JPH0338564A - 4,4’―ビス(4―アミノフェニルチオ)ジフェニルスルホンの製造法 - Google Patents
4,4’―ビス(4―アミノフェニルチオ)ジフェニルスルホンの製造法Info
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- JPH0338564A JPH0338564A JP17144889A JP17144889A JPH0338564A JP H0338564 A JPH0338564 A JP H0338564A JP 17144889 A JP17144889 A JP 17144889A JP 17144889 A JP17144889 A JP 17144889A JP H0338564 A JPH0338564 A JP H0338564A
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- KZTYYGOKRVBIMI-UHFFFAOYSA-N diphenyl sulfone Chemical compound C=1C=CC=CC=1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 KZTYYGOKRVBIMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 20
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 6
- -1 alkali metal salt Chemical class 0.000 claims abstract description 19
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- GPAPPPVRLPGFEQ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-dichlorodiphenyl sulfone Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 GPAPPPVRLPGFEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 13
- VRVRGVPWCUEOGV-UHFFFAOYSA-N 2-aminothiophenol Chemical compound NC1=CC=CC=C1S VRVRGVPWCUEOGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 14
- WCDSVWRUXWCYFN-UHFFFAOYSA-N 4-aminobenzenethiol Chemical compound NC1=CC=C(S)C=C1 WCDSVWRUXWCYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 13
- 239000002994 raw material Substances 0.000 abstract description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 6
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 abstract description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 3
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 239000003905 agrochemical Substances 0.000 abstract description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract description 2
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 abstract description 2
- 229940079593 drug Drugs 0.000 abstract description 2
- 239000003814 drug Substances 0.000 abstract description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 abstract description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 abstract description 2
- 229920006015 heat resistant resin Polymers 0.000 abstract description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 abstract description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 abstract 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 abstract 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 abstract 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 abstract 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 abstract 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 abstract 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 4
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 2
