JPS608376A - 修正液 - Google Patents
修正液Info
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- JPS608376A JPS608376A JP11669483A JP11669483A JPS608376A JP S608376 A JPS608376 A JP S608376A JP 11669483 A JP11669483 A JP 11669483A JP 11669483 A JP11669483 A JP 11669483A JP S608376 A JPS608376 A JP S608376A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- correction
- vinyl acetate
- parts
- hydrocarbon
- weight
- Prior art date
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D10/00—Correcting fluids, e.g. fluid media for correction of typographical errors by coating
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、万年筆、水性サインペンなどの水性インキに
よる筆−跡や、油性ボールペン、油性マーカーなどの油
性インキによる筆跡や、タイプライタ−による印字、乾
式複写機による複写像などを隠蔽修正するための修正液
に関する。
よる筆−跡や、油性ボールペン、油性マーカーなどの油
性インキによる筆跡や、タイプライタ−による印字、乾
式複写機による複写像などを隠蔽修正するための修正液
に関する。
従来の修正液は、筆跡、印字などを溶解させることなく
隠蔽修正するために1例えば水性インキによる筆跡は油
性修正液を、油性インキによる筆跡は水性修正確を選択
して使用しなければならないという煩雑さを有していた
。
隠蔽修正するために1例えば水性インキによる筆跡は油
性修正液を、油性インキによる筆跡は水性修正確を選択
して使用しなければならないという煩雑さを有していた
。
そこで本発明の目的は、筆跡、印字などのインキ種類に
拘らず、隠蔽修正が可能であり、又。
拘らず、隠蔽修正が可能であり、又。
分散安定性も良好であシ、更には隠蔽修正した修正塗膜
の特性が良好である修正液を得ることにある。
の特性が良好である修正液を得ることにある。
油性及び水性の筆跡9文字などを溶解し難い有機溶剤と
してナフテン系炭化水素は知られていたー。
してナフテン系炭化水素は知られていたー。
然し乍ら、ナフテン系炭化水素に溶解する樹脂について
は、検討されている。ものの1分散安定性、修正塗膜の
特性において未だ満足なものが得られていない。
は、検討されている。ものの1分散安定性、修正塗膜の
特性において未だ満足なものが得られていない。
本発明者等は、ナフテン系炭化水素に溶解する樹脂につ
いて種々検討を重ねた結果、遂に本発明を完成したもの
である。
いて種々検討を重ねた結果、遂に本発明を完成したもの
である。
即ち9本発明は、白色顔料と、ナフテン系炭化水素を少
なくとも含有する有機溶剤と、酢酸ビニ・ル共重合比率
30〜50重世襲であるエチレン酢酸ビニル共重合樹脂
から少なくともなる修正液を要旨とするものである。
なくとも含有する有機溶剤と、酢酸ビニ・ル共重合比率
30〜50重世襲であるエチレン酢酸ビニル共重合樹脂
から少なくともなる修正液を要旨とするものである。
以下1本発明の詳細な説明する。
白色顔料は、筆跡などを隠蔽するためて使用するもので
あって、ルチル型、アナターゼ型などの各種の酸化′チ
タンが使用でき、市販のものとしては、タイトーン5R
−1,同R−650゜同It−3L、同R−310.同
A−110,同A−150.同R−5N(以上、堺化学
工業■製〕、タイベーク■丸−580,同R−550゜
同1丸−930,同A−100,同A−220(以上2
石原産業(株制)、クロノスKR−310゜同KIL−
380.同KI化−480,同K A −10、同KA
−20.同KA−30C以上、チタン工業(株制)など
が挙げられ、他の成分などを考慮すると、その使用量は
゛顔料容積濃度CP。
あって、ルチル型、アナターゼ型などの各種の酸化′チ
