JPH0328724B2 - - Google Patents

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JPH0328724B2
JPH0328724B2 JP58070283A JP7028383A JPH0328724B2 JP H0328724 B2 JPH0328724 B2 JP H0328724B2 JP 58070283 A JP58070283 A JP 58070283A JP 7028383 A JP7028383 A JP 7028383A JP H0328724 B2 JPH0328724 B2 JP H0328724B2
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JP
Japan
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core
metal
groove
magnetic
wafer
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JP58070283A
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English (en)
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JPS59195315A (ja
Inventor
Toshio Oonishi
Masaru Doi
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sanyo Electric Co Ltd
Original Assignee
Sanyo Electric Co Ltd
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Publication date
Application filed by Sanyo Electric Co Ltd filed Critical Sanyo Electric Co Ltd
Priority to JP7028383A priority Critical patent/JPS59195315A/ja
Publication of JPS59195315A publication Critical patent/JPS59195315A/ja
Publication of JPH0328724B2 publication Critical patent/JPH0328724B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/127Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
    • G11B5/1272Assembling or shaping of elements

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Magnetic Heads (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 (イ) 産業上の利用分野 本発明はビデオ信号等の高周波信号を稠密記
録、再生する装置、たとえばVTR装置に利用さ
れる磁気ヘツドの製造方法に関するものである。
(ロ) 従来技術 VTR装置の稠密記録化のため、例えば現行の
β,VHS方式に較べて2倍以上の高密度化を図
るためいわゆる8ミリビデオの開発が進められて
いる。このような記録密度の稠密化には記録媒体
の保持力(Hc)を従来の2倍以上の1300〜1500
エルステツドとする必要があり、その記録時の磁
気ヘツドの飽和磁束密度(Bs)は保持力の5〜
6倍のオーダーであることが必要とされるため、
6500〜9000ガウスが必要となる。従来の一般的な
ビデオ用磁気ヘツドはMn−Znフエライトの磁気
コアで構成されているが、その飽和磁束密度は
5500ガウス程度であり、上記記録媒体(いわゆる
メタルテープ)に対する磁気ヘツドとして適当で
ない。
そこで、飽和磁束密度が大きい(7000〜9000ガ
ウス)金属磁性材料、たとえばFe−Al−Si系
