JPH03230166A - 電子写真感光体及び塗布液 - Google Patents

電子写真感光体及び塗布液

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JPH03230166A
JPH03230166A JP2026367A JP2636790A JPH03230166A JP H03230166 A JPH03230166 A JP H03230166A JP 2026367 A JP2026367 A JP 2026367A JP 2636790 A JP2636790 A JP 2636790A JP H03230166 A JPH03230166 A JP H03230166A
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康弘 織田
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 専用に供する電子写真感光体に関する。
〔発明の背景〕
近年、電子写真感光体に用いられる光導電性材料として
、無機光導電性材料に代えて有機光導電性材料が多く用
いられるようになった。その理由は、有機光導電性材料
においては、合成物質及び合成条件の組合せにより多種
多様の材料を得ることができ、材料の選択に自由度が大
きく、目的に応じて所望の感光体を容易に作成できるか
らである。
更にまた、前記有機光導電性材料を用いた感光体におい
ては、キャリア発生機能とキャリア輸送機能とを異なる
材料に分担させた機能分離型とすることにより、材料の
選択の自由度が一層拡大され、帯電能、感度及び耐久性
等の電子写真特性の改善が期待されるようになった。
他方、複写業界において、−層の画質の改善及び画像の
編集機能が要請され、これに対応したデジタル方式の複
写機又はプリンタ等の記録装置のての感光体の改善が切
望されている。前記デジタル方式の記録装置においては
、一般に、画像信号により変調されたレーザ光を用いて
ドツト状に露光して感光体上にドント潜像を形成し、こ
れを反転現像方式により現像して像形成を行うようにし
ている。この場合、前記レーザ光としては、露光装置の
単純化、小型化及び低価格化が可能な半導体レーザ装置
が好ましく、その発振波長は750nm以上の赤外領域
である。従って、用いられる感光体としては、少なくと
も750〜850nmの波長領域に高感度を有すること
が要求される。
前記機能分離型の感光体に用いられるキャリア発生物質
としては、種々の有機染料又は有機顔料か提案されてお
り、例えは、ジブロムアンスアンスロンに代表される多
環キノン顔料、ピリリウム染料及び該ピリリウム染料と
ポリカーボネートとの共晶錯体、スクェアリウム顔料、
フタロシアニン顔料、アゾ顔料等か実用化されている。
これらのうち、特開昭61−239248号、同61−
217050号、同62−67094号及び同63−2
18768号等には、750nm以上の長波長領域に主
感度を有するチタニル系フタロ/アニン顔料が記載され
ている。こうしたチタニル系フタロシアニン顔料はいず
れも、特定の凝集構造もしくは結晶構造をもたせること
によって、主吸収を長波長化し、高感度化を図ったもの
であるか、前記した顔料の製造条件の設定が難しく、こ
のため、帯電能、感度、繰返し特性等の特性全般を満足
するものが得られず、また、感度の点では一層の高感度
化が望まれる。
他方、通常の電子写真感光体においては、接地された導
電層と光導電層との間の電気的接触は微視的には均一で
はなく、例えば導電層側からのキャリア注入が場所によ
って異なるために、感光体表面に保持される電荷分布に
、局所的な差異が生じる。これは、現像の後に、画像欠
陥として顕在化し、ポジ型現像方式においては黒地に白
色斑点、ネガ型の反転現像方式においては白地に黒色斑
点となる。特に反転現像方式における黒色斑点は、地か
ぶりと同様に、画像品質を著しく損なうものである。こ
の問題は、前記の高感度化された感光体においては特に
鋭敏に生じ、前記反転現像方式における黒色斑点の発生
が顕著となる。
更に機能分離型積層構成の機能の向上を図って、支持体
−光導電層間の良好な接着、光導電層の物理的及び/又
は化学的な保護、支持体からのキャリア注入のブロッキ
ング或いは光導電層間に亘るキャリア注入の改善を計る
事等に関し、各種補助層の検討か積極的に進められ、又
光導電層のバインダについても同様の観点から数多くの
検討がされている。
補助層としての下引層については支持体と光導電層の接
着性、支持体からのフリーキャリアのブロッキング効果