タンが使用でき、市販のものとしては、タイトーン5R
−1,同R−650゜同It−3L、同R−310.同
A−110,同A−150.同R−5N(以上、堺化学
工業■製〕、タイベーク■丸−580,同R−550゜
同1丸−930,同A−100,同A−220(以上2
石原産業(株制)、クロノスKR−310゜同KIL−
380.同KI化−480,同K A −10、同KA
−20.同KA−30C以上、チタン工業(株制)など
が挙げられ、他の成分などを考慮すると、その使用量は
゛顔料容積濃度CP。
V、O)が50%以上が好ましい。
有機溶剤としては、油性、水性の筆跡1文字を溶解し姉
いナフテン系炭化水素を必須成分として使用するが、修
正塗膜の乾燥性を考慮すれば、沸点が70〜150℃の
範囲にあるシクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エ
チルシクロヘキサンが好ましく使用される。
いナフテン系炭化水素を必須成分として使用するが、修
正塗膜の乾燥性を考慮すれば、沸点が70〜150℃の
範囲にあるシクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エ
チルシクロヘキサンが好ましく使用される。
ナフテン系炭化水素単独の有機溶剤でも初期の目的は達
成できるが、顔料の分散安定性を考慮すればナフテン系
炭化水素と塩化炭化水素の混合溶剤が好ましい。これは
、極性の大きい溶剤である塩化炭化水素が極性の大きい
白、色顔料との濡れを向上せしめるためである。
成できるが、顔料の分散安定性を考慮すればナフテン系
炭化水素と塩化炭化水素の混合溶剤が好ましい。これは
、極性の大きい溶剤である塩化炭化水素が極性の大きい
白、色顔料との濡れを向上せしめるためである。
塩化炭化水素としては、毒性、修正塗膜の乾燥性を考慮
して沸点74℃である1・1・1−トリクロルエタンが
好ましく使用される。
して沸点74℃である1・1・1−トリクロルエタンが
好ましく使用される。
ナフテン系炭化水素と塩化炭化水素とを混合溶剤として
使用する場合は、ナフテン系炭化水素を98〜80重量
%、塩化炭化水素を2〜20重量%にすることが望まし
い。
使用する場合は、ナフテン系炭化水素を98〜80重量
%、塩化炭化水素を2〜20重量%にすることが望まし
い。
これは、塩化炭化水素が2重量%よシ少量の場合、白色
顔料との濡れに対する効果が少なく。
顔料との濡れに対する効果が少なく。
20重量%よシ多量の場合、油性インキの筆跡などを溶
解してしまう恐れがあるからである。
解してしまう恐れがあるからである。
本発明で特に重要なことは、エチレン酢酸ビニル共重合
樹脂(以下E XF Aと略す)のうち、酢酸ビニル(
以下■Ac・と略す)共重合比率が25〜50重量%の
E 11 Aを使用することにある。
樹脂(以下E XF Aと略す)のうち、酢酸ビニル(
以下■Ac・と略す)共重合比率が25〜50重量%の
E 11 Aを使用することにある。
BVAは、エチレンと酢酸ビニルとの共重合によって得
られ、エチレン鎖中に酢酸ビニルがランダトに共重合し
た分子構造を有する熱可塑性樹脂である布、共重合比率
によってエチレン鎖中チと酢酸ビニルリッチに大別され
、前者は高圧法ポリエチレンのプロセスで製造され、後
者は溶液重合、乳化重合によって製造される。
られ、エチレン鎖中に酢酸ビニルがランダトに共重合し
た分子構造を有する熱可塑性樹脂である布、共重合比率
によってエチレン鎖中チと酢酸ビニルリッチに大別され
、前者は高圧法ポリエチレンのプロセスで製造され、後
者は溶液重合、乳化重合によって製造される。
本発明者等は、共重合比率の違うE vA Kついて(
Φ々検討し、前記ナフテン系炭化水素に可溶で修正液の
樹脂として好適なものがIVAcが30〜50重量%で
あることを見い出した。
Φ々検討し、前記ナフテン系炭化水素に可溶で修正液の
樹脂として好適なものがIVAcが30〜50重量%で
あることを見い出した。
即ち、BVAは* V A cが25重量%以下。
5oxJ+%以上では、ナフテン系炭化水素に不溶もし
くは白濁、ゲル化する傾向にある。更に。
くは白濁、ゲル化する傾向にある。更に。
vACが増大するに従って、溶剤に対する溶解性も増大
し、又、溶液粘度が低下する傾向にある。
し、又、溶液粘度が低下する傾向にある。
特に、修正液の塗布性能は、粘度が低い方が良好である
ところから、修正液の樹脂としてVAcが30重量%以
上のE V Aが好適である。
