JPH03168252A - 修正液 - Google Patents
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- JPH03168252A JPH03168252A JP30978889A JP30978889A JPH03168252A JP H03168252 A JPH03168252 A JP H03168252A JP 30978889 A JP30978889 A JP 30978889A JP 30978889 A JP30978889 A JP 30978889A JP H03168252 A JPH03168252 A JP H03168252A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、万年筆、水性サインペンなどの水性インキに
よる筆跡、油性ボールペン、油性マーカーなどの油性イ
ンキによる筆跡、タイプライターワープロによる印字、
乾式複写機による複写像などを隠蔽修正するための修正
液に関する。
よる筆跡、油性ボールペン、油性マーカーなどの油性イ
ンキによる筆跡、タイプライターワープロによる印字、
乾式複写機による複写像などを隠蔽修正するための修正
液に関する。
(従来の技術)
従来、万年筆,水性サインペンなどの水性インキによる
筆跡,油性ボールペン、油性マーカーなどの油性インキ
による筆跡、タイプライター,ワープロによる印字、乾
式複写機による複写像などを隠蔽修正するための修正液
としては、水性及び油性の筆跡、文字,複写像などを溶
解し難いナフテン系炭化水素を溶剤とし、アクリル系樹
脂をバインダーとしたものが知られている(例えば、特
開昭63−142075号公報)。アクリル系樹脂をバ
インダーとして用いた場合、樹脂溶液の粘度が高く、従
って修正液の塗布性例えばレベリング性を良好にするに
はアクリル系樹脂の修正液中に占める比率を低く抑え、
修正液の低粘度化を図らなければならなかった。
筆跡,油性ボールペン、油性マーカーなどの油性インキ
による筆跡、タイプライター,ワープロによる印字、乾
式複写機による複写像などを隠蔽修正するための修正液
としては、水性及び油性の筆跡、文字,複写像などを溶
解し難いナフテン系炭化水素を溶剤とし、アクリル系樹
脂をバインダーとしたものが知られている(例えば、特
開昭63−142075号公報)。アクリル系樹脂をバ
インダーとして用いた場合、樹脂溶液の粘度が高く、従
って修正液の塗布性例えばレベリング性を良好にするに
はアクリル系樹脂の修正液中に占める比率を低く抑え、
修正液の低粘度化を図らなければならなかった。
しかしながら、修正液の粘度を下げるためにアクリル系
樹脂の比率を低く抑えたものは、接着或分でもあるアク
リル系樹脂の比率低下により却って用紙への密着性が低
下し、修正箇所から折曲げたりすると折り目に沿って塗
膜にクラックが発生し、塗膜が剥離を起こすという問題
が生じる。
樹脂の比率を低く抑えたものは、接着或分でもあるアク
リル系樹脂の比率低下により却って用紙への密着性が低
下し、修正箇所から折曲げたりすると折り目に沿って塗
膜にクラックが発生し、塗膜が剥離を起こすという問題
が生じる。
この問題を解決するために可塑剤を添加したものも提案
されている(例えば、特開昭61−275369号公報
)。
されている(例えば、特開昭61−275369号公報
)。
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら、可塑剤を添加した修正液は、その可塑剤
が疎水性を示すため、修正した箇所に水性インキにより
再筆記した場合、水性インキがはじかれてしまい、再筆
記した筆跡が不明瞭となってしまうという問題を有して
いる。
が疎水性を示すため、修正した箇所に水性インキにより
再筆記した場合、水性インキがはじかれてしまい、再筆
記した筆跡が不明瞭となってしまうという問題を有して
いる。
(課題を解決するための手段)
そこで、本発明者等は、ナフテン系炭化水素溶剤に溶解
し,低粘性であり、顔料の分散(安定)性にも優れ、可
塑剤を使用しなくとも柔軟性を有し、且つ、密着性の良
い修正塗膜が得られるアクリル系樹脂について種々検討
した結果、遂に本発明を完威したものである。
し,低粘性であり、顔料の分散(安定)性にも優れ、可
塑剤を使用しなくとも柔軟性を有し、且つ、密着性の良
い修正塗膜が得られるアクリル系樹脂について種々検討
した結果、遂に本発明を完威したものである。
即ち、本発明は、
(1)顔料の全部又は少なくとも主成分である酸化チタ
ンと、ナフテン系炭化水素溶剤を少なくとも含有する有
機溶剤と、下記一般式(I)で示されるメタクリル酸エ
ステルと下記一般式(II)で示されるカチオン性七ノ
マーとから少なくともなり重量平均分子量が10,00
0〜200.000のアクリル系樹脂とから少なくとも
なる修正液を第1の要旨とし、 (2)顔料の全部又は少なくとも主或分である酸化チタ
