JPH04242259A - 電子写真感光体 - Google Patents

電子写真感光体

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JPH04242259A
JPH04242259A JP384191A JP384191A JPH04242259A JP H04242259 A JPH04242259 A JP H04242259A JP 384191 A JP384191 A JP 384191A JP 384191 A JP384191 A JP 384191A JP H04242259 A JPH04242259 A JP H04242259A
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Yoshihiko Eto
江藤嘉彦
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は電子写真特性、特に高感
度特性を有する正帯電用電子写真感光体に関する。
【0002】
【従来の技術】従来電子写真感光体として無機光導電性
物質を用いた感光体と有機光導電性物質を用いた感光体
とがあるが、前者に比して後者は、光導電性物質の毒性
がないこと、更に、感光体の透明性、可撓性、軽量性、
表面平滑性、加工性、価格等の点で有利とされるので近
年広く研究され、実用化されている。
【0003】その中でキャリアの発生と輸送と云う2つ
の機能を分離した機能分離型とすることにより、有機光
導電性物質を含む感光体(以下単に有機感光体と称する
)の高感度化を図ることができ、近年急速な進歩を遂げ
つつある。
【0004】ところで前記機能分離型の有機感光体では
一般に導電性支持体上にキャリア発生層及びP型キャリ
ア輸送物質を含むキャリア輸送層を順次積層した構成と
され、負帯電性の感光体とされているため、該感光体上
にコロナ放電等により負帯電を行なう場合、多量にオゾ
ンが発生して環境を汚染し、かつ帯電が不均一となり易
い。
【0005】そこで正帯電で使用できる感光体とするの
が望ましく、例えば機能分離型でかつ正帯電用とされた
感光体として2,4,7−トリニトロフルオレノンとポ
リビニルカルバゾールから成る単層構成の感光体が知ら
れている。しかしながらこの感光体は低感度であって実
用性に乏しいことが知られている。そこで「ジャパン、
ハードコピー、90、論文集」、1990.6.20.
p77〜80「EP−20、両極性キャリア輸送材料の
設計とその電子写真感光体への応用」のおいて、キャリ
ア発生物質を含有する感光層中にP型キャリア輸送物質
とN型キャリア輸送物質を共存せしめた機能分離型で単
層構成の正帯電用(負帯電としても機能する)感光体が
報告されている。
【0006】
【発明が解決しようとする問題点】しかしながら前記報
告の正常電用感光体は、所定量のキャリア発生物質を薄
層のキャリア発生層中に高密度に含む2層構成の感光体
と異なり、比較的厚い感光層中に所定量のキャリア発生
物質を積低い密度で含むこととなる単層構成の感光体と
されている。そのため感光体の表面層に投入された光エ
ネルギーを感光層表面で十分に吸収することが出来ず、
必ずしも高感度を達成することができない。又、繰返し
像形成に際して、生ずる感光体の疲労劣化には、帯電露
光の繰返しによるものと、機械的摩耗によるものとがあ
るが、単層構成の感光体では、特に前記帯電露光の繰返
しによる疲労劣化が大となると云う欠点を有している。
【0007】
【発明の目的】本発明は前記実情に鑑みて提案されたも
のであり、その目的とするところは、高感度、高耐久性
の正帯電用有機感光体を提供することにある。
【0008】
【発明の構成及びその作用】前記の目的は;導電性支持
体上にキャリア輸送層とキャリア発生層とをこの順に有
する電子写真感光体において、前記キャリア発生層中に
P型キャリア輸送物質と、N型キャリア輸送物質とを含
有せしめたことを特徴とする電子写真感光体により達成
される。
【0009】即ち、本発明の感光体は、導電性支持体上
にP型キャリア輸送物質及び必要によりバインダ樹脂を
含有するキャリア輸送層を設け、この上にキャリア発生
物質、該キャリア発生物質を分散含有するバインダ樹脂
、その外本発明の特徴とされるP型キャリア輸送物質及
びN型キャリア輸送物質を含有せしめたキャリア発生層
を設けて2層構成の正帯電用感光体とされ、光照射時、
キャリア発生層中のキャリア発生物質から発生するエレ
クトロン及びホールを前記N型キャリア発生物及びP型
キャリア輸送物質により効率よく感光体の表面及び下層
のキャリア輸送層に輸送して感光体の表面電荷を迅かに
打消すと共に迅かにアースして高感度特性を発揮するよ
うに構成されている。
【0010】即ち感光体の表面側に位置するキャリア発
生層に照射された光は、該キャリア発生層の表面のみな
らず内部に透過吸収されてエレクトロン及びホールを発
生する。このときキャリア発生層中に存在するN型キャ
リア輸送物質により前記キャリア発生層の表面及び内部
に発生したエレクトロンの殆ど全てが表面側に輸送され
て表面の正電荷を迅かに消散せしめ、又キャリア発生層
中のP型キャリア輸送物質によりキャリア発生層の表面
及び内部に発生したホールの殆んど全てが下層のキャリ
ア輸送層に注入・輸送されて迅かにアースされる。
【0011】かくして高感度特性が発揮されると共に繰
返し像形成の際残留電荷の蓄積がなく、疲労劣化のない
高耐久性の感光体が得られる。
【0012】本発明の感光体のキャリア発生層中に含有
されるP型キャリア輸送物質としては、オキサゾール誘
導体、オキサジアゾール誘導体、チアゾール誘導体、チ
アジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、イミダゾー
ル誘導体、イミダゾロン誘導体、イミダゾリジン誘導体
、ビスイミダゾリジン誘導体、スチリル化合物、ヒドラ
ゾン化合物、ピラゾリン誘導体、オキサゾロン誘導体、
ベンゾチアゾール誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、
キャゾリン誘導体、ベンゾフラン誘導体、アクリジン誘
導体、フェナジン誘導体、アミノスチルベン誘導体、ポ
リ−N−ビニルカルバゾール、ポリ−1−ビニルピレン
、ポリ−9−ビニルアントラセン等であってよい。これ
らのキャリア輸送物質のうち、本発明に好ましく用いら
れるP型キャリア輸送物質として次の一般式(1)又は
(2)のスチリル化合物が挙げられる。
【0013】
【化1】
【0014】但しこの一般式中、R1、R2は、置換若
