている。 例 ９ まず例１に従つて沈殿ケイ酸含量80ｇ／およ
びNa2SO4含量約52ｇ／ならびに8.5のPH値を有
する「原始沈殿ケイ酸懸濁液」が調製される。し
かし、その際、90分の全沈殿時間の間、渦巻ポン
プによつて強力に剪断され、容器の内容物は、何
回もひつくり返される。装置ならびに剪断条件に
関する詳細は、ドイツ特許第1767332号明細書、
特にその第８欄第31〜68行に記載されている。 このようにして調製された原始沈殿ケイ酸懸濁
液は、水で20ｇ／の沈殿ケイ酸含量および13
ｇ／のNa2SO4含量に調製される。この懸濁液
の10.5が、例３に従つて行なわれるその後に続
く沈殿のための仕込物として使用される。調整さ
れる沈殿ケイ酸含量は、49ｇ／である。この沈
澱ケイ酸の特性データは、第１表に記載されてい
る。剪断されていない原始沈殿ケイ酸懸濁液を使
用して製造される沈殿ケイ酸の対応する値と比較
することにより、剪断の手段によつて沈殿ケイ酸
の摩耗値およびかさ密度が著しく改善されること
が判明する。 例 10 例９に従つて操作される。唯一の相違点は、沈
殿時間が30分から60分に延長されたことである。
沈殿ケイ酸含量は、64ｇ／となる。同様に、摩
耗値の明らかな改善（92％）およびかさ密度のそ
れ（24％）が得られる。 例 11（比較例） 例９に従つて操作する。唯一の相違点は、沈殿
時間が30分から75分に延長されたことである。元
の沈殿懸濁液中の沈殿ケイ酸含量は、70ｇ／と
なる。物理−化学特性データは、下記のとおりで
ある： DIN66131によるBET−表面積 15m2／ｇ DIN53194によるかさ密度 754ｇ／ 10％グリセリン分散液中のCu−摩耗度 30mg アルピーネ・ふるい残分＞63μ 0.1重量％ DIN55921による規約反射率Ａ 86％ 第１表には、例１ないし例10に従つて製造され
た沈殿ケイ酸の物理的−化学的特性データが記載
されている。例１のデータは、不十分な耐摩耗性
および低いかさ密度しか有しない沈殿ケイ酸が製
造される従来技術による比較例のそれである。 特性データであるBET−比表面積、かさ密度
および規約反射率Ａは、DIN試験法に従つて測
定される。Cu−摩耗度測定ならびにアルピーヌ
（ALPINE）−ふるい残分＞63μについては、下記
の記載を参照されたい。 10％グリセリン分散液中のCu−摩耗度の測定 (a) グリセリン分散液の調製 無水のグリセリン（DAB7；Ｓ＝1.26）153
ｇをポリエチレンカツプ（250ml）中に計量し
て装入する。へらを用いて沈殿ケイ酸17ｇを慎
重に混合する。この混合物を次に翼型撹拌機
（直径5.2cm）を用いて1500rpmにおいて12分間
均質化する。 (b) 摩耗度の測定の実施 摩耗度の測定は、摩耗試験装置において行な
われ、この装置は、下記の文献によつて知られ
ている：(1)プフレングレ（Pfrengle）：“脂肪、
石ケン、塗料（Fette、Seifen、
Anstrichmittel）”、63(5)（1961）、445−451、
“練歯ミガキ中の研摩体の摩耗度および洗浄力
（Abrasion und Reinigung−skraft von
Putzko¨rpern in Zahnpasten）”(2)レング、ダ
ニー（A.RENG、F.DANY）；香料および化粧
品（Parfumerie und Kosmetik）59(2)
（1978）、37−45；“練歯ミガキの使用技術的試
験（Anwendungstech−nische Pru¨fung von
Zahnpasten）”。そのため、試験装置の６個の
槽を均質な分散液それぞれ20ml宛を用いて被覆
する。６枚の平滑に研摩されたCu板（電解銅）
上に６個の平滑に研摩されたナイロンブラシで
５時間内に50000回往復させることによつて生
じる摩耗度を秤量の差によつて測定する。摩耗
度の計算に際しては、得られた数値から平均値
が形成される。摩耗（摩耗度）は、Cuのmg数
で表わされる。 アルピーヌ（ALPINE）−エア・ジエツト・スク
リーンを用いるふるい残分の測定 ふるい残分を測定するために、沈殿ケイ酸を
500μのふるいを用いてふるい分けし、場合によ
つては存在する脱気節目を破壊する。次いで、こ
のふるい分けされた物質10ｇも規定されたエア・
ジエツト・スクリーンに入れ、そして200mm水柱
の減圧においてふるい分けする。ふるい分け装置
のプレキシガラスの蓋に移された沈殿ケイ酸粒子
は、軽く叩くことによつてスクリーンの蓋のノブ
から除かれる。ふるい分けは、残留物が一定のま
まとなつたときに終了し、それは大抵流動性の外
観を呈するはずである。念のために、次いで更に
１分間ふるい分けを行なう。一般に、ふるい分け
工程は、５分間継続される。500μ以下の粒子部
分を有する物質の場合には、試料は、前もつてふ
るいかけずに、直接にエア・ジエツトスクリーン
にかけられる。集塊がたまたま形成される場合に
は、ふるい分け工程は、短時間中断され、そして
集塊は、ブラシを用いて軽い圧力の下に破壊され
る。ふるい分け後、ふるい分残渣は、慎重にエア
ジエツトスクリーンから叩いて除かれ、そして再
び秤量される。 計算：ふるい残分は、篩のメツシユサイズに関連
して％で表わされる。 装置：アルピーヌ・エア・ジエツトスクリーン、
実験室型S200、DIN4188に従う篩の織物を有
するエア・ジエツト・スクリーン。 30％グリセリン／水−分散液（混合比１：１）
中における摩耗性ケイ酸のレオロジー的効果の試
験、ブルツクフイールドRTV Sp5 １ 試料バツチ ケイ酸 60ｇ 無水グリセリンDAB7、密度
ml／ｇ 1.26 70ｇ 蒸留水 70ｇ ケイ酸に対す30％分酸液 200ｇ ２ 実施 摩耗性ケイ酸は、400mlのビーカー（広口型
中のグリセリン／水混合物に手によつてガラス
棒で撹拌混入（１分間）し、そして24時間放置
した。その後で、粘度が測定される。 ３ 測定 粘度の測定は、同じビーカーにおいてブルツ
クフイールド−粘度計RVTスピンドル５を用
いて種々のrpmにおいて行なわれる。 ４ 計算 読取つた目盛の数値×係数＝ｍPasで表わさ
れた粘度。 DIN66131によるBET−表面積は、次のように
して測定される： BET法を使用するガス吸着による固体の比表
面積の測定法であり、評価はBET法または修正
BET法によつて行なわれる。試料は、測定前に
真空中で少なくとも100℃において圧力および重
量が一定になるまで脱ガス化される。 簡易化法によれば、比表面積の測定は、あまり
正確さが要求されない場合には、前処理ならびに
測定時間の短縮によつて容易化される（１点法；
連続的測定）。 試料の前処理：吸着の測定前に、試料表面に吸
着された不純物、特に水蒸気を有効に除去するた
めに、試料を10-2ないし10-3Paの減圧下で通常高
温で前処理する。 多くの無機物質（酸化物、炭酸塩、硫酸塩等）、
例えば触媒、顔料その他の工業製品においては、
窒素吸着の測定のためには、110ないし130℃の前
処理温度が適当であり、110℃における乾燥棚に
おいて予め比較的長く乾燥することによつて減圧
処理が短縮される。有機化合物および極めて多孔