に主眼が置かれ、塩酢ビ−マレイン酸共重合体(特開昭
56−47047号)、エチレン系高分子(特開昭60
−218658号)等の疎水性樹脂下引が検討されたが
、更に製造が容易であり、且つ塗布性がよく、フリーキ
ャリアのブロッキング効果が高い或いは接着性がよい等
の利点から親水性の水溶性ポリマーが下引層として検討
されているが、これらの水溶性下引層は感光体に環境特
性を劣化させる、即ち高温、高湿下での帯電電位及び残
留電位に不安定さを持込む欠点がある。
このような面からは接着性、樹脂量相溶性、耐薬品性が
よく、更に熱可塑性、熱硬化性の両用が可能で塗布性、
粒子分散性のよいポリビニルブチラール等が知られてい
る。
しかし一般にポリヒニルアセタール樹脂は繰返し使用に
対する耐用性が不充分であり、特に高温高温下稼働の場
合、生成したキャリアが吸収した水分の影響をうけて電
荷発生層中でトラップされ、感度の低下、残留電位の上
昇を招き、前記したポリブチラールの接着性をはじめと
する数々の利点を活用する障害となっている。
〔発明の目的〕
前記した感光体に用いるバインダに基く支障を排除して
、本発明の目的は、 1、含有粒子の分散性、調製塗料の塗布性及び構成層界
面相互間の接着性が良好でかつ優れた画質を与える感光
体を提供することにある。また、2、高感度で耐環境性
がよく、高温高湿下で感度低下、残留電位上昇のない感
光体の提供にある。
ま Iこ 、 3、繰返し使用における耐用性のよい感光体の提供にあ
る。更に、 4、半導体レーザ等の長波長光に対して高感度特性を有
し、電荷保持性が良好で、画像欠陥、特に反転現像時に
おける黒色斑点の少ない電子写真感光体を提供すること
にある。
〔発明の構成及び作用効果〕
面記本発明の目的は、導電性支持体上に光導電層を設け
た電子写真感光体において、前記光導電層に下記−能代
CI)で表されるンリコーン変性ブチラール樹脂を含有
する電子写真感光体によって達成される。
能代(1) 尚本発明の態様としては、 前記光導電層が有機 物質よりなる電荷発生層と有機物質よりなる電荷輸送層
とを積層した機能分離型積層光導電層である電子写真感
光体であることが好ましい。
前記−能代(1)において、R1−R3はアルキル基、
アリール基或は水酸基を表し、アルキル基としてはメチ
ル基、アリール基としてはフェニル基が好ましい。Qは
30〜98モル%、mは1−10モル%、nは0〜50
モル%及びjは1〜50モル%、kは1〜1000の範
囲の数値をとる。またXは300〜10000、好まし
くは300〜5000である。
前記ンリコール変性ブチラール樹脂は電荷発生層に単独
で用いられることが好ましいが、他のバインダ樹脂と併
用されてもよいし、また電荷輸送層のバインダに単独ま
たは他のバインダ樹脂との併用で用いられてもよい。
次に本発明の詳細な説明する。
本発明に係るシリコーン変性ブチラ ル樹脂は、 C3H。
で表されるポリビニルブチラールと、 能代 (但し、R+ 、 R2、R3、R4アルキル基、アリ
ール基、水酸基)で表されるオルガノポリシロキサンと
を、白金系触媒の存在下にトルエン、キシレン。
ジアセトンアルコール等の高沸点溶媒中で70°C〜1
20°Cに加熱して脱水反応させた後トルエン、キンレ
ン、ジアセトンアルコール等の溶媒を減圧下に除去する
ことによって容易に得られる。
以下に上記方法で合成した具体例を示す。
本発明に係る/リコーン変性ブチラール樹脂は、前記し
たブチラール樹脂の好ましい特性を更に伸はし、接着性
、粒子分散性に優れており、電荷発生物質(CGMと標
記)粒子の分散及びその分散性の保持に有用である。
本発明に用いられるCGMとしては、少くとも長波長側
(例えは750μm以上の波長領域)に主感度を何する
フタロシアニンを含有することが好ましく、短波長領域
に主感度を有する他のCG)jとの併用によって、広い
波長領域に亙り感度を有する感光体を作成することがで
きる。勿論夫々のCGMの単用によっても有用な感光体
を作成することかできる。
以下に本発明に使用できるCGMを挙げる。
本発明で使用できるCG!11のフタロンアニン(Pc
)系化合物は、α型のフタロシアニン化合物が結晶形の
安定なβ型のフタロシアニン化合物に変る過程で各種結
晶形の7タロンアニン化合物が見出されている。これら
の光導電性を示すフタロシアニン系化合物としては、例
えば特公昭49−4338号記載のX型無金属フタロシ
アニン化合物及び特開昭58−182639号、同60
−19151号に記載されているで、τ′ η、η′型
型金金属フタロンアニン化合物挙げられる。
特にCu−にα特性X線(波長1.54人)に対するブ
ラッグ角2θの主要ピークが少なくとも9.6゜±0.