しくは無置換のアルキル基、アリール基を表し、置換基
としてはアルキル基、アルコキシ基、置換アミノ基、水
酸基、ハロゲン原子、アリール基:Ar1、Ar2は、
置換若しくは無置換のアリール基を表し、置換基として
は、アルキル基、アルコキシ基、置換アミノ基、水酸基
、ハロゲン原子、アリール基を表す。又炭素原子と該炭
素原子に結合するAr1とR2とは共同して環を形成し
てもよい。R3、R4は、置換若しくは無置換のアリー
ル基、水素原子を表し、置換基としてはアルキル基、ア
ルコキシ基、置換アミノ基、水酸基、ハロゲン原子、ア
リール基である。
【0015】
【化2】
【0016】但しこの一般式中、R5は、置換若しくは
無置換のアリール基、R6は、水素原子、ハロゲン原子
、置換若しくは無置換のアルキル基、アルコキシ基、ア
ミノ基、置換アミノ基、水酸基:R7は置換若しくは無
置換のアリール基、置換若しくは無置換の複素環基を表
す。
【0017】また前記P型キャリア輸送物質として一般
式(3)〜(6)のヒドラゾン化合物も好ましく用いら
れる。
【0018】
【化3】
【0019】但しこの一般式中、R8、R9は、水素原
子またはハロゲン原子へR10、R11は、置換若しく
は無置換のアリール基:Ar3は置換若しくは無置換の
アリーレン基を表す。
【0020】
【化4】
【0021】但しこの式中、R12は、メチル基、エチ
ル基、2−ヒドロキシエチル基または2−クロルエチル
基、R13、R14はメチル基、エチル基、ベンジル基
またはフェニル基を表す。
【0022】
【化5】
【0023】但しこの一般式中、R15は置換若しくは
無置換のナフチル基:R16は置換若しくは無置換のア
ルキル基、アラルキル基またはアリール基:R17は水
素原子、アルキル基またはアルコキシ基:R18、R1
9は置換若しくは無置換のアルキル基、アラルキル基ま
たはアリール基から成る互に同一若しくは、異なる基を
表す。
【0024】
【化6】
【0025】但しこの一般式中、R20は、置換若しく
は無置換のアリール基または、置換若しくは無置換の複
素環基:R21は、水素原子:置換若しくは無置換のア
ルキル基または置換若しくは無置換のアリール基:Qは
、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、置換アミノ基
、アルコキシ基またはシアノ基:Pは、0または1の整
数を表す。
【0026】また前記P型キャリア輸送物質として一般
式(7)のピラゾリン化合物も好ましく用いられる。
【0027】
【化7】
【0028】但しこの一般式中、lは0または1:R2
2、R23、R24は置換若しくは無置換のアリール基
:R25、R26は、水素原子、炭素原子数1〜4のア
ルキル基、または置換若しくは無置換のアリール基若し
くはアラルキル基を表す。またR25、R26は共に水
素原子であることはなく、lが0のときはR25は水素
原子ではない。
【0029】さらに次の一般式(8)のアミン誘導体も
前記P型キャリア輸送物質として好ましく用いられる。
【0030】
【化8】
【0031】但しこの一般式中、Ar4、Ar5は、置
換若しくは無置換のフェニル基を表し、置換基としては
ハロゲン原子、アルキル基、ニトロ基、アルコキシ基を
用いる。
【0032】Ar6は、置換若しくは無置換のフェニル
基、ナフチル基、アントリル基、フルオレニル基、複素
環基を表し、置換基としてはアルキル基、アルコキシ基
、ハロゲン原子、水酸基、アリールオキシ基、アリール
基、アミノ基、ニトロ基、ピペリジノ基、モルホリノ基
、ナフチル基、アントリル基及び置換アミノ基を用いる
。また置換アミノ基の置換基としてはアシル基、アルキ
ル基、アリール基、アラルキル基を用いる。
【0033】なお前記一般式(1)〜一般式(8)で示
されるP型キャリア輸送物質の具体的化合物は、例えば
特開昭60−172044号公報第6頁下右欄2行目〜
第21頁上右欄20行目に記載されている。
【0034】次に本発明の感光体のキャリア発生層中に
含有されるN型キャリア輸送物質としては、例えば下記
各号公報に記載されているものを用いることができる。
【0035】(1)特開昭52−109938号公報に
記載される化合物:「トリニトロ−11H−インデノ〔
1,2−b〕キノキサリン−11−オン」 (2)特開昭52−77730号公報に記載される化合
物:「2,4,8−トリニトロチオキサントン」(3)
特開昭52−109939号公報に記載される下記一般
式のベンゾシンノリン誘導体。
【0036】
【化9】
【0037】但しnは3または4の整数。
【0038】また上記一般式に含まれる具体的化合物例
は上記公報第2頁上右欄11行目〜同頁下左欄12行目
に記載されている。
【0039】(4)特開昭53−40530号公報に記
載される下記一般式のインデノチオフェンニトロ誘導体
【0040】
【化10】
【0041】但し式中、Xはチオフェン核、mは0,1
または2の整数、nは0または1の整数を表す。
【0042】また上記一般式に含まれる具体的化合物は
上記公報第2頁下右欄15行目〜第3頁下左欄15行目
に記載されている。
【0043】(5)特開昭53−52134号公報に記
載される下記一般式(11)のハロゲン置換インデノチ
オフェンジニトロ誘導体。
【0044】
【化11】
【0045】但し式中、Xはハロゲン原子、R27は水
素原子またはニトロ基を表す。
【0046】また上記一般式に含まれる具体的化合物例
は、上記公報第2頁下左欄6行目〜同頁下右欄11行目
に記載されている。
【0047】(6)特開昭53−52429号公報に記
載される下記一般式(12)のインデノチオフェンシア
ノ誘導体。
【0048】
【化12】
【0049】但し式中、mは0,1または2の整数、n
は0または1の整数。
【0050】また上記一般式に含まれる具体的化合物例
は上記公報第2頁下右欄13行目〜第3頁上右欄5行目
に記載されている。
【0051】(7)特開昭53−52430号公報に記
載されている化合物:「7−ニトロ−2−アザ−9−フ
ルオレニリデンマロンニトリル」 (8)特開昭53−92749号公報に記載される下記
一般式(13)のフルオレノン誘導体。
【0052】
【化13】
【0053】また上記一般式に含まれる具体的化合物例
としては、例えば「7−メトキシ−2,4−ジニトロフ
ルオレノン−9−オン」がある。
【0054】(9)特開昭51−84256号公報に記
載される下記一般式(14)のジベンゾチオフェンジオ
キシド誘導体。
【0055】
【化14】
【0056】但し式中、m,nは1≦m+n≦4の範囲
の整数を表す。