性（高活性）の物質は、事情により50℃以下の温
度を必要とする。 DIN53194によるかさ密度は、次のようにして
測定される： 測定は、２回行なう。２回の測定に十分な量
（約500ml）の試料を加熱棚内で105±２℃で乾燥
し、乾燥器内で冷却する。乾燥した物質をふるい
にかけ、メスシリンダー内に中空部を生じないよ
うに充填する。物質200±10mlを添加した後、メ
スシリンダーを振つて試料を0.5ｇとする。物質
の表面がほぼ水平になるまでシリンダを軽くたた
き、栓を再び閉じる。メスシリンダーをかさ容積
計のメスシリンダー容器に入れ、カム軸を約1250
回転せしめて突固める。突固めた試料のかさ容積
を測定する。 かさ容積は、次式により算出される： vt＝100V／m1−m0 かさ密度は次式により算出される： ρt＝100／vt＝m1−m0／Ｖ 上式中、 m0＝空のメスシリンダーのｇで表わした重量 m1＝メスシリンダーおよび物質のｇで表わした
重量 Ｖ＝突固めた後の物質のmlで表わした容積 vt＝物質のml／100ｇで表わしたかさ容積 ρt＝物質のｇ／mlで表わしたかさ密度 ２回の測定の平均値をとる。 DIN55921による規約反射率Ａは、次のように
して測定される： 合成ケイ酸およびケイ酸塩の試験法のうち、規
約反射率Ａの測定は、DIN53163に従つて行なわ
れる。 DIN55921による規約反射率（Hellbezugswert
Ａ（luminance factor）は、DIN53163に従つて
測定される。 DIN53163は、白色顔料および充填物粉末の規
約反射率の測定法を規定している。この規格によ
る方法は、白色顔料および充填物の規約反射率Ａ
を測光的に測定されたそれらの明るさを数値によ
り再現しうるために使用される。 粉末は、均一な表面が得られるように適当な粉
末プレスでプレスされる。 光反射率（Lichtremissionsgrad）βが、拡散
照明および垂直またはほとんど垂直に観察した場
合における標準照明Ｃについて、光電式反射光度
計を用いて測定され、その際、測定開口は、下方
に向けられ、被プレス物は、表面に上方に向けて
置くことができる。 測定すべき白色顔料または充填物粉末から、一
つの平均的顔料が採取される。 測定装置としては、光電式反射光度計が適当で
ある。
SiO2約５−25ｇの濃度を有する予め仕込んだア
ルカリ金属ケイ酸溶液から、酸およびアルカリ金
属ケイ酸塩の溶液を用いて一定の溶液濃度および
一定の供給速度をもつて80ないし90℃の反応媒質
中の沈殿温度を維持しつつケイ酸を沈殿させるこ
とにより、次のような条件で、すなわち、上記反
応媒質の粘度が全沈殿時間の少くとも30％の時間
の間一様に低くそしてそのPH値が10ないし12の間
に保たれ、そして反応成分の添加が上記粘度が最
高値に達した後、最初の粘度を超えること100％
以内の値まで低下した時に漸く終了するという条
件で、調製された原始沈殿ケイ酸懸濁液を、熱水
を用いて10−30ｇ／の沈殿ケイ酸含量および６
−20ｇNa2SO4／の硫酸ナトリウム含量まで希
釈し、85−95℃に加熱し、そのPH値を硫酸で７な
いし９に調整しそしてこのPH値を一定に保ちつつ
同時にアルカリ金属ケイ酸塩溶液、硫酸および場
合によつては熱水を15ないし180分間の沈殿時間
に亘つて添加することによつて40ないし80ｇ／
の沈殿ケイ酸の最終濃度に調整し、上記懸濁液を
濃硫酸を用いて７以下のPH値まで酸性化し、この
懸濁液からフイルタープレスを用いて沈殿ケイ酸
を分離し、洗滌し、乾燥し、そしてピンミルを用
いて粉砕することを特徴とする、前記沈殿ケイ酸
の製造方法である。 好ましい実施態様においては、その製造中にド
イツ特許公告第1467019号に従つて強力に剪断さ
れる原始沈殿ケイ酸懸濁液を使用することができ
る。それは特に高いかさ密度および高いCu−摩
耗値を得べき場合には常に有利である。本発明に
よる特別な実施態様においては、ドイツ特許第
1767332号による剪断を行なうことができる。 使用されるアルカリ金属ケイ酸塩溶液は、２な
いし４のSiO2：Na2Oの重量比を有しうる。本発
明による好ましい実施態様においては、アルカリ
金属ケイ酸塩は、Na2O8.0重量％およびSiO226.8
重量％の濃度を有しうる。これは、SiO2：Na2O
＝3.46の重量比に相当する。 アルカリ金属ケイ酸塩溶液、硫酸および場合に
よつては熱水を同時に供給する場合には、沈殿ケ
イ酸懸濁液10につき1.353の密度および3.46の
SiO2：Na2Oの比を有するアルカリ金属ケイ酸塩
溶液を毎時0.5ないし10、硫酸（96％）を毎時
0.05ないし１および熱水を毎時10まで添加す
ることができる。 使用された硫酸の濃度は、96重量％とすること
ができる。好ましい実施態様においては、硫酸の
濃度は、50重量％でありうる。 本発明による沈殿ケイ酸の製造方法は、下記の
利点を有する： −50重量％までのフイルターケーキ中の高い固物
質含量は、乾燥工程のエネルギー需要を減少せ
しめ、そして従つて乾燥費をゴム工業において
用いられる補強剤用ケイ酸の値の約25％まで減
少せしめる、 −50重量％までのフイルターケーキ中の高い固体
物質含量は、フイルタープレスの能力を倍増せ
しめる、 −低度の構造を有する沈殿ケイ酸の比較的低い比
表面積は、洗滌時間の明らかな減少とそして従
つて洗滌水およびその他のフイルタープレスの
能力の節約へと導く、そして −本発明によるケイ酸の最も重要な物質データに
調整しうる可能性がある。 本発明による沈殿ケイ酸およびそれらを製造す
る方法を以下の諸例に基づいてより詳細に説明し
記載する。 例 １（比較例） この例はドイツ特許出願公開第1467019号によ
る沈殿ケイ酸の製造を記載する。 ゴムで被覆された120の沈殿容器中で、熱水
73およびケイ酸ナトリウム溶液（密度：1.353
ｇ／ml；割合：SiO2：Na2O＝3.46）5.25を撹
拌下に85℃に加熱する。このアルカリ性沈殿容器
中に、次の90分の間に撹拌下にそして85℃の温度
に保ちつつ同時にケイ酸ナトリウム溶液（密度：
1.353ｇ／ml；割合：SiO2：Na2O＝3.46）を11
／ｈの量でそして濃硫酸（96％）を0.965／
ｈの量で配量する。 その後で上記の沈殿ケイ酸懸濁液を濃硫酸（96
％）を用いて8.5のPH値に調整し、これは数分間
継続する酸の1.25／ｈの量での供給によつて行
なわれる。この方法で得られた沈澱ケイ酸懸濁液
は、約85ｇ／の固体物質含量を有する。その
Na2SO4含量は、約55ｇ／である。それは、以
下の例において記載された本発明による沈殿ケイ
酸の製造用のいわゆる「原始沈殿ケイ酸懸濁液」
として使用される。 上記の沈殿ケイ酸懸濁液は、その後の過程にお
いて濃硫酸（96％）を用いて3.5のPH値まで酸性
化され、この沈殿ケイ酸は、実験室用フイルター
プレスを用いて上記懸濁液から分離され、フイル
ターケーキは水を洗滌され、110〜120℃において
乾燥され、そして実験室用ピンミルを用いて粉砕
される。物理的−化学的データは、第１表に記載
されている。 例 ２ 例１の「原始沈殿ケイ酸懸濁液」は、沈殿ケイ
酸含量が20ｇ／でありそしてNa2SO4含量が13
