JPH0313940A - ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はハロゲン化銀写真感光材料に関するものであり
、更に詳しくは高コントラストな印刷製版用感光材料の
処理方法に関する。

〔発明の背景〕

近年、ハロゲン化銀写真感光材料の消費量は増加の一途
をたどっている。このためハロゲン化銀写真感光材料の
処理枚数が増加し、現像処理の迅速化、つまり同一時間
内での処理量を増加させることが要求されている。

上記傾向は、印刷製版の分野でも見受けられる。

すなはち情報の即時性や、回数の増加が急増しているた
め、印刷製版の作業も短納期になり、しかもより多くの
量をこなす必要性が出て来ている。

このような印刷製版業界の要望を満たすには、印刷工程
の簡易化を促進するとともに、印刷製版フィルムを一層
迅速に処理する必要がある。

ハロゲン化銀写真感光材料を用いる写真用製版過程には
連続階調の原稿を網点画像に変換する工程、即ち連続階
調の濃度変化を該濃度に比例する面積を有する網点の集
合体に変換する工程及び該工程で得られた網点画像をよ
り鮮鋭度の良好な網点画像に変換する工程すなわち返し
工程などが含まれている。

これらの工程に使用される感光材料は良好な網点品質を
得る必要から高コントラストを有することが不可欠とさ
れている。

このような特性を得る方法として従来から比較的微粒子
で粒子径分布が狭く、かつ塩化銀含有率の高い塩臭化銀
乳剤よりなる感光材料を亜硫酸イオン濃度が非常に小さ
いアルカリハイドロキノン現像液で処理する方法、いわ
ゆるリス現像法が知られている。

しかし、この方法を用いると現像液中の亜硫酸イオン濃
度が小さいなめ保恒性が極めて悪く、かつハイドロキノ
ン単体主薬を用いるために現像速度が遅く迅速処理がで
きないという欠点を有してい　Ｉこ　。

従って、保恒性が良好で迅速処理可能な超加成性現像主
薬を含有し、比較的高濃度の亜硫酸塩を含有するいわゆ
るＰＱ型或いはＭＱ型の現像液による処理によって高い
コントラストが得られる新規な感光材料の開発が望まれ
ている。

この新規な感光材料に関するものとして特公昭５９−１
７８２５号、同５９−１７８１８号、同５９−１７８１
９号、同５９−１７８２０号、同５９・１７８２１号、
同５９−１７８２６号、同５９−１７８２２号の各公報
にはテトラゾリウム化合物を含有するハロゲン化銀写真
感光材料が、又特開昭５３−１６６２３号、同５３〜２
０９２７号、同５３−８４７１４号、同５７−５８１３
７号等には、ヒドラジン化合物を含有するハロゲン化銀
写真感光材料が開示されている。

これらの化合物を含有する感光材料を超加成性現像液で
処理し、高いコントラストを有する銀画像を得る方法は
、従来技術に対し極めて画期的技術ということができる
。

しかし、ハロゲン化銀写真感光材料の階調を非常に高コ
ントラストにすると、現像のほんのわずかの不均一　例
えば現像主薬の拡散の不均一や、臭素イオン等の現像抑
制物の拡散の不均一によって微妙に画像濃度が変化し、
使用上好ましくないという問題点があった。このような
リス現像法における臭素イオンによる画像濃度むら、い
わゆるｒ　Ｂｒ−ｄｒｕｇＪ　という現象もこの例であ
る。

リス現象における上記現象を改善する方法としては、 ■リス用感光材料のハロゲン化銀組成におけるＢ「含量
を減らす。

■アミン化合物を感光材料中に用いるという方法が知ら
れているが、減感、Ｆｏｇ増を生じたりしてその効果が
不十分であった。更に前記化合物を含有した感光材料も
、リス現像の約３倍の現像スピードを持つため、高コン
トラストによる現像の不均一は処理条件によってはより
強くなって現れることがある。

〔発明の目的〕

本発明の目的は、上記した従来技術を解決し、迅速に現
像処理しても、高コントラストであり、かつ現像による
画像濃度の不均一が低減された７％ロゲン化銀写真感光
材料の処理方法を提供することである。

〔発明の構成〕

本発明の上記目的は、支持体上に少なくとも１層のハロ
ゲン化銀乳剤層を有するノ１０ゲン化銀写真感光材料に
おいて、該乳剤層に隣接する親水性コロイド層の少なく
とも１層に、下記一般式〔Ｉ〕で表される化合物の少な
くとも１種を含有し、かつ自動現像機を用いて処理され
、その現像、定着１、水洗及び／又は安定化液までの処
理時間が４５秒以内であることを特徴とするノ＼ロゲン
化銀写真感光材料の処理方法により達成される。

尚、自動現像機により、ラインスピードが１０００ｍｍ
〔式中Ｒ１，Ｒ２及びＲ１は炭素原子数１〜１２の置換
もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、アルコキ
シ基、アルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換の
アミノ基、アリール基、水酸基、メルカプト基、カルボ
キシル基もしくはその塩、又は水素原子を表す。〕 以下、本発明の詳細につき具体的に説明する。

まず−紋穴〔Ｉ〕については、式中、Ｒ、、Ｒ。

及びＲ１で表されるアルキル基としては、例えばメチル
、エチル、プロピル、ｉ−プロピル、Ｓ−ブチル、ｔ−
ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、ノニル等の６
基が挙げられ、置換アルキル基としては、アラルキル基
（例えばベンジル、フェネチル、ベンズヒドリル、ｌ−
ナフチルメチル、３−７二二ルーブチル）、アルコキシ
アルキル基（例えばメトキシメチル、２−メトキシエチ
ル、３−エトキシプロピル、４−メトキンブチル等）や
クロロメチル、ヒドロキシメチル、２−ヒドロキシプロ
ピル、３−ヒドロキシブチル、カルボキシメチル、２−
カルボキシエチル、２−（メトキシカルボニル）エチル
、アミノメチル、ジエチルアミノメチル、ベンゾイルア
ミノエチル等が挙げられる。

又アルケニル基としては、ビニル、アリル、プロペニノ
ヒ等が挙げられる。

又アリール基としては、例えばフェニル基、■−す７チ
ル基等が挙げられ、置換アリール基としては、例エバｐ
−トリル、ｍ−エチルフェニル、ｍ−クメニル、メシチ
ル、２．３−キシリル、ｐ−クロロフェニル、０−ブロ
モフェニル、ｐ−ヒドロキシフェニル、ｌ−ヒドロキシ
−２−ナフチル、ｍ−メトキシフェニル、ｐ−エトキシ
フェニル、ｐ−カルボニルフェニル、０−（メトキシカ
ルボニル）フェニル、　ｎｒ（エトキシカルボニル）フ
ェニル、４−カルボキシ−Ｉ−ナフチル等の６基が挙げ
られる。

アルコキシカルボニル基としては、メトキンカルボニル
、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル等が挙げ
られる。

置換アミン基としては、ベンジルアミノ基、メトキシフ