【0057】なお具体的化合物例としては、例えば「ジ
ニトロジベンゾチオフェンジオキシド」がある。
【0058】(10)特開昭51−84257号公報に
記載される下記一般式(15)のジベンゾチオフェンス
ルホキシド誘導体。
【0059】
【化15】
【0060】但し式中、m,nは1≦m+n≦4の範囲
の整数、R28、R29は、水素原子、炭素原子数1〜
7個のアルキル基、フェニル基、アセチル基、カルボキ
シル基、シアノ基またはハロゲン原子を表す。
【0061】上記一般式に含まれる具体的化合物例えば
「ジニトロ−ジベンゾチオフェンスルホキシド」がある
【0062】(11)特開昭51−141631号公報
に記載される下記一般式(16)のジベンゾトロポン誘
導体。
【0063】
【化16】
【0064】但し式中、m,nは1≦m+n≦4の整数
【0065】上記一般式に含まれる具体的化合物の合成
例が上記公報第2頁下左欄13行目〜第3頁上左欄16
行目の実施例に記載されている。
【0066】(12)特開昭51−141632号公報
に記載される下記一般式のジシアノベンゾヘプタフルペ
ン誘導体。
【0067】
【化17】
【0068】但し式中、m,nは1≦m+n≦4の範囲
の整数。
【0069】上記一般式に含まれる具体的化合物の合成
例が上記公報第2頁下左欄12行目〜第3頁上右欄18
行目の実施例に記載されている。
【0070】(13)特開昭63−70257号公報に
記載される下記一般式(18)のテトラシアノアンスラ
キノンキノジメタン誘導体。
【0071】
【化18】
【0072】但し式中、R30はハロゲン原子、アルキ
ル基、アリール基、アラルキル基、オキシアルキル基、
オキシアリール基、オキシアラルキル基、ヒドコキシ基
、アミノ基、カルボキシル基、シアノ基及びニトロ基か
ら選択される基を示し、nは1または2であり、mは0
または1である。但し、nが1のときはmは1であり、
nが2のときはmは0であるものとする。
【0073】上記一般式に含まれる具体的化合物例は上
記公報第2頁下右欄1行目〜第3頁下左欄9行目に記載
されている。
【0074】(14)特開昭63−175860号公報
に記載される下記一般式(19)のジフェニルジシアノ
エチレン誘導体。
【0075】
【化19】
【0076】但し式中、R31は水素原子、ニトロ基又
はアルコキシカルボニル基を表し、R32はアルキル基
、アルコキシ基、ニトロ基、シアノ基又はアルコキシカ
ルボニル基を表し、R33は水素原子、アルコキシカル
ボニル基、ハロゲン原子、又はニトロ基を表し、R34
は水素原子、アルキル基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲ
ン原子、アルコキシカルボニル基、置換又は無置換のフ
ェニル基又は置換又は無置換の4−フェニルフェニル基
を表す。
【0077】上記一般式に含まれる具体的化合物例は上
記公報第2頁下右欄1行目〜第4頁下左欄17行目に記
載されている。
【0078】(15)特開昭63−174993号公報
に記載される下記一般式(20)で示されるベンゾフェ
ノンのニトロ誘導体。
【0079】
【化20】
【0080】但し式中、R34は水素原子、または−B
(CH3)2を表す。
【0081】上記一般式に含まれる具体的化合物例は、
上記公報第2頁上左欄16行目〜同頁上右欄1行目に記
載されている。
【0082】(16)特開平2−42449号公報に記
載される下記一般式(21)のN−シアノイミン誘導体
【0083】
【化21】
【0084】但し式中、R36、R37、R37、R3
9は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原
子、ニトロ基、シアノ基、置換スルホニル基またはカル
ボン酸エステル基を表し、nは0〜4の整数、Zはベン
ゼン環と結合して環を形成する残基で、置換基を有して
もよい。
【0085】また上記一般式に含まれる具体的化合物例
は、上記公報第3頁下右欄1行目〜第5頁上左欄5行目
に記載されている。
【0086】(17)特開昭63−85749号公報に
記載される下記一般式(22)のナフトキノン誘導体。
【0087】
【化22】
【0088】ここで、XおよびYは同一また相違なり、
ハロゲン、ニトロ基またはシアノ基である。
【0089】また上記一般式に含まれる具体的化合物例
は、上記公報の第1頁「特許請求の範囲2」に記載され
ている。
【0090】(18)特開平1−206349号公報に
記載される下記一般式(23)のジフェノキノン誘導体
【0091】
【化23】
【0092】但し式中、R40〜R47は水素原子、炭
素数1〜20のアルキル基、シクロアルキル基、アリー
ル基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基又はアルコキシ基
で、R40〜R47は互に同一でも異なってもよい。
【0093】また上記一般式に含まれる具体的化合物例
は、上記公報第3頁上左欄5行目〜20行目に記載され
ている。
【0094】(19)特開昭63−241548号公報
に記載される下記一般式のベンゾキノン誘導体。
【0095】
【化24】
【0096】又一方が上記ヘテロ環である場合は、他方
は置換基R50を有するベンゼン環であってもよく、R
48、R49及びR50は互に独立していて、水素原子
、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、ア
リール基、アリール置換アルキル基、アルコキシ基、又
はカルボン酸エステル基を表す。
【0097】また上記一般式(24)に含まれる具体的
化合物例は、上記公報第2頁右欄13行目〜第3頁上右
欄20行目に記載されている。
【0098】(20)特開昭63−239455号公報
に記載される下記一般式(25)のジフェニルジシアノ
エチレン硼素誘導体。
【0099】
【化25】
【0100】但し式中、R51及びR52は、それぞれ
水素原子、アルキル基、ニトロ基又はアルコキシカルボ
ニル基を表し、m及びnは、それぞれ0,1又は2を表
すが、m+n≧1である。
【0101】また上記一般式に含まれる具体的化合物例
は、上記公報第2頁下右欄1行目〜20行目に記載され
ている。
【0102】(21)特開昭53−118048号公報
に記載される下記一般式(26)のベンゾフェノンニト
ロ誘導体。
【0103】
【化26】
【0104】但し式中、m,nは0以上の整数であり、
m+nは2〜4である。
【0105】また上記一般式(26)に含まれる具体的
化合物例は、上記公報第2頁上左欄15行目〜同頁上右
欄1行目に記載されている。