ンと、ナフテン系炭化水素溶剤を少なくとも含有する有
機溶剤と、下記一般式(I)で示されるメタクリル酸エ
ステルと下記一般式(III)で示されるカチオン性モ
ノマーとから少なくともなり重量平均分子量が10.0
00 〜200,000のアクリル系樹脂とから少なく
ともなる修正液を第2の要旨とし、 (3)顔料の全部又は少なくとも主或分である酸化チタ
ンと、ナフテン系炭化水素溶剤を少なくとも含有する有
機溶剤と、下記一般式(1)で示されるメタクリル酸エ
ステルと下記一般式([1)で示されるカチオン性モノ
マーとから少なくともなりガラス転移温度が−20〜5
0℃のアクリル系樹脂とから少なくともなる修正液を第
3の要旨とし、 (4)顔料の全部又は少なくとも主成分である酸化チタ
ンと、ナフテン系炭化水素溶剤を少なくとも含有する有
機溶剤と、下記一般式(1)で示されるメタクリル酸エ
ステルと下記一般式(III)で示されるカチオン性モ
ノマーとから少なくともなりガラス転移温度が−20〜
50℃のアクリル系樹脂とから少なくともなる修正液を
第4の要旨とするものである。
ンと、ナフテン系炭化水素溶剤を少なくとも含有する有
機溶剤と、下記一般式(I)で示されるメタクリル酸エ
ステルと下記一般式(II)で示されるカチオン性七ノ
マーとから少なくともなり重量平均分子量が10,00
0〜200.000のアクリル系樹脂とから少なくとも
なる修正液を第1の要旨とし、 (2)顔料の全部又は少なくとも主或分である酸化チタ
ンと、ナフテン系炭化水素溶剤を少なくとも含有する有
機溶剤と、下記一般式(I)で示されるメタクリル酸エ
ステルと下記一般式(III)で示されるカチオン性モ
ノマーとから少なくともなり重量平均分子量が10.0
00 〜200,000のアクリル系樹脂とから少なく
ともなる修正液を第2の要旨とし、 (3)顔料の全部又は少なくとも主或分である酸化チタ
ンと、ナフテン系炭化水素溶剤を少なくとも含有する有
機溶剤と、下記一般式(1)で示されるメタクリル酸エ
ステルと下記一般式([1)で示されるカチオン性モノ
マーとから少なくともなりガラス転移温度が−20〜5
0℃のアクリル系樹脂とから少なくともなる修正液を第
3の要旨とし、 (4)顔料の全部又は少なくとも主成分である酸化チタ
ンと、ナフテン系炭化水素溶剤を少なくとも含有する有
機溶剤と、下記一般式(1)で示されるメタクリル酸エ
ステルと下記一般式(III)で示されるカチオン性モ
ノマーとから少なくともなりガラス転移温度が−20〜
50℃のアクリル系樹脂とから少なくともなる修正液を
第4の要旨とするものである。
?H,
1
CH2=C−COORエ ・・・
(1)(R■:炭素数3〜18の直鎖若しくは分岐を有
するアルキル基,あるいは、ナフテン環、芳香環を含む
炭化水素を示す。) R2 (R2: H又はCH,、R3,R4:それぞれ独立に
炭素数3〜4のアルキル基又はシクロヘキシル基、A:
炭素数1〜4のアルキレン基を示す。)R, (R,:H,CH,、R,, R7:それぞれ独立に炭
素数l〜4のアルキル基、B:炭素数1〜4のアルキレ
ン基を示す。) 以下、本発明の組成について説明する。
(1)(R■:炭素数3〜18の直鎖若しくは分岐を有
するアルキル基,あるいは、ナフテン環、芳香環を含む
炭化水素を示す。) R2 (R2: H又はCH,、R3,R4:それぞれ独立に
炭素数3〜4のアルキル基又はシクロヘキシル基、A:
炭素数1〜4のアルキレン基を示す。)R, (R,:H,CH,、R,, R7:それぞれ独立に炭
素数l〜4のアルキル基、B:炭素数1〜4のアルキレ
ン基を示す。) 以下、本発明の組成について説明する。
顔料は、筆跡、印字,複写像を隠蔽するために使用する
ものであって、その全部又は少なくとも主成分が酸化チ
タンであることが必要であるが、酸化チタンとしては、
ルチル型、アナターゼ型何れの酸化チタンも使用でき、
市販のものとしてはタイトーンSR−1、同R−650
、同R−3L、同A−110.同A−↓50、同R−5
N (以上,堺化学工業曲製)、タイペークR−580
、同R−550、同R−930、同A−100、同A−
220、同CR−58 (以上、石原産業曲製)、クロ
ノスKR−310、同KR−380、同KR−480、
同KA−10、同KA−20、同KA−30 (以上、
チタン工業■製)、タイビュアR−900、同R−93
1(以上、デュポン・ジャパン・リミテッド社製)など
が挙げられ、その使用量は顔料容積濃度(p.v.c)
として50%以上が好ましい。
ものであって、その全部又は少なくとも主成分が酸化チ
タンであることが必要であるが、酸化チタンとしては、
ルチル型、アナターゼ型何れの酸化チタンも使用でき、
市販のものとしてはタイトーンSR−1、同R−650
、同R−3L、同A−110.同A−↓50、同R−5
N (以上,堺化学工業曲製)、タイペークR−580
、同R−550、同R−930、同A−100、同A−
220、同CR−58 (以上、石原産業曲製)、クロ
ノスKR−310、同KR−380、同KR−480、
