JPH0336420B2 - - Google Patents

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JPH0336420B2
JPH0336420B2 JP59033034A JP3303484A JPH0336420B2 JP H0336420 B2 JPH0336420 B2 JP H0336420B2 JP 59033034 A JP59033034 A JP 59033034A JP 3303484 A JP3303484 A JP 3303484A JP H0336420 B2 JPH0336420 B2 JP H0336420B2
Authority
JP
Japan
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sulfonic acid
naphthoquinonediazide
acid ester
cresol
xylenol
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP59033034A
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English (en)
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JPS60176034A (ja
Inventor
Yukihiro Hosaka
Takao Miura
Yoshuki Harita
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JSR Corp
Original Assignee
Japan Synthetic Rubber Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Japan Synthetic Rubber Co Ltd filed Critical Japan Synthetic Rubber Co Ltd
Priority to JP3303484A priority Critical patent/JPS60176034A/ja
Publication of JPS60176034A publication Critical patent/JPS60176034A/ja
Publication of JPH0336420B2 publication Critical patent/JPH0336420B2/ja
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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/022—Quinonediazides
    • G03F7/023—Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders
    • G03F7/0233—Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binders or the macromolecular additives other than the macromolecular quinonediazides
    • G03F7/0236—Condensation products of carbonyl compounds and phenolic compounds, e.g. novolak resins

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
  • Phenolic Resins Or Amino Resins (AREA)

Description

【発明の詳现な説明】
本発明はポゞ型感光性暹脂組成物に関する。 埓来、集積回路を䜜補するためのホトレゞスト
ずしおは、環化む゜プレンゎムにビスアゞド化合
物を配合したネガ型ホトレゞストが知られおい
る。しかしこのネガ型ホトレゞストは解像床に限
界があるため、集積回路の高集積化に十分察応で
きない欠点を有する。䞀方、このネガ型ホトレゞ
ストに比べ、ポゞ型ホトレゞストは、解像床が優
れおいるため、集積回路の高集積化に十分察応し
うるものず期埅されおいる。 珟圚、集積回路䜜補のために䜿甚されおいるポ
ゞ型ホトレゞストの倧郚分は、アルカリ可溶性ノ
ボラツク暹脂に−キノンゞアゞド化合物を
添加し、珟像液であるアルカリ性氎溶液に察する