(センダスト)合金、アモルフアス磁性合金を磁
気コアとして利用する磁気ヘツド(以下メタルヘ
ツドという)の開発が進められ、種々のものが提
案されている。第1図は従来の代表的なメタルヘ
ツドの構成斜視図を示すものである。又、第2図
はこのメタルヘツドの構成要素の分解斜視図であ
る。記録トラツク幅を決定するコア1の厚み
(t)は10〜40μと薄く、機械強度を保障するた
めこのコアの両側から非磁性材(例えばガラス)
の補強体2でサンドイツチする構成としている。
ここで、コア1はコア半体11,12を衝き合わ
せて構成させており、両コア半体11,12の接
合は対向面間に配備した結合材(銀ロウ)13,
14,15によつて行なつている。尚、符号1
6,17はそれぞれフロントギヤツプ、バツクギ
ヤツプを示している。
金属磁性材料と銀ロウのぬれ性の悪さによつ
て、コア1のフロントギヤツプ16に隣接する結
合材13によるコア半体11,12の結合を、フ
ロントギヤツプ部における磁気特性を劣化させず
に実行することは難しい。2つのコア半体11,
12のコイ窓18に第3図に示す如く配した銀ロ
ウ19を、この銀ロウの液相点よりかなり高い温
度で加熱すると、第4図に示す如く両コア半体1
1,12の接合を可能にすることができるが各コ
ア半体の組織内に銀ロウの拡散層20をも同時に
形成してしまい該当部における磁気特性を劣化さ
せるし、一方上記液相点近傍の作業温度にすると
第5図に示す如く両コア半体11,12を接合す
ることができないおそれがあるからである。
この銀ロウのぬれ性の悪さを解決するために、
コアの接合個所に予じめ金属膜(厚さが10μ以上
の銅膜)をメツキ法で付設し、溶融銀ロウがこの
金属膜をとり込みながら流動するようにし、その
結果両コアの接合を、フロントギヤツプ部におけ
る磁気特性を劣化させずに可能にするという技術
が特開昭55−153119号公報に示されている。これ
は、実験室的規模では成功しているが量産に適し
ていないといえる。第1に、必要な厚さの銅膜を
得るのに長時間を要すること、第2に、通常の作
業環境条件のもとでは銅膜が変質(酸化等)しや
すく保管が難しいからである。
(ハ) 発明の目的 本発明は以上の点に留意してなされたもので、
フロントギヤツプ部における磁気特性を劣化させ
ずに該当部の接合強度を十分に確保できしかも量
産性の確立に不可欠な磁気ヘツドの製造方法を提
供しようとするものである。
(ニ) 発明の構成 本発明は金属磁性材料よりなるコアウエハのフ
ロントギヤツプ構成面に隣接しかつコイル窓とな
る条溝表面あるいは該条溝に対向する表面上に、
銀ロウ等のロウ材の流動性を保障するための貴金
属(銀、金、パラジウム、白金、あるいはこれら
の1つを主成分とする合金から選ばれた金属)の
薄膜を付設し、これを利用してこの薄膜を付設し
た領域に1組のコアウエハを機械的に接合する連
結部を形成するものである。
銀等の薄膜を蒸着やスパツタリング等で付設
し、これを利用して銀ロウでコアウエハを接合す
るので、膜厚を十分に薄く構成(たとえば0.1〜
0.5μ程度)しても銀ロウの流動性を確保すること
ができる。
(ホ) 実施例 第6図〜第17図は本発明の各工程の説明に供
するもので、以下これらの図面を参考にして本実
施例を説明する。
第6図は金属磁性材料たるFe−Al−Si系合金
(以下センダストという)製のコアウエハを示し、
このコアウエハ3の一面31を鏡面に研磨加工し
ている。第7図はコアウエハ3と衝き合わせるた
めの他方のセンダスト製コアウエハを示し、この
コアウエハ4の一面41も同様に鏡面に研磨加工
している。この加工面の一部であつて将来フロン
トギヤツプ構成面となる部分に、ギヤツプ長に相
当する厚さ(通常0.1〜0.3μ)のSiO2よりなるス
ペーサ膜5をスパツタ(或いは真空蒸着法)によ
つて付設する。
第8図は他方のコアウエハ4に対する溝加工を
説明するものである。スペーサ膜5を付設したコ
アウエハ4に対し、磁気ヘツド完成時コイル窓と
なる第1条溝42を、スペーサ膜側の口縁が該ス
ペーサ膜5の付設域に部分的にかかるように開設
し、またこの第1条溝42に平行に、バツクギヤ
ツプ構成面側で両コアウエハ3,4の接合を達成
するための第2条溝43を開設する。各開設はボ
ラゾンブレード等によつてなされる。