ｇ／となるような量の水で希釈される。 この懸濁液10.5をゴムで被覆された30の沈
殿用容器中で撹拌下に85℃に加熱する。この温度
および8.5のPH値を維持しつつ、30分間に亘つて
同時に水ガラス溶液（Na2O8.0％およびSiO226.8
％密度：1.353ｇ／ml；割合SiO2：Na2O＝3.46）
が92.4ml／minの速度で、硫酸（50％）が19.6
ml／minの速度でそして水が185.4ml／minの速度
で沈殿ケイ酸懸濁液に添加される。この沈殿ケイ
酸懸濁液は、次いで硫酸（50％）を用いて約3.5
のPH値に調整される。沈殿時間の終了後、この懸
濁液の沈殿ケイ酸含量は、64ｇ／である。得ら
れたケイ酸を実験室用フイルタープレスを用いて
懸濁液から分離し、フイルターケーキを水で塩で
含まなくなるまで洗滌し、110〜120℃において乾
燥しそして実験室用ピンミルで粉砕する。特性デ
ータは、第１表に記載されている。 例 ３ 例２と同様に操作されるが、ただし成分である
水ガラス、硫酸および水の同時的配量は半分にさ
れる。この手段によつて例２に比較して、かさ密
度は実際上２倍となり、一方耐摩耗性は、明らか
に低下する。懸濁液の沈殿ケイ酸含量は、49ｇ／
である。特性データは、第１表に記載されてい
る。 例 ４ 例３と同様に操作されるが、ただし沈殿時間
は、30分から60分に延長された。沈殿ケイ酸含量
は、64ｇ／と測定された。例２および３におい
て得られた沈殿ケイ酸に比較して、かさ密度は、
明らかにより高くなつている。これはCu−摩耗
度についても当てはまる。特性データは、第１表
において記載されている。 例 ５ 例４に従つて操作されるが、ただし沈殿時間
は、60分から120分に増加される。それに並行し
て、成分たる水ガラス、硫酸および水の同時的配
量は、半分にされる。配量は次のとおりである：
水ガラス：23.1ml／min、硫酸：4.9ml／min、
水：46.35ml／min、沈殿ケイ酸含量は、64ｇ／
に調整される。かさ密度および摩耗度は、更に
高くなつている。特性データは、第１表に記載さ
れている。 例 ６ 例４に従つて操作されるが、ただし例１の「原
始沈殿ケイ酸懸濁液」が沈殿ケイ酸含量が30ｇ／
でありそしてNa2SO4含量が約20ｇ／となる
ように希釈される点において例４と異なつてい
る。この懸濁液の10.5がその後の沈殿に使用さ
れる。調整された沈殿ケイ酸含量は、71ｇ／で
ある。かさ密度および摩耗度は、例４による沈殿
ケイ酸のデータに比較して僅かに低下しているに
すぎない。特性データは、第１表に記載されてい
る。 例 ７ 例４に従つて操作される。ただし、例１による
いわゆる「原始沈殿ケイ酸懸濁液」は、水を添加
することによつて沈殿ケイ酸含量が13ｇ／で
Na2SO4含量が8.5ｇ／となるように希釈される
点において例４と異なつている。その代りに、沈
殿中に水92.7ml／minを供給することは、行なわ
れない。沈殿ケイ酸含有含量は、64ｇ／に調整
される。得られた沈殿ケイ酸の特性データは、第
１表に記載されている。 例 ８ 例７に従つて操作される。ただし、沈殿は、95
℃において実施され、そしてそれに並行して沈殿
時間は60分から45分に短縮された点において異な
つている。52ｇ／の沈殿ケイ酸が得られる。得
られた沈殿ケイ酸の特性データは、第１表に記載
されている。 例 ９ まず例１に従つて沈殿ケイ酸含量80ｇ／およ
びNa2SO4含量約52ｇ／ならびに8.5のPH値を有
する「原始沈殿ケイ酸懸濁液」が調製される。し
かし、その際、90分の全沈殿時間の間、渦巻ポン
プによつて強力に剪断され、容器の内容物は、何
回もひつくり返される。装置ならびに剪断条件に
関する詳細は、ドイツ特許第1767332号明細書、
特にその第８欄第31〜68行に記載されている。 このようにして調製された原始沈殿ケイ酸懸濁
液は、水で20ｇ／の沈殿ケイ酸含量および13
ｇ／のNa2SO4含量に調製される。この懸濁液
の10.5が、例３に従つて行なわれるその後に続
く沈殿のための仕込物として使用される。調整さ
れる沈殿ケイ酸含量は、49ｇ／である。この沈
澱ケイ酸の特性データは、第１表に記載されてい
る。剪断されていない原始沈殿ケイ酸懸濁液を使
用して製造される沈殿ケイ酸の対応する値と比較
することにより、剪断の手段によつて沈殿ケイ酸
の摩耗値およびかさ密度が著しく改善されること
が判明する。 例 10 例９に従つて操作される。唯一の相違点は、沈
殿時間が30分から60分に延長されたことである。
沈殿ケイ酸含量は、64ｇ／となる。同様に、摩
耗値の明らかな改善（92％）およびかさ密度のそ
れ（24％）が得られる。 例 11（比較例） 例９に従つて操作する。唯一の相違点は、沈殿
時間が30分から75分に延長されたことである。元
の沈殿懸濁液中の沈殿ケイ酸含量は、70ｇ／と
なる。物理−化学特性データは、下記のとおりで
ある： DIN66131によるBET−表面積 15m2／ｇ DIN53194によるかさ密度 754ｇ／ 10％グリセリン分散液中のCu−摩耗度 30mg アルピーネ・ふるい残分＞63μ 0.1重量％ DIN55921による規約反射率Ａ 86％ 第１表には、例１ないし例10に従つて製造され
た沈殿ケイ酸の物理的−化学的特性データが記載
されている。例１のデータは、不十分な耐摩耗性
および低いかさ密度しか有しない沈殿ケイ酸が製
造される従来技術による比較例のそれである。 特性データであるBET−比表面積、かさ密度
および規約反射率Ａは、DIN試験法に従つて測
定される。Cu−摩耗度測定ならびにアルピーヌ
（ALPINE）−ふるい残分＞63μについては、下記
の記載を参照されたい。 10％グリセリン分散液中のCu−摩耗度の測定 (a) グリセリン分散液の調製 無水のグリセリン（DAB7；Ｓ＝1.26）153
ｇをポリエチレンカツプ（250ml）中に計量し
て装入する。へらを用いて沈殿ケイ酸17ｇを慎
重に混合する。この混合物を次に翼型撹拌機
（直径5.2cm）を用いて1500rpmにおいて12分間
均質化する。 (b) 摩耗度の測定の実施 摩耗度の測定は、摩耗試験装置において行な
われ、この装置は、下記の文献によつて知られ
ている：(1)プフレングレ（Pfrengle）：“脂肪、
石ケン、塗料（Fette、Seifen、
Anstrichmittel）”、63(5)（1961）、445−451、
“練歯ミガキ中の研摩体の摩耗度および洗浄力
（Abrasion und Reinigung−skraft von
Putzko¨rpern in Zahnpasten）”(2)レング、ダ
ニー（A.RENG、F.DANY）；香料および化粧
品（Parfumerie und Kosmetik）59(2)
（1978）、37−45；“練歯ミガキの使用技術的試
験（Anwendungstech−nische Pru¨fung von
Zahnpasten）”。そのため、試験装置の６個の
槽を均質な分散液それぞれ20ml宛を用いて被覆
する。６枚の平滑に研摩されたCu板（電解銅）
上に６個の平滑に研摩されたナイロンブラシで
５時間内に50000回往復させることによつて生
