JPH0327038B2 - - Google Patents
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- JPH0327038B2 JPH0327038B2 JP58185509A JP18550983A JPH0327038B2 JP H0327038 B2 JPH0327038 B2 JP H0327038B2 JP 58185509 A JP58185509 A JP 58185509A JP 18550983 A JP18550983 A JP 18550983A JP H0327038 B2 JPH0327038 B2 JP H0327038B2
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N3/00—Preparing for use and conserving printing surfaces
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G13/00—Electrographic processes using a charge pattern
- G03G13/26—Electrographic processes using a charge pattern for the production of printing plates for non-xerographic printing processes
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G15/00—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
- G03G15/06—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for developing
- G03G15/10—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for developing using a liquid developer
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- Physics & Mathematics (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は印刷版の、特に電子写真方式により、
光導電性感光層上にトナー像が形成された平版印
刷版の溶出装置に関する。
光導電性感光層上にトナー像が形成された平版印
刷版の溶出装置に関する。
印刷に供される版材は、通常PS版や樹脂版が
多用され、最近では電子写真技術の利用による有
機半導体を使用したアルミ版板も実用化されるよ
うになつた。
多用され、最近では電子写真技術の利用による有
機半導体を使用したアルミ版板も実用化されるよ
うになつた。
従来のPS版は、その版面の感光層の光照射部
分が、光化学反応により光硬化し、化学的に安定
化すると同時に、印刷版を構成するアルミ基板
(以下、基板と称す)との密着性も増す。その反
面、光照射されない未硬化な感光層の部分は化学
処理により溶解または膨潤し、同時に基板との密
着性もなくなるような特性を持つた感光体で構成
されている。この感光体特性にマツチングした薬
材を現像液として現像処理する装置が従来のPS
版プロセツサーと呼ばれるものである。さらにこ
のプロセツサーには、通常残存未硬化膜の除去を
目的として、回転ブラシ等の摩擦部材が具備され
ている。これは、化学処理のみでは光化学反応部
未反応部との接着部分が短時間に完全に分離し難
く、それ故、物理的(機械的)処理との併用がな
されるものである。
分が、光化学反応により光硬化し、化学的に安定
化すると同時に、印刷版を構成するアルミ基板
(以下、基板と称す)との密着性も増す。その反
面、光照射されない未硬化な感光層の部分は化学
処理により溶解または膨潤し、同時に基板との密
着性もなくなるような特性を持つた感光体で構成
されている。この感光体特性にマツチングした薬
材を現像液として現像処理する装置が従来のPS
版プロセツサーと呼ばれるものである。さらにこ
のプロセツサーには、通常残存未硬化膜の除去を
目的として、回転ブラシ等の摩擦部材が具備され
ている。これは、化学処理のみでは光化学反応部
未反応部との接着部分が短時間に完全に分離し難
く、それ故、物理的(機械的)処理との併用がな
されるものである。
この化学処理と機械的摩擦処理とを併用した平
版印刷版の現像処理装置として、既に、特公昭46
−33527号、特公昭49−47621号の公知例がある。
これは現像液をスポンジ状のもので版面になすり
付ける様式にて処理する方法、また実公昭51−
9282号、実公昭52−562号、実公昭54−8804号、
実開昭54−37201号等の公知例は、現像液で膨潤
処理しつつ、後続した回転ブラシ等で膨潤膜を擦
取る様式となつている。更に平版印刷版の再生処
理や平版印刷版等の洗浄、整面処理装置として、
特公昭53−326号や実公昭42−21692号、実公昭43
−14088号の公知例もある。これらはいずれも版
面を化学処理のみならず、機械的に擦取るべく、
版面への接触部材の適用を前提条件としている。