ところから、修正液の樹脂としてVAcが30重量%以
上のE V Aが好適である。
上述のV A cの範囲内のE V Aは、結晶化度約
15〜0係、伸度約800〜1300%、二次転移魚釣
−20℃の物性値を示し、ゴム的な性状を示すため、修
正塗膜の屈曲性にも優れていると思われる。
15〜0係、伸度約800〜1300%、二次転移魚釣
−20℃の物性値を示し、ゴム的な性状を示すため、修
正塗膜の屈曲性にも優れていると思われる。
このE V Aの具体例を挙げると、エバフレックス1
50(三片ポリケミカル■製)、ウルトラセンUg75
0. 同UE760(東洋曹達工業■製)、スミテート
M’B −11,RB −11(住友化学工業■製)、
ELVAX40(デーポン社製)などがある。
50(三片ポリケミカル■製)、ウルトラセンUg75
0. 同UE760(東洋曹達工業■製)、スミテート
M’B −11,RB −11(住友化学工業■製)、
ELVAX40(デーポン社製)などがある。
このE V Aの使用量は、修正液全景に対して5〜1
5重量%が好ましい。
5重量%が好ましい。
尚、上記せる成分の他に塗膜強度を調節するためにE
V Aと相溶するスチレン樹□脂、アクリル系樹脂、ク
マロン樹脂、ロジン及びロジン変性樹脂の誘導体、ポリ
テルペン系樹脂、芳香族系石油樹脂、フェノール樹脂を
、修正塗膜に再筆記した筆跡の乾燥性を良好にするため
にソリコーン。ブロック、コポリマーや、エチレンオキ
サイド付加フッ素系界面活性剤を添加したシ。
V Aと相溶するスチレン樹□脂、アクリル系樹脂、ク
マロン樹脂、ロジン及びロジン変性樹脂の誘導体、ポリ
テルペン系樹脂、芳香族系石油樹脂、フェノール樹脂を
、修正塗膜に再筆記した筆跡の乾燥性を良好にするため
にソリコーン。ブロック、コポリマーや、エチレンオキ
サイド付加フッ素系界面活性剤を添加したシ。
修正塗膜に再筆記した筆跡の色沈みを防止するために液
状ポリブタジェン、液状ポリブテン。
状ポリブタジェン、液状ポリブテン。
液状ポリペンタジェンなどの液状ゴムを添加した92紙
などの筆記面と色調を合わせるために着色顔料を、隠蔽
力を向上させるためにシリカ。
などの筆記面と色調を合わせるために着色顔料を、隠蔽
力を向上させるためにシリカ。
炭酸カルシウムなどの体質顔料を、顔料の分散安定性を
更に向上させるために分散剤や沈降防止剤を、粘度調整
のために増粘剤を、塗布性能を良好にならしめるために
フロー向上剤やレベリング剤を適宜少量添加できる。
更に向上させるために分散剤や沈降防止剤を、粘度調整
のために増粘剤を、塗布性能を良好にならしめるために
フロー向上剤やレベリング剤を適宜少量添加できる。
本発明の修正液は、上述した成分をボールミル、アトラ
イター、サンドグラインダーなどの分散機にて分散処理
することにより得られる。
イター、サンドグラインダーなどの分散機にて分散処理
することにより得られる。
以下、実施例に従い1本発明の詳細な説明するが、実施
例中「部」とあるのは「重量部」を示す。
例中「部」とあるのは「重量部」を示す。
実施例1
クロツクKR380bo部
(チタン工業(株制、ルチル型チタン)メチルシクロヘ
キサン 70部 スミテートMB−118部 (住人化学工業(株制、VAc:32重量%EVA)パ
イフェロックス≠318 0.1部 (バイエルジャパン■製、鉄黒) ミズカシルP−8012部 (水沢化学工業■製、微細シリカ) 上記成分のうち、スミチー)MB−’11(樹脂)をメ
チルシクロヘキサン(溶剤)に溶解させた後、他の成分
を加えてボールミルにて24時間分散処理して修正液を
得た。
キサン 70部 スミテートMB−118部 (住人化学工業(株制、VAc:32重量%EVA)パ
イフェロックス≠318 0.1部 (バイエルジャパン■製、鉄黒) ミズカシルP−8012部 (水沢化学工業■製、微細シリカ) 上記成分のうち、スミチー)MB−’11(樹脂)をメ
チルシクロヘキサン(溶剤)に溶解させた後、他の成分
を加えてボールミルにて24時間分散処理して修正液を
得た。
実施例2
クロツクKR−38070部
ンクロヘキサン 75部
ELVAX40 5部
(デュポン社製+ VA c : 40重量%BVA)
エスコレッッΦ1304 5部 (エッソ社製、芳香族系石油樹脂) MA−1000,05部 (三菱化成工業(作製、カーボンブラック)ミズカシル
P−801,2部 上記各成分を実施例1と同様の方法で処理して修正液を
得た。