じる摩耗度を秤量の差によつて測定する。摩耗
度の計算に際しては、得られた数値から平均値
が形成される。摩耗（摩耗度）は、Cuのmg数
で表わされる。 アルピーヌ（ALPINE）−エア・ジエツト・スク
リーンを用いるふるい残分の測定 ふるい残分を測定するために、沈殿ケイ酸を
500μのふるいを用いてふるい分けし、場合によ
つては存在する脱気節目を破壊する。次いで、こ
のふるい分けされた物質10ｇも規定されたエア・
ジエツト・スクリーンに入れ、そして200mm水柱
の減圧においてふるい分けする。ふるい分け装置
のプレキシガラスの蓋に移された沈殿ケイ酸粒子
は、軽く叩くことによつてスクリーンの蓋のノブ
から除かれる。ふるい分けは、残留物が一定のま
まとなつたときに終了し、それは大抵流動性の外
観を呈するはずである。念のために、次いで更に
１分間ふるい分けを行なう。一般に、ふるい分け
工程は、５分間継続される。500μ以下の粒子部
分を有する物質の場合には、試料は、前もつてふ
るいかけずに、直接にエア・ジエツトスクリーン
にかけられる。集塊がたまたま形成される場合に
は、ふるい分け工程は、短時間中断され、そして
集塊は、ブラシを用いて軽い圧力の下に破壊され
る。ふるい分け後、ふるい分残渣は、慎重にエア
ジエツトスクリーンから叩いて除かれ、そして再
び秤量される。 計算：ふるい残分は、篩のメツシユサイズに関連
して％で表わされる。 装置：アルピーヌ・エア・ジエツトスクリーン、
実験室型S200、DIN4188に従う篩の織物を有
するエア・ジエツト・スクリーン。 30％グリセリン／水−分散液（混合比１：１）
中における摩耗性ケイ酸のレオロジー的効果の試
験、ブルツクフイールドRTV Sp5 １ 試料バツチ ケイ酸 60ｇ 無水グリセリンDAB7、密度
ml／ｇ 1.26 70ｇ 蒸留水 70ｇ ケイ酸に対す30％分酸液 200ｇ ２ 実施 摩耗性ケイ酸は、400mlのビーカー（広口型
中のグリセリン／水混合物に手によつてガラス
棒で撹拌混入（１分間）し、そして24時間放置
した。その後で、粘度が測定される。 ３ 測定 粘度の測定は、同じビーカーにおいてブルツ
クフイールド−粘度計RVTスピンドル５を用
いて種々のrpmにおいて行なわれる。 ４ 計算 読取つた目盛の数値×係数＝ｍPasで表わさ
れた粘度。 DIN66131によるBET−表面積は、次のように
して測定される： BET法を使用するガス吸着による固体の比表
面積の測定法であり、評価はBET法または修正
BET法によつて行なわれる。試料は、測定前に
真空中で少なくとも100℃において圧力および重
量が一定になるまで脱ガス化される。 簡易化法によれば、比表面積の測定は、あまり
正確さが要求されない場合には、前処理ならびに
測定時間の短縮によつて容易化される（１点法；
連続的測定）。 試料の前処理：吸着の測定前に、試料表面に吸
着された不純物、特に水蒸気を有効に除去するた
めに、試料を10-2ないし10-3Paの減圧下で通常高
温で前処理する。 多くの無機物質（酸化物、炭酸塩、硫酸塩等）、
例えば触媒、顔料その他の工業製品においては、
窒素吸着の測定のためには、110ないし130℃の前
処理温度が適当であり、110℃における乾燥棚に
おいて予め比較的長く乾燥することによつて減圧
処理が短縮される。有機化合物および極めて多孔
性（高活性）の物質は、事情により50℃以下の温
度を必要とする。 DIN53194によるかさ密度は、次のようにして
測定される： 測定は、２回行なう。２回の測定に十分な量
（約500ml）の試料を加熱棚内で105±２℃で乾燥
し、乾燥器内で冷却する。乾燥した物質をふるい
にかけ、メスシリンダー内に中空部を生じないよ
うに充填する。物質200±10mlを添加した後、メ
スシリンダーを振つて試料を0.5ｇとする。物質
の表面がほぼ水平になるまでシリンダを軽くたた
き、栓を再び閉じる。メスシリンダーをかさ容積
計のメスシリンダー容器に入れ、カム軸を約1250
回転せしめて突固める。突固めた試料のかさ容積
を測定する。 かさ容積は、次式により算出される： vt＝100V／m1−m0 かさ密度は次式により算出される： ρt＝100／vt＝m1−m0／Ｖ 上式中、 m0＝空のメスシリンダーのｇで表わした重量 m1＝メスシリンダーおよび物質のｇで表わした
重量 Ｖ＝突固めた後の物質のmlで表わした容積 vt＝物質のml／100ｇで表わしたかさ容積 ρt＝物質のｇ／mlで表わしたかさ密度 ２回の測定の平均値をとる。 DIN55921による規約反射率Ａは、次のように
して測定される： 合成ケイ酸およびケイ酸塩の試験法のうち、規
約反射率Ａの測定は、DIN53163に従つて行なわ
れる。 DIN55921による規約反射率（Hellbezugswert
Ａ（luminance factor）は、DIN53163に従つて
測定される。 DIN53163は、白色顔料および充填物粉末の規
約反射率の測定法を規定している。この規格によ
る方法は、白色顔料および充填物の規約反射率Ａ
を測光的に測定されたそれらの明るさを数値によ
り再現しうるために使用される。 粉末は、均一な表面が得られるように適当な粉
末プレスでプレスされる。 光反射率（Lichtremissionsgrad）βが、拡散
照明および垂直またはほとんど垂直に観察した場
合における標準照明Ｃについて、光電式反射光度
計を用いて測定され、その際、測定開口は、下方
に向けられ、被プレス物は、表面に上方に向けて
置くことができる。 測定すべき白色顔料または充填物粉末から、一
つの平均的顔料が採取される。 測定装置としては、光電式反射光度計が適当で
ある。
第１図は、本発明による沈殿ケイ酸のコールタ
ーカウンターによる二次粒子の粒度分布曲線を示
す図である。
ーカウンターによる二次粒子の粒度分布曲線を示
す図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 下記の物理的−化学的特性データを有するこ
とを特徴とする沈殿ケイ酸： 【表】 ２ 下記の物理的−化学的特性データ： 【表】 を有する沈殿ケイ酸を製造すべく、溶液１当り
SiO2約５−25ｇの濃度を有する予め仕込んだア
ルカリ金属ケイ酸塩溶液から、酸およびアルカリ
金属ケイ酸塩の溶液を用いて一定の溶液濃度およ
び一定の供給速度をもつて80ないし90℃の反応媒
質中の沈殿温度を維持しつつケイ酸を沈殿させる
ことにより、次のような条件で、すなわち、上記
反応媒質の粘度が全沈殿時間の少くとも30％の時
間の間一様に低くそしてそのPH値が10ないし12の
間に保たれ、そして反応成分の添加が上記粘度が
最高値に達した後、最初の粘度を超えること100
％以内の値まで低下した時に漸く終了するという
条件で、調製された原始沈殿ケイ酸懸濁液を、熱
水を用いて10−30ｇ／の沈殿ケイ酸含量および
６−20ｇNa2SO4／の硫酸ナトリウム含量まで
希釈し、85−95℃に加熱し、そのPH値を硫酸で７
ないし９に調整しそしてこのPH値を一定に保ちつ
つ同時にアルカリ金属ケイ酸塩溶液、硫酸および
場合によつては熱水を15ないし180分間の沈殿時
間に亘つて添加することによつて40ないし80ｇ／