同KA−10、同KA−20、同KA−30 (以上、
チタン工業■製)、タイビュアR−900、同R−93
1(以上、デュポン・ジャパン・リミテッド社製)など
が挙げられ、その使用量は顔料容積濃度(p.v.c)
として50%以上が好ましい。
有機溶剤は,4i!脂の溶解、粘度調整などに使用する
ものであり、水性及び油性の筆跡、文字、複写像などを
溶解し難いナフテン系炭化水素溶剤を必須威分として使
用するが、修正塗膜の乾燥性を考慮すれば、沸点が70
〜150℃の範囲にあるシクロヘキサン,メチルシクロ
ヘキサン、エチルシクロヘキサンが好ましく使用される
。尚、nーヘキサン、n−へブタン、n−オクタンなど
のパラフィン系炭化水素.1,1.1−トリクロルエ/ タン、テトラクロルエチレンなどのハロゲン化炭化水素
、トルエン、キシレンなどの芳香族系炭化水素,1,4
−ジオキサン、n−ブチルエーテルなどのエーテル系溶
剤、エチルメチルケトン、メチルーn−プロビルケトン
などのケトン系溶剤、ギ酸プロビル、酢酸エチルなどの
エステル系溶剤、エタノール、n−プロパノール,イソ
ブロパノール、n−ブタノール、イソブタノール、se
c−ブタノール,tert−ブタノールなどのアルコー
ル系溶剤がナフテン系炭化水素溶剤と混合して使用でき
る。
ものであり、水性及び油性の筆跡、文字、複写像などを
溶解し難いナフテン系炭化水素溶剤を必須威分として使
用するが、修正塗膜の乾燥性を考慮すれば、沸点が70
〜150℃の範囲にあるシクロヘキサン,メチルシクロ
ヘキサン、エチルシクロヘキサンが好ましく使用される
。尚、nーヘキサン、n−へブタン、n−オクタンなど
のパラフィン系炭化水素.1,1.1−トリクロルエ/ タン、テトラクロルエチレンなどのハロゲン化炭化水素
、トルエン、キシレンなどの芳香族系炭化水素,1,4
−ジオキサン、n−ブチルエーテルなどのエーテル系溶
剤、エチルメチルケトン、メチルーn−プロビルケトン
などのケトン系溶剤、ギ酸プロビル、酢酸エチルなどの
エステル系溶剤、エタノール、n−プロパノール,イソ
ブロパノール、n−ブタノール、イソブタノール、se
c−ブタノール,tert−ブタノールなどのアルコー
ル系溶剤がナフテン系炭化水素溶剤と混合して使用でき
る。
本発明において特に重要なアクリル系樹脂は、前記ナフ
テン系炭化水素溶剤を必須或分とする有機溶剤に溶解し
,酸化チタンとの濡れも良好なものである。
テン系炭化水素溶剤を必須或分とする有機溶剤に溶解し
,酸化チタンとの濡れも良好なものである。
以下このアクリル系樹脂について説明する。
前記一般式(1)で示されるメタクリル酸エステルとし
ては、プロビルメタクリレート,イソプロビルメタクリ
レート、n−プチルメタクリレート、イソブチルメタク
リレート、tert−プチルメタクリレート、2−エチ
ルへキシルメタクリレート,オクチルメタクリレート、
ラウリルメタクリレート,セチルメタクリレート、ステ
アリルメタクリレート、オレイルメタクリレート、シク
ロへキシルメタクリレート、ペンジルメタクリレートな
どが挙げられる。
ては、プロビルメタクリレート,イソプロビルメタクリ
レート、n−プチルメタクリレート、イソブチルメタク
リレート、tert−プチルメタクリレート、2−エチ
ルへキシルメタクリレート,オクチルメタクリレート、
ラウリルメタクリレート,セチルメタクリレート、ステ
アリルメタクリレート、オレイルメタクリレート、シク
ロへキシルメタクリレート、ペンジルメタクリレートな
どが挙げられる。
一般式(1)で示されるメタクリル酸エステルは、アク
リル系樹脂中60〜98重量%含有することが好ましい
。60重量%より少量ではナフテン系炭化水素溶剤に対
するアクリル系樹脂の溶解性が低下する傾向に有るから
である。
リル系樹脂中60〜98重量%含有することが好ましい
。60重量%より少量ではナフテン系炭化水素溶剤に対
するアクリル系樹脂の溶解性が低下する傾向に有るから
である。
前記一般式(II)で示されるカチオン性モノマーとし
ては、例えばN,N−ジメチルアミノプロピル(メタ)
アクリレート、N,N−ジエチルアミノプロピル(メタ
)アクリレート、N,N−ジブチルアミノエチル(メタ
)アクリレート、N,N−ジプロピルアミノエチル(メ
タ)アクリレート、N,N−ジイソブチルアミノエチル
(メタ)アクリレート、N,N−ジイソプロピルアミノ
エチル(メタ)アクリレート、N,N−ジーtert−
プチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジ
シクロへキシルアミノエチル(メタ)アクリレートなど
が挙げられる。
ては、例えばN,N−ジメチルアミノプロピル(メタ)
アクリレート、N,N−ジエチルアミノプロピル(メタ
)アクリレート、N,N−ジブチルアミノエチル(メタ
)アクリレート、N,N−ジプロピルアミノエチル(メ
タ)アクリレート、N,N−ジイソブチルアミノエチル
(メタ)アクリレート、N,N−ジイソプロピルアミノ