【0106】(22)特開昭61−233750号公報
に記載される下記一般式(27)のアントラキノジメタ
ン誘導体及びアントロン誘導体。
【0107】
【化27】
【0108】但し式中、AおよびBは独立にCNおよび
COOR(但し、Rはアルキル基である)から成る群か
ら選択され、XおよびYは独立にアルキル、アリール、
ハライド、COOR、CN、ヒドロキシおよびニトロか
ら成る群から選択され、nは0から3までの数であり、
nは0から3までの数である。
【0109】また上記一般式(27)の(1)及び(2
)に含まれる具体的化合物は、上記公報第6頁上右欄7
行目〜第7頁上左欄12行目に記載されている。
【0110】(23)特開昭62−32465号公報に
記載される下記一般式のヘテロ環を含むキノン誘導体。
【0111】
【化28】
【0112】又一方がヘテロ環である場合は、他方は置
換基R60を有するベンゼン環であってもよく、YはS
、Se又はTeを表し、R53、R54及びR57は互
に独立した基であって、水素原子、アルキル基、アリー
ル基、アリール置換アルキル基を表し、R55、R56
、R58、R59及びR60は互に独立した基であって
、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アル
キル基、アリール基、アリール置換アルキル基、アルコ
キシ基またはカルボン酸エステル基CO2R53(式中
R53は前記と同じ意味)を表す。
【0113】また上記一般式に含まれる具体的化合物例
は、上記公報第3頁下左欄11行目〜第4頁上左欄4行
目に記載されている。
【0114】(24)特開昭53−131046号公報
に記載される下記一般式(29)のニトロ化フルオレン
−オキサゾロン誘導体。
【0115】
【化29】
【0116】但し式中、R61はフェニル基、置換フェ
ニル基、アルキル基およびアラルキル基からなる群より
選ばれた基、Xは水素原子又はニトロ基であり、1分子
中のニトロ基の合計は2〜4である。
【0117】また上記一般式に含まれる具体的化合物例
は上記公報第3頁下左欄16行目〜第4頁下左欄3行目
の実施例中に記載されている。
【0118】(25)特開昭49−94337号公報に
記載される下記一般式(30)のジベンゾチオフェンオ
キサイド誘導体。
【0119】
【化30】
【0120】但し式中、n=1又は2、R62及びR6
3は1個以上の水素原子もしくは電子吸引基である。
【0121】また上記一般式に含まれる具体的化合物例
は上記公報第4頁下右欄4行目〜第5頁上左欄3行目に
記載されている。
【0122】(26)特開昭50−40138号公報に
記載される化合物:「2,4,8−トリニトロ−11H
−ピリド(2,1−6)キナゾリン−11−オン」。
【0123】(27)特開昭47−11736号公報に
記載される下記一般式(31)の化合物群。
【0124】
【化31】
【0125】但し式中、A1及びA2は、強い電子吸引
性基であるニトロ基、シアノ基、ニトロソ基、カルボニ
ル基、エステル基、アミド基またはイミド基を表し、Q
1〜Q4は、芳香族基、準芳香性または水素化された系
及び/又は水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、
アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルコキシ
アルキル基、アリール基、脂肪族または芳香族アシル基
、または他の電子吸引性の特に対称的位置に配置された
A1及びA2の各基を表し、BはQ1〜Q4と同じか、
またはヘテロ原子としての酸素原子、硫黄原子、セレン
原子またはR−N=基、若しくはR=C=基(Rはアル
キル基、アリール基、ヒドロキシアルキル基、ヒドロキ
シアリール基)を表す。
【0126】また上記一般式に含まれる具体的化合物例
としては、上記公報第4頁下左欄1行目〜第7頁上左欄
18行目に記載されている。
【0127】前記キャリア発生層中のP型及びN型のキ
ャリア輸送物質は該キャリア発生層中でキャリア発生物
質の分散用樹脂と相溶して含有されるが、両物質及びバ
インダ樹脂の選択、混合、割合等が重要である。即ちP
型及びN型のキャリア輸送物質が層中で結合して電荷移
動型錯体を形成すると、それぞれのキャリア輸送機能が
減退するからである。
【0128】又前記キャリア発生層中のキャリア発生物
質としては、 (1)モノアゾ顔料、ポリアゾ顔料、金属錯塩アゾ顔料
、ピラゾロンアゾ顔料、スチルベンアゾ顔料及びチアゾ
ールアゾ顔料等のアゾ系顔料 (2)ペリレン酸無水物及びペリレン酸イミド等のペリ
レン系顔料 (3)アントラキノン誘導体、アントアントロン誘導体
、ジベンズピレンキノン誘導体、ピラントロン誘導体、
ビオラントロン誘導体及びイソビオラントロン誘導体等
のアントラキノン系又は多環キノン系顔料(4)インジ
ゴ誘導体及びチオインジゴ誘導体等のインジゴイド系顔
料 (5)金属フタロシアニン及び無金属フタロシアニン等
のフタロシアニン系顔料 (6)ジフェニルメタン系顔料、トリフェニルメタン顔
料、キサンテン顔料及びアクリジン顔料等のカルボニウ
ム系顔料 (7)アジン顔料、オキサジン顔料及びチアジン顔料等
のキノンイミン系顔料 (8)シアニン顔料及びアゾメチン顔料等のメチン系顔
料 (9)キノリン系顔料 (10)ニトロ系顔料 (11)ニトロソ系顔料 (12)ベンゾキノン及びナフトキノン系顔料(13)
ナフタルイミド系顔料 (14)ビスベンズイミダゾール誘導体等のペリノン系
顔料等が挙げられる。
【0129】しかし本発明においては下記ビスアゾ系顔
料、多環キノン系顔料又はフタロシアニン系顔料がより
好ましく用いられ、ビスアゾ系顔料としては一般式(3
2)群で示されるものが好ましい。
【0130】
【化32】
【0131】前記一般式中、Ar1及びAr2及びAr
3はそれぞれ、置換若しくは無置換のアリーレン基、C
pは、
【0132】
【化33】
【0133】Z   :置換若しくは無置換のアリール
環又は置換若しくは無置換のヘテロ環を構成するに必要
な原子群、 Y   :水素原子、ヒドロキシル基、カルボキシル基
若しくはそのエステル基、スルホ基、置換若しくは無置
換のカルバモイル基、又は置換若しくは無換のスルファ
モイル基、 R1  :水素原子、置換若しくは無置換の続記3つの
基;アルキル基、アミノ基、カルバモイル基、カルボキ
シル基若しくはそのエステル基、又はシアノ基、 Ar4:置換若しくは無置換のアリール基R2  :置
換若しくは無置換の続記3つの基;アルキル基、アラル
キル基、アリール基を表す。
