JPH0338564A - 4,4’―ビス(4―アミノフェニルチオ)ジフェニルスルホンの製造法 - Google Patents

4,4’―ビス(4―アミノフェニルチオ)ジフェニルスルホンの製造法

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JPH0338564A
JPH0338564A JP17144889A JP17144889A JPH0338564A JP H0338564 A JPH0338564 A JP H0338564A JP 17144889 A JP17144889 A JP 17144889A JP 17144889 A JP17144889 A JP 17144889A JP H0338564 A JPH0338564 A JP H0338564A
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JP
Japan
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aminothiophenol
alkali metal
purity
water
metal salt
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Pending
Application number
JP17144889A
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English (en)
Inventor
Makoto Terauchi
寺内 眞
Mutsuko Ikeda
睦子 池田
Mitsutoshi Aritomi
有富 充利
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Petrochemical Co Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Petrochemical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、4.4“−ビス(4−アミノフェニルチオ)
ジフェニルスルホンの改良された製造法に関する。
4.4゛−ビス(4−アミノフェニルチオ)ジフェニル
スルホンは、ポリアミド、ボリア藁トイミド、ボリイξ
ド等の耐熱性樹脂の原料や、エポキシ樹脂、マレイミド
樹脂の硬化剤等として有用である。
また、染料、医薬、農薬等の合成原料としても利用でき
る。
(従来の技術) 従来、チオエーテル結合を有する芳香族ジアミンの製造
法としては、代表的なものに次の2つの方法が知られて
いる。
■芳香族ビスチオールのアルカリ金属塩と、p−クロル
ニトロベンゼンとの反応によって得られるジ;トロ化合
物を、還元する方法(ソ連邦特許第478831号〉。
o′p−アミノチオフェノールのアルカリ金属塩と、芳
香族ジハロゲン化合物を反応させる方法(特開昭60−
188365号、同60−190755号、及び、同6
2−289556号公報)。
上記■の方法は、原料となる芳香族ビスチオールの製造
が容易でないことや、反応が2段階にわたり、操作が極
めて繁雑になる等、問題が多い。
一方、■の方法は、安価な原料を用いる方法であり、非
プロトン性極性溶媒中で反応させることにより、高収率
で反応を行うことができる。
(発明が解決しようとする課題) 4,4゛−ビス(4−アミノフェニルチオ)ジフェニル
スルホンを上記■の方法で製造した場合、そのままでは
、生成物の酸化等による着色や純度低下等の問題があり
、ポリマー原料に適する高純度品を得るためには再結晶
等の精製工程を要する等、工業的には好ましいものとは
いえない。
本発明は、上記の問題点を克服した、高純度かつ高収率
で、工業的に実施するのに有利な4.4°−ビス(4−
アミノフェニルチオ〉ジフェニルスルホンの製造法を提
供しようとするものである。
(課題を解決するための手段) 即ち、本発明は、クロマト純度99.5%以上の4.4
′−ジクロルジフェニルスルホンを、温度50〜90℃
に加熱されたp−アミノチオフェノールのアルカリ金属
塩に麿添加した後、温度60〜100℃に維持して反応
させることを特徴とする4、4゛−ビス(4−アミノフ
ェニルチオ)ジフェニルスルホンの製造方法を提供する
ものである。
(4,4’−ジクロルジフェニルスルホン〉本発明で用
いられる4、4゛−ジクロルジフェニルスルホンは、ク
ロマト(液クロ、ガスクロ、薄層クロマト等)純度99
.5%以上のものである。尚、含有fiO,5%以下で
あれば、2,4゛−ジクロルジフェニルスルホンを含有
していても良い。
<p−アミノチオフェノールのアルカリ金属塩〉本発明
に用いられるp−アミノチオフェノールのアルカリ金属
塩は、p−アミノチオフェノールと、アルカリ金属の水
酸化物、炭酸塩、アルコキシド、水素化物、アルキル化
物等の塩基性アルカリ金属塩とから調製される。これら
の中で、実用上、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属塩を用
いたものが好ましい。
p−アミノチオフェノールのアルカリ金属塩溶液を調製
する温度は、0〜220℃、好ましくは、20〜180
℃の範囲で、調製時間は、10分〜10時間、好ましく
は、30分〜3時間の範囲である。その際に水が副生ず
る場合には、水と共沸し、水と相溶せず、しかも水より
比重の小さい溶媒、例えば、炭化水素系溶媒等を添加し
て、水を系外に共沸除去しても良い。
くモル比〉 4.4′−ジクロルジフェニルスルホン1モルに対し、
p−アミノチオフェノールのアルカリ金属は、2.1〜
5モル、好ましくは、2.4〜3モルである。
く反応溶媒〉 本発明では、例えば、N、N−ジメチルホルムアミド、
N、N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン
、N−メチル−ε−カプロラクタム、テトラメチル尿素
、1.3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、ジメチル
スルホキシド等の、非プロトン性極性溶媒を用いること
が好ましい。これらの中でも、N、N−ジメチルホルム
アミド又はN、N−ジメチルアセトアミドを用いるのが
より好ましい。
使用量は、芳香族ジハロゲン化合物と、p−アミノチオ
フェノールのアルカリ金属塩の和100重量部に対し、
50〜500重量部の割合である。
く反応条件〉 本発明の方法においては、4.4゛−ジクロルジフェニ
ルスルホンを加熱されたp−アミノチオフェノールのア
ルカリ金属塩へ添加した後、加熱しながら反応を進行さ
せる。
4.4′−ジクロルジフェニルスルホンの、p−アミノ
チオフェノールのアルカリ金属塩への添加温度は、50
〜90℃の範囲であり、添加時間は10分〜2時間の範
囲である。
本反応は発熱反応であるので、4.4゛−ジクロルジフ
ェニルスルホンの添加に伴い、激しく発熱するので、9
0℃以下に温度を制御しながら添加することが、重要で
ある。反応温度は、60〜100℃、好ましくは、70
〜100℃の範囲である。
反応時間は、30分〜20時間、好ましくは、1〜5時
間である。尚、この反応は、窒素、アルゴン等の不活性
ガス雰囲気下で行うことが望ましい。
〈後処理〉 タノールで洗浄することにより、4,4″−ビス(4−
アミノフェニルチオ)ジフェニルスルホンが得られる。
ここで得られたジアミン化合物は、この段階で樹脂製造
原料として充分な純度及び色相を有している。
(発明の効果) 本発明の方法によれば、高純度、高収率で目的の4,4
°−ビス(4−アミノフェニルチオ)ジフェニルスルホ
ンが得られ、工業的製法として好適である。
(実施例) 以下、実施例により、本発明をさらに具体的に説明する
〈実施例1〉 温度計、ジムロート冷却管付きの氷分離器、窒素ガス導
入口、固体導入口の付いた、21の四ツ目フラスコに、
p−アミノチオフェノール300g(2,4モル)、炭
酸カリウム172.5 g (1,25モル)、N、N
−ジメチルホルムア藁ド(以下DMFと記す) 100
0m lを仕込み、80℃で1時間処理し、p−アミノ
チオフェノールカリウム塩を調製した。
次いで、80℃にて、4.4’−ジクロルジフェニルス
ルホン(三光化学■製工業品、液クロ純度99.9%以
上)244g(0,85モル)を30分かけて添加し、
100℃に温度を上げて、5時間反応を行った。
に、メタノール11で4回洗浄し、80℃の温度で、真
空炉で乾燥した。
以上の操作で、4,4″−ビス(4−アミノフェニルチ
オ〉ジフェニルスルホンを白色固体として、394.1
g(収率cJ9.9%)得た。また、薄層クロマトスキ
ャナー(島津製作所C3−9000型)を用い、ヘキサ
ン/アセトン=1/1  (V/V)で、シリカゲルプ
レート上に展開した高性能薄層クロマトグラフィーで純
度測定(U V 、 245/288nm)したところ
、各々、99.4 / 99.1%であった。
(実施例2〜5.比較例1〜4〉 反応溶媒、添加温度、反応温度、反応時間を変えて、種
々検討を行った。その結果を、第1表に示す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. クロマト純度99.5%以上の4,4′−ジクロルジフ
    ェニルスルホンを、温度50〜90℃に加熱されたp−
    アミノチオフェノールのアルカリ金属塩に添加した後、
    温度60〜100℃に維持して反応させることを特徴と
    する4,4′−ビス(4−アミノフェニルチオ)ジフェ
    ニルスルホンの製造法。
JP17144889A 1989-07-03 1989-07-03 4,4’―ビス(4―アミノフェニルチオ)ジフェニルスルホンの製造法 Pending JPH0338564A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011213712A (ja) * 2010-03-19 2011-10-27 Sumitomo Seika Chem Co Ltd 新規ジアリールスルホン化合物及びその製造方法
US9040724B2 (en) 2010-03-18 2015-05-26 Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. Diaryl sulfone compound, and manufacturing method for same
US9365507B2 (en) 2010-03-18 2016-06-14 Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. Diaryl sulfone compound, and manufacturing method for same

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9040724B2 (en) 2010-03-18 2015-05-26 Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. Diaryl sulfone compound, and manufacturing method for same
US9365507B2 (en) 2010-03-18 2016-06-14 Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. Diaryl sulfone compound, and manufacturing method for same
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