また、電子写真装置においては、処理液を版面上
に供給し、流下させるようにしたものがある。
版印刷版の現像処理装置として、既に、特公昭46
−33527号、特公昭49−47621号の公知例がある。
これは現像液をスポンジ状のもので版面になすり
付ける様式にて処理する方法、また実公昭51−
9282号、実公昭52−562号、実公昭54−8804号、
実開昭54−37201号等の公知例は、現像液で膨潤
処理しつつ、後続した回転ブラシ等で膨潤膜を擦
取る様式となつている。更に平版印刷版の再生処
理や平版印刷版等の洗浄、整面処理装置として、
特公昭53−326号や実公昭42−21692号、実公昭43
−14088号の公知例もある。これらはいずれも版
面を化学処理のみならず、機械的に擦取るべく、
版面への接触部材の適用を前提条件としている。
また、電子写真装置においては、処理液を版面上
に供給し、流下させるようにしたものがある。
本発明は回転ブラシ等を利用する新規な版面処
理装置を提供するもので、回転ブラシ等を版面上
の感光体に非接触で、かつ、感光体上の溶出液に
は接触するよう保持し、この回転ブラシ等の運動
により、感光体上の溶出液中の化学反応種の感光
体への拡散と浸透を、また反応生成種の溶出液中
への逸散を助長するべく、溶出液撹拌部材を具備
していることを特徴とする。
理装置を提供するもので、回転ブラシ等を版面上
の感光体に非接触で、かつ、感光体上の溶出液に
は接触するよう保持し、この回転ブラシ等の運動
により、感光体上の溶出液中の化学反応種の感光
体への拡散と浸透を、また反応生成種の溶出液中
への逸散を助長するべく、溶出液撹拌部材を具備
していることを特徴とする。
本発明に係る溶出装置に使用する版材は、版面
の感光体が光化学反応により安定性を得る従来方
式のものではなく、電子写真方式を利用したも
の、すなわち基板上の光導電性物質を帯電し、露
光し、現像し、定着するというトナーリング処理
し、トナー被膜を形成して、化学的安定性を得る
ものである。
の感光体が光化学反応により安定性を得る従来方
式のものではなく、電子写真方式を利用したも
の、すなわち基板上の光導電性物質を帯電し、露
光し、現像し、定着するというトナーリング処理
し、トナー被膜を形成して、化学的安定性を得る
ものである。
本発明の第1の目的は、上述した光導電性感光
層を基板上に塗布して形成した印刷版を溶出処理
する好適な溶出装置を提供することにある。
層を基板上に塗布して形成した印刷版を溶出処理
する好適な溶出装置を提供することにある。
本発明の第2の目的は、カメラダイレクト製版
システム又はレーザダイレクト製版システムにお
ける製版処理速度の向上を図ることにあり、特に
該システムにおける溶出速度を向上せしめること
にある。
システム又はレーザダイレクト製版システムにお
ける製版処理速度の向上を図ることにあり、特に
該システムにおける溶出速度を向上せしめること
にある。
本発明の第3の目的は、ムラのない均一高精度
な溶出仕上りを得ることのできる溶出装置を提供
することにある。
な溶出仕上りを得ることのできる溶出装置を提供
することにある。
本発明の他の目的及び利点は以下の記載から明
らかとなるであろう。
らかとなるであろう。
以下、本発明の詳細を図示の実施例に基づき説
明する。
明する。
第1図は、本発明の印刷版溶出装置全体の概略
側面図であり、第2図は溶出部の概略側面図であ
り、第3図は溶出液撹拌部材の作用状態と示す仮
想モデル図である。
側面図であり、第2図は溶出部の概略側面図であ
り、第3図は溶出液撹拌部材の作用状態と示す仮
想モデル図である。
第1図及び第2図において、アルミニウム板の
如き支持体10上(第3図参照)に塗布された光
導電性感光膜11(第3図参照)にトナー像を定
着した印刷版(以下、版と称す)1はトナー像面
(以下、版面と称す)を上向きにして、溶出装置
に案内搬送され、溶出処理された後、次工程へと
案内搬送されていく。即ち図における矢印の方向
に版1は順次送り出されていく構造である。
如き支持体10上(第3図参照)に塗布された光
導電性感光膜11(第3図参照)にトナー像を定
着した印刷版(以下、版と称す)1はトナー像面
(以下、版面と称す)を上向きにして、溶出装置
に案内搬送され、溶出処理された後、次工程へと
案内搬送されていく。即ち図における矢印の方向
に版1は順次送り出されていく構造である。
第1図に従つて、本発明に係る溶出装置の処理
工程の概略を説明すると、版1は搬送ローラ2に
て、まず溶出部Aに案内される。案内された版1
の版面側には溶出部上部に配設した溶出液供給部
材3,4より、溶出液が供給される。供給された
溶出液は、版面上に保持され、版面のトナー定着
されていない部分(以下、非レジスト部分と称
す)を化学処理しながら、版裏面を接触支持する
プラテン5と対向して、版面上に版面と非接触の
回転ブラシ6で光導電性感光膜11の溶出反応を
促進させた後搬送・絞りローラ22を経て、次工
程の水洗部Bへ送られる。水洗部Bでは、水洗水
供給部材7より、その上部から版面に水洗水を供
給しながら、同時に溶出部Aの回転ブラシ6と同
様の回転ブラシ6′にて水洗し、搬送・絞りロー
ラ22を経て次工程の安定化部Cに送られる。水
洗部Bでの回転ブラシ6′は版面上のトナーのレ
ジスト性にこだわる必要がないので、版面への接
触・非接触のいずれでもよく、その目的は早く前