第9図、第10図は各コアウエハ3,4に対し
金属の薄膜を付設した状態を示している。コアウ
エハ3に対しては第1条溝42、第2条溝43に
それぞれ対向する領域でこれら各条溝の開口域に
含まれる部分に、第1、第2条帯61,62を付
設する。又、コアウエハ4に対しては、第1、第
2条溝42,43の各溝表面上に、それぞれ第
3、第4条帯63,64を付設する。
第11図、第12図は第9図、第10図中のx
−x′,y−y′断面の一部を拡大して示すものであ
り、第1、第3条帯部分を代表して示している。
各条帯61,63は蒸着法(或いはスパツタリン
グ等)で形成され、厚さ(t1)(t2)は何れも0.1μ
以上0.5μ以下(より厚く構成しても良いがその利
点が認められない)に設定されている。本実施例
における付着金属は非磁性材で通常の作業環境下
で安定な材料たる銀を選定しているが、これらの
条件に関して同等な材料である金、白金、パラジ
ウム、或いはこれらの1つを主成分とする合金か
ら選ばれた金属(いわゆる貴金属)の薄膜を利用
するようにしてもよい。
第13図は両コアウエハの接合工程を説明する
ものである。両コアウエハ3,4は各鏡面が対向
するように衝き合わされ、第1条溝42に対して
は該第1条溝の断面積に比べて断面積が十分に小
さい(約1/4)銀ロウの棒71を挿入し、又第2
条溝43に対しては該第2条溝の断面積に近い大
きさの銀ロウの棒72を挿入する。各棒71,7
2は本実施例では銀ロウ材BAg−5(Ag:Cu:
Zn=45:30:25wt%)を使用している。両コア
ウエハ3,4の溶着は、両コアウエハを真空炉或
いは不活性ガス雰囲気炉に入れ、かつ、所定の圧
力を加えた状態で、第14図実線8に示す温度プ
ログラムに従つて為される。液相点(745℃)を
超える温度(約800℃)迄一定の温度勾配(例え
ば約40℃/分)で上昇させ、その後殆んど時を置
かず図示の温度勾配で降温するようにしている。
これは、破線81で示す銀膜のないときの最適温
度条件(銀ロウが条溝内に充てんされかつ拡散が
最小の条件)に比べて作業温度が低くまた作業時
間が少なくて済む。尚、本例では炉内の温度を間
接的に上昇させる溶着装置を適用した関係上、上
昇温度勾配を急峻にするには限度があるが、例え
ば誘導法等試料を直接加熱する装置の如く上昇温
度勾配を急峻にできる装置を使用して急熱、急冷
(例えば100℃/分〜30℃/分)をして作業時間を
短縮しても良い。この場合、拡散傾向を更に抑制
するのに効果的であると認められる。
第15図は両コアウエハの溶着された状態を示
すものである。第1条溝42内には銀ロウの量を
少なくしているのでコイルを巻くためのスペース
があけられている。又、両コアウエハのフロント
ギヤツプ構成面に隣接する条溝部分の対向面間に
連結部73を形成し、フロントギヤツプのずれを
防ぐように接合されている。第2条溝43内には
銀ロウを十分に充てんすることができる。溶融銀
ロウは金属膜をとかしてとり込み図示73,7
4,75の傾向で固化される。図ではスペーサ膜
5の厚さを誇張して示しているので、バツクギヤ
ツプ部にも大きなスペースがあいているように見
えるが該当部のコアウエハは事実上密接し少しく
銀ロウが浸透する傾向を呈するにすぎない。
第16図はコアブロツク(両コアウエハの溶着
されたもの)の斜視図を示し、同時にこれから多
数のコアをとり出すための方法を示している。先
ず、1点鎖線9に沿つて部分91を除去し、その
後、2点鎖線92に沿つてスライシングを施して
各コアを得て、その後各コアについて更にトラツ
ク幅に相当する厚さに研磨をする。
第17図はこのようにして得たコア10を2枚
の補強体2,2で挾んで構成してなるコアチツプ
の斜視図である。テープ当接面は対テープの整合
のため破線93で示す如くいわゆるアール付け加
工され、さらにコイル(図示省略)を巻いてメタ
ルヘツドを得る。
第18図イ,ロは第1条溝42に対する金属膜
の別の付設例を示すものである。コアウエハの衝
合部付近を接合すれば良いから、同図イの如く条
溝42の溝底面に金属膜を付設しないようにして
も良いし、また同図ロに示す如く条溝42側の金
属膜の付設を省略しても良い。とくに後者の場
合、一方のコアウエハに対する膜蒸着工程を節減
できる効果がある。尚、第2条溝側に付いても同
様である。
第20図は条帯61,63の厚さt(μm)と