溶解性を䜎䞋させ、該−キノンアゞド化合
物が光によ぀お反応し、アルカリ可溶性ずなる性
質を利甚したものである。このノボラツク暹脂系
ポゞ型ホトレゞストは、−キノンゞアゞド
化合物を倚量に配合せざるを埗ないために環化ゎ
ム系ネガ型ホトレゞストより䜎感床である。 ノボラツク暹脂系ポゞ型ホトレゞストの感床を
向䞊させるために、−キノンゞアゞド化合
物の添加量を䞋げるず露光前のレゞスト塗膜のア
ルカリ性氎溶液に察する溶解性が幟分高たり、ホ
トマスクを通しお露光した埌の珟像性が芋掛け䞊
向䞊し、感床が高くな぀たようにみえる。しか
し、レゞストパタヌンずしお残るべき未露光郚分
が、露光郚分ほどではないが、−キノンゞ
アゞド化合物の添加量が少ないために幟分溶解
し、パタヌンの高さが枛じる結果ずなる。レゞス
トパタヌンずしお残るべき未露光郚分の露光前ず
珟像埌の高さの比を残膜率ずいうが、埓来のノボ
ラツク暹脂系ポゞ型ホトレゞストは、この残膜率
が䜎いものであ぀た。残膜率が䜎いノボラツク暹
脂系ポゞ型ホトレゞストを、衚面に段差構造を有
する基板に塗垃し、露光し、珟像しおレゞストパ
タヌンを圢成するず、段差郚をレゞストパタヌン
が充分に被芆できないので、正垞な集積回路を䜜
補するこずが困難ずなる。 たた、集積回路䜜補工皋におけるレゞストパタ
ヌン圢成埌の゚ツチング工皋においお、フツ化氎
玠酞、硝酞、リン酞等を゚ツチダントずしお䜿甚
するり゚ツト゚ツチング方匏を甚いるず、基板の
厚さ方向のみを゚ツチングするこずが難しく、サ
むド゚ツチングたたはアンダヌ゚ツチングが同時
に起るこずが避けられないため、解像床を䞊げら
れないずいう欠点がある。この欠点をプロセス的
に解決するためには、ハロゲン化炭化氎玠等をプ
ラズマ化しお゚ツチダントずするドラむ゚ツチン
グ方匏の採甚が奜適である。しかし、この方法に
よるず、フツ玠むオン、塩玠むオン等の反応性む
オンがレゞストパタヌンをも攻撃するため、レゞ
ストの耐ドラむ゚ツチング性が悪いず、基板の枩
床が䞊昇するこずず盞俟぀お、レゞストパタヌン
の損傷が倧きく、基板の加工粟床が悪くなり、集
積回路生産の歩留りを悪化させるこずになる。ノ
ボラツク暹脂系ポゞ型ホトレゞストは、耐ドラむ
゚ツチング性が他のレゞストず比范しお良いず蚀
われおいるが、埓来のノボラツク暹脂系ホトレゞ
ストでは、十分満足するレベルには達しおいな
い。 本発明者らはかかる欠点を改良するために鋭意
研究の結果、特定のアルカリ可溶性ノボラツク暹
脂に−キノンゞアゞド化合物を配合する
ず、䞊蚘欠点を解決しうるこずを芋出し、本発明
に到達した。 すなわち、本発明の芁旚は、アルカリ可溶性ノ
ボラツク暹脂ず−キノンゞアゞド化合物ず
からなるポゞ型感光性暹脂組成物においお、該ア
ルカリ可溶性ノボラツク暹脂が−クレゟヌルず
キシレノヌルずを含有し、−クレゟヌルを含有
しない瞮合モノマヌをアルデヒド類を甚いお瞮合
したノボラツク暹脂であるこずを特城ずするポゞ
型感光性暹脂組成物にある。 本発明で䜿甚されるアルカリ可溶性ノボラツク
暹脂は、−クレゟヌルずキシレノヌルずをアル
デヒド類を甚いお瞮合したノボラツク暹脂であ
る。䞊蚘キシレノヌルずしおは、−キシレ
ノヌル、−キシレノヌル、−キシレ
ノヌル、−キシレノヌル、−キシレ
ノヌル、−キシレノヌル等を挙げるこずが
できる。 䞊蚘アルカリ可溶性ノボラツク暹脂は、本発明
の効果をより発揮するために、−クレゟヌル
キシレノヌルのモノマヌ仕蟌み組成を30〜95
〜70モル比、特に50〜95〜50モル比ず
しお、アルデヒド類を甚いお瞮合されるノボラツ
ク暹脂が奜たしい。 たた、本発明におけるアルカリ可溶性ノボラツ
ク暹脂には、共瞮合可胜なモノマヌ、䟋えば、フ
゚ノヌル、−クレゟヌル、゚チルプノヌル、
−ブチルプノヌル、−ゞヒドロキシベ
ンれン、−ゞヒドロキシベンれン、トリヒ
ドロキシベンれン等䜆し−クレゟヌルを陀
くを、本発明の効果を逞脱しない皋床に共瞮合
するこずもできる。 䞊蚘アルカリ可溶性ノボラツク暹脂は、䞊蚘モ
ノマヌを酞性觊媒の存圚䞋、アルデヒド類ず瞮合
させお合成される。 甚いるアルデヒド類ずしおは、䟋えばホルムア
ルデヒド、パラホルムアルデヒド、フルフラヌ
ル、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド等を挙
げるこずができるが、奜たしくはホルムアルデヒ
ドである。 䞊蚘酞性觊媒ずしおは、塩酞、硝酞、硫酞等の
無機酞、ギ酞、蓚酞、酢酞等の有機酞を䜿甚する
こずができる。 䞊蚘アルデヒド類の䜿甚量は、所定のモノマヌ
モルに察しお0.7〜モル、䞊蚘酞性觊媒の䜿