エチル(メタ)アクリレート、N,N−ジーtert−
プチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジ
シクロへキシルアミノエチル(メタ)アクリレートなど
が挙げられる。
一般式(II)で示されるカチオン性モノマーは、アク
リル系樹脂中2〜20重量%含有することが好ましい。
リル系樹脂中2〜20重量%含有することが好ましい。
2重量%より少量では、酸化チタンに対する吸着が弱い
ため顔料の分散性が低下し、20重量%より多量では共
重合するメタクリル酸エステルの種類によっては、ナフ
テン系炭化水素溶剤に対するアクリル系樹脂の溶解性が
低下する傾向があるからである。
ため顔料の分散性が低下し、20重量%より多量では共
重合するメタクリル酸エステルの種類によっては、ナフ
テン系炭化水素溶剤に対するアクリル系樹脂の溶解性が
低下する傾向があるからである。
前記一般式(III)で示されるカチオン性モノマーと
しては、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)?クリ
ルアミト、N,N−ジエチルアミノエチル(メタ)アク
リルアミドN,N−ジメチルアミノプロピル(メタ)ア
クリルアミド、N,N−ジエチルアミノプロピル(メタ
)アクリルアミドなどが挙げられる。
しては、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)?クリ
ルアミト、N,N−ジエチルアミノエチル(メタ)アク
リルアミドN,N−ジメチルアミノプロピル(メタ)ア
クリルアミド、N,N−ジエチルアミノプロピル(メタ
)アクリルアミドなどが挙げられる。
一般式(1)で示されるメタクリル酸エステルと一般式
(II)又は(III)で示されるカチオン性モノマー
以外に両者と共重合可能なビニルモノマーを含有するこ
ともできる。このモノマーとしては、前記一般式(I)
中のR■の炭素数が2以下のメタクリル酸エステルや、
水酸基などの官能基を有するアクリル酸系及びメタクリ
ル酸系の七ノマーや、アクリル酸エステルや,酢酸ビニ
ル、スチレン、ビニルトルエンなどが挙げられる。
(II)又は(III)で示されるカチオン性モノマー
以外に両者と共重合可能なビニルモノマーを含有するこ
ともできる。このモノマーとしては、前記一般式(I)
中のR■の炭素数が2以下のメタクリル酸エステルや、
水酸基などの官能基を有するアクリル酸系及びメタクリ
ル酸系の七ノマーや、アクリル酸エステルや,酢酸ビニ
ル、スチレン、ビニルトルエンなどが挙げられる。
これらのモノマーの使用量は,アクリル系樹脂のナフテ
ン系炭化水素に対する溶解性、修正塗膜の特性を考慮す
るとO〜20重量%が好ましい。
ン系炭化水素に対する溶解性、修正塗膜の特性を考慮す
るとO〜20重量%が好ましい。
更に、アクリル系樹脂の重量平均分子量は10.000
〜200,O○○であること、又は、ガラス転移温度が
−20〜50℃であることが必要である。
〜200,O○○であること、又は、ガラス転移温度が
−20〜50℃であることが必要である。
重量平均分子量が10,000より小さい場合において
は、塗膜が脆く修正した用紙を修正箇所にて折曲げると
折り目に沿ってクラックが発生し塗膜が剥離してしまい
、200,000より大きい場合においては、樹脂溶液
自体の粘度が上昇し、塗布性例えばレベリング性が低下
したり、顔料の分散性が低下し経時的に顔料の凝集が生
じ易くなる。また、ダラス転移温度が50℃を越えると
、塗嘆が脆く修正した用紙を修正箇所にて折曲げると折
り目に沿ってクラックが発生し,塗膜が剥離してしまい
、− 2 0 ’C未満では、塗膜に粘着性が生し重ね
た用紙が貼り付くブロッキングが発生してしまったり、
内部凝集力が不足し密着性が低下してしまうからである
。
は、塗膜が脆く修正した用紙を修正箇所にて折曲げると
折り目に沿ってクラックが発生し塗膜が剥離してしまい
、200,000より大きい場合においては、樹脂溶液
自体の粘度が上昇し、塗布性例えばレベリング性が低下
したり、顔料の分散性が低下し経時的に顔料の凝集が生
じ易くなる。また、ダラス転移温度が50℃を越えると
、塗嘆が脆く修正した用紙を修正箇所にて折曲げると折
り目に沿ってクラックが発生し,塗膜が剥離してしまい
、− 2 0 ’C未満では、塗膜に粘着性が生し重ね
た用紙が貼り付くブロッキングが発生してしまったり、
内部凝集力が不足し密着性が低下してしまうからである
。
ここで、重量平均分子量とはGPC(GelPerme
ation Chromatography)分析法
による測定値であり、■島津製作所製の高速液体クロマ
トグラフイーrLC−3AJを用い、充填力ラムとして
ボリスチレンゲル系カラム(同社製「シマズゲルHSG
力ラム」)を使用して、重量平均分子量を測定した値(
数値は下3桁目を四捨五入)である。
ation Chromatography)分析法
による測定値であり、■島津製作所製の高速液体クロマ
