JP2893411B2 - 修正液 - Google Patents

修正液

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JP2893411B2 JP30978889A JP30978889A JP2893411B2 JP 2893411 B2 JP2893411 B2 JP 2893411B2 JP 30978889 A JP30978889 A JP 30978889A JP 30978889 A JP30978889 A JP 30978889A JP 2893411 B2 JP2893411 B2 JP 2893411B2
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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、万年筆、水性サインペンなどの水性インキ
による筆跡、油性ボールペン、油性マーカーなどの油性
インキによる筆跡、タイプライター、ワープロによる印
字、乾式複写機による複写像などを隠蔽修正するための
修正液に関する。
(従来の技術) 従来、万年筆、水性サインペンなどの水性インキによ
る筆跡、油性ボールペン、油性マーカーなどの油性イン
キによる筆跡、タイプライター、ワープロによる印字、
乾式複写機による複写像などを隠蔽修正するための修正
液としては、水性及び油性の筆跡、文字、複写像などを
溶解し難いナフテン系炭化水素を溶剤とし、アクリル系
樹脂をバインダーとしたものが知られている(例えば、
特開昭63−142075号公報)。アクリル系樹脂をバインダ
ーとして用いた場合、樹脂溶液の粘度が高く、従って修
正液の塗布性例えばレベリング性を良好にするにはアク
リル系樹脂の修正液中に占める比率を低く抑え、修正液
の低粘度化を図らなければならなかった。
しかしながら、修正液の粘度を下げるためにアクリル
系樹脂の比率を低く抑えたものは、接着成分でもあるア
クリル系樹脂の比率低下により却って用紙への密着性が
低下し、修正箇所から折曲げたりすると折り目に沿って
塗膜にクラックが発生し、塗膜が剥離を起こすという問
題が生じる。
この問題を解決するために可塑剤を添加したものも提
案されている(例えば、特開昭61−275369号公報)。
(発明が解決しようとする課題) しかしながら、可塑剤を添加した修正液は、その可塑
剤が疎水性を示すため、修正した箇所に水性インキによ
り再筆記した場合、水性インキがはじかれてしまい、再
筆記した筆跡が不明瞭となってしまうという問題を有し
ている。
(課題を解決するための手段) そこで、本発明者等は、ナフテン系炭化水素溶剤に溶
解し、低粘性であり、顔料の分散(安定)性にも優れ、
可塑剤を使用しなくとも柔軟性を有し、且つ、密着性の
良い修正塗膜が得られるアクリル系樹脂について種々検
討した結果、遂に本発明を完成したものである。
即ち、本発明は、顔料の全部又は少なくとも主成分で
ある酸化チタンと、ナフテン系炭化水素溶剤を少なくと
も含有する有機溶剤と、下記一般式(I)で示されるメ
タクリル酸エステルと下記一般式(II)で示されるカチ
オン性モノマーとから少なくともなり重量平均分子量が
10,000〜200,000で、且つガラス転移温度が−20〜50℃
のアクリル系樹脂とから少なくともなる修正液を要旨と
するものである。
(R1:炭素数3〜18の直鎖若しくは分岐を有するアルキ
ル基、あるいは、ナフテン環、芳香環を含む炭化水素を
示す。) (R2:H又はCH3、R3,R4:それぞれ独立に炭素数3〜4の
アルキル基又はシクロヘキシル基、A:炭素数1〜4のア
ルキレン基を示す。) 以下、本発明の組成について説明する。
顔料は、筆跡、印字、複写像を隠蔽するために使用す
るものであって、その全部又は少なくとも主成分が酸化
チタンであることが必要であるか、酸化チタンとして