甚量は、所定のモノマヌモルに察しお×10-4
〜×10-3モルが䞀般的である。たた反応枩床
は、通垞70〜130℃である。 本発明で䜿甚される−キノンゞアゞド化
合物は、特に限定されるものではないが、䟋えば
−ベンゟキノンゞアゞド−−スルホン酞
゚ステル、−ナフトキノンゞアゞド−−
スルホン酞゚ステル、−ナフトキノンゞア
ゞド−−スルホン酞゚ステル等を挙げるこずが
できる。具䜓的には、−クレゟヌル−−
ベンゟキノンゞアゞド−−スルホン酞゚ステ
ル、レゟルシン−−ナフトキノンゞアゞド
−−スルホン酞゚ステル、ピロガロヌル−
−ナフトキノンゞアゞド−−スルホン酞゚ス
テル、フロログリシノヌル−−ナフトキノ
ンゞアゞド−−スルホン酞゚ステル等のポ
リヒドロキシベンれンの−キノンゞアゞ
ドスルホン酞゚ステル類、−ゞヒドロキシ
プニヌルプロピルケトン−−ベンゟキノ
ンゞアゞド−−スルホン酞゚ステル、−
ゞヒドロキシプニル−−ヘキシルケトン−
−ナフトキノンゞアゞド−−スルホン酞
゚ステル、−ゞヒドロキシベンゟプノン
−−ナフトキノンゞアゞド−−スルホン
酞゚ステル、−トリヒドロキシプニ
ル−−ヘキシルケトン−−ナフトキノン
ゞアゞド−−スルホン酞゚ステル、
−トリヒドロキシベンゟプノン−−ナフ
トキノンゞアゞド−−スルホン酞゚ステル、
−トリヒドロキシベンゟプノン−
−ナフトキノンゞアゞド−−スルホン酞
゚ステル、−トリヒドロキシベンゟフ
゚ノン−−ナフトキノンゞアゞド−−ス
ルホン酞゚ステル、−トリヒドロキシ
ベンゟプノン−−ナフトキノンゞアゞド
−−スルホン酞゚ステル等のポリヒドロキ
シプニルアルキルケトンたたはポリヒドロ
キシプニルアリヌルケトンの−キノンゞ
アゞドスルホン酞゚ステル類、ビス−ヒドロ
キシプニルメタン−−ナフトキノンゞ
アゞド−−スルホン酞゚ステル、ビス
−ゞヒドロキシプニルメタン−−ナフ
トキノンゞアゞド−−スルホン酞゚ステル、ビ
ス−トリヒドロキシプニルメタ
ン−−ナフトキノンゞアゞド−−スルホ
ン酞゚ステル、−ビス−ヒドロキシフ
゚ニルプロパン−−ナフトキノンゞアゞ
ド−−スルホン酞゚ステル、−ビス
−ゞヒドロキシプニルプロパン−
−ナフトキノンゞアゞド−−スルホン酞゚ス
テル、−ビス−トリヒドロキ
シプニルプロパン−−ナフトキノンゞ
アゞド−−スルホン酞゚ステル等のビス〔ポ
リヒドロキシプニル〕アルカンの−キ
ノンゞアゞドスルホン酞゚ステル類、−ゞ
ヒドロキシ安息銙酞ラりリル−−ナフトキ
ノンゞアゞド−−スルホン酞゚ステル、
−トリヒドロキシ安息銙酞プニル−
−ナフトキノンゞアゞド−−スルホン酞゚ス
テル、−トリヒドロキシ安息銙酞ラり
リル−−ナフトキノンゞアゞド−−スル
ホン酞トリ゚ステル、−トリヒドロキ
シ安息銙酞プロピル−−ナフトキノンゞア
ゞド−−スルホン酞゚ステル、−ト
リヒドロキシ安息銙酞プニル−−ナフト
キノンゞアゞド−−スルホン酞゚ステル等の
ポリヒドロキシ安息銙酞アルキル゚ステルた
たはポリヒドロキシ安息銙酞アリヌル゚ステ
ルの−キノンゞアゞドスルホン酞゚ステル
類、ビス−ゞヒドロキシベンゟむルメ
タン−−ナフトキノンゞアゞド−−スル
ホン酞゚ステル、ビス−トリヒドロ
キシベンゟむルメタン−−ナフトキノン
ゞアゞド−−スルホン酞゚ステル、ビス
−トリヒドロキシベンゟむルメタン−
−ナフトキノンゞアゞド−−スルホン酞
゚ステル、−ビス−ゞヒドロキシベン
ゟむルベンれン−−ナフトキノンゞアゞ
ド−−スルホン酞゚ステル、−ビス
−トリヒドロキシベンゟむルベンれン−
−ナフトキノンゞアゞド−−スルホン酞
゚ステル、−ビス−トリヒドロキ
シベンゟむルベンれン−−ナフトキノン
ゞアゞド−−スルホン酞゚ステル等のビス
〔ポリヒドロキシベンゟむル〕アルカンたたは
ビス〔ポリヒドロキシベンゟむル〕ベンれン
の−キノンゞアゞドスルホン酞゚ステル
類、゚チレングリコヌル−ゞ−ゞヒドロ
キシベンゟ゚ヌト−−ナフトキノンゞア
ゞド−−スルホン酞゚ステル、ポリ゚チレング
リコヌル−ゞ−ゞヒドロキシベンゟ゚ヌ
ト−−ナフトキノンゞアゞド−−スル
ホン酞゚ステル、ポリ゚チレングリコヌル−ゞ
−トリヒドロキシベンゟ゚ヌト−
−ナフトキノンゞアゞド−−スルホン酞
゚ステル等のポリ゚チレングリコヌル〔ポ
リヒドロキシベンゟ゚ヌト〕の−キノン
ゞアゞドスルホン酞゚ステル類を挙げるこずがで
きる。これら䟋瀺した−キノンゞアゞド化
合物の他にJ.Kosar著“Light−Sensitive
Systems”339〜3521965John Wiley
Sons瀟New yorkやW.S.De.Forest著
“Photoresist”501975Mc Graw−Hill.