2°及び27.2°±0.2°にあるチタニルフタロシ
アニン顔料が好ましい。
前記チタニルフタロシアニン顔料は、前記した各公報で
知られたチタニル系フタロンアニン顔Nとは顔料結晶の
凝集状態が異なり、独特のX線回折スペクトルを有して
いて、可視及び近赤外の吸収スペクトルが780〜86
0nmに最大吸収を示す凝集状態を有し、半導体レーザ
光等に対して極めて高感度な特性を発揮しうるものであ
る。前記チタニル7タロンアニン顔料の基本構造は次の
一数式般式(Pc、] 式中、xi  x2  )c3及びX4はそれぞれ水素
原子、ハロゲン原子、アルキル基又はアルコキシ基を表
し、n、m、4及びkはそれぞれ0〜4の整数を表す。
また、上記のX線回折スペクトルは次の条件で測定した
ものである。
X線管球     Cu 電圧       40.OKV 主電流     100.0  mA スタート角度   6.00  deg。
ステップ角度   35.00  deg。
0.020  deg。
ステップ角度 また、上記のX線回折スペクトルはX線回折装置r L
DX−8200J  (日本電子社製)を用いて測定し
tこ 。
本発明に係るチタニルフタロンアニン顔料は前記ブラ・
7グ角2θの主要ピークが9,6°±0.2°及び27
.2°±0.2°にあるが、これらの特徴的なピークの
他に、11.7°±0.2°、15.0°±0.2°、
23.5°±0.2°及び24.1’±0.2°にもピ
ークを有している。
前記チタニルフタロシアニン顔料のうち、前記ブラッグ
角2θの9.6°±0.2°のピーク強度が27.2°
±0.2°のピーク強度の40%以上であるものが感度
、帯電性等の点から特に好ましい。
次に本発明に係るCGMとして、下記−能代(Ba)で
表されるビスアゾ化合物、或は−能代(Ta)で表され
るトリアゾ化合物が有用である。
−能代(Ba): Cp −N= N −D −N= N −Cp但し、D
としては、 CH。
等がある。
前記 ト リ アゾ化合物は例えば下記−能代 :) %式% [) 能代[Ta]、: 釦 N=N Ar” Ar3 N = N −cp Ar’ N=N 釦 一般式(Ta)* Cp−N−N−Ar”−N−N−Ar”−N= N−C
p−能代(Ta)s Cp−N−N−Ar”−N−N−Ar3−N−N−Ar
’−N−NCp 但し、Ar”、Ar3、Ar’は、それぞれ置換若しく
は無置換の炭素環式芳香族基を表す。
また、−能代(Ba)、(Ta)中Cp(カプラー)残
基としては、例えば次のようなものがある。
但し、 Aとしては、 C1+ 。
CH。
更に本発明においては、下記−能代(Az)で表される
アズレニウム化合物が有用である。
上記アズレニウム化合物は例えば下記公報記載の化合物
である。
(イ)特開昭61−1547号 (ロ)  同 61−1548号 (ハ)  同 61−15147号 (ニ)  同 61−15150号 (ホ)  同 61−15151号 アズレニウム化合物としては、例えば下記式(Az)、
のものが挙げられる。
−能代(Az) 般 1 但し、上記一般式中、RI  R2R3R4R’  R
’、R7は水素原子、ハロゲン原子又は有機残基を表す
。また、R1とR2R2と、R3R3とR’  R’と
R’R5とR6R6とR7の組合せのうち、いずれか1
つの組合せで置換又は無置換の縮合環を形成しても良い
R’  R’は置換若しくは無置換の銃把3つの基;ア
ルキル基、アリール基、アラリル基を表す。
また、RaとR9とで窒素原子と共に環を形成してもよ
い。
Loはアニオン残基を表す。
更に本発明に用いられるCGMとしては下記−能代C3
qlで示されるスクェアリウム化合物が有用である。
一般式C3q) 前記−能代(Sq)で表されるスクェアリウム顔料に於
いて、R1、R2R13、R1は置換基を有してもよい
アルキル基、アリール基を表す。アルキル基としては炭
素数1〜6の鎖状アルキル基が好ましい。Xは水素原子
またはハロゲン原子、アルキル基、水酸基、アミノ基等