工程の化学作用を停止することにある。これは処
理スピード向上にともなつて重要となる。又、水
洗水放流の場合には節水効果も有する。安定化部
Cは、従来のPS版の露出アルミ面の親水化処理
と同じで、安定化剤供給部材8によりその上部か
ら版面に散布し、搬送・絞りローラ22を経て乾
燥部Dへ送られる。乾燥部Dは熱風乾燥部材9に
より乾燥した後、排出され、平版印刷版処理が終
了する。尚、この平版印刷版溶出装置における溶
出液、水洗水、安定化液は、いずれも図示されて
いない貯槽と循環ポンプにより循環使用してい
る。
工程の概略を説明すると、版1は搬送ローラ2に
て、まず溶出部Aに案内される。案内された版1
の版面側には溶出部上部に配設した溶出液供給部
材3,4より、溶出液が供給される。供給された
溶出液は、版面上に保持され、版面のトナー定着
されていない部分(以下、非レジスト部分と称
す)を化学処理しながら、版裏面を接触支持する
プラテン5と対向して、版面上に版面と非接触の
回転ブラシ6で光導電性感光膜11の溶出反応を
促進させた後搬送・絞りローラ22を経て、次工
程の水洗部Bへ送られる。水洗部Bでは、水洗水
供給部材7より、その上部から版面に水洗水を供
給しながら、同時に溶出部Aの回転ブラシ6と同
様の回転ブラシ6′にて水洗し、搬送・絞りロー
ラ22を経て次工程の安定化部Cに送られる。水
洗部Bでの回転ブラシ6′は版面上のトナーのレ
ジスト性にこだわる必要がないので、版面への接
触・非接触のいずれでもよく、その目的は早く前
工程の化学作用を停止することにある。これは処
理スピード向上にともなつて重要となる。又、水
洗水放流の場合には節水効果も有する。安定化部
Cは、従来のPS版の露出アルミ面の親水化処理
と同じで、安定化剤供給部材8によりその上部か
ら版面に散布し、搬送・絞りローラ22を経て乾
燥部Dへ送られる。乾燥部Dは熱風乾燥部材9に
より乾燥した後、排出され、平版印刷版処理が終
了する。尚、この平版印刷版溶出装置における溶
出液、水洗水、安定化液は、いずれも図示されて
いない貯槽と循環ポンプにより循環使用してい
る。
本発明の溶出液撹拌部材6を有する溶出部A
を、更に具体的に第2図に基づいて説明する。
を、更に具体的に第2図に基づいて説明する。
図示していない溶出液槽からポンプにより、版
1の進行方向(矢印)と直角横方向に、版1導入
側上部に配置された溶出液供給管3へ、溶出液は
送られ、この供給管の多数孔から流出する溶出液
は、その供給管と同方向に近接して配置された整
流板4により層流帯状Eにし、溶出部Aに導入さ
れた版1の版面上に供給される。
1の進行方向(矢印)と直角横方向に、版1導入
側上部に配置された溶出液供給管3へ、溶出液は
送られ、この供給管の多数孔から流出する溶出液
は、その供給管と同方向に近接して配置された整
流板4により層流帯状Eにし、溶出部Aに導入さ
れた版1の版面上に供給される。
斯る版面上への溶出液の層流帯状E供給は均一
化学処理を行なう上で、重要である。
化学処理を行なう上で、重要である。
一般に、化学反応をさせる場合、その反応速度
は、反応界面までの反応種の拡散と、反応界面で
の反応種の濃度、更には反応界面での分圧に左右
されることは良く知られている。
は、反応界面までの反応種の拡散と、反応界面で
の反応種の濃度、更には反応界面での分圧に左右
されることは良く知られている。
本発明に係る溶出装置を使用した溶出処理にお
いても、版面への反応種を含む溶出液が乱流等、
不均一に供給したならば、上記反応要素である拡
散や濃度、さらには分圧など不均一となり、その
結果不均一な溶出処理を招く。当然、供給時の発
泡もしかりである。
いても、版面への反応種を含む溶出液が乱流等、
不均一に供給したならば、上記反応要素である拡
散や濃度、さらには分圧など不均一となり、その
結果不均一な溶出処理を招く。当然、供給時の発
泡もしかりである。
このように整流板により版面に層流帯状Eに均
一供給された溶出液は、上記反応要素を均一にす
べく、表面張力をそれ以上保持するように版面へ
連続供給され、版面を層流溶出液流Fに浸漬した
ような状態にて、化学処理をする。此の化学処理
は版膜面から膜内部へと化学作用が経時的に進行
して、膜の溶出を行う。この場合、膜内部への化
学作用の進展を均一にすることは、「溶出ムラ」
の発生防止の上から重要なことで、斯る版面上に
層流溶出液流を、ある一定時間形成することは、
既述の版面への溶出液の層流供給と併せて重要で
ある。
一供給された溶出液は、上記反応要素を均一にす
べく、表面張力をそれ以上保持するように版面へ
連続供給され、版面を層流溶出液流Fに浸漬した
ような状態にて、化学処理をする。此の化学処理
は版膜面から膜内部へと化学作用が経時的に進行
して、膜の溶出を行う。この場合、膜内部への化
学作用の進展を均一にすることは、「溶出ムラ」
の発生防止の上から重要なことで、斯る版面上に
層流溶出液流を、ある一定時間形成することは、
既述の版面への溶出液の層流供給と併せて重要で
ある。
しかし、本発明に使用される版材の感光体が、
従来のPS版感光体と異なり、もともと化学的に
不安定とは言え、版面上の溶出液流のみでは、前
記反応要素である拡散、濃度、分圧等について、
特に溶出処理スピード向上を求める場合には、充
分と言えない。
従来のPS版感光体と異なり、もともと化学的に