【0134】又、次の一般式(33)群、(34)群の
アゾ系顔料も使用可能である。
【0135】
【化34】
【0136】前記一般式中、Ar5、Ar6及びAr7
はそれぞれ置換若しくは無置換のアリーレン基、
【01
37】
【化35】
【0138】(X’は、ヒドロキシ基、−(R4NR5
)又は−NHSO2−R6である。但し、R4及びR5
はそれぞれ、水素原子又は置換若しくは無置換のアルキ
ル基、R6は置換若しくは無置換のアルキル基又は置換
若しくは無置換のアリール基である。
【0139】Yは、水素原子、ハロゲン原子、置換若し
くは無置換のアルキル基、アルコキシ基、カルボキシル
基、スルホ基、置換若しくは無置換のカルバモイル基又
は置換若しくは無置換のスルファモイル基(但し、mが
2以上のときは、互いに異なる基であってもよい。)Z
は、置換若しくは無置換の次記2つの環;アリール環、
ヘテロ環を構成するに必要な原子群、R3は、水素原子
、置換若しくは無置換のアミノ基、置換若しくは無置換
のカルバモイル基、カルボキシル基又はそのエステル基
、A’は、置換若しくは無置換のアリール基、nは、1
又は2の整数、mは、0〜4の整数である。)
【014
0】
【化36】
【0141】前記一般式中、Ar8、Ar9及びAr1
0はそれぞれ、置換若しくは無置換のアリール基、R7
、R8、R9及びR10はそれぞれ、電子吸引性基又は
水素原子であって、R7〜R10の少なくとも1つはシ
アノ基等の電子吸引性基、
【0142】
【化37】
【0143】(Xは、ヒドロキシ基、−(R12NR1
3)又は−NHSO2−R14である。但し、R12及
びR13はそれぞれ、水素原子又は置換若しくは無置換
のアルキル基、R14は置換若しくは無置換のアルキル
基又は置換若しくは無置換のアリール基)、 Yは、水素原子、ハロゲン原子、置換若しくは無置換の
アルキル基、アルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基
、置換若しくは無置換のカルバモイル基又は無置換のの
スルファモイル基(但し、mは2以上のときは、互いに
異なる基であってもよい。)、 Zは、置換若しくは無置換の次記2つの環;アリール環
、ヘテロ環を構成するに必要な原子群、R”は水素原子
、置換若しくは無置換の次記2つの基;アミノ基、カル
バモイル基、カルボキシル基又はそのエステル基、A’
は、置換若しくは無置換のアリール基、nは、1又は2
の整数、mは、0〜4の整数である。)上記一般式〔3
2〕又は〔33〕群、更には〔34〕群のアゾ系顔料の
具体的化合物例は、特開昭62−14157号公報第9
頁上左欄13行目〜第28頁上右欄20行目に記載され
ている。
【0144】次に多環キノン系のキャリア発生物質とし
ては、下記一般式〔35〕群で示されるものが好ましい
【0145】
【化38】
【0146】前記一般式中、Xはハロゲン原子、ニトロ
基、シアノ基、アシル基又はカルボキシル基を表し、n
は0〜4の整数、mは0〜6の整数を表す。
【0147】上記一般式(35)群で表される多環キノ
ン系顔料の具体的化合物例としては、特開昭62−14
157号公報第28頁下右欄1行目〜第30頁上右欄5
行目に記載されている。
【0148】次に本発明に好ましく用いられる前記フタ
ロシアニン系顔料としては、例えば銅、コバルト、鉛、
亜鉛等を中心原子とする金属フタロシアニンとこれらを
含まない無金属フタロシアニンとがあり、結晶型として
α型、β型、γ型、X型、τ型、τ’型、η型、η’型
等が好ましく用いられる。かかるフタロシアニン系顔料
の更に詳細な説明は特開昭62−79470号、特開昭
62−47054号に記載されている。前記キャリア発
生物質は通常バインダ樹脂中に0.1〜1μm径の微粒
子状に分散含有されて層形成が行われる。
【0149】前記バインダ樹脂としては、電子写真用の
全ての樹脂が有用であり、例えばポリエチレン、ポリプ
ロピレン、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル
樹脂、酢酸ビニル樹脂、ビニルブチラール樹脂、ビニル
ホルマール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、フ
ェノール樹脂、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、ポ
リカーボネート樹脂、シリコーン樹脂、メラミン樹脂等
の付加重合型樹脂、重付加型樹脂、重縮合型樹脂、並び
にこれらの樹脂の繰返し単位のうちの2つ以上を含む共
重合体樹脂、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹
脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体
樹脂等の絶縁性樹脂の他、ポリ−N−ビニルカルバゾー
ル等の高分子有機半導体を挙げることができる。
【0150】本発明に用いられる有機系顔料の分散媒と
しては、例えばヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の炭化水素類、メチレンクロライド、メイチレンブ
ロマイド、1,2−ジクロルエタン、syn−テトラク
ロルエタン、cis−1,2−ジクロルエチレン、1,
1,2−トリクロルエタン、1,1,1−トリクロルエ
タン、1,2−ジクロルプロパン、クロロホルム、プロ
モホルム、クロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素、ア
セトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケ
トン類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、メタ
ノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、シク
ロヘキサノール、ヘプタノール、エチレングリコール、
メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、酢酸セロソルブ
等のアルコール及びこの誘導体、テトラヒドロフラン、
1,4−ジオキサン、フラン、フルフラール等のエーテ
ル、アセタール類、ピリジンやブチルアミン、ジエチル
アミン、エチレンジアミン、イソプロパノールアミン等
のアミン類、N,N−ジメチルホルムアミド等のアミド
類等の窒素化合物他に脂肪酸及びフェノール類、二硫化
炭素や燐酸トリエチル等の硫黄、燐化合物等が挙げられ
る。
【0151】さらに本発明の感光体のキャリア発生層に