の電子供与基を表す。
R,、R2の表すアリール基の置換基としては前記電子
供与基またはニトロ基、ニトリル基、アンル基、アルコ
キシカルボニル基、カルボキシル基等の電子吸引基であ
って、R、、R2及びXは電子移動による互変異性に好
都合な組合せが選ばれる。
尚前記アリール基のアルキル基を含む置換基内のアルキ
ル基及びXの表すアルキル基はメチル基が好ましい。
本発明lごおいては、前述したCGMと共に、他のCG
Mの一種又は二種以上を併用することも可能である。併
用できるCGMとしては、アトラキノン顔料、ペリレン
顔料、多環キノン顔料、スクアリック酸メチン顔料等が
挙げられる。
例えば、次の一般式(Q)群の多環キノン顔料もCGM
として併用できる。
一般式〔Q〕 但し、この一般式中X′はハロゲン原子、ニトロ基、ン
アノ基、アンル基又はカルボキシル基を表し、p 1i
0〜4の整数、qは0〜6の整数を表す。
前記CGMを分散せしめてキャリア発生層(CGL)を
形成する場合においては、CGMは2μ−以下、好まし
くは1μm以下の平均粒径の粉粒体とされるのが好まし
い。即ち、粒径が余り大きいと、層中への分散が悪くな
るとともに、粒子が表面に一部突出して表面の平滑性が
悪くなり、場合によっては粒子の突出部分で放電が生じ
たり、或はそこにトナー粒子が付着してトナーフィルミ
ング現象が生じ易い。
次に、前記CGLとキャリア輸送層(CTL)を積層し
て感光体が作製される。
本発明で使用しうるキャリア輸送物質(CTM)として
は、種々のものが使用できるが、代表的なものとしては
例えは、オキサゾール、オキサジアゾール、チタノール
、チアジアゾール、イミダゾール等に代表される含窒素
複素環核及びその縮合環核を有する化合物、ポリアリー
ルアルカン系の化合物、ピラゾリン系化合物、ヒドラゾ
ン系化合物、トリアリールアミン系化合物、スチリル系
化合物、スチリルトリフェニルアミン系化合物、αフェ
ニルスチリルトリフェニルアミン系化合物、ブタジェン
系化合物、ヘキサトリエン系化合物、カルバゾール系化
合物、縮合多環系化合物等が挙げられる。
これらのCTMの具体例としては、例えば特開昭61−
107356号に記載のCTMを挙げることができるが
、特に代表的なものの構造を次Iこ例示する。
■  − 0 2 T −13 T  −14 T  −15 7 8 9 前記CTMと共にCTLを形成するためのバインダ樹脂
或はCGLに併用されるバインダ樹脂としては、任意の
ものを選ぶことができるが、疎水性でかつフィルム形成
能を有するものが好ましく、以下のものを挙げることが
できる。
ポリカーボネート、ポリカーボネート2樹脂、アクリル
樹脂、メタクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニ
リデン、ポリスチレン、スチレンブタジェン共重合体、
ポリ酢酸ビニル、ポリビニルカルバゾール、スチレン−
アルキッド樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキ
ッド樹脂、ポリエステル、フェノール樹脂、ポリウレタ
ン、エポキシ樹脂、塩化ビニリデン−アクリロニトリル
共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニ
ル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体。
CにL、CTLの形成に使用される溶剤或は分散媒とし
ては広く任意のものを用いることができる。例えば、ブ
チルアミン、エチレンジアミン、N、N−ジメチルホル
ムアミド、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキ
サノン、テトラヒドロ7ラン、ジオキサン、酢酸エチル
、酢酸ブチル、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、