の沈殿ケイ酸の最終濃度に調整し、上記懸濁液
を濃硫酸を用いて７以下のPH値まで酸性化し、こ
の懸濁液からフイルタープレスを用いて沈殿ケイ
酸を分離し、洗滌し、乾燥し、そしてピンミルを
用いて粉砕することを特徴とする、前記沈殿ケイ
酸の製造方法。 ３ 調製された原始沈殿ケイ酸懸濁液を熱水で希
釈する時点までその調製の全相に亘つて強力に剪
断を行なう、特許請求の範囲第２項に記載の方
法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19813114493 DE3114493A1 (de) | 1981-04-10 | 1981-04-10 | "faellungskieselsaeuren und verfahren zu ihrer herstellung" |
| DE31144934 | 1981-04-10 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5845106A JPS5845106A (ja) | 1983-03-16 |
| JPH0346403B2 true JPH0346403B2 (ja) | 1991-07-16 |
Family
ID=6129848
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57058379A Granted JPS5845106A (ja) | 1981-04-10 | 1982-04-09 | 沈殿ケイ酸およびその製造方法 |
| JP59257760A Granted JPS60221314A (ja) | 1981-04-10 | 1984-12-07 | 沈殿ケイ酸およびその製造方法 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59257760A Granted JPS60221314A (ja) | 1981-04-10 | 1984-12-07 | 沈殿ケイ酸およびその製造方法 |
Country Status (12)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4857289A (ja) |
| EP (1) | EP0062749B1 (ja) |
| JP (2) | JPS5845106A (ja) |
| AR (1) | AR226509A1 (ja) |
| AT (1) | ATE13414T1 (ja) |
| BR (1) | BR8202032A (ja) |
| CA (1) | CA1183672A (ja) |
| DE (2) | DE3114493A1 (ja) |
| DK (1) | DK160815C (ja) |
| ES (1) | ES511306A0 (ja) |
| IL (1) | IL65452A (ja) |
| ZA (1) | ZA822443B (ja) |
Families Citing this family (57)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB8529796D0 (en) * | 1985-12-03 | 1986-01-08 | Unilever Plc | Precipitated silicas |
| GB8604985D0 (en) * | 1986-02-28 | 1986-04-09 | Unilever Plc | Precipitated silicas |
| DE3639844A1 (de) * | 1986-11-21 | 1988-06-01 | Degussa | Zahnpflegemittel |
| DE3639845A1 (de) * | 1986-11-21 | 1988-06-01 | Degussa | Faellungskieselsaeuren, verfahren zu ihrer herstellung und verwendung |
| FR2631620B1 (fr) * | 1988-05-19 | 1990-07-27 | Rhone Poulenc Chimie | Nouvelle silice precipitee absorbante et composition a base de cette s ilice |
| JP2545282B2 (ja) * | 1989-04-17 | 1996-10-16 | 日東化学工業株式会社 | 球状シリカ粒子の製造方法 |
| US5225177A (en) * | 1990-01-19 | 1993-07-06 | J. M. Huber Corporation | Dentifrice abrasives and compositions |
| JPH03123418U (ja) * | 1990-03-26 | 1991-12-16 | ||
| DE4112916A1 (de) * | 1991-04-19 | 1992-10-22 | Sued Chemie Ag | Ueberzugsmasse fuer druckempfindliche aufzeichnungsmaterialien und damit hergestellte aufzeichnungsmaterialien |
| US5651874A (en) | 1993-05-28 | 1997-07-29 | Moltech Invent S.A. | Method for production of aluminum utilizing protected carbon-containing components |
| US6001236A (en) | 1992-04-01 | 1999-12-14 | Moltech Invent S.A. | Application of refractory borides to protect carbon-containing components of aluminium production cells |
| US5413689A (en) * | 1992-06-12 | 1995-05-09 | Moltech Invent S.A. | Carbon containing body or mass useful as cell component |
| DE69304546T3 (de) * | 1992-10-28 | 2002-11-21 | Crosfield Ltd., Warrington | Kieselsäuren |
| DE4237500A1 (de) | 1992-11-06 | 1994-05-11 | Henkel Kgaa | Remineralisierendes Zahnpflegemittel |
| US6193795B1 (en) | 1993-08-02 | 2001-02-27 | Degussa Corporation | Low structure pyrogenic hydrophilic and hydrophobic metallic oxides, production and use |