不安定とは言え、版面上の溶出液流のみでは、前
記反応要素である拡散、濃度、分圧等について、
特に溶出処理スピード向上を求める場合には、充
分と言えない。
本発明は、この溶出処理スピード向上を図る手
段として、この化学処理に後続し、溶出液撹拌部
材である回転ブラシ6を、その長軸が版1の進行
方向(矢印)と直角横方向に、その外周ブラシ尖
端が版面と非接触で、かつ、版面上の現像液に接
触するごとく、位置決め可能な機構にて、配置し
たことである。尚、この回転ブラシの位置決めを
可能にすべく、回転ブラシ6と対向して版裏面と
均一安定に接触・支持すべく、プラテン5の配置
がなされている。
段として、この化学処理に後続し、溶出液撹拌部
材である回転ブラシ6を、その長軸が版1の進行
方向(矢印)と直角横方向に、その外周ブラシ尖
端が版面と非接触で、かつ、版面上の現像液に接
触するごとく、位置決め可能な機構にて、配置し
たことである。尚、この回転ブラシの位置決めを
可能にすべく、回転ブラシ6と対向して版裏面と
均一安定に接触・支持すべく、プラテン5の配置
がなされている。
この様に配置された回転ブラシ6は、版面上に
保持されている溶出液を回動撹拌し、版1の水平
搬送とあいまつて、版面全域にわたつて均一に、
第3図の如く、乱流を起こさせ、前記反応要素の
作用効果を最大限に生じせしめる。
保持されている溶出液を回動撹拌し、版1の水平
搬送とあいまつて、版面全域にわたつて均一に、
第3図の如く、乱流を起こさせ、前記反応要素の
作用効果を最大限に生じせしめる。
上述の実施例にもとずいた実験結果を概説する
と、まず、版面上の溶出液量が大体3mm〜5mmの
厚さに保持されるので、回転ブラシ6の位置決め
は、実用上、容易に可能である。
と、まず、版面上の溶出液量が大体3mm〜5mmの
厚さに保持されるので、回転ブラシ6の位置決め
は、実用上、容易に可能である。
次に、回転ブラシの有無により、製版仕上がり
状態から溶出効果を溶出スピードにて評価する
と、回転ブラシ6を配置しない場合は、従来の
PS版処理スピードと同様の約60mm〜100mm/分で
あるが、回転ブラシ6を配置、回動させれば、そ
れが250mm/分位までスピードアツプすることが
出来る。また、回転ブラシを静止、配置しておけ
ば、従来のPS版現像処理スピードより速い傾向
にある。更に、この堰止め部材として、版面非接
触の接液部が、毛等の針状隙間形態である方が隙
間のないフラツト形態のものよりも有効であつ
た。これは版1の搬送スピードより速い層流溶出
液流が、版搬送スピードに加わり、静止ブラシ尖
端部での堰止め現象を呈し、現像液の乱流による
版面への有効作用が得られたものと考えられる。
そして、この乱流状態も微細化多数発生が望まし
いようである。
状態から溶出効果を溶出スピードにて評価する
と、回転ブラシ6を配置しない場合は、従来の
PS版処理スピードと同様の約60mm〜100mm/分で
あるが、回転ブラシ6を配置、回動させれば、そ
れが250mm/分位までスピードアツプすることが
出来る。また、回転ブラシを静止、配置しておけ
ば、従来のPS版現像処理スピードより速い傾向
にある。更に、この堰止め部材として、版面非接
触の接液部が、毛等の針状隙間形態である方が隙
間のないフラツト形態のものよりも有効であつ
た。これは版1の搬送スピードより速い層流溶出
液流が、版搬送スピードに加わり、静止ブラシ尖
端部での堰止め現象を呈し、現像液の乱流による
版面への有効作用が得られたものと考えられる。
そして、この乱流状態も微細化多数発生が望まし
いようである。
更に回転ブラシ6を版面に接触させた場合の溶
出仕上がり版面を評価すると、従来のPS版処理
スピードと同様な処理スピードにおいても、回動
回転ブラシの外周毛の剛・軟性により問題の大小
が発生する。一般に、回転ブラシの外周毛の剛・
軟性は毛の長さと直径によつて規制され、実験に
おいても、ナイロン径1.0mmφにて短いブラシと
0.8mmφの長いブラシを利用して比較した。その
結果は前者はトナー定着部の局部的欠けが多く、
後者においても、わずかにその傾向があり、当然
のことながら、いずれの場合においても、版面へ
の回転ブラシの接触は好ましいものではなかつ
た。
出仕上がり版面を評価すると、従来のPS版処理
スピードと同様な処理スピードにおいても、回動
回転ブラシの外周毛の剛・軟性により問題の大小
が発生する。一般に、回転ブラシの外周毛の剛・
軟性は毛の長さと直径によつて規制され、実験に
おいても、ナイロン径1.0mmφにて短いブラシと
0.8mmφの長いブラシを利用して比較した。その
結果は前者はトナー定着部の局部的欠けが多く、
後者においても、わずかにその傾向があり、当然
のことながら、いずれの場合においても、版面へ
の回転ブラシの接触は好ましいものではなかつ
た。
第3図は、回転ブラシの回動による化学作用促
進挙動を仮想し、側断面的にモデル化したもので
ある。
進挙動を仮想し、側断面的にモデル化したもので
ある。
版1は、アルミ基板10上に光導電性感光膜1
1が塗布され、その感光膜11上にトナー定着膜
12が電子写真法により被覆されている。既に、
版面上の層流溶出液流Fによつて、非レジスト部
Gの感光体は膜内部まで化学処理されているが、
化学反応要素の制約により、斜線部分の如く、ア
ルミ基板10の界面まで完全になされていない。
換言すれば、溶出処理スピードをアツプさせた場