エチレングリコールジメチルエーテル トフェノン、クロロホルム、ジクロルメタン、ジクロル
エタン、トリクロルエタン、メタノール、エタノール、
プロパツール、ブタノール等カ挙ケられる。
バインダ樹脂に対するCTMの割合は好ましくは10〜
500wt%、また、CTLの厚みは好ましくは1〜1
00μm1 更に好ましくは5〜30μmである。
本発明においては、前記−能代〔I〕で示されるンリコ
ーン変性ブチラール樹脂を機能分離型感光体の光導電層
に用いることにより皮膜物性に優れ、電荷保持力、感度
、残留電位等の電子写真特性に優れ且つ、繰返し使用に
供したときにも疲労劣化が少ない上、上述の特性が変化
することがなくて安定した特性を発揮し得る電子写真感
光体を作成することができる。
本発明の感光体の感光層構成には積層構成を採るが、必
要により表面層として設ける保護層(QCL)、及びC
TL、 CGL或は中間層のいずれか、もしくはそれら
の複数層に、感度の向上、残留電位ないし反復使用時の
疲労低減等を目的として、少なくとも1種の電子受容性
物質を含有せしめることかできる。
このような電子受容性物質としては例えば、無水琥珀酸
、無水マレイン酸、ジブロム無水琥珀酸、無水フタル酸
、テトラクロル無水フタル酸、テトラブロム無水フタル
酸、3−ニトロ無水フタル酸、4−ニトロ無水フタル酸
、無水ピロメリット酸、無水メリット酸、テトラシアノ
エチレン、テトランアノキノジメタン、0−ジニトロベ
ンゼン、m−ジニトロベンゼン、1.3.5− トリニ
トロベンゼン、p−二トロベンゾニトリル、ピクリルク
ロライド、キノンクロルイミド、クロラニル、ブロマニ
ル、ジクロルジンアノ−p−ベンゾキノン、アントラキ
ノン、ジニトロアントラキノン、9−フルオレニリデン
マロノジニトリル、ポリニトロ−9−フルオレニリデン
マロノジニトリル、ピクリン酸、0−ニトロ安息香酸、
p−ニトロ安息香酸、3.5−ジニトロ安息香酸、ペン
タフルオル安息香酸、5−ニトロサリチル酸、3.5−
ジニトロサリチル酸、フタル酸、メリット酸、その他の
電子親和力の大きい化合物を挙げることができる。電子
受容性物質の添加割合はCGMの重量100に対して0
.O1〜200が望ましく、更には0.1〜100が好
ましい。
また更に表面改質剤としてシリコーンオイルを存在させ
てもよい。また耐久性向上剤としてアンモニウム化合物
が含有されていてもよい。
更に紫外線吸収剤、酸化防止剤等を用いてもよい。
好ましい紫外線吸収剤としては、安息香酸、スチルベン
化合物等及びその誘導体、トリアゾール化合物、イミダ
ゾール化合物、トリアジン化合物、クマリン化合物、オ
キサジアゾール化合物、チアゾール化合物及びその誘導
体等の含窒素化合物類が用いられる。
また酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール、ヒン
ダードアミン、バラフェニレンジアミン、アリールアル
カン、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピロインダ
ノン及びそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合
物等か挙げられる。
また本発明に係るOCL中には加工性及び物性の改良(
亀裂防止、柔軟性付与等)を目的として必要により熱可
塑性樹脂を5Qwt%未満含有せしめることができる。
また、前記中間層は接着層又はブロッキング層等として
機能するもので、上記バインダ樹脂の外に、例えばポリ
ビニルアルコール、エチルセルロース、酢酸酪酸セルロ
ース、カルボキシメチルセルロース、ニトロセルロース
、塩化ヒニルー酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸
ビニル−無水マレイン酸共重合体、カゼイン、N−アル
コキシメチル化ナイロン、アルコール可溶性ナイロン、
ポリエチレン、ポリスチレン等が用いられる。
前記本発明に好ましい界面活性剤としては、ポリエチレ