- 238000004811 liquid chromatography Methods 0.000 description 2
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000010902 straw Substances 0.000 description 2
- 238000004809 thin layer chromatography Methods 0.000 description 2
- AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetramethylurea Chemical compound CN(C)C(=O)N(C)C AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 1,3-Dimethyl-2-imidazolidinon Chemical compound CN1CCN(C)C1=O CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKWDWSGYZBURDA-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-(4-chlorophenyl)sulfonylbenzene Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1Cl YKWDWSGYZBURDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZGCEKJOLUNIFY-UHFFFAOYSA-N 4-Chloronitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 CZGCEKJOLUNIFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZFMOKQJFYMBGY-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-TEMPO Chemical compound CC1(C)CC(O)CC(C)(C)N1[O] UZFMOKQJFYMBGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWXPDGCFMMFNRW-UHFFFAOYSA-N N-methylcaprolactam Chemical compound CN1CCCCCC1=O ZWXPDGCFMMFNRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、4.4“−ビス(4−アミノフェニルチオ)
ジフェニルスルホンの改良された製造法に関する。
ジフェニルスルホンの改良された製造法に関する。
4.4゛−ビス(4−アミノフェニルチオ)ジフェニル
スルホンは、ポリアミド、ボリア藁トイミド、ボリイξ
ド等の耐熱性樹脂の原料や、エポキシ樹脂、マレイミド
樹脂の硬化剤等として有用である。
スルホンは、ポリアミド、ボリア藁トイミド、ボリイξ
ド等の耐熱性樹脂の原料や、エポキシ樹脂、マレイミド
樹脂の硬化剤等として有用である。
また、染料、医薬、農薬等の合成原料としても利用でき
る。
る。
(従来の技術)
従来、チオエーテル結合を有する芳香族ジアミンの製造
法としては、代表的なものに次の2つの方法が知られて
いる。
法としては、代表的なものに次の2つの方法が知られて
いる。
■芳香族ビスチオールのアルカリ金属塩と、p−クロル
ニトロベンゼンとの反応によって得られるジ;トロ化合
物を、還元する方法(ソ連邦特許第478831号〉。
ニトロベンゼンとの反応によって得られるジ;トロ化合
物を、還元する方法(ソ連邦特許第478831号〉。
o′p−アミノチオフェノールのアルカリ金属塩と、芳
香族ジハロゲン化合物を反応させる方法(特開昭60−
188365号、同60−190755号、及び、同6
2−289556号公報)。
香族ジハロゲン化合物を反応させる方法(特開昭60−
188365号、同60−190755号、及び、同6
2−289556号公報)。
上記■の方法は、原料となる芳香族ビスチオールの製造
が容易でないことや、反応が2段階にわたり、操作が極
めて繁雑になる等、問題が多い。
が容易でないことや、反応が2段階にわたり、操作が極
めて繁雑になる等、問題が多い。
一方、■の方法は、安価な原料を用いる方法であり、非
プロトン性極性溶媒中で反応させることにより、高収率
で反応を行うことができる。
プロトン性極性溶媒中で反応させることにより、高収率
で反応を行うことができる。
(発明が解決しようとする課題)
4,4゛−ビス(4−アミノフェニルチオ)ジフェニル
スルホンを上記■の方法で製造した場合、そのままでは
、生成物の酸化等による着色や純度低下等の問題があり
、ポリマー原料に適する高純度品を得るためには再結晶
等の精製工程を要する等、工業的には好ましいものとは
いえない。
スルホンを上記■の方法で製造した場合、そのままでは
、生成物の酸化等による着色や純度低下等の問題があり
、ポリマー原料に適する高純度品を得るためには再結晶
等の精製工程を要する等、工業的には好ましいものとは
いえない。
本発明は、上記の問題点を克服した、高純度かつ高収率
で、工業的に実施するのに有利な4.4°−ビス(4−
アミノフェニルチオ〉ジフェニルスルホンの製造法を提
供しようとするものである。
で、工業的に実施するのに有利な4.4°−ビス(4−
アミノフェニルチオ〉ジフェニルスルホンの製造法を提
供しようとするものである。
(課題を解決するための手段)
即ち、本発明は、クロマト純度99.5%以上の4.4
′−ジクロルジフェニルスルホンを、温度50〜90℃
に加熱されたp−アミノチオフェノールのアルカリ金属
塩に麿添加した後、温度60〜100℃に維持して反応
させることを特徴とする4、4゛−ビス(4−アミノフ
ェニルチオ)ジフェニルスルホンの製造方法を提供する
ものである。
′−ジクロルジフェニルスルホンを、温度50〜90℃
に加熱されたp−アミノチオフェノールのアルカリ金属
塩に麿添加した後、温度60〜100℃に維持して反応