は、ルチル型、アナターゼ型何れの酸化チタンも使用で
き、市販のものとしてはタイトーンSR−1、同R−65
0、同R−3L、同A−110、同A−150、同R−5N(以
上、堺化学工業(株)製)、タイペークR−580、同R
−550、同R−930、同A−100、同A−220、同CR−58
(以上、石原産業(株)製)、クロノスKR−310、同KR
−380、同KR−480、同KA−10、同KA−20、同KA−30(以
上、チタン工業(株)製)、タイピュアR−900、同R
−931(以上、デュポン・ジャパン・リミテッド社製)
などが挙げられ、その使用量は顔料容積濃度(P.V.C)
として50%以上が好ましい。
有機溶剤は、樹脂の溶解、粘度調整などに使用するも
のであり、水性及び油性の筆跡、文字、複写像などを溶
解し難いナフテン系炭化水素溶剤を必須成分として使用
するが、修正塗膜の乾燥性を考慮すれば、沸点が70〜15
0℃の範囲にあるシクロヘキサン、メチルシクロヘキセ
ン、エチルシクロヘキサンが好ましく使用される。尚、
n−ヘキサン、n−ヘプタン、n−オクタンなどのパラ
フィン系炭化水素、1,1,1−トリクロルエタン、テトラ
クロルエチレンなどのハロゲン化炭化水素、トルエン、
キシレンなどの芳香族系炭化水素、1,4−ジオキサン、
n−ブチルエーテルなどのエーテル系溶剤、エチルメチ
ルケトン、メチル−n−プロピルケトンなどのケトン系
溶剤、ギ酸プロピル、酢酸エチルなどのエステル系溶
剤、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノー
ル、n−ブタノール、イソブタノール、sec−ブタノー
ル、tert−ブタノールなどのアルコール系溶剤がナフテ
ン系炭化水素溶剤と混合して使用できる。
本発明において特に重要なアクリル系樹脂は、前記ナ
フテン系炭化水素溶剤を必須成分とする有機溶剤に溶解
し、酸化チタンとの濡れも良好なものである。
以下このアクリル系樹脂について説明する。
前記一般式(I)で示されるメタクリル酸エステルと
しては、プロピルメタクリレート、イソプロピルメタク
リレート、n−ブチルメタクリレート、イソブチルメタ
クリレート、tert−ブチルメタクリレート、2−エチル
ヘキシルメタクリレート、オクチルメタクリレート、ラ
ウリルメタクリレート、セチルメタクリレート、ステア
リルメタクリレート、オレイルメタクリレート、シクロ
ヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリレートなど
が挙げられる。
一般式(I)で示されるメタクリル酸エステルは、ア
クリル系樹脂中60〜98重量%含有することが好ましい。
60重量%より少量ではナフテン系炭化水素溶剤に対する
アクリル系樹脂の溶解性が低下する傾向に有るからであ
る。
前記一般式(II)で示されるカチオン性モノマーとし
ては、例えばN,N−ジブチルアミノエチル(メタ)アク
リレート、N,N−ジプロピルアミノエチル(メタ)アク
リレート、N,N−ジイソブチルアミノエチル(メタ)ア
クリレート、N,N−ジイソプロピルアミノエチル(メ
タ)アクリレート、N,N−ジ−tert−ブチルアミノエチ
ル(メタ)アクリレート、N,N−ジシクロヘキシルアミ
ノエチル(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
一般式(II)で示されるカチオン性モノマーは、アク
リル系樹脂中2〜20重量%含有することが好ましい。2
重量%より少量では、酸化チタンに対する吸着が弱いた
め顔料の分散性が低下し、20重量%より多量では共重合
するメタクリル酸エステルの種類によっては、ナフテン
系炭化水素溶剤に対するアクリル系樹脂の溶解性が低下
する傾向があるからである。
一般式(I)で示されるメタクリル酸エステルと一般
式(II)で示されるカチオン性モノマー以外に両者と共