トグラフイーrLC−3AJを用い、充填力ラムとして
ボリスチレンゲル系カラム(同社製「シマズゲルHSG
力ラム」)を使用して、重量平均分子量を測定した値(
数値は下3桁目を四捨五入)である。
尚,修正塗膜の用紙への密着性、例えば修正箇所にて折
曲げた場合の剥離強さを考慮すると、修正塗膜は柔軟性
を有することが好ましく、従って使用されるアクリル系
樹脂のガラス転移温度は−20〜50’Cが好ましい。
曲げた場合の剥離強さを考慮すると、修正塗膜は柔軟性
を有することが好ましく、従って使用されるアクリル系
樹脂のガラス転移温度は−20〜50’Cが好ましい。
ガラス転移温度とは、大森英三著『アクリル酸エステル
とそのポリマー〔■〕』■昭晃堂発行第110頁〜11
5頁に記載されているような一般の高分子で測定される
二次転移点てあり,共重合体の場合は同書第120頁に
記載されている計算ガラス転移温度である。即ち、共重
合体のガラス転移温度は次式によって計算されたもので
ある。
とそのポリマー〔■〕』■昭晃堂発行第110頁〜11
5頁に記載されているような一般の高分子で測定される
二次転移点てあり,共重合体の場合は同書第120頁に
記載されている計算ガラス転移温度である。即ち、共重
合体のガラス転移温度は次式によって計算されたもので
ある。
?g TgL Tgz Tg3 Tg
n(但し、W1+W2+W,+・・・・・+Wn=工)
ここでTgとは共重合体のガラス転移温度であり,絶対
温度に換算して計算する。Tg■rTgz・・・,Tg
nは成分1,成分2,・・・或分nのそれぞれ純粋な単
独重合体1,2,・・・,nのガラス転移温度であり、
絶対温度に換算し計算する。W、,W2,・・Wnは,
共重合体戊分中における特定のモノマーの重量分率であ
る。
n(但し、W1+W2+W,+・・・・・+Wn=工)
ここでTgとは共重合体のガラス転移温度であり,絶対
温度に換算して計算する。Tg■rTgz・・・,Tg
nは成分1,成分2,・・・或分nのそれぞれ純粋な単
独重合体1,2,・・・,nのガラス転移温度であり、
絶対温度に換算し計算する。W、,W2,・・Wnは,
共重合体戊分中における特定のモノマーの重量分率であ
る。
上述した成分以外に修正塗膜に再筆記した筆跡の乾燥性
を良好にするためにシリコーン・ブロック・コボリマー
や,エチレンオキサイド付加フッ素系界面活性剤を添加
したり、紙などの筆記面と色調を合わせるために着色顔
料を、隠蔽率を向上させるためにシリカ、炭酸カルシウ
ムなどの体質顔料を、顔料の分散安定性を更に向上させ
るために分散剤や沈降防止剤を、塗布性能を良好になら
しめるためにフロー向上剤やレベリング剤を適宜添加で
きる。
を良好にするためにシリコーン・ブロック・コボリマー
や,エチレンオキサイド付加フッ素系界面活性剤を添加
したり、紙などの筆記面と色調を合わせるために着色顔
料を、隠蔽率を向上させるためにシリカ、炭酸カルシウ
ムなどの体質顔料を、顔料の分散安定性を更に向上させ
るために分散剤や沈降防止剤を、塗布性能を良好になら
しめるためにフロー向上剤やレベリング剤を適宜添加で
きる。
本発明の修正液は、上述した戒分をボールミル、アトラ
イター,サンドミルなどの分散機にて分散処理すること
により得られる。
イター,サンドミルなどの分散機にて分散処理すること
により得られる。
(作用)
本発明に係る修正液は、下記一般式(I)で示?れるメ
タクリル酸エステルと一般式(I[)又は(III)で
示されるカチオン性七ノマーとから少なくともなり、重
量平均分子量が10,000〜200,○OO又はガラ
ス転移温度が−20〜50℃のアクリル系樹脂を使用し
ている。
タクリル酸エステルと一般式(I[)又は(III)で
示されるカチオン性七ノマーとから少なくともなり、重
量平均分子量が10,000〜200,○OO又はガラ
ス転移温度が−20〜50℃のアクリル系樹脂を使用し
ている。
一I’ff式(I)で示されるメタクリル酸エステルは
、アルコール残基であるR■が炭素数3以上の炭化水素
であることからナフテン系炭化水素溶剤に可溶となり、
一般式(II)又は(III)で示されるカチオン性七
ノマーは第37ミノ基を有するので顔料に対する吸着能
が大きくなり、従って修正液としての分散安定性が良好
となるものと推考される。
、アルコール残基であるR■が炭素数3以上の炭化水素
であることからナフテン系炭化水素溶剤に可溶となり、
一般式(II)又は(III)で示されるカチオン性七
ノマーは第37ミノ基を有するので顔料に対する吸着能
が大きくなり、従って修正液としての分散安定性が良好
となるものと推考される。
更にアクリル系樹脂の重量平均分子量が10,O○0〜
200,000であることより、アクリル系樹脂の組威
比率を低く抑えることなく低い粘度の修正液が得られ密
着性の良い塗膜を得ることができ、また、ガラス転移温
度が−20〜50℃であることより塗膜に柔軟性が付与
できるため、密着性の良い塗膜を得ることができるもの
と推考される。