合、経時的には未反応感光体部を有していると考
えられる。更に、此の未反応感光体部の化学特性
にもよるが、斜線部G1が膨潤状態を形成してい
れば、斜線部内実線矢印14は、版面上の層流溶
出液流に基づく反応種流動軌跡13に従い、膜面
から反応種の膜内部への浸透度合を、同様に斜線
部内破線矢印15は膜内部から、反応生成種の膜
面への拡散度合を、更に版面上の破線矢印16は
この反応生成物の溶出液中への逸散度合を示して
いる。
1が塗布され、その感光膜11上にトナー定着膜
12が電子写真法により被覆されている。既に、
版面上の層流溶出液流Fによつて、非レジスト部
Gの感光体は膜内部まで化学処理されているが、
化学反応要素の制約により、斜線部分の如く、ア
ルミ基板10の界面まで完全になされていない。
換言すれば、溶出処理スピードをアツプさせた場
合、経時的には未反応感光体部を有していると考
えられる。更に、此の未反応感光体部の化学特性
にもよるが、斜線部G1が膨潤状態を形成してい
れば、斜線部内実線矢印14は、版面上の層流溶
出液流に基づく反応種流動軌跡13に従い、膜面
から反応種の膜内部への浸透度合を、同様に斜線
部内破線矢印15は膜内部から、反応生成種の膜
面への拡散度合を、更に版面上の破線矢印16は
この反応生成物の溶出液中への逸散度合を示して
いる。
次に版1が搬送されて、既に化学作用を受けた
非レジスト部G1は回転ブラシ6部に移動する。
この部分の版面の層流溶出液流は、回転ブラシ6
の矢印方向17の回動により乱流を起こし、反応
種及び反応生成種の拡散及び逸散を助ける。この
拡散及び逸散軌跡が版面上の乱流溶出液中での実
線矢印13′,13″及び破線矢印16′である。
これにより版面境膜部では常に新しい反応種が高
濃度化され、更に回転ブラシ6の回動による版面
への液流圧も加わり、膜内部での化学作用は一層
強まり、斜線部G2領域はアルミ基板10面まで
広がる。また斜線部内の反応種の拡散・浸透度合
を表示する実線矢印14′や生成種の逸散度合を
表示する破線矢印15′も長くなる。
非レジスト部G1は回転ブラシ6部に移動する。
この部分の版面の層流溶出液流は、回転ブラシ6
の矢印方向17の回動により乱流を起こし、反応
種及び反応生成種の拡散及び逸散を助ける。この
拡散及び逸散軌跡が版面上の乱流溶出液中での実
線矢印13′,13″及び破線矢印16′である。
これにより版面境膜部では常に新しい反応種が高
濃度化され、更に回転ブラシ6の回動による版面
への液流圧も加わり、膜内部での化学作用は一層
強まり、斜線部G2領域はアルミ基板10面まで
広がる。また斜線部内の反応種の拡散・浸透度合
を表示する実線矢印14′や生成種の逸散度合を
表示する破線矢印15′も長くなる。
トナー定着膜12で被覆された非斜線部Hの感
光体は、そのトナー層体が化学的に安定であるた
め、そのレジスト効果により、化学作用は防止さ
れる。このレジスト効果の必然的結果として、感
光体密着トナー端部の感光体は化学作用を受け溶
出される。この部分は通常、サイドエツチ部Iと
呼ばれこの大きさは光導電性感光膜11や被覆ト
ナー定着膜12の膜厚に大きく依存する。本発明
に使用する版材の光導電性感光膜11の厚みは数
μと薄く、その上に密着されるトナー定着膜12
は更に薄い。従つて、実際的には極く僅かのサイ
ドエツチ部であろうが、回転ブラシ6の接触は、
このサイドエツチ部Iのトナー定着膜12を引か
け剥離する傾向があるが、本発明の回転ブラシ6
の版面への非接触は、トナー定着膜11の密着強
度のみならず、かかるサイドエツチングの現象か
らも必要となる。
光体は、そのトナー層体が化学的に安定であるた
め、そのレジスト効果により、化学作用は防止さ
れる。このレジスト効果の必然的結果として、感
光体密着トナー端部の感光体は化学作用を受け溶
出される。この部分は通常、サイドエツチ部Iと
呼ばれこの大きさは光導電性感光膜11や被覆ト
ナー定着膜12の膜厚に大きく依存する。本発明
に使用する版材の光導電性感光膜11の厚みは数
μと薄く、その上に密着されるトナー定着膜12
は更に薄い。従つて、実際的には極く僅かのサイ
ドエツチ部であろうが、回転ブラシ6の接触は、
このサイドエツチ部Iのトナー定着膜12を引か
け剥離する傾向があるが、本発明の回転ブラシ6
の版面への非接触は、トナー定着膜11の密着強
度のみならず、かかるサイドエツチングの現象か
らも必要となる。
本発明は溶出液の定常供給と定常化学処理に後
続して、溶出液撹拌部材を版面に非接触に、か
つ、版面上の溶出液には接触するごとく配置する
ことにあり、この配置される溶出液撹拌部材は上
記、実施例の回転ブラシに限定されることなく、
例えば第3図における化学作用促進挙動モデルに
従うものであればいずれでもよい。
続して、溶出液撹拌部材を版面に非接触に、か
つ、版面上の溶出液には接触するごとく配置する
ことにあり、この配置される溶出液撹拌部材は上
記、実施例の回転ブラシに限定されることなく、
例えば第3図における化学作用促進挙動モデルに
従うものであればいずれでもよい。
例えば回転表面が凹凸状の回転ローラでもよ
く、また必ずしも回転動作は必要なく、ハケ等に
よる前後左右いずれでも動作し、版面上の溶出液
のみを乱流することを目的とする機能部材であれ
ば良い。
く、また必ずしも回転動作は必要なく、ハケ等に