エスコレッッΦ1304 5部 (エッソ社製、芳香族系石油樹脂) MA−1000,05部 (三菱化成工業(作製、カーボンブラック)ミズカシル
P−801,2部 上記各成分を実施例1と同様の方法で処理して修正液を
得た。
実施例3
実施例1中のメチルシクロヘキサン70部を65部とし
て1.1.1−)リクロルエタン5部加えて配合し修正
液を得た。
て1.1.1−)リクロルエタン5部加えて配合し修正
液を得た。
実施例4
実施例2中のシクロヘキサン75部を65部として、1
.1.1−)リクロルエタンを10部加えて配合し修正
液を得た。
.1.1−)リクロルエタンを10部加えて配合し修正
液を得た。
比較例1
クロノスKR−!18070部
メチルシクロヘキサン 75部
ウルトラセンUE630 7部
(東洋曹達工業■製、VAc:18重量%EVA)ニス
コレラツナ1504. 5部 バイ7エロツクスナ314 0.1部 ミズカシルP−80’12部 上記成分のうちウルトラセンUE630. ニスコレラ
ツナ1304(樹脂)をメチルシクロヘキサン(溶剤)
に溶解させた後、他の成分を加えてボールミルにて24
時間分散処理したが。
コレラツナ1504. 5部 バイ7エロツクスナ314 0.1部 ミズカシルP−80’12部 上記成分のうちウルトラセンUE630. ニスコレラ
ツナ1304(樹脂)をメチルシクロヘキサン(溶剤)
に溶解させた後、他の成分を加えてボールミルにて24
時間分散処理したが。
溶液がゲル化を起屯して修正液は得られなかった。
比較例2
クロツクに几−58060部
メチルシクロヘキサ7 70部
ソアレックスR−DH7部
(日本合成化学工業■製+ 1’Ac : 67重量%
EVA)パイフェロックスナ318 0.1部 ミズカシルP−8012部 上記成分のうち、ソアレックスR= D Hをメチルシ
クロヘキサンに溶解させようとしたが溶解せず1分散処
理もできなかった。
EVA)パイフェロックスナ318 0.1部 ミズカシルP−8012部 上記成分のうち、ソアレックスR= D Hをメチルシ
クロヘキサンに溶解させようとしたが溶解せず1分散処
理もできなかった。
以下、実施例1〜4の修正液を使用して、隠蔽率、筆跡
の修正、修正塗膜の物性(塗膜の密着性、塗膜の屈曲性
)について試験結果を表−1に示した。
の修正、修正塗膜の物性(塗膜の密着性、塗膜の屈曲性
)について試験結果を表−1に示した。
表−1
※1 隠軒率
隠蔽率測定紙(JIS K5400)に5ミルのアプリ
ケーターで修正液を塗布乾燥後。
ケーターで修正液を塗布乾燥後。
45°、0°拡散反射率を測定し算出した。
※2 筆跡の修正
上質紙(J I S P 3201筆記用紙A)にボー
ルPentel B 100 ”Cべんてる■製、水性
インキ)+ Pentel マーカーMS50(ぺんて
る(株制、油性インキンを使用して筆記後の筆跡及び乾
式複写機(ゼロックス社製)による複写文字を修正液に
て修正し、筆跡及び文字が溶解し修正塗膜上に滲み出し
てきたものを「×」、修正できたものを「○」とした。
ルPentel B 100 ”Cべんてる■製、水性
インキ)+ Pentel マーカーMS50(ぺんて
る(株制、油性インキンを使用して筆記後の筆跡及び乾
式複写機(ゼロックス社製)による複写文字を修正液に
て修正し、筆跡及び文字が溶解し修正塗膜上に滲み出し
てきたものを「×」、修正できたものを「○」とした。
※3 塗膜の密着性
上質紙(JIS P3201筆記用紙A)K3ミルのア
プリケーターで修正液を塗布乾燥後、セロハンテープを
修正塗膜に密着させた後、セロハンテープを剥がした際
、テープに上質紙の表面も付着したものを−「○」、そ
うでないものを「×」とした。
プリケーターで修正液を塗布乾燥後、セロハンテープを
修正塗膜に密着させた後、セロハンテープを剥がした際
、テープに上質紙の表面も付着したものを−「○」、そ
うでないものを「×」とした。
※4 塗膜の屈曲性
タイプ用紙に3ミルのアプリケーターで修正液を塗布乾
燥後、タイプ用紙を折り曲げ。
燥後、タイプ用紙を折り曲げ。
折シ曲げ部の塗膜の剥離状態を観察し、塗膜にクラック
が発生し剥離したものを「×」、剥離はしないがクラッ
クが発生したものを「△」。
が発生し剥離したものを「×」、剥離はしないがクラッ
クが発生したものを「△」。
クラックも発′生せず剥離しなかったものを「○」とし
た。
た。
以上で説明したように本発明の修正液は、各種の筆跡、
印字を修正可能であり、その修正塗膜の特性も良好な修