200,000であることより、アクリル系樹脂の組威
比率を低く抑えることなく低い粘度の修正液が得られ密
着性の良い塗膜を得ることができ、また、ガラス転移温
度が−20〜50℃であることより塗膜に柔軟性が付与
できるため、密着性の良い塗膜を得ることができるもの
と推考される。
?R■:炭素数3〜工8の直鎖若しくは分岐を有するア
ルキル基、あるいは、ナフテン環、芳香環を含む炭化水
素を示す。) Rよ (R2: H又はCH3、R,,R.:それぞれ独立に
炭素数3〜4のアルキル基又はシクロヘキシル基,A:
炭素数1〜4のアルキレン基を示す。)R, l CH,=C−Co−NH−B−N−R.\R7
・・・ (III) (R,:H,CH3、R,, R7:それぞれ独立に炭
素数1〜4のアルキル基、B:炭素数1〜4のアルキレ
ン基を示す。) (実施例) 以下,実施例に従い、本発明を詳細に説明するが、表1
、表2の数値は「重量部」を示す。
ルキル基、あるいは、ナフテン環、芳香環を含む炭化水
素を示す。) Rよ (R2: H又はCH3、R,,R.:それぞれ独立に
炭素数3〜4のアルキル基又はシクロヘキシル基,A:
炭素数1〜4のアルキレン基を示す。)R, l CH,=C−Co−NH−B−N−R.\R7
・・・ (III) (R,:H,CH3、R,, R7:それぞれ独立に炭
素数1〜4のアルキル基、B:炭素数1〜4のアルキレ
ン基を示す。) (実施例) 以下,実施例に従い、本発明を詳細に説明するが、表1
、表2の数値は「重量部」を示す。
〈アクリル系樹脂の製造〉
撹拌機、
チッ素ガス導入口、
温度計、
還流コン
デンサーを設備した500mlの反応容器に上記表1,
2に示した物質を仕込み、チッ素ガス気流中、80’C
にて7時間撹拌しながら重合せしめ、透明で粘稠性を有
するボリマー成分(アクリル系樹脂)を得た。
2に示した物質を仕込み、チッ素ガス気流中、80’C
にて7時間撹拌しながら重合せしめ、透明で粘稠性を有
するボリマー成分(アクリル系樹脂)を得た。
得られた樹脂溶液の固形分とアクリル系樹脂の重量平均
分子量及びガラス転移温度を表3,4に示す。
分子量及びガラス転移温度を表3,4に示す。
〈修正液の配合〉
去遣11エ
クロノスKR−380 80部(チ
タン工業■製、ルチル型酸化チタン)メチルシクロヘキ
サン 30部エチルシクロヘキサン
20部実施製造例1のアクリル系樹脂
溶液 30部MA−100
0.02部(三菱化成工業■製,カーボンブラック)ミ
ズカシルP−801 2部(水
沢化学工業@製、微細シリカ) 夫見園主 クロノスKR−480 70部(チ
タン工業@製、ルチル型酸化チタン)メチルシクロヘキ
サン 4(1エチルシク口ヘキサン
10部実施製造例2のアクリル系樹脂
溶液 25部MA−100
0.02部ミズカシルP−801
2部失迩皿主 クロノスKR−4 8 0 メチルシクロヘキサン ユ.1,1−トリクロルエタン 実施製造例3のアクリル系樹脂溶液 パイフェロックス#318 (バイエルジャパンn製、鉄黒) ミズカシルP−801 矢Eロ4矢 クロノスKR−3 8 0 メチルシクロヘキサン エチルシクロヘキサン 実施製造例4のアクリル系樹脂.S液 MA− 1 0 0 ミズカシルP−801 去Lむ4i クロノスKR−4 8 0 メチルシクロヘキサン エチルシクロヘキサン 実施製造例5のアクリル系樹脂溶液 MA−Zoo 80部 45部 5部 30部 0,2部 2部 80部 30部 20部 30部 0.02部 2部 70部 40部 1o部 25部 0.02部 ミズカシノレP−801 2部失
先鯉旦 クロノスKR−480 80部メチ
ルシクロヘキサン 45部1,1.1
−トリクロルエタン 5部実施製造例6のア
クリル系樹脂溶液 30部パイフェロックス#31
8 0.2部ミズカシルP−801
2部−垣艷社L二炙 実施例1〜6において、それぞれ実施製造例1〜6のア
クリル系樹脂溶液の代わりに比較製造例1〜6のアクリ
ル系樹脂溶液を使用した他は実施例1〜6と同様に配合
した。
タン工業■製、ルチル型酸化チタン)メチルシクロヘキ
サン 30部エチルシクロヘキサン
20部実施製造例1のアクリル系樹脂
溶液 30部MA−100
0.02部(三菱化成工業■製,カーボンブラック)ミ
ズカシルP−801 2部(水
沢化学工業@製、微細シリカ) 夫見園主 クロノスKR−480 70部(チ
タン工業@製、ルチル型酸化チタン)メチルシクロヘキ
サン 4(1エチルシク口ヘキサン
10部実施製造例2のアクリル系樹脂
溶液 25部MA−100
0.02部ミズカシルP−801
2部失迩皿主 クロノスKR−4 8 0 メチルシクロヘキサン ユ.1,1−トリクロルエタン 実施製造例3のアクリル系樹脂溶液 パイフェロックス#318 (バイエルジャパンn製、鉄黒) ミズカシルP−801 矢Eロ4矢 クロノスKR−3 8 0 メチルシクロヘキサン エチルシクロヘキサン 実施製造例4のアクリル系樹脂.S液 MA− 1 0 0 ミズカシルP−801 去Lむ4i クロノスKR−4 8 0 メチルシクロヘキサン エチルシクロヘキサン 実施製造例5のアクリル系樹脂溶液 MA−Zoo 80部 45部 5部 30部 0,2部 2部 80部 30部 20部 30部 0.02部 2部 70部 40部 1o部 25部 0.02部 ミズカシノレP−801 2部失