ングリコール型或は多価アルコール型の非イオン界面活
性剤が選ばれ、アニオン、カチオン或は両性界面活性剤
は耐湿性等に於いて問題を起こし易い。
更に該非イオン界面活性剤は、その親水性部分のエーテ
ル結合、水酸基に対する疎水基が炭化水素のままである
炭化水素系、炭化水素の水素が珪素原子で置換されたシ
リコーン系及び弗素原子で置換された弗素系のものがあ
り、 弗素系〉シリコーン系〉炭化水素系 の順に弗素系が最も好ましい。
添加使用量は塗料組成によって大幅に変動するが、塗料
のlo−4〜1.Ovt%の範囲であり、最適量は実用
的に定められる。
本発明の電子写真感光体の構成に用いられる導電性支持
体としては、主として下記のものが用いられるが、これ
らにより限定されるものではない。
(1)アルミニウム板、ステンレス板などの金属板。
(2)紙あるいはプラスチックフィルムなどの支持体上
に、アルミニウム、パラジウム、金などの金属薄層をラ
ミネートもしくは蒸清によって設けたもの。
(3)紙あるいはプラスチックフィルムなどの支特休上
に、導電性ポリマー 酸化インジウム、酸化錫などの導
電性化合物の層を塗布もしくは蒸着によって設けたもの
本発明の感光体は、第1図及び第2図に示すように導電
性支持体l上にCGMを主成分とするCGL2とCTM
を主成分として含有するCTL3との積層体より成る光
導電層4を設ける。第2図に示すようにこの光導電層4
は、導電性支持体l上に設けた中間層5を介して設けて
もよい。このように光導電層4を二層構成としたときに
最もすぐれた電子写真特性を有する電子写真感光体が得
られる。
更に前記光導電層4の上には必要に応し保護層6を設け
てもよい。
また、二層構成の光導電層4を構成するCGL2は、導
電性支持体l上に直接あるいは必要に応じて接着層もし
くはブロッキング層などの中間層を設けた上に、次の方
法によって形成することができる。
(1) CGMを適当な溶剤に溶解した溶液を塗布する
方法。
(2) CGMをボールミル、サンドグラインダ等によ
って分散媒中で微細粒子状とし必要に応じて、バインダ
と混合分散して得られる分散液を塗布する方法。
即ち具体的には、ディッピング、スプレー ブレード、
ロール法等の塗布方法が任意に用いられる。
このようにして形成されるCGL2の厚さは、0.01
〜5μmであることが好ましく、更に好ましくは0.0
5〜3μmである。
またCTL3の厚さは、必要に応じて変更し得るが通常
5〜30μmであることが好ましい。このCTL3にお
ける組成割合は、CTMlfI量部(vtを標記する)
に対してバインダ0.1〜5vtとするのが好ましい。
また微粒子状のCGMをCTL3中に分散せしめるこも
できる。
またCGLをバインダ中分散型のものとして構成する場
合には、CGMlwtに対してバインダ5vt以下の範
囲で用いることが好ましい。
本発明の感光体は以上のような構成であって、後述する
ような実施例からも明らかなように帯電特性、感度特性
、画像形成特性jこ優れたものである。特に反転現像方
式に供したときにも疲労劣化が少なく耐久性が優れたも
のである。
(実施例) 以下本発明の実施例を具体的に説明するが、これlこよ
り本発明の実N態様が限定されるものではない。
実施例1 共重合ポリアミドr 0M8000J  (東し社製)
3部をメタノール100部に加熱溶解し、0.6μmの
フィルタで濾過した後浸漬塗布法によって、アルミニウ
ムドラム上に塗布し、膜厚0.4μmの下引層(UCL
)を形成した。
一方合成例1において得られたシリコーン変性ブチラー
ル2部と別表に記載したCG−Iのチタニル7 タ0ン
アニン2部、分散媒としてメチルイソブチルケトン10
0部をサンドミルを用いて分散した液を先のUCLの上
に浸漬塗布法によって塗布L−c−膜厚0.2μmのC
GLを形成した。次いでCTMTlを1部、ポリカーボ
ネート樹脂[ニーピロンZ200J  (三菱瓦斯化学
社製)1.5部、微量のシリコーンオイルr KF−5