よる前後左右いずれでも動作し、版面上の溶出液
のみを乱流することを目的とする機能部材であれ
ば良い。
上述の説明から明らかなように、光導電性感光
層を基板上に塗布して形成した印刷版の溶出処理
に好適な溶出装置を提供し得たものであり、しか
もその溶出速度は溶出液撹拌部材による撹拌によ
り向上されるとともに、本発明の溶出液撹拌部材
の版面への非接触機構は、従来から問題となつて
いる摩擦部材による版端部の折曲りの発生、
溶出物による付着・目詰りや印圧によるクセ等の
摩擦部材の形状変化に対するメンテナンス頻度大
と短寿命、機械的摩擦による膜欠け、溶出かす
付着等からの溶出ムラ発生、等について、これら
を必然的に解消させ、その上、折曲げ防止工夫の
不要な装置化や部材に係わる小メンテナンスと長
寿命化が可能となることは、装置コストのみなら
ず生産コストも安価となり、しかも溶出ムラの起
り難い均一高精度な版面上がりが得られると言う
有効性がある。
層を基板上に塗布して形成した印刷版の溶出処理
に好適な溶出装置を提供し得たものであり、しか
もその溶出速度は溶出液撹拌部材による撹拌によ
り向上されるとともに、本発明の溶出液撹拌部材
の版面への非接触機構は、従来から問題となつて
いる摩擦部材による版端部の折曲りの発生、
溶出物による付着・目詰りや印圧によるクセ等の
摩擦部材の形状変化に対するメンテナンス頻度大
と短寿命、機械的摩擦による膜欠け、溶出かす
付着等からの溶出ムラ発生、等について、これら
を必然的に解消させ、その上、折曲げ防止工夫の
不要な装置化や部材に係わる小メンテナンスと長
寿命化が可能となることは、装置コストのみなら
ず生産コストも安価となり、しかも溶出ムラの起
り難い均一高精度な版面上がりが得られると言う
有効性がある。
第1図は本発明に係る印刷版の溶出装置の概略
側面図、第2図は本発明の溶出液撹拌部材を有す
る溶出部の概略側面図、第3図はその溶出液撹拌
部材による作用状態の仮想モデル図である。 1…印刷版、2…搬送ローラ、3…溶出液供給
管、4…整流板、5…プラテン、6,6′…回転
ブラシ、7…水洗水供給部材、8…安定化剤供給
部材、9…熱風乾燥部材、10…アルミ基板、1
1…光導電性感光膜、12…トナー定着膜、1
3,13′,13″…反応種の流動軌跡、16,1
6′…反応生成種の流動軌跡、22…搬送絞りロ
ーラ、A…溶出部、B…水洗部、C…安定化部、
D…乾燥部、E…層流帯状、F…層流溶出液流、
G…非レジスト部、G1,G2…斜線部、H,H
1,H2…非斜線部、I…サイドエツチ部。
側面図、第2図は本発明の溶出液撹拌部材を有す
る溶出部の概略側面図、第3図はその溶出液撹拌
部材による作用状態の仮想モデル図である。 1…印刷版、2…搬送ローラ、3…溶出液供給
管、4…整流板、5…プラテン、6,6′…回転
ブラシ、7…水洗水供給部材、8…安定化剤供給
部材、9…熱風乾燥部材、10…アルミ基板、1
1…光導電性感光膜、12…トナー定着膜、1
3,13′,13″…反応種の流動軌跡、16,1
6′…反応生成種の流動軌跡、22…搬送絞りロ
ーラ、A…溶出部、B…水洗部、C…安定化部、
D…乾燥部、E…層流帯状、F…層流溶出液流、
G…非レジスト部、G1,G2…斜線部、H,H
1,H2…非斜線部、I…サイドエツチ部。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 支持体上に光導電性感光層を塗布しその感光
層にトナー像を形成した印刷版を、該トナー像面
を上向きにして水平搬送しながら、トナーによつ
て被覆されていない部分の感光層の溶出を行う印
刷版の溶出装置において、該印刷版上の該トナー
像面に非接触で、かつ、該トナー像面上の溶出液
に接触してその溶出液を局部的に撹拌する溶出液
撹拌部材を配置したことを特徴とする印刷版の溶
出装置。 2 溶出液供給部にあつて、溶出液供給管と、流
出した溶出液を整流する整流板とにより、該トナ
ー像面へ溶出液を層流帯状形態にて供給するよう
にした特許請求の範囲第1項記載の印刷版の溶出
装置。 3 溶出液撹拌部材が毛ブラシである特許請求の
範囲第1項記載の印刷版の溶出装置。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58185509A JPS6076395A (ja) | 1983-10-03 | 1983-10-03 | 印刷版の溶出装置 |
US06/650,351 US4627698A (en) | 1983-10-03 | 1984-09-13 | Processing apparatus for printing plates |
GB08424014A GB2147228B (en) | 1983-10-03 | 1984-09-21 | Processing printing plates |
FR848415036A FR2552898B1 (fr) | 1983-10-03 | 1984-10-01 | Appareil de traitement de plaques d'impression comportant une couche organique photoconductrice |