先鯉旦 クロノスKR−480 80部メチ
ルシクロヘキサン 45部1,1.1
−トリクロルエタン 5部実施製造例6のア
クリル系樹脂溶液 30部パイフェロックス#31
8 0.2部ミズカシルP−801
2部−垣艷社L二炙 実施例1〜6において、それぞれ実施製造例1〜6のア
クリル系樹脂溶液の代わりに比較製造例1〜6のアクリ
ル系樹脂溶液を使用した他は実施例1〜6と同様に配合
した。
く修正液の製造〉
実施例1〜6、比較例1〜Gの配合組或物を、それぞれ
ボールミルにて24時間分散処理して修正液を得た。
ボールミルにて24時間分散処理して修正液を得た。
(効果)
以下、実施例1〜6、比較例1〜6の修正液を使用し、
粘度、隠蔽率、筆跡の修正、修正塗膜の物性(塗膜の密
着性、塗膜の屈曲性)、修正液の分散安定性、レベリン
グ性について試験を行った。
粘度、隠蔽率、筆跡の修正、修正塗膜の物性(塗膜の密
着性、塗膜の屈曲性)、修正液の分散安定性、レベリン
グ性について試験を行った。
試験結果を表5,6に示す。
※工粘度:
B型粘度計にて測定した。
※2隠蔽率:
隠蔽率測定紙(JIS K5400)に2ミルのアプ
リケーターで修正液を塗布し,乾燥後、45゜、O゜拡
散反射率を測定し算出した。
リケーターで修正液を塗布し,乾燥後、45゜、O゜拡
散反射率を測定し算出した。
※3筆跡の修正:
上質紙(JIS P3201筆記用紙A)にボールP
entelB100 (ぺんてる■製、水性インキ).
PentelマーカーMS50(ぺんてる■製、油性イ
ンキ)を使用して筆記後の筆跡及び乾式複写機(ゼロッ
クス社製)による複写文字を修正液にて修正し、筆跡及
び文字が溶解し修正塗膜上に滲み出してこないものを「
o」,くるものを「×」とした。
entelB100 (ぺんてる■製、水性インキ).
PentelマーカーMS50(ぺんてる■製、油性イ
ンキ)を使用して筆記後の筆跡及び乾式複写機(ゼロッ
クス社製)による複写文字を修正液にて修正し、筆跡及
び文字が溶解し修正塗膜上に滲み出してこないものを「
o」,くるものを「×」とした。
※4塗膜の密着性:
上質紙(JIS P3201筆記用紙A)に2ミルの
アプリケーターで修正液を塗布、乾燥後,セロハンテー
プを修正塗膜に密着させた後、セロハンテープを剥した
際、テープ上に上質紙の表面も付着したものをroj
、しないものを「×」とした。
アプリケーターで修正液を塗布、乾燥後,セロハンテー
プを修正塗膜に密着させた後、セロハンテープを剥した
際、テープ上に上質紙の表面も付着したものをroj
、しないものを「×」とした。
※5塗膜の屈曲性:
タイプ用紙に2ミルのアプリケーターで修正液を塗布、
乾燥後、タイプ用紙を折曲げ、折曲げ部の塗膜の剥離状
態を観察し、塗膜にクラックも発生せず剥離しなかった
ものを「○」、剥離はしないがクラックが発生したもの
を「Δj、塗膜にクラックが発生し剥離したものを「×
」とした。
乾燥後、タイプ用紙を折曲げ、折曲げ部の塗膜の剥離状
態を観察し、塗膜にクラックも発生せず剥離しなかった
ものを「○」、剥離はしないがクラックが発生したもの
を「Δj、塗膜にクラックが発生し剥離したものを「×
」とした。
※6修正液の分散安定性:
修正液を密栓付瓶(30ml)に取り、3ケ月間室温に
放置後、修正液の状態をwA察し、殆ど沈降生成物が認
められなかったものを「◎」,沈降生或物は認められた
が容易に再分散したものを「O」、沈降生成物が認めら
れ再分散が困難であるものを「×」とした。
放置後、修正液の状態をwA察し、殆ど沈降生成物が認
められなかったものを「◎」,沈降生或物は認められた
が容易に再分散したものを「O」、沈降生成物が認めら
れ再分散が困難であるものを「×」とした。
※7レベリング性:
上質紙(JIS P3201筆記用紙A)にボールP
entelB100(ぺんてる■製、水性インキ).P
entelマーカーMS50(ぺんてる■製、油性イン
キ)を使用して筆記し、その筆跡を修正液にて修正した
。修正塗膜の表面に凹凸が黒く再筆記が良好にできたも
のを「O」、若干の凹凸は見られるが再筆記に何笠問題
が無かったものを『O』、凹凸が見られ再″i記に支障
が有ったものを「×」とした。
entelB100(ぺんてる■製、水性インキ).P
entelマーカーMS50(ぺんてる■製、油性イン
キ)を使用して筆記し、その筆跡を修正液にて修正した
。修正塗膜の表面に凹凸が黒く再筆記が良好にできたも
のを「O」、若干の凹凸は見られるが再筆記に何笠問題
が無かったものを『O』、凹凸が見られ再″i記に支障
が有ったものを「×」とした。
※8ブロッキング性:
上質紙(JIS P3201筆記用紙A)にボールP
entell3100(ぺんてる■製、水性インキ).