特に適するバインダ樹脂として、例えば特開昭63−6
5444号、特開昭63−148263号、特開平1−
269942号、特開平1−269943号、特開昭6
0−172044号、特開昭60−172045号等の
各号公報記載のポリカーボネートが好ましく用いられる
【0152】次に前記キャリア輸送層を形成するための
キャリア輸送物質は、キャリア発生層中に、使用可能な
前記キャリア輸送物質のうちP型キャリア輸送物質を用
いることができ、キャリア発生層中のP型キャリア輸送
物質と同じでも、異なってもよい。又キャリア輸送層中
のバインダ樹脂はキャリア発生層用樹脂と同様とされて
よいが、通常キャリア輸送物質と相溶しうる樹脂が選択
される。
【0153】図1に本発明に適する感光体の層構成が示
され、図1(A)は導電性基支持体1上に中間層2を形
成し、該中間層上にキャリア輸送層3及びキャリア発生
層4をこの順に設けた感光体の断面図であり、図1(B
)は、図1(A)の感光体の表面に保護層5を設けた感
光体の断面図である。なお前記中間層2は支持体側から
の電荷の注入を阻止し、かつ支持体1とキャリア輸送層
3との接着性の向上を目的としており、前記保護層5は
キャリア発生層5の表面の機械的耐摩耗性を確保し、感
光体の繰返し使用時の機械的疲労劣化を防止することを
目的としている。
【0154】以下図1(A)の感光体を中心として感光
層の層構成を更に具体的に説明する。
【0155】前記導電性基体1としては、導電性及び絶
縁性のいずれの材料によって形成されてもよい。導電性
の材料としては、例えばステンレス、アルミニウム、ク
ロム、モリブデン、イリジウム、テルル、チタン、白金
、パラジウム等の金属又はこれらの合金等を挙げること
ができる。絶縁性の材料としては、ポリエステル、ポリ
エチレン、ポリカーボネート、セルロースアセテート、
ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン
、ポリスチレン、ポリアミド等の合成樹脂のフィルムも
しくはシート、ガラス、セラミック、紙等を挙げること
ができる。絶縁性の材料を用いる場合はその表面が導電
処理されていることが好ましい。具体的には、例えばガ
ラスの場合は、酸化インジウム、酸化スズ等により導電
処理し、ポリエステルフィルム等の合成樹脂フィルムの
場合は、アルミニウム、銀、鉛、ニッケル、金、クロム
、モリブデン、イリジウム、ニオブ、タンタル、バナジ
ウム、チタン、白金等の金属を真空蒸着、電子ビーム蒸
着、スパッタリング等の方法により導電処理し、或は上
記金属でラミネートすることにより導電処理される。
【0156】前記導電性支持体1上に感光層6を形成す
るには、通常予め中間層2が設けられる。即ちキャリア
発生層に用いられるバインダ樹脂の他ポリビニルアルコ
ール、エチルセルロース、カルボキシメチルセルロース
、カゼイン、澱粉等の有機高分子化合物をディップ塗布
、スプレー塗布等の方法により、又、酸化アルミニウム
等を真空蒸着、スパッタリング等の方法により0.01
〜2μm層の中間層2を形成する。次いで該中間層2上
にバインダ樹脂100重量部当たり前記キャリア輸送物
質20〜200重量部、好ましくは30〜100重量部
相溶して含有し、層厚5〜50μmのキャリア輸送層3
を形成する。
【0157】次いで前記キャリア輸送層2上にバインダ
樹脂100重量部当たり、キャリア発生物質2〜500
重量部、好ましくは20〜100重量部を分散含有し、
かつ本発明に係る前記P型キャリア輸送物質5〜500
重量部、好ましくは20〜100重量部、N型キャリア
輸送物質1〜100重量部を含有するキャリア発生層3
を前記塗布方法により、0.05〜20μ厚に塗布加工
してキャリア発生層4を形成する。ここでキャリア発生
層中の前記P型キャリア輸送物質に対するN型キャリア
輸送物質の量比は0.01〜1.0、好ましくは0.2
0〜0.50の範囲とされる。
【0158】次いで前記キャリア発生層4上に必要によ
り0.1〜5μm厚の透明樹脂等から成る保護層を設け
て本発明の感光体が形成される。ここで前記保護層5で
は、キャリア発生層用前記バインダ樹脂を用いることが
できるが、好ましくは例えば特公平2−45183号公
報記載の熱硬化性樹脂が用いられる。
【0159】なお前記感光体の層構成において、キャリ
ア輸送層3中のキャリア輸送物質がバインダ樹脂100
重量部当たり20重量部を下回ると光照射時、キャリア
発生層で発生したホールの支持体側の輸送機能が不足し
て感度の低下、残留電位の増大を招き、200重量部を
越えると、帯電不良、暗減衰の増大を招く。
【0160】又キャリア発生層4中のキャリア発生物質
がバインダ樹脂100重量部当たり5重量部を下回ると
、感度不足、残留電位の増大を招き、500重量部を越
えると帯電不良、暗減衰の増大を招く。
【0161】又キャリア発生層4中のP型キャリア輸送
物質の量がバインダ樹脂100重量部に対して5重量部
を下回るとキャリア発生層4の表面近くで発生したホー
ルが下層のキャリア輸送層3に注入されにくく、又N型
キャリア輸送物質の量が1重量部を下回るとキャリア発
生層4の内部で発生したエレクトロンが該キャリア発生
層4の表面に輸送されにくくなり、本発明の目的とする
高感度化が達成されず、かつ暗減衰、残留電位の増大を
招く。
【0162】又前記バインダ樹脂100重量部に対して
P型キャリア輸送物質が500重量部を越え、N型キャ
リア輸送物質が100重量部を越えると帯電不良、感光
層6の膜の機械的強度の低下、暗減衰の増大を招き好ま
しくない。
【0163】又キャリア発生層4中のP型キャリア輸送
物質に対するN型キャリア輸送物質の量化が0.01を
下回るとキャリア発生層4の内部で発生したエレクトロ
ンが表面に輸送されにくくなり低感度となる。
【0164】又P型キャリア輸送物質に対するN型キャ
リア輸送物質の量化が1.0を越えると帯電不良、暗減
衰の増加を招き好ましくない。
【0165】
【実施例】以下本発明を実施例により具体的に説明する
が本発明の実施の態様がこれにより限定されるものでは
ない。
【0166】なお本実施例では以後キャリア輸送層をC
TL、キャリア発生層をCGL、キャリア輸送物質をC
TM、キャリア発生物質をCGMと標記する。またはキ
ャリア輸送物質のうちP型はP−CTM、N型はN−C
TMとして区別する。
【0167】(感光体の調製)長さ355.5mm、外
径80mmのアルミ管体27本を用意し、これらの管体
のそれぞれに塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸
共重合体(積水化学社製、エスレックMF−10)10
0重量部を1000重量部のメチルエチルケトンに溶解
し、得られた溶液を乾燥後の膜厚が0.1μmとなるよ
う塗布、乾燥して31本の支持体を得た。
【0168】(本発明テスト用感光体の調製)(1)テ
ストNo1〜10の感光体の調製:前記31本の支持体
のうちの10本の支持体のそれぞれに下記処方のCTL
用塗布液(1)を乾燥後の膜厚が20μmとなるよう塗
布乾燥してCTLを形成した。
【0169】   CTL用塗布液(1):   ポリカーボネート(三菱瓦斯化学社製、PCZ−2
00)        100重量部  下記構造のP
−CTM(1−2)                
               90重量部  シリコ
ーンオイル(信越化学社製、KF−54)      
        0.05重量部  1,2−ジクロル
メタン                      
            1000重量部
【0170】
【化39】
【0171】次いで前記CTL上に後記10種類のCG
L用塗布液を乾燥後の膜厚が5μmとなるよう、それぞ
れ塗布、乾燥してCGLを形成し、本発明用テストNo
1〜No10の10種類の感光体を得た。
【0172】   CGL用塗布液ベース処方(1):  ポリカーボ
ネート(PCZ−200)             
               100重量部  下記
構造のCGM(1)                
                     50重量
部  P−CTM(X)              
                         
   75重量部  下記構造のN−CTM(2−1)
                         
      20重量部  テトラハイドロフラン  
                         
          1000重量部
【0173】
【化40】
【0174】即ち前記CGL用塗布液ベース(1)に基
づき、該処方中のP−CTM(X)の種類を表1−1の
P−CTM(1−1)〜(1−10)の如く変化しかつ
バインダ樹脂に対する含量75wt%に固定して10種
類のCGL塗布液を作成し、これらを前記CTLが設け
られた10本の支持体上それぞれ塗布して、テストNo
1〜No10の10種類の感光体を得た。
【0175】なおP−CTM(1−1)及びP−CTM
(1−3)〜(1−10)は下記構造とされた。
【0176】
【化41】
【0177】
【化42】
【0178】
【化43】
【0179】なお得られた10種類の感光体のキャリア
発生層中のP−CTMに対するN−CTMの量比N/P
は0.266とされた。
【0180】(2)テストNo11〜20感光体の調製
:前記支持体の残りの21本から10本を抜取り、該1
0本の支持体のそれぞれに前記P−CTM(1−3)を
用いた他はCTL用塗布液(1)と同様にして得たCT
L用塗布液(2)を作成し、これを乾燥後の膜厚が20
μmとなるよう塗布、乾燥してCTLを形成した。
【0181】次いで前記CTL上に後記10種類のCG
L用塗布液(2)を乾燥後の膜厚が5μmとなるようそ
れぞれ塗布、乾燥してCGLを形成し、本発明用テスト
No11〜20の10種類の感光体を得た。
【0182】   CGL用塗布液ベース処方(2):  ポリカーボ
ネート(PCZ−200)             
               100重量部  下記
構造のCGM(2)                
                     50重量
部  P−CTM(1−1)            
                         
    75重量部  N−CTM(Y)      
                         
           20重量部  テトラハイドロ
フラン                      
               1000重量部
【01
83】
【化44】
【0184】即ち前記CGL用塗布液ベース処方(2)
に基づき、該処方中のN−CTM(Y)を該処方中のN
−CTM(Y)を表1−1の如く前記N−CTM(2−
1)及び下記構造のN−CTM(2−2)〜(2−10
)に変化し、かつバインダ樹脂に対する含量を20wt
%固定して、10種類の塗布液を作成し、これらを前記
CTLが設けられた10本の支持体上にそれぞれ塗布し
てテストNo11〜No20の感光体を得た。
【0185】
【化45】
【0186】
【化46】
【0187】
【化47】
【0188】なお得られた10種類の感光体のCGL中
のP−CTMの量に対するN−CTMの量比N/Pは前
記テストNo1〜No10の感光体と同様0.266と
された。
【0189】(3)テストNo21〜No24感光体の
調製:前記支持体の残りの11本から4本を抜取り、該
4本の支持体のそれぞれに、前記P−CTM(1−1)
を用いた他は前記CTL用塗布液(1)と同様にしてC
TL用塗布液(3)を作成し、得られた塗布液(3)を
乾燥後の膜厚が21μmとなるよう塗布、乾燥してCT
Lを形成した。
【0190】次に下記構造のCGM(3)及び前記P−
CTM(1−2)をバインダ樹脂に対して4.5〜51
0wt%の範囲でその量を後記表1−1の如く4段階に
変化して含有させ、かつN−CTM(2−10)をバイ
ンダ樹脂に対して5.0wt%となるよう含有させた他
はCGL用塗布液(1)と同様にしてCGL用塗布液(
3)−1〜(3)−4を作成した。これらの塗布液を前
記4本の支持体のCTL上にそれぞれ乾燥後の膜厚が5
μmとなるよう塗布・乾燥してテストNo21〜No2
4の4種類の感光体を得た。
【0191】
【化48】
【0192】なお得られた4種類の感光体のCGL中の
P−CTMの量に対するN−CTMの量比N/Pはテス
トNo21が1.111、テストNo22が0.961
、テストNo23が0.0125、テストNo24が0
.0098とされた。
【0193】(4)テストNo25〜26感光体の調製
:前記支持体の残りの7本から4本を抜取り、該4本の
支持体のそれぞれに前記P−CTM(1−8)を用いた
他はCTL用塗布液(1)と同様にして得たCTL用塗
布液(4)を乾燥後の膜厚が21μmとなるよう塗布、
乾燥してCTLを形成した。
【0194】次いでCGL(4)として、CuKα,1
.541ÅのX線に対するブラッグ角度(2θ±0.2
度)において、7.7,9.2,16.8,17.5,
22.4,28.8度に主要なピークを有し、且つ9.