Inc.New yorkに蚘茉されおいる−
キノンゞアゞド化合物を挙げるこずもできる。 これら−キノンゞアゞド化合物の含有量
は、䞊蚘アルカリ可溶性ノボラツク暹脂100重量
郚に察しお奜たしくは〜100重量郚であり、特
に奜たしくは10〜50重量郚である。重量郚未満
では、添加量が少ないために−キノンゞア
ゞド化合物のアルカリ可溶性ノボラツク暹脂に察
する䞍溶化効果が䞍十分であり、露光郚ず未露光
郚のアルカリ溶解性に差を぀けるこずができない
ので、パタヌニングが困難であり、100重量郚を
超えるず、短時間の光照射では、加えた−
キノンゞアゞド化合物の党おを分解するこずがで
きず、アルカリ性氎溶液からなる珟像液による珟
像が困難ずなる。 本発明のポゞ型感光性暹脂組成物は、䞊蚘アル
カリ可溶性ノボラツク暹脂ず−キノンゞア
ゞド化合物を溶剀に溶解しお䜜補するが、溶剀ず
しおは、䟋えば゚チレングリコヌルモノメチル゚
ヌテル、゚チレングリコヌルモノ゚チル゚ヌテル
等のグリコヌル゚ヌテル類、メチルセロ゜ルブア
セテヌト、゚チルセロ゜ルブアセテヌト等のセロ
゜ルブ゚ステル類、トル゚ン、キシレン等の芳銙
族炭化氎玠類、メチル゚チルケトン、シクロヘキ
サノン等のケトン類、酢酞゚チル、酢酞ブチル等
の゚ステル類を挙げるこずができる。たたこれら
の溶剀を皮類以䞊混合しお䜿甚するこずもでき
る。さらにベンゞル゚チル゚ヌテル、ゞヘキシル
゚ヌテル等の゚ヌテル類、ゞ゚チレングリコヌル
モノメチル゚ヌテル、ゞ゚チレングリコヌルモノ
゚チル゚ヌテル等のグリコヌル゚ヌテル類、アセ
トニルアセトン、む゜ホロン等のケトン類、カプ
ロン酞、カプリル酞等の脂肪酞類、−オクタノ
ヌル、−ノナノヌル、ベンゞルアルコヌル等の
アルコヌル類、酢酞ベンゞル、安息銙酞゚チル、
シナり酞ゞ゚チル、マレむン酞ゞ゚チル、γ−ブ
チロラクトン、炭酞゚チレン、炭酞プロピレン、
プニルセロ゜ルブアセテヌト等の゚ステル類の
劂き高沞点溶剀を添加するこずもできる。 さらに、必芁に応じお、本発明のポゞ型感光性
暹脂組成物に、界面掻性剀、保存安定剀、色玠、
顔料等を添加するこずも可胜である。 たた、本発明のポゞ型感光性暹脂組成物の塗膜
ずシリコン酞化膜等の基板ずの接着力を向䞊させ
るため、ヘキサメチルゞシラザンやクロロメチル
シラン等を予め被塗垃基板に塗垃するこずもでき
る。 本発明のポゞ型感光性暹脂組成物の珟像液ずし
おは、䟋えば氎酞化ナトリりム、氎酞化カリり
ム、炭酞ナトリりム、ケむ酞ナトリりム、メタケ
む酞ナトリりム、リン酞䞉ナトリりム、リン酞氎
玠ナトリりム等の無機アルカリ類の氎溶液、−
プロピルアミン、ゞ−−プロピルアミン、ゞ−
−ブチルアミン、メチルゞ゚チルアミン、ピロ
ヌル、−ゞメチルピロヌル、β−ピコリ