4J  (信越化学、工業社製)を1.2−ジクロルエ
タン10部に溶解した液を用いて浸漬塗布し乾燥の後膜
厚22μmのC几を形成した。このようにして得られた
感光体を試料lとする。
実施例2 酢酸セルロースr LT−35J  (ダイセル化学工
業社製)3部−を1,2−ジクロルエタン90部、エタ
ノール10部に加熱溶解してUCLを形成した他は実施
例1と同様にして感光体を得、これを試料2とする。
実施例3 UCLの樹脂を共重合ポリアミド[ラッカマイト500
3J  (大日本インキ社製)、cGLの樹脂を合成例
2で得られたシリコーン変性ブチラール、cGMを別表
に示すCG−nとした他は実施例1と同様!こして感光
体を得、これを試料3とする。
実施例4 CGLの樹脂を合成例4で得られたシリコーン変性−/
チール、CGMを別表記載のCG−IIIとした他は実
施例1と同様にして感光体を得、これを試料4とする。
比較例1 CGLの樹脂をセルロース変性シリコーンrxR524
0」(信越化学工業社製)、とした他は実施例4と同様
tこして感光体を得、これを比較試料(1)とする。
比較例2 CGLの樹脂をポリビニルブチラール[エスレツクBL
−5J  (M水化学工業社!りとした他は実施例2と
同様にして感光体を得、これを比較試料(2)評価 前記試料1〜4並びに比較試料(1)及び(2)につい
てJIS )[5400に準じて基盤目を形成した後、
形成された基盤目上Iこセロハンテープを粘着させてそ
れを剥がしてアルミドラム上に残った部分を基盤目試験
の結果として計上しt;。
また、前記試料1〜4並びに比較試料(1)及び(2)
を[ローBix 1550J  (コニカ社製)(半導
体レーザ光源搭載)改造機に搭載し、5万回連続コピー
を行った。未露光部電位VHが−600(V )になる
ようにグリノド電圧を調節し、0.7mWの照射時の露
光部の電位VLを測定し、さらにコピー終了後のVH及
びVLを測定した。また、現像バイアス−560CV 
)で反転現像を行い、複写画像の白地部分の黒斑点を評
価した。
なお、黒斑点の評価は、画像解析装置「オムニコン30
00形」 (島津製作所社製)を用いて黒斑点の粒径と
個数を測定し、I(径) 0.05mm以上の黒斑点が
l ctn2当たり何個あるかにより測定した。
黒斑点評価の測定基準は下記表に示す通りである。
共重合ポリアミド CM8000 (東し社製) ラッカマイト5003 (大日本インキ社製)酢酸セル
ロース LT−35(ダイセル化学工業社製) セルロース変性シリコーン KR5240(信越化学工業社製) ポリビニルブチラール エスレックBL−S (漬水化学工業社製)〔発明の効
果〕 これらの結果より、実施例の電子写真感光体は、ンリコ
ーン変性ブチラール樹脂を含んでCCLが構成されてい
るので、高い帯電性を保持し、尚かつ低い残留電位を示
す事から、環境による電気特性の変動の少ない等の利点
を有する。
また、前記実施例1〜4迄で得られた感光体は下引層と
光導電層間の接着性は良好であり、また、U−Bix1
550MRの画像出しで得られた画質は良好であった。
【図面の簡単な説明】
第1図及び第2図はそれぞれ本発明の感光体の機械的構
成例について示す断面図である。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)導電性支持体上に光導電層を設けた電子写真感光
    体において、前記光導電層に下記一般式〔 I 〕で表さ
    れるシリコーン変性ブチラール樹脂を含有する電子写真
    感光体。 一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼
  2. (2)前記光導電層が有機物質よりなる電荷発生層と有
    機物質よりなる電荷輸送層とを積層した機能分離型積層
    光導電層である請求項1に記載の電子写真感光体。
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