JPH03296211A - ブランキングアパーチャアレーの製造方法 - Google Patents

ブランキングアパーチャアレーの製造方法

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靖 高橋
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    • Y10T428/24322—Composite web or sheet

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の概要〕 ブランキングアパーチャアレーの製造方法に関し、特に
このブランキングアパーチャアレーにおける電極作成に
おいて、従来、基板を相当深くエツチングる、必要性が
ありかつ基板の側面に沿って電極側面が作成されるので
極めてストレートにエツチングる、必要性のあること並
びに電極用材料の完全な埋め込みの困難性、という問題
点を解決る、ことを目的とし、 基板上に電極層を形成し、次いで該基板と該電極層の同
一位置に電子ビームが通過る、孔を形成る、ように構成
る、。
〔産業上の利用分野〕
本発明は、電子ビーム露光装置用のブランキングアパー
チャアレーの製造方法に関し、更に詳しくは該ブランキ
ングアパーチャアレーにおける電極の改良された製造方
法に関る、。
〔従来の技術〕
電子ビーム露光装置には電子ビームをスポット状にして
使用る、ポイントビーム型、サイズ可変の矩形にして使
用る、可変矩形ビーム型、ステンシルに所望とる、パタ
ーンのビーム通過孔を作成しておき、そのステンシルを
使用して所望形状にる、ステンシルマスク型等がある。
ポイントビーム型は微細なパターンを形成る、のに適し
ているが非常にスループットが低いので、研究開発用に
しか使用されない。可変矩形ビームではこれより１〜２
桁スループットが高いが、０、ＩＩＲＴ１程度の微細パ
ターンが高集積度で詰まったパターンを露光る、場合に
は、やはりスループットが低い。これで１ギガＤＲＡＭ
を露光る、と約３桁程度スループットが足りない。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、多数の開口の各々の内部にそれぞれ対向する電極を
    設置して電圧を印加し、各孔を通過する電子ビームの軌
    道を２通りに変化せしめて、電子ビーム光学系下部のア
    パーチャを通過するかしないかを選択し、該多数の開口
    を通過したビームのオンオフを行う、電子ビーム露光装
    置用のブランキングアパーチャアレーの製造方法であっ
    て、基板上に電極層を形成し、次いで該基板と該電極層
    の同一位置に電子ビームが通過する孔を形成することを
    含んでなる前記ブランキングアパーチャアレーの製造方
    法。 ２、電極材料と基板・素子・配線とを絶縁するための絶
    縁層を基板上に形成し、該絶縁層にコンタクト用の窓を
    開け、該絶縁層及び窓部分の全域に電極材料を所望の電
    極長さ分だけ堆積し、エッチングにより電極材料の不要
    部分を除去し、次いで基板と絶縁膜と電極材料をエッチ
    ングして開口し、電子ビーム通過孔を形成する、請求項
    １記載のブランキングアパーチャアレーの製造方法。 ３、電極材料と基板・素子・配線とを絶縁するための絶
    縁層を基板上に形成し、該絶縁層にコンタクト用の窓を
    開け、該絶縁層及び窓部分の全域に電極材料を所望の電
    極長さ分だけ堆積し、基板と絶縁膜と電極材料をエッチ
    ングして開口し、電子ビーム通過孔を形成し、次いで電
    極材料の不要部分を除去する、請求項１記載のブランキ
    ングアパーチャアレーの製造方法。 ４、電極材料の不要部分の除去を、開口部となる領域を
    除いて行う、請求項２または３に記載のブランキングア
    パーチャアレーの製造方法。 ５、基板内に形成されている素子領域に対応して絶縁層
    内にコンタクト用の窓開けを行う請求項１〜４のいずれ
    かに記載のブランキングアパーチャアレーの製造方法。 ６、エッチングにより電子ビーム通過孔の形成すると同
    時に電極層が形成される、請求項１ないし５項のいずれ
    かに記載のブランキングアパーチャアレーの製造方法。
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