ン、コリゞン、ピペリゞン、ピペラゞン、トリ゚
チレンゞアミン等のアミン類の氎溶液、ゞメチル
゚タノヌルアミン、トリ゚タノヌルアミン、ゞ゚
チルヒドロキシルアミン等のアルコヌルアミン類
の氎溶液、テトラメチルアンモニりムヒドロキシ
ド、テトラ゚チルアンモニりムヒドロキシド等の
第玚アンモニりム塩の氎溶液、アンモニア氎等
が挙げられ、金属を含有する珟像液の䜿甚が問題
ずなる集積回路䜜補時には、第玚アンモニりム
塩や環状アミンの氎溶液を䜿甚するのが奜たし
い。たた䞊蚘アルカリ類の氎溶液にメタノヌル、
゚タノヌルのようなアルコヌル類等の氎溶性有機
溶媒や界面掻性剀を適圓量添加した氎溶液を珟像
液に䜿甚するこずもできる。 本発明のポゞ型感光性暹脂組成物は、高感床、
高残膜率、高耐ドラむ゚ツチング性を有し、さら
に耐熱性、珟像性にも優れおいる。これは、−
クレゟヌルずキシレノヌルを䜿甚するこずによ぀
お埗られるものである。 䞀般に、ポゞ型感光性暹脂組成物においおは、
感床ず残膜率は二埋背反の関係にあり、同時に䞡
特性を向䞊させるこずは非垞に困難であるが、本
発明のポゞ型感光性暹脂組成物は、感床ず残膜率
を同時に改善するこずができたものである。 本発明のポゞ型感光性暹脂組成物は、集積回路
䜜補甚ポゞ型ホトレゞストずしお特に有甚である
ばかりでなく、ホトマスク䜜補甚ポゞ型ホトレゞ
ストずしおも有甚である。 次に、実斜䟋をあげお本発明をさらに具䜓的に
説明するが、本発明はこれらの実斜䟋によ぀お䜕
ら制玄されるものではない。 実斜䟋  内容積500mlの䞉぀口セパラブルフラスコに
−クレゟヌル105および−キシレノヌル
30〔−クレゟヌル−キシレノヌル
8020モル比〕を仕蟌んだのち、37重量ホル
ムアルデヒド氎溶液92ml、蓚酞0.04を添加し
た。撹拌しながら、セパラブルフラスコを油济に
浞し、容噚内枩床を100℃にコントロヌルしなが
ら、時間30分、付加瞮合重合を行な぀た。反応
埌、油济の枩床を180℃たで䞊げ、同時に反応容
噚内の圧力を20mmHgたで枛圧しお、氎および未
反応物を陀去した。次いで溶融したノボラツク暹
脂以䞋、ノボラツク暹脂ず略蚘する。を宀
枩に戻しお回収した。 ノボラツク暹脂A13ず−トリヒド
ロキシベンゟプノン−−ナフトキノンゞ
アゞド−−スルホン酞トリ゚ステルを゚チ
ルセロ゜ルブアセテヌト35に溶解したのち、孔
埄0.2Όのメンブランフむルタヌで過し、ポゞ
型感光性暹脂組成物の溶液を調補した。 シリコン酞化膜を有するシリコンり゚ハヌ䞊に
スピンナヌを甚いお䞊蚘溶液を塗垃したのち、90
℃で30分間、オヌブン䞭でプレベヌクしお1Ό
厚のレゞスト膜を圢成した。次に、凞版印刷(æ ª)補
ホトマスクを介しお、Optical AssociatesInc.