2度のピーク強度に対して16.8度のピーク強度が0
.8〜1.0であり、また22.4度に対する28.8
度のピーク強度比が0.4以上のオキシチタニルフタロ
シアニン顔料を用い、かつP−CTM(1−2)をバイ
ンダ樹脂に対して100wt%含有させ、N−CTM(
2−10)をバインダ樹脂に対して0.9wt%〜10
2wt%の範囲で表1−1の如く4段階に変化して含有
させた他はCGL用塗布液(1)の場合と同様にして4
種類のCGL用塗布液(4)−1〜(4)−4を作成し
た。
【0195】これらのCGL用塗布液を前記4本の支持
体のCTL上にそれぞれ乾燥後の膜厚が5μmとなるよ
う塗布、乾燥してテストNo25〜28の4種類の感光
体を得た。
【0196】なお得られた4種類の感光体のCGL中の
P−CTMに対するN−CTMの量比N/PはテストN
o25が0.0090、テストNo26が0.011、
テストNo27が0.90、テストNo28が1.02
とされた。
【0197】(比較テスト用感光体の製造)(5)比較
テストNo29〜31感光体の調製:前記支持体の残り
の3本の支持体のそれぞれにCTL用塗布液(1)と同
様のCTL用塗布液(5)を乾燥後の膜厚が20μmと
なるよう塗布、乾燥してCTLを形成した。
【0198】次にCGM(1)を用い、かつP−CTM
(1−2)をバインダ樹脂に対して75wt%となるよ
う含有させ、N−CTMを除いた他はCGL用塗布液(
1)と同様にしてCGL用塗布液(5−1)を作成し、
前記3本のうちの1本の支持体のCTL上に乾燥後の膜
厚が5μmとなるよう塗布・乾燥して比較テストNo2
9の感光体を得た。
【0199】次にCGM(1)を用い、かつN−CTM
(2−10)をバインダ樹脂に対して20wt%含有さ
せ、P−CTMを除いた他は、CGL用塗布液(1)と
同様にしてCGL用塗布液(5−2)を作成し、該塗布
液を前記3本のうちの他の1本の支持体のCTL上に乾
燥膜厚が5μmとなるよう塗布、乾燥して比較テストN
o30の感光体を得た。
【0200】次にCGMとして同じくCGM(1)を用
い、P−CTM及びN−CTMを除いた他はCGL用塗
布液(1)と同様にして、CGL用塗布液(5−3)を
作成し、該塗布液を前記3本の支持体のうちの残りの1
本のCTL上に乾燥膜厚が5μmとなるよう塗布・乾燥
して比較テストNo31の感光体を得た。
【0201】なお、前記比較テスト用各感光体のCGL
中のP−CTMに対するN−CTMの量比N/Pはいづ
れも0.266とされた。
【0202】
【表1】
【0203】(テスト方法)前記本発明テスト用感光体
No1〜18及び比較テスト用感光体No29〜31を
コニカ社製U−Bix−3035の改造機(帯電極性を
正に改造)に装着し、相対湿度60%、20℃の雰囲気
下で各テスト共繰返し1000回の実写テストを行ない
、1000回目の画像の画像濃度とかぶりの度合を「○
」、「△」、「×」の3段階に評価し、その結果を表1
−3に示した。
【0204】又前記1000回の繰返し実写テストの前
後における感光体の黒紙電位(VB)及び白紙電位(V
W)を測定し、その結果を表1−2に示した。
【0205】なお、表1−2の黒紙電位(VB)は反射
濃度1.3の原稿に対する感光体の表面電位、白紙電位
(VW)は反射濃度「0」の原稿に対する感光体の表面
電位であって、いづれも実写前後に現像器の位置に電位
計のブローグを配置して測定された。又、露光用光源が
3000°Kのハロゲンランプが用いられているため、
カラーバランスを考慮し、カット波長630nmのIR
カットフィルタを光路中に設置してテストを行なった。
【0206】実写テストの画像の評価は、画像濃度及び
かぶりの度合に注目し、画像濃度0.8以上を「0」、
0.6〜0.79を「△」、0.6未満を「×」とし、
かぶり0.50以上を「×」、0.02〜0.49を「
△」、0.02未満を「○」とした。
【0207】
【表2】
【0208】
【表3】
【0209】表1−1、表1−2、表1−3より本発明
の感光体は画像濃度、かぶり、その他、画像全般につい
てすぐれており、比較用感光体は濃度低下及びかぶりの
発生が大であることが理解される。又本発明の感光体は
黒紙電位(VB)に対して光減衰後の白紙電位(VW)
が低く、高感度特性を有するが、繰返しの過程で比較感
光体は感度低下、白紙電位即ち残留電位の増大を招くこ
とが理解される。
【0210】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように本発明の
感光体によれば、繰返し像形成の過程で疲労劣化が少な
く高耐久性を有し、かつ高感度特性を有する等の効果が
奏される。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1(A)及び(B)は本発明の感光体の断面
図を表す。
【符号の説明】 1…支持体                    
2…中間層3…キャリア輸送層           
 4…キャリア発生層5…保護層

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  導電性支持体上にキャリア輸送層とキ
    ャリア発生層とをこの順に有する電子写真感光体におい
    て、前記キャリア発生層中にP型キャリア輸送物質と、
    N型キャリア輸送物質とを含有せしめたことを特徴とす
    る電子写真感光体。
  2. 【請求項2】  前記キャリア発生層中にP型キャリア
    輸送物質が該層中のバインダ樹脂100重量部に対して
    5〜500重量部、N型キャリア輸送物質が1〜100
    重量部含有される請求項1の電子写真感光体。
  3. 【請求項3】  前記キャリア発生層中のP型キャリア
    輸送物質に対するN型キャリア輸送物質の量比が0.0
    1〜1.0である請求項1又は2の電子写真感光体。
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