させることを特徴とする4、4゛−ビス(4−アミノフ
ェニルチオ)ジフェニルスルホンの製造方法を提供する
ものである。
(4,4’−ジクロルジフェニルスルホン〉本発明で用
いられる4、4゛−ジクロルジフェニルスルホンは、ク
ロマト(液クロ、ガスクロ、薄層クロマト等)純度99
.5%以上のものである。尚、含有fiO,5%以下で
あれば、2,4゛−ジクロルジフェニルスルホンを含有
していても良い。
いられる4、4゛−ジクロルジフェニルスルホンは、ク
ロマト(液クロ、ガスクロ、薄層クロマト等)純度99
.5%以上のものである。尚、含有fiO,5%以下で
あれば、2,4゛−ジクロルジフェニルスルホンを含有
していても良い。
<p−アミノチオフェノールのアルカリ金属塩〉本発明
に用いられるp−アミノチオフェノールのアルカリ金属
塩は、p−アミノチオフェノールと、アルカリ金属の水
酸化物、炭酸塩、アルコキシド、水素化物、アルキル化
物等の塩基性アルカリ金属塩とから調製される。これら
の中で、実用上、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属塩を用
いたものが好ましい。
に用いられるp−アミノチオフェノールのアルカリ金属
塩は、p−アミノチオフェノールと、アルカリ金属の水
酸化物、炭酸塩、アルコキシド、水素化物、アルキル化
物等の塩基性アルカリ金属塩とから調製される。これら
の中で、実用上、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属塩を用
いたものが好ましい。
p−アミノチオフェノールのアルカリ金属塩溶液を調製
する温度は、0〜220℃、好ましくは、20〜180
℃の範囲で、調製時間は、10分〜10時間、好ましく
は、30分〜3時間の範囲である。その際に水が副生ず
る場合には、水と共沸し、水と相溶せず、しかも水より
比重の小さい溶媒、例えば、炭化水素系溶媒等を添加し
て、水を系外に共沸除去しても良い。
する温度は、0〜220℃、好ましくは、20〜180
℃の範囲で、調製時間は、10分〜10時間、好ましく
は、30分〜3時間の範囲である。その際に水が副生ず
る場合には、水と共沸し、水と相溶せず、しかも水より
比重の小さい溶媒、例えば、炭化水素系溶媒等を添加し
て、水を系外に共沸除去しても良い。
くモル比〉
4.4′−ジクロルジフェニルスルホン1モルに対し、
p−アミノチオフェノールのアルカリ金属は、2.1〜
5モル、好ましくは、2.4〜3モルである。
p−アミノチオフェノールのアルカリ金属は、2.1〜
5モル、好ましくは、2.4〜3モルである。
く反応溶媒〉
本発明では、例えば、N、N−ジメチルホルムアミド、
N、N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン
、N−メチル−ε−カプロラクタム、テトラメチル尿素
、1.3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、ジメチル
スルホキシド等の、非プロトン性極性溶媒を用いること
が好ましい。これらの中でも、N、N−ジメチルホルム
アミド又はN、N−ジメチルアセトアミドを用いるのが
より好ましい。
N、N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン
、N−メチル−ε−カプロラクタム、テトラメチル尿素
、1.3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、ジメチル
スルホキシド等の、非プロトン性極性溶媒を用いること
が好ましい。これらの中でも、N、N−ジメチルホルム
アミド又はN、N−ジメチルアセトアミドを用いるのが
より好ましい。
使用量は、芳香族ジハロゲン化合物と、p−アミノチオ
フェノールのアルカリ金属塩の和100重量部に対し、
50〜500重量部の割合である。
フェノールのアルカリ金属塩の和100重量部に対し、
50〜500重量部の割合である。
く反応条件〉
本発明の方法においては、4.4゛−ジクロルジフェニ
ルスルホンを加熱されたp−アミノチオフェノールのア
ルカリ金属塩へ添加した後、加熱しながら反応を進行さ
せる。
ルスルホンを加熱されたp−アミノチオフェノールのア
ルカリ金属塩へ添加した後、加熱しながら反応を進行さ
せる。
4.4′−ジクロルジフェニルスルホンの、p−アミノ
チオフェノールのアルカリ金属塩への添加温度は、50
〜90℃の範囲であり、添加時間は10分〜2時間の範
囲である。
チオフェノールのアルカリ金属塩への添加温度は、50
〜90℃の範囲であり、添加時間は10分〜2時間の範
囲である。
本反応は発熱反応であるので、4.4゛−ジクロルジフ
ェニルスルホンの添加に伴い、激しく発熱するので、9
0℃以下に温度を制御しながら添加することが、重要で
ある。反応温度は、60〜100℃、好ましくは、70
〜100℃の範囲である。
ェニルスルホンの添加に伴い、激しく発熱するので、9
0℃以下に温度を制御しながら添加することが、重要で
ある。反応温度は、60〜100℃、好ましくは、70
〜100℃の範囲である。
反応時間は、30分〜20時間、好ましくは、1〜5時
間である。尚、この反応は、窒素、アルゴン等の不活性
ガス雰囲気下で行うことが望ましい。
間である。尚、この反応は、窒素、アルゴン等の不活性
ガス雰囲気下で行うことが望ましい。
〈後処理〉
タノールで洗浄することにより、4,4″−ビス(4−
アミノフェニルチオ)ジフェニルスルホンが得られる。
アミノフェニルチオ)ジフェニルスルホンが得られる。
ここで得られたジアミン化合物は、この段階で樹脂製造
原料として充分な純度及び色相を有している。
原料として充分な純度及び色相を有している。
(発明の効果)
本発明の方法によれば、高純度、高収率で目的の4,4
°−ビス(4−アミノフェニルチオ)ジフェニルスルホ
ンが得られ、工業的製法として好適である。
°−ビス(4−アミノフェニルチオ)ジフェニルスルホ
ンが得られ、工業的製法として好適である。
(実施例)
以下、実施例により、本発明をさらに具体的に説明する
。
。
〈実施例1〉
温度計、ジムロート冷却管付きの氷分離器、窒素ガス導
入口、固体導入口の付いた、21の四ツ目フラスコに、
p−アミノチオフェノール300g(2,4モル)、炭