補Model205玫倖線匷床蚈で范正した゚ネルギヌ
365nmが、10mJcm2の玫倖線を照射し、テト
ラメチルアンモニりムヒドロキシド重量氎溶
液で、20℃、60秒間珟像したずころ、線巟1.0Ό
のレゞストパタヌンが解像できた。たた、このレ
ゞストの残膜率を枬定したずころ94ず非垞に高
い倀を瀺した。したが぀お、このポゞ型感光性暹
脂組成物は、感床、残膜率ずもに高いこずがわか
぀た。 以䞊のようにしお埗られたレゞストパタヌンを
平行平板型プラズマドラむ゚ツチング装眮電極
間隔40mmに装着し、出力100W、ガス圧15Paの
条件で四フツ化炭玠酞玠95容量比をプ
ラズマ化しお、レゞストパタヌンの耐ドラむ゚ツ
チング性を調べた。䞀般に、レゞストパタヌンが
゚ツチングされる速床ずシリコン酞化膜のそれず
の比を遞択比ず称するが、本実斜䟋では、遞択比
が3.0ず非垞に高い倀を瀺し、ノボラツク暹脂
の耐ドラむ゚ツチング性が優れおいるこずが確認
された。 実斜䟋 〜 ノボラツク暹脂ず衚−に瀺す−キノ
ンゞアゞド化合物を䜿甚した他は、実斜䟋ず同
様、ポゞ型感光性暹脂組成物の溶液を調補し、次
いでレゞストパタヌンを圢成したずころ、衚−
に瀺すように、いずれも感床、残膜率、耐ドラむ
゚ツチング性に優れたものであ぀た。
【衚】 実斜䟋 〜 実斜䟋のノボラツク暹脂における−クレ
ゟヌルおよび−キシレノヌルに代えお、衚
−に瀺す各モノマヌ組成物を甚い、他はノボラ
ツク暹脂の堎合ず同様に付加瞮合重合しお埗ら
れたノボラツク暹脂を䜿甚し、実斜䟋ず同様に
ポゞ型感光性暹脂組成物の溶液を調補し、次いで
レゞストパタヌンを圢成し、その特性を枬定し
た。その結果を衚−に瀺すが、いずれも感床、
残膜率、耐ドラむ゚ツチング性に優れたものであ
぀た。
【衚】 実斜䟋  実斜䟋のモノマヌ仕蟌み量を−クレゟヌル
64.8および−キシレノヌル73.2〔−
クレゟヌル−キシレノヌル5050モ
ル比〕に代えた他は実斜䟋ず同様にしおノボ
ラツク暹脂を合成した。 このノボラツク暹脂13および−キノン
ゞアゞド化合物ずしお−トリヒドロキ
シベンゟプノンモルず−ナフトキノン
ゞアゞド−−スルホン酞クロリドモルずの瞮
合物を甚いお実斜䟋ず同様にポゞ型感光性
暹脂組成物の溶液を調補し、次いでレゞストパタ
ヌンを圢成したずころ、感床15.5mJcm2、残膜
率96、耐ドラむ゚ツチング性遞択比2.9ず
優れたものであ぀た。 比范䟋  実斜䟋のモノマヌ仕蟌量を−クレゟヌル
113.4、−クレゟヌル16.2〔−クレゟヌ
ル−クレゟヌル87.512.5モル比〕に替
えた他は実斜䟋ず同様にしお、ノボラツク暹脂
を合成した。 このノボラツク暹脂を甚いお実斜䟋ず同様に
ポゞ型感光性暹脂組成物の溶液を調補し、次いで
レゞストパタヌンを圢成したずころ、感床は
15mJcm2ず比范的良奜であ぀たが、残膜率が80
ず䜎く、感床ず残膜率のバランスが取れないも
のもあ぀た。たた、耐ドラむ゚ツチング性テスト
における遞択比は2.2ず䜎く、耐ドラむ゚ツチン
グ性も悪い結果が埗られた。 比范䟋  実斜䟋のモノマヌ仕蟌みを−キシレノ
ヌルのみ146.4に代えた他は、実斜䟋ず同様
にしおノボラツク暹脂を合成した。 このノボラツク暹脂を甚いお実斜䟋ず同様に
ポゞ型感光性暹脂組成物の溶液を調補し、レゞス
ト膜を圢成した。次に、100mJcm2の玫倖線を照
射した他は実斜䟋ず同様に珟像したずころ、線
å·Ÿ1.0Όのレゞストパタヌンがほずんど解像でき
なか぀た。

Claims (1)

    【特蚱請求の範囲】
  1.  アルカリ可溶性ノボラツク暹脂ず−キ
    ノンゞアゞド化合物ずからなるポゞ型感光性暹脂
    組成物においお、該アルカリ可溶性ノボラツク暹
    脂が−クレゟヌルずキシレノヌルずを含有し、
    −クレゟヌルを含有しない瞮合モノマヌをアル
    デヒド類を甚いお瞮合したノボラツク暹脂である
    こずを特城ずするポゞ型感光性暹脂組成物。
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