良品率M(%)の関係を示すものである。図示の
如く、良品質Mは厚さtが0.1μm以上でほぼ完全
であることが明らかである。
(ハ) 発明の効果 本発明は金属磁性材料よりなるコアウエアをロ
ウ材で接合するのに、接合所要個所に、通常の作
業環境条件下では変質しにくい貴金属(銀、金、
パラジウム、白金あるいはこれらの1つを主成分
とする合金)の膜厚が0.1〜0.5μ程度の薄膜を付
設し、これを利用してロウ材(例えば銀ロウ)の
流動性を保障しメタルヘツドのフロントギヤツプ
付近に対するロウ材の付設を確実にするようにし
たので寿命特性の良い磁気ヘツドを生産性良く製
造でき有用である。とくに、貴金属は通常の作業
環境条件下では変質(酸化)しにくいので磁気ヘ
ツドの歩留まり向上に寄与でき、また付着量が少
なくて良いので作業時間を短縮できる。
また、本発明により製造した磁気ヘツドはフロ
ントギヤツプ構成面付近の磁気特性がロウ材の拡
散によつて劣化されないので、再生出力の周波数
特性が従来の金属膜を付設しないで銀ロウ溶着を
した磁気ヘツドに比べて向上させることができ
る。第19図はこの特性を比較するもので、実線
82,83は本発明によるもののギヤツプ深さが
それぞれ10μ、50μのときのもので、破線84,
85はそれぞれ従来例の対応ギヤツプ深さのもの
である。とくに、ギヤツプ深さが小さくなつたと
きの特性差が顕著に表わされている。尚、対テー
プ相対速度を3.75m/sec、1VをOdBとしてい
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は一般のメタルヘツドの構成斜視図、第
2図は同メタルヘツドの要素を分解して示す斜視
図、第3図、第4図、第5図は銀ロウ溶着法の説
明図である。第6図〜第17図は本発明方法の1
実施例の工程説明図で、第6図、第7図は各コア
ウエアの斜視図、第8図は溝加工の説明図、第9
図、第10図は各コアウエアに対する金属膜付設
工程の説明図、第11図、第12図はそれぞれ第
9図のx−x′、第10図のy−y′断面図、第13
図、第15図はロウ付け工程の前後の説明図、第
14図はロウ付工程の温度プログラム図、第16
図はコアウエハ溶着後のコアブロツクの斜視図、
第17図はメタルヘツド(アール付け加工前)の
斜視図、第18図イ、ロは第1条溝に対する金属
膜は別の付設例を示す断面図、第19図は再生出
力の周波数特性図、第20図は条帯の厚さと良品
率の関係を示す特性図である。 主な図番の説明、3,4…1組のコアウエハ、
42,43…第1、第2条溝、61,62,6
3,64…薄膜、71,72…ロウ材、73…連
結部。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 金属磁性材料よりなる1組のコアウエハの各
    対向面を鏡面に加工し少なくとも一方のコアウエ
    ハの加工面上にコイル窓となる条溝を開設する工
    程と、前記一方のコアウエハの前記条溝の表面
    と、他方のコアウエハの表面のうち前記条溝と対
    向する領域とにのみ貴金属の薄膜を付設する工程
    と、前記両コアウエハを、そのフロントギヤツプ
    構成面間に非磁性スペーサのみを挟んで衝き合わ
    せその状態で前記条溝内に配備したロウ材を溶着
    し、前記両フロントギヤツプ構成面に隣接する前
    記条溝部分の対向面間に連結部を形成する工程と
    を備える磁気ヘツドの製造方法。
JP7028383A 1983-04-20 1983-04-20 磁気ヘツドの製造方法 Granted JPS59195315A (ja)

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JPH0722164B2 (ja) * 1992-09-17 1995-03-08 ローム株式会社 抵抗内蔵トランジスタ

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5960724A (ja) * 1982-09-30 1984-04-06 Nec Home Electronics Ltd 磁気ヘツド用コア

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