| DE59400684D1 (de) * | 1993-08-07 | 1996-10-24 | Degussa | Verfahren zur Herstellung einer Fällungskieselsäure |
| US6977065B1 (en) * | 1993-10-07 | 2005-12-20 | Degussa Ag | Precipitated silicas |
| US5679224A (en) * | 1993-11-23 | 1997-10-21 | Moltech Invent S.A. | Treated carbon or carbon-based cathodic components of aluminum production cells |
| US5846506A (en) * | 1994-10-07 | 1998-12-08 | Degussa Aktiengesellschaft | Precipitated silicas |
| US5571494A (en) * | 1995-01-20 | 1996-11-05 | J. M. Huber Corporation | Temperature-activated polysilicic acids |
| US5580655A (en) * | 1995-03-03 | 1996-12-03 | Dow Corning Corporation | Silica nanoparticles |
| US5591332A (en) * | 1995-05-25 | 1997-01-07 | Omnipure Filter Co. | Filter assembly with automatic shut-off and quick-connect filter cartridge |
| IN188702B (ja) * | 1995-06-01 | 2002-10-26 | Degussa | |
| DE19526476A1 (de) * | 1995-07-20 | 1997-01-23 | Degussa | Fällungskieselsäure |
| US5753163A (en) | 1995-08-28 | 1998-05-19 | Moltech. Invent S.A. | Production of bodies of refractory borides |
| FR2763581B1 (fr) * | 1997-05-26 | 1999-07-23 | Rhodia Chimie Sa | Silice precipitee utilisable comme charge renforcante pour elastomeres |
| DE19740453A1 (de) | 1997-09-15 | 1999-03-18 | Henkel Kgaa | Zahnreinigungsmittel |
| DE19834355A1 (de) | 1998-07-30 | 2000-02-03 | Henkel Kgaa | Entzündungshemmende Zahnpflegemittel |
| DE19845247A1 (de) | 1998-10-01 | 2000-04-06 | Henkel Kgaa | Flüssiges Zahnreinigungsgel |
| DE19930335A1 (de) * | 1999-07-02 | 2001-01-18 | Henkel Kgaa | Kompositmaterialien aus Calciumverbindungen und Proteinkomponenten |
| DE10015662A1 (de) * | 2000-03-29 | 2001-10-04 | Henkel Kgaa | Zahnpflegemittel in Portionskapseln |
| DE10017998A1 (de) | 2000-04-11 | 2001-10-18 | Henkel Kgaa | Belaghemmendes flüssiges Zahnreinigungsgel |
| DE10017997A1 (de) | 2000-04-11 | 2001-10-18 | Henkel Kgaa | Belaghemmendes flüssiges Zahnreinigungsgel |
| DE10311171A1 (de) * | 2003-03-12 | 2004-09-23 | Henkel Kgaa | Mund- und Zahnpflegemittel |
| DE10340542A1 (de) * | 2003-09-01 | 2005-03-24 | Henkel Kgaa | Mund- und Zahnpflegemittel |
| DE10340543A1 (de) * | 2003-09-01 | 2005-03-24 | Henkel Kgaa | Mund- und Zahnpflegemittel |
| ATE498583T1 (de) * | 2003-09-19 | 2011-03-15 | Saint Gobain | Herstellung von silikat in einem ofen mit in ein reduzierendes medium getauchten brennern |
| DE102006009793A1 (de) * | 2005-10-31 | 2007-09-06 | Sus Tech Gmbh & Co. Kg | Verwendung von schwer wasserlöslichen Calciumsalzen und/oder deren Kompositen |
| DE102006009799A1 (de) * | 2006-03-01 | 2007-09-06 | Henkel Kgaa | Vorwiegend plättchenförmige schwer wasserlösliche Calciumsalze und/oder deren Kompositmaterialien, umfassend diese |
| KR101450346B1 (ko) * | 2006-03-15 | 2014-10-14 | 알이에스씨 인베스트먼츠 엘엘씨 | 태양 전지 및 다른 용도를 위한 규소 제조 방법 |
| DE102007039335A1 (de) | 2007-08-20 | 2009-02-26 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Lumineszierende Kompositmaterialien |
| WO2011000133A1 (en) * | 2009-07-03 | 2011-01-06 | Evonik Degussa Gmbh | Hydrophilic silica as filler for silicone rubber formulations |