重合可能なビニルモノマーを含有することもできる。こ
のモノマーとしては、前記一般式(I)中のR1の炭素数
が2以下のメタクリル酸エステルや、水酸基などの官能
基を有するアクリル酸系及びメタクリル酸系のモノマー
や、アクリル酸エステルや、酢酸ビニル、スチレン、ビ
ニルトルエンなどが挙げられる。これらのモノマーの使
用量は、アクリル系樹脂のナフテン系炭化水素に対する
溶解性、修正塗膜の特性を考慮すると0〜20重量%が好
ましい。
更にアクリル系樹脂は、その重量平均分子量が10,000
〜200,000であり、且つ、ガラス転移温度が−20〜50℃
であることが必要である。
重量平均分子量が10,000より小さい場合においては、
塗膜が脆く修正した用紙を修正箇所にて折曲げると折り
目に沿ってクラックが発生し塗膜が剥離してしまい、20
0,000より大きい場合においては、樹脂溶液自体の粘度
が上昇し、塗布性例えばレベリング性が低下したり、顔
料の分散性が低下し経時的に顔料の凝集が生じ易くな
る。また、ガラス転移温度が50℃を越えると、塗膜が脆
く修正した用紙を修正箇所にて折曲げると折り目に沿っ
てクラックが発生し、塗膜が剥離してしまい、−20℃未
満では、塗膜に粘着性が生じ重ねた用紙が貼り付くブロ
ッキングが発生してしまったり、内部凝集力が不足し密
着性が低下してしまうからである。
ここで、重量平均分子量とはGPC(Gel Permeation C
hromatography)分析法による測定値であり、(株)島
津製作所製の高速液体クロマトグラフィー「LC−3A」を
用い、充填カラムとしてポリスチレンゲル系カラム(同
社製「シマズゲルHSGカラム」)を使用して、重量平均
分子量を測定した値(数値は下3桁目を四捨五入)であ
る。
また、ガラス転移温度とは、大森英三『アクリル酸エ
ステルとそのポリマー〔II〕』(株)昭晃堂発行第110
頁〜115頁に記載されているような一般の高分子で測定
される二次転移点であり、共重合体の場合は同書第120
頁に記載されている計算ガラス転移温度である。即ち、
共重合体のガラス転移温度は次式によって計算されたも
のである。
(但し、W1+W2+W3+・・・・・+Wn=1) ここでTgとは共重合体のガラス転移温度であり、絶対
温度に換算して計算する。Tg1,Tg2,…,Tgnは成分1,成分
2,…成分nのそれぞれ純粋な単独重合体1,2,…,nのガラ
ス転移温度であり、絶対温度に換算し計算する。W1,W2,
・・Wnは、共重合体成分中における特定のモノマーの重
量分率である。
上述した成分以外に修正塗膜に再筆記した筆跡の乾燥
性を良好にするためにシリコーン・ブロック・コポリマ
ーや、エチレンオキサイド付加フッ素系界面活性剤を添
加したり、紙などの筆記面と色調を合わせるために着色
顔料を、隠蔽率を向上させるためにシリカ、炭酸カルシ
ウムなどの体質顔料を、顔料の分散安定性を更に向上さ
せるために分散剤や沈降防止剤を、塗布性能を良好にな
らしめるためにフロー向上剤やレベリング剤を適宜添加
できる。
本発明の修正液は、上述した成分をボールミル、アト
ライター、サンドミルなどの分散機にて分散処理するこ
とにより得られる。
(作用) 本発明に係る修正液は、下記一般式(I)で示される
メタクリル酸エステルと一般式(II)で示されるカチオ
ン性モノマーとから少なくともなり、重量平均分子量が
10,000〜200,000、且つ、ガラス転移温度が−20〜50℃
のアクリル系樹脂を使用している。
一般式(I)で示されるメタクリル酸エステルは、ア
ルコール残基であるR1が炭素数3以上の炭化水素である
ことからナフテン系炭化水素溶剤に可溶となり、一般式
(II)で示されるカチオン性モノマーは第3アミノ基を
有するので顔料に対する吸着能が大きくなり、従って修
正液としての分散安定性が良好となるものと推考され
る。
更にアクリル系樹脂の重量平均分子量が10,000〜200,