DE19843436125 DE3436125A1 (de) | 1983-10-03 | 1984-10-02 | Bearbeitungsvorrichtung fuer druckplatten |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58185509A JPS6076395A (ja) | 1983-10-03 | 1983-10-03 | 印刷版の溶出装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6076395A JPS6076395A (ja) | 1985-04-30 |
JPH0327038B2 true JPH0327038B2 (ja) | 1991-04-12 |
Family
ID=16172024
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58185509A Granted JPS6076395A (ja) | 1983-10-03 | 1983-10-03 | 印刷版の溶出装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4627698A (ja) |
JP (1) | JPS6076395A (ja) |
DE (1) | DE3436125A1 (ja) |
FR (1) | FR2552898B1 (ja) |
GB (1) | GB2147228B (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3540588A1 (de) * | 1985-11-15 | 1987-05-21 | Hoechst Ag | Entschichtungsvorrichtung |
JPH067257B2 (ja) * | 1986-12-23 | 1994-01-26 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光材料現像装置 |
US4895099A (en) * | 1988-11-03 | 1990-01-23 | D.E.M. Controls Of Canada | Device for sequential spray application of chemical solutions used in the preparation of circuit board inner layers |
DE9310649U1 (de) * | 1993-06-18 | 1993-09-16 | Hanosek Peter | Vorrichtung zum Waschen und Trocknen von Druckplatten |
Family Cites Families (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2313606A (en) * | 1943-03-09 | Slat cleaner | ||
CH473038A (de) * | 1967-05-16 | 1969-05-31 | Ciba Geigy | Umlenkvorrichtung für bandförmiges Material |
US3448720A (en) * | 1967-07-12 | 1969-06-10 | Wood Industries Inc | Apparatus for preparing planographic offset printing plates |
US3608464A (en) * | 1968-05-14 | 1971-09-28 | Western Litho Plate & Supply | Apparatus for developing lithographic plates |
US3682078A (en) * | 1968-07-18 | 1972-08-08 | Western Litho Plate & Supply | Apparatus for post-exposure treatment of lithographic plates |
US4091404A (en) * | 1971-12-28 | 1978-05-23 | Hoechst Aktiengesellschaft | Apparatus for developing photosensitive material |
CH583036A5 (ja) * | 1972-05-12 | 1976-12-31 | Hoffmann La Roche | |
GB1476559A (en) * | 1974-05-28 | 1977-06-16 | Hoechst Ag | Apparatus for developing electrophotographic materials |
US3916426A (en) * | 1974-07-01 | 1975-10-28 | Polychrome Corp | Apparatus for developing offset printing plates |
JPS519282A (ja) * | 1974-07-11 | 1976-01-24 | Showa Electric Wire & Cable Co | |
NL7506985A (nl) * | 1975-06-12 | 1976-12-14 | Philips Nv | Scheerapparaat met een houder voor een snijele- ment. |