| JP5868520B2 (ja) * | 2011-12-23 | 2016-02-24 | ローディア オペレーションズ | 沈澱シリカ製造方法 |
| US9890072B2 (en) | 2015-04-01 | 2018-02-13 | Owens-Brockway Glass Container Inc. | Glass precursor gel |
| US10364176B1 (en) * | 2016-10-03 | 2019-07-30 | Owens-Brockway Glass Container Inc. | Glass precursor gel and methods to treat with microwave energy |
| US10427970B1 (en) | 2016-10-03 | 2019-10-01 | Owens-Brockway Glass Container Inc. | Glass coatings and methods to deposit same |
| US10479717B1 (en) | 2016-10-03 | 2019-11-19 | Owens-Brockway Glass Container Inc. | Glass foam |
| CN108910899A (zh) * | 2018-08-03 | 2018-11-30 | 上海硅硅生物技术有限公司 | 一种简易的偏硅酸制备方法 |
| CN110835110A (zh) * | 2019-12-12 | 2020-02-25 | 通化双龙硅材料科技有限公司 | 一种沉淀水合二氧化硅的制备方法 |
| CN111892061B (zh) * | 2020-09-02 | 2022-04-29 | 江西星火狮达科技有限公司 | 一种高比表面积白炭黑及其制备方法 |
| CN112678838A (zh) * | 2020-12-29 | 2021-04-20 | 无锡恒诚硅业有限公司 | 一种低滚阻沉淀二氧化硅及其制备方法与应用 |
| CN112607744A (zh) * | 2020-12-29 | 2021-04-06 | 无锡恒诚硅业有限公司 | 一种高吸油值二氧化硅的制备方法 |
| CN112678837A (zh) * | 2020-12-29 | 2021-04-20 | 无锡恒诚硅业有限公司 | 一种抗湿滑沉淀二氧化硅及其制备方法与应用 |
| CN112938992B (zh) * | 2021-03-11 | 2022-06-17 | 浙江理工大学 | 一种二氧化硅纳米碗的制备方法 |
| CN113184862B (zh) * | 2021-04-30 | 2022-02-22 | 广州市飞雪材料科技有限公司 | 一种具有沙粒感的低铜耗值牙膏用二氧化硅及其制备方法 |
| CN113651332B (zh) * | 2021-08-11 | 2023-10-27 | 常州大学 | 一种基于丁苯橡胶补强的高性能白炭黑的制备方法 |
| CN114538452B (zh) * | 2022-03-15 | 2022-10-25 | 金三江(肇庆)硅材料股份有限公司 | 一种粒径分布窄的二氧化硅湿凝胶及其制备方法和应用 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE956495C (de) * | 1953-10-04 | 1957-01-17 | Silinwerk Van Baerle & Co G M | Verfahren zur Herstellung von amorpher feinteiliger Kieselsaeure |
| NL289590A (ja) * | 1962-03-02 | |||
| DE2020887B2 (de) * | 1970-04-29 | 1975-01-09 | Akzo Chemie Gmbh, 5160 Dueren | Verfahren zur Herstellung einer oberflächenarmen Kieselsäure und Verwendung dieser Kieselsäure als Verstärker-Füllstoff in Elastomeren |
| DE2344805A1 (de) * | 1972-08-24 | 1974-03-21 | Sifrance | Verfahren zum herstellen von gefaellten kieselsaeuren |
| US3928541A (en) * | 1972-09-05 | 1975-12-23 | Huber Corp J M | Amorphous precipitated siliceous pigments for cosmetic or dentrifrice use and methods for their production |
| FR2257658A1 (en) * | 1973-10-03 | 1975-08-08 | Sifrance | Polymsd synthetic silica pigments for toothpastes - prepd. by pptn. from a soln. contg. silicate, acid and electrolyte |
| AU497891B2 (en) * | 1974-05-22 | 1979-01-18 | J.M. Huber Corp. | Siliceous pigments & their production |
| US4144321A (en) * | 1974-10-31 | 1979-03-13 | J. M. Huber Corporation | Amorphous precipitated siliceous pigments and methods for their production |
| US4040858A (en) * | 1974-10-31 | 1977-08-09 | J. M. Huber Corporation | Preparation of precipitated silicas having controlled refractive index |
| US4312845A (en) * | 1979-09-10 | 1982-01-26 | J. M. Huber Corporation | Method of producing amorphous silica of controlled oil absorption |
-
1981
- 1981-04-10 DE DE19813114493 patent/DE3114493A1/de not_active Ceased
-
1982
- 1982-02-26 AT AT82101471T patent/ATE13414T1/de not_active IP Right Cessation
- 1982-02-26 DE DE8282101471T patent/DE3263713D1/de not_active Expired
- 1982-02-26 EP EP82101471A patent/EP0062749B1/de not_active Expired