000であることより、アクリル系樹脂の組成比率を低く
抑えることなく低く粘度の修正液が得られ密着性の良い
塗膜を得ることができ、且つ、ガラス転移温度が−20〜
50℃であることより塗膜に柔軟性が付与できるため、密
着性の良い塗膜を得ることができるものと推考される。
(R1:炭素数3〜18の直鎖若しくは分岐を有するアルキ
ル基、あるいは、ナフテン環、芳香環を含む炭化水素を
示す。) (R2:H又はCH3、R3,R4:それぞれ独立に炭素数3〜4の
アルキル基又はシクロヘキシル基、A:炭素数1〜4のア
ルキレン基を示す。) (実施例) 以下、実施例に従い、本発明を詳細に説明するが、表
1、表2の数値は「重量部」を示す。
<アクリル系樹脂の製造> (製造条件) 攪拌機、チッ素ガス導入口、温度計、還流コンデンサ
ーを設備した500mlの反応容器に上記表1,2に示した物質
を仕込み、チッ素ガス気流中、80℃にて7時間攪拌しな
がら重合せしめ、透明で粘稠性を有するポリマー成分
(アクリル系樹脂)を得た。
得られた樹脂溶液の固形分とアクリル系樹脂の重量平
均分子量及びガラス転移温度を表3,4に示す。
<修正液の配合> 実施例1 クロノスKR−480(チタン工業(株)製、ルチル型酸化
チタン) 70部 メチルシクロヘキサン 40部 エチルシクロヘキサン 10部 実施製造例1のアクリル系樹脂溶液 25部 MA−100 0.02部 ミズカシルP−801 2部 実施例2 クロノスKR−480 80部 メチルシクロヘキサン 45部 1,1,1−トリクロルエタン 5部 実施製造例2のアクリル系樹脂溶液 30部 バイフェロック#318(バイエルジャパン(株)製、鉄
黒) 0.2部 ミズカシルP−801 2部 実施例3 クロノスKR−480 70部 メチルシクロヘキサン 40部 エチルシクロヘキサン 10部 実施製造例3のアクリル系樹脂溶液 25部 MA−100 0.02部 ミズカシルP−801 2部 実施例4 クロノスKR−480 80部 メチルシクロヘキサン 45部 1,1,1−トリクロルエタン 5部 実施製造例4のアクリル系樹脂溶液 30部 バイフェロックス#318 0.2部 ミズカシルP−801 2部 比較例1 実施例1において、実施製造例1のアクリル系樹脂溶
液の代わりに比較製造例1のアクリル系樹脂溶液を使用
した他は実施例1と同様に配合した。
比較例2 実施例1において、実施製造例1のアクリル系樹脂溶
液の代わりに比較製造例2のアクリル系樹脂溶液を使用
した他は実施例1と同様に配合した。
比較例3 実施例2において、実施製造例2のアクリル系樹脂溶
液の代わりに比較製造例3のアクリル系樹脂溶液を使用
した他は実施例2と同様に配合した。
比較例4 実施例2において、実施製造例2のアクリル系樹脂溶
液の代わりに比較製造例4のアクリル系樹脂溶液を使用
した他は実施例2と同様に配合した。
比較例5 実施例3において、実施製造例3のアクリル系樹脂溶
液の代わりに比較製造例5のアクリル系樹脂溶液を使用
した他は実施例3と同様に配合した。
比較例6 実施例4において、実施製造例4のアクリル系樹脂溶
液の代わりに比較製造例6のアクリル系樹脂溶液を使用
した他は実施例4と同様に配合した。
<修正液の製造例> 実施例1〜4、比較例1〜6の配合物を、それぞれボ
ールミルにて24時間分散処理して修正液を得た。
(効果) 以下、実施例1〜4、比較例1〜6の修正液を使用
し、粘度、隠蔽率、筆跡の修正、修正塗膜の物性(塗膜
の密着製、塗膜の屈曲性)、修正液の分散安定性、レベ
リング性について試験を行った。
試験結果を表5、6に示す。
※1粘度: B型年度計にて測定した。
※2隠蔽率: 隠蔽率測定紙(JIS K5400)に2ミルのアプリケータ
ーで修正液を塗布し、乾燥後、45゜、0゜拡散反射率を
測定し算出した。
※3筆跡の修正: 上質紙(JIS P3201筆記用紙A)にボールPentelB100