PentelマーカーMS50(ぺんてる(株製、油性
インキ)を使用して筆記後の筆跡及び乾式複写機(ゼロ
ックス社製)による複写文字を修正液にて修正し、乾燥
後,このヒに上質紙を重ねた。用紙が貼り付かなかった
ものを『O」、貼り付いたものを「×」とした。
entell3100(ぺんてる■製、水性インキ).
PentelマーカーMS50(ぺんてる(株製、油性
インキ)を使用して筆記後の筆跡及び乾式複写機(ゼロ
ックス社製)による複写文字を修正液にて修正し、乾燥
後,このヒに上質紙を重ねた。用紙が貼り付かなかった
ものを『O」、貼り付いたものを「×」とした。
以−ヒ詳細に説明したように、本発明の修正液は、各種
の筆跡、印字を修正可能であると共に修正液の分散安定
性に優れ、しかも修正箇所から折り曲ばたりしても塗膜
にクラックが発生することもなく、困着性に優れた修正
塗膜が得られる修正液である。
の筆跡、印字を修正可能であると共に修正液の分散安定
性に優れ、しかも修正箇所から折り曲ばたりしても塗膜
にクラックが発生することもなく、困着性に優れた修正
塗膜が得られる修正液である。
Claims (4)
- (1)顔料の全部又は少なくとも主成分である酸化チタ
ンと、ナフテン系炭化水素溶剤を少なくとも含有する有
機溶剤と、下記一般式( I )で示されるメタクリル酸
エステルと下記一般式(II)で示されるカチオン性モノ
マーとから少なくともなり重量平均分子量が10,00
0〜200,000のアクリル系樹脂とから少なくとも
なる修正液。 - (2)顔料の全部又は少なくとも主成分である酸化チタ
ンと、ナフテン系炭化水素溶剤を少なくとも含有する有
機溶剤と、下記一般式( I )で示されるメタクリル酸
エステルと下記一般式(III)で示されるカチオン性モ
ノマーとから少なくともなり重量平均分子量が10,0
00〜200,000のアクリル系樹脂とから少なくと
もなる修正液。 - (3)顔料の全部又は少なくとも主成分である酸化チタ
ンと、ナフテン系炭化水素溶剤を少なくとも含有する有
機溶剤と、下記一般式( I )で示されるメタクリル酸
エステルと下記一般式(II)で示されるカチオン性モノ
マーとから少なくともなりガラス転移温度が−20〜5
0℃のアクリル系樹脂とから少なくともなる修正液。 - (4)顔料の全部又は少なくとも主成分である酸化チタ
ンと、ナフテン系炭化水素溶剤を少なくとも含有する有
機溶剤と、下記一般式( I )で示されるメタクリル酸
エステルと下記一般式(III)で示されるカチオン性モ
ノマーとから少なくともなりガラス転移温度が−20〜
50℃のアクリル系樹脂とから少なくともなる修正液。 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・( I ) (R_1:炭素数3〜18の直鎖若しくは分岐を有する
アルキル基、あるいは、ナフテン環、芳香環を含む炭化
水素を示す。) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(II) (R_2:H又はCH_3、R_3、R_4:それぞれ
独立に炭素数3〜4のアルキル基又はシクロヘキシル基
、A:炭素数1〜4のアルキレン基を示す。)▲数式、
化学式、表等があります▼・・・(III) (R_5:H、CH_3、R_6、R_7:それぞれ独
立に炭素数1〜4のアルキル基、B:炭素数1〜4のア
ルキレン基を示す。)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30978889A JP2893411B2 (ja) | 1989-11-28 | 1989-11-28 | 修正液 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30978889A JP2893411B2 (ja) | 1989-11-28 | 1989-11-28 | 修正液 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03168252A true JPH03168252A (ja) | 1991-07-22 |
JP2893411B2 JP2893411B2 (ja) | 1999-05-24 |
Family
ID=17997250
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30978889A Expired - Lifetime JP2893411B2 (ja) | 1989-11-28 | 1989-11-28 | 修正液 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2893411B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006124638A (ja) * | 2004-09-30 | 2006-05-18 | Pentel Corp | 修正液 |
JP2010024415A (ja) * | 2008-07-24 | 2010-02-04 | Mitsubishi Pencil Co Ltd | 油性修正液組成物 |
-
1989
- 1989-11-28 JP JP30978889A patent/JP2893411B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006124638A (ja) * | 2004-09-30 | 2006-05-18 | Pentel Corp | 修正液 |
JP4586610B2 (ja) * | 2004-09-30 | 2010-11-24 | ぺんてる株式会社 | 修正液 |
JP2010024415A (ja) * | 2008-07-24 | 2010-02-04 | Mitsubishi Pencil Co Ltd | 油性修正液組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2893411B2 (ja) | 1999-05-24 |
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