- 1982-03-31 CA CA000400097A patent/CA1183672A/en not_active Expired
- 1982-04-02 DK DK152382A patent/DK160815C/da not_active IP Right Cessation
- 1982-04-07 IL IL65452A patent/IL65452A/xx not_active IP Right Cessation
- 1982-04-07 BR BR8202032A patent/BR8202032A/pt not_active IP Right Cessation
- 1982-04-08 ES ES511306A patent/ES511306A0/es active Granted
- 1982-04-08 ZA ZA822443A patent/ZA822443B/xx unknown
- 1982-04-09 JP JP57058379A patent/JPS5845106A/ja active Granted
- 1982-04-12 AR AR289067A patent/AR226509A1/es active
-
1984
- 1984-12-07 JP JP59257760A patent/JPS60221314A/ja active Granted
-
1988
- 1988-05-05 US US07/191,751 patent/US4857289A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3114493A1 (de) | 1982-10-28 |
| DK160815B (da) | 1991-04-22 |
| ES8304034A1 (es) | 1983-02-16 |
| ES511306A0 (es) | 1983-02-16 |
| AR226509A1 (es) | 1982-07-15 |
| BR8202032A (pt) | 1983-03-22 |
| JPS5845106A (ja) | 1983-03-16 |
| IL65452A0 (en) | 1982-07-30 |
| JPS60221314A (ja) | 1985-11-06 |
| US4857289A (en) | 1989-08-15 |
| DK160815C (da) | 1991-10-07 |
| DE3263713D1 (en) | 1985-06-27 |
| EP0062749B1 (de) | 1985-05-22 |
| JPH0229607B2 (ja) | 1990-07-02 |
| DK152382A (da) | 1982-10-11 |
| ATE13414T1 (de) | 1985-06-15 |
| EP0062749A1 (de) | 1982-10-20 |
| ZA822443B (en) | 1983-02-23 |
| IL65452A (en) | 1984-09-30 |
| CA1183672A (en) | 1985-03-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0346403B2 (ja) | ||
| US5484581A (en) | Process for the production of precipitated silica | |
| US5891421A (en) | Precipitated silicas having improved dentifrice performance characteristics and methods of preparation | |
| US5110574A (en) | Precipitated silicas and process for their production and use | |
| US5124143A (en) | Dentrifice | |
| US5234673A (en) | Low temperature-very high structure silica and methods | |
| JP4588705B2 (ja) | 高吸油性および高い構造性を有する非晶質シリカ粒子 | |
| JP2008544940A (ja) | 沈降シリカ組成物の製造法及びその製品 | |
| NO143162B (no) | Fremgangsmaate til fremstilling av amorfe, utfelte kiselsyrepigmenter | |
| TW200530128A (en) | Hydrophilic precipitated silica for defoamer formulations | |
| DK145423B (da) | Fremgangsmaade til fremstilling af amorft udfaeldede kiselsyrepigmenter | |
| JP2009500469A (ja) | 粒子組成物の製造法及びその製品 | |
| FR2609705A1 (fr) | Particules spheriques de silice ou de silice-alumine amorphe, charges les contenant et procede pour leur preparation. | |
| US5405436A (en) | Process for the preparation of hydroxyapatite | |
| EP1773948A1 (en) | Method for making precipitated silicate compositions and products thereof | |
| KR20000068667A (ko) | 침강 실리카 기재 지지체 상에 흡수된 액체 함유 조성물 | |
| JP2002338233A (ja) | 珪酸、その製法及び歯手入れ剤中でのその使用 | |
| FR2568889A1 (fr) | Procede de fabrication de compositions detergentes thixotropes | |
| US4095994A (en) | Soft-settling fluosilicate-treated silica flatting agent | |
| KR970005188B1 (ko) | 침강 실리카의 제조방법 | |
| CA1189681A (en) | Precipitated silicas and process for producing same | |
| KR790001612B1 (ko) | 무정형 침전 실리카의 제조방법 | |
| KR800001031B1 (ko) | 신규의 이산화 규소의 제조방법 | |
| JP2007522064A (ja) | シリカスラリー法からのシリカの構造レベル | |
| CN118765261A (zh) | 沉淀二氧化硅及其方法 |