正液である。
印字を修正可能であり、その修正塗膜の特性も良好な修
正液である。
特許出願人 べんてる株式会社
Claims (5)
- (1)白色顔料と、ナフテン系炭化水素を少なくとも含
有する有機溶剤と、酢酸ビニル共重合比率30〜50重
量%であるエチレン酢酸ビニル共重合樹脂から少なくと
もなる修正液。 - (2)前記す7テン系炭化水素がシクロヘキサン。 メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサンであるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の修正液。 - (3)前記有機溶剤がナフテン系炭化水素と塩化炭化水
素の混合溶剤であることを特徴とする特許請求の範囲第
1項記載の修正液。 - (4)前記塩化炭化水素が1.1.1− ト’)クロル
エタンであることを特徴とする特許請求の範囲第3項記
載の修正液。 - (5)前記有機溶剤がナフテン系炭化水素98〜80重
量%と塩化炭化水素2〜20重量%がもなる混合溶剤で
あることを特徴とする特許請求の範囲第3項記載の修正
液。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11669483A JPS608376A (ja) | 1983-06-27 | 1983-06-27 | 修正液 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11669483A JPS608376A (ja) | 1983-06-27 | 1983-06-27 | 修正液 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS608376A true JPS608376A (ja) | 1985-01-17 |
Family
ID=14693537
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11669483A Pending JPS608376A (ja) | 1983-06-27 | 1983-06-27 | 修正液 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS608376A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6335857U (ja) * | 1986-08-21 | 1988-03-08 | ||
JPS63142075A (ja) * | 1986-12-04 | 1988-06-14 | Marujiyuu Kasei Kk | 修正液 |
US5199976A (en) * | 1991-06-13 | 1993-04-06 | The Gillette Company | Ozone-friendly correction fluid |
US5332599A (en) * | 1993-07-19 | 1994-07-26 | The Gillette Company | Aqueous correction fluid |
US8617302B2 (en) | 2010-10-05 | 2013-12-31 | Seiko Epson Corporation | White ink composition |
US9260619B2 (en) | 2010-04-27 | 2016-02-16 | Seiko Epson Corporation | White ink composition and recorded material using the same |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57205465A (en) * | 1981-06-10 | 1982-12-16 | Naigai Ink Seizo Kk | Concealing ink |
JPS5849761A (ja) * | 1981-09-14 | 1983-03-24 | Pentel Kk | 修正液 |
-
1983
- 1983-06-27 JP JP11669483A patent/JPS608376A/ja active Pending
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