(ぺんてる(株)製、水性インキ)、PentelマーカーMS
50(ぺんてる(株)製、油性インキ)を使用して筆記後
の筆跡及び乾式複写機(ゼロックス社製)による複写文
字を修正液にて修正し、筆跡及び文字が溶解し修正塗膜
上に滲み出してこないものを「○」、くるものを「×」
とした。
※4塗膜の密着性: 上質紙(JIS P3201筆記用紙A)に2ミルのアプリケ
ーターで修正液を塗布、乾燥後、セロハンテープを修正
塗膜に密着させた後、セロハンテープを剥した際、テー
プ上に上質紙の表面も付着したものを「○」、しないも
のを「×」とした。
※5塗膜の屈曲性: タイプ用紙に2ミルのアプリケーターで修正液を塗
布、乾燥後、タイプ用紙を折曲げ、折曲げ部の塗膜の剥
離状態を観察し、塗膜にクラックも発生せず剥離しなか
ったものを「○」、剥離はしないがクラックが発生した
ものを「△」、塗膜にクラックが発生し剥離したものを
「×」とした。
※6修正液の分散安定性: 修正液を密栓付瓶(30ml)に取り、3ヶ月間室温に放
置後、修正液の状態を観察し、殆ど沈降生成物が認めら
れなかったものを「◎」、沈降生成物は認められたが容
易に再分散したものを「○」、沈降生成物が認められ再
分散が困難であるものを「×」とした。
※7レベリング性: 上質紙(JIS P3201筆記用紙A)にボールPentelB100
(ぺんてる(株)製、水性インキ)、PentelマーカーMS
50(ぺんてる(株)製、油性インキ)を使用して筆記
し、その筆跡を修正液にて修正した。修正塗膜の表面に
凹凸が無く再筆記が良好にできたものを「◎」、若干の
凹凸は見られるが再筆記に難利問題が無かったものを
「○」、凹凸が見られ再筆記に支障が有ったものを
「×」とした。
※8ブロッキング性: 上質紙(JIS P3201筆記用紙A)にボールPentelB100
(ぺんてる(株)製、水性インキ)、PentelマーカーMS
50(ぺんてる(株)製、油性インキ)を使用して筆記後
の筆跡及び乾式複写機(ゼロックス社製)による複写文
字を修正液にて修正し、乾燥後、この上に上質紙を重ね
た。用紙が貼り付かなかったものを「○」、貼り付いた
ものを「×」とした。
以上詳細に説明したように、本発明の修正液は、各種
の筆跡、印字を修正可能であると共に修正液の分散安定
性に優れ、しかも修正箇所から折り曲げたりしても塗膜
にクラックが発生することもなく、密着性に優れた修正
塗膜が得られる修正液である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き 審査官 中田 とし子 (56)参考文献 特開 昭59−59754(JP,A) 特開 平2−263876(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C09D 10/00

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】顔料の全部又は少なくとも主成分である酸
    化チタンと、ナフテン系炭化水素溶剤を少なくとも含有
    する有機溶剤と、下記一般式(I)で示されるメタクリ
    ル酸エステルと下記一般式(II)で示されるカチオン性
    モノマーとから少なくともなり重量平均分子量が10,000
    〜200,000で、且つガラス転移温度が−20〜50℃のアク
    リル系樹脂とから少なくともなる修正液。 (R1:炭素数3〜18の直鎖若しくは分岐を有するアルキ
    ル基、あるいは、ナフテン環、芳香環を含む炭化水素を
    示す。) (R2:H又はCH3、R3,R4:それぞれ独立に炭素数3〜4の
    アルキル基又はシクロヘキシル基、A:炭素数1〜4のア
    ルキレン基を示す。)
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