JPS53326A (en) * | 1976-06-23 | 1978-01-05 | Nissan Motor Co Ltd | Exhaust gas purificating system for internal combustion engine |
US4128326A (en) * | 1977-06-02 | 1978-12-05 | Astro Engineering Co. | Chemical dispensing system |
US4149798A (en) * | 1977-06-10 | 1979-04-17 | Eocom Corporation | Electrophotographic apparatus and method for producing printing masters |
JPS598140B2 (ja) * | 1977-06-23 | 1984-02-23 | 株式会社日立製作所 | 回転電機用ハ−フコイル導体の型付方法 |
JPS5437201A (en) * | 1977-08-30 | 1979-03-19 | Olympus Optical Co Ltd | Brushes for small rotary electrical machinery and manufacture thereof |
US4215927A (en) * | 1979-04-13 | 1980-08-05 | Scott Paper Company | Lithographic plate processing apparatus |
DE2938521A1 (de) * | 1979-09-24 | 1981-04-09 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Dosiervorrichtung fuer lack |
US4327987A (en) * | 1980-01-30 | 1982-05-04 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Film processor |
DK156099C (da) * | 1980-05-07 | 1989-11-06 | Eskofot As | Fremgangsmaade ved fremkaldelse |
US4367940A (en) * | 1980-06-16 | 1983-01-11 | Mart Milam E | Chemical application and developer apparatus for lithographic plate processor |
JPS5765339U (ja) * | 1980-10-07 | 1982-04-19 | ||
US4428659A (en) * | 1981-06-02 | 1984-01-31 | Napp Systems (Usa), Inc. | Apparatus and method for removing soluble portions of a coating |
FR2527796B1 (fr) * | 1982-05-25 | 1985-11-22 | Photomeca Sa | Procede et machine pour le developpement de plaques de tous types a couche photosensible photopolymerisable |
-
1983
- 1983-10-03 JP JP58185509A patent/JPS6076395A/ja active Granted
-
1984
- 1984-09-13 US US06/650,351 patent/US4627698A/en not_active Expired - Fee Related
- 1984-09-21 GB GB08424014A patent/GB2147228B/en not_active Expired
- 1984-10-01 FR FR848415036A patent/FR2552898B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1984-10-02 DE DE19843436125 patent/DE3436125A1/de active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4627698A (en) | 1986-12-09 |
DE3436125A1 (de) | 1985-05-02 |
FR2552898A1 (fr) | 1985-04-05 |
DE3436125C2 (ja) | 1987-10-01 |
GB2147228A (en) | 1985-05-09 |
FR2552898B1 (fr) | 1990-01-05 |
GB8424014D0 (en) | 1984-10-31 |
GB2147228B (en) | 1987-09-23 |
JPS6076395A (ja) | 1985-04-30 |
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