酸カリウム172.5 g (1,25モル)、N、N
−ジメチルホルムア藁ド(以下DMFと記す) 100
0m lを仕込み、80℃で1時間処理し、p−アミノ
チオフェノールカリウム塩を調製した。
入口、固体導入口の付いた、21の四ツ目フラスコに、
p−アミノチオフェノール300g(2,4モル)、炭
酸カリウム172.5 g (1,25モル)、N、N
−ジメチルホルムア藁ド(以下DMFと記す) 100
0m lを仕込み、80℃で1時間処理し、p−アミノ
チオフェノールカリウム塩を調製した。
次いで、80℃にて、4.4’−ジクロルジフェニルス
ルホン(三光化学■製工業品、液クロ純度99.9%以
上)244g(0,85モル)を30分かけて添加し、
100℃に温度を上げて、5時間反応を行った。
ルホン(三光化学■製工業品、液クロ純度99.9%以
上)244g(0,85モル)を30分かけて添加し、
100℃に温度を上げて、5時間反応を行った。
に、メタノール11で4回洗浄し、80℃の温度で、真
空炉で乾燥した。
空炉で乾燥した。
以上の操作で、4,4″−ビス(4−アミノフェニルチ
オ〉ジフェニルスルホンを白色固体として、394.1
g(収率cJ9.9%)得た。また、薄層クロマトスキ
ャナー(島津製作所C3−9000型)を用い、ヘキサ
ン/アセトン=1/1 (V/V)で、シリカゲルプ
レート上に展開した高性能薄層クロマトグラフィーで純
度測定(U V 、 245/288nm)したところ
、各々、99.4 / 99.1%であった。
オ〉ジフェニルスルホンを白色固体として、394.1
g(収率cJ9.9%)得た。また、薄層クロマトスキ
ャナー(島津製作所C3−9000型)を用い、ヘキサ
ン/アセトン=1/1 (V/V)で、シリカゲルプ
レート上に展開した高性能薄層クロマトグラフィーで純
度測定(U V 、 245/288nm)したところ
、各々、99.4 / 99.1%であった。
(実施例2〜5.比較例1〜4〉
反応溶媒、添加温度、反応温度、反応時間を変えて、種
々検討を行った。その結果を、第1表に示す。
々検討を行った。その結果を、第1表に示す。
Claims (1)
- クロマト純度99.5%以上の4,4′−ジクロルジフ
ェニルスルホンを、温度50〜90℃に加熱されたp−
アミノチオフェノールのアルカリ金属塩に添加した後、
温度60〜100℃に維持して反応させることを特徴と
する4,4′−ビス(4−アミノフェニルチオ)ジフェ
ニルスルホンの製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17144889A JPH0338564A (ja) | 1989-07-03 | 1989-07-03 | 4,4’―ビス(4―アミノフェニルチオ)ジフェニルスルホンの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17144889A JPH0338564A (ja) | 1989-07-03 | 1989-07-03 | 4,4’―ビス(4―アミノフェニルチオ)ジフェニルスルホンの製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0338564A true JPH0338564A (ja) | 1991-02-19 |
Family
ID=15923296
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17144889A Pending JPH0338564A (ja) | 1989-07-03 | 1989-07-03 | 4,4’―ビス(4―アミノフェニルチオ)ジフェニルスルホンの製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0338564A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011213712A (ja) * | 2010-03-19 | 2011-10-27 | Sumitomo Seika Chem Co Ltd | 新規ジアリールスルホン化合物及びその製造方法 |
US9040724B2 (en) | 2010-03-18 | 2015-05-26 | Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. | Diaryl sulfone compound, and manufacturing method for same |
US9365507B2 (en) | 2010-03-18 | 2016-06-14 | Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. | Diaryl sulfone compound, and manufacturing method for same |
-
1989
- 1989-07-03 JP JP17144889A patent/JPH0338564A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9040724B2 (en) | 2010-03-18 | 2015-05-26 | Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. | Diaryl sulfone compound, and manufacturing method for same |
US9365507B2 (en) | 2010-03-18 | 2016-06-14 | Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. | Diaryl sulfone compound, and manufacturing method for same |
JP2011213712A (ja) * | 2010-03-19 | 2011-10-27 | Sumitomo Seika Chem Co Ltd | 新規ジアリールスルホン化合物及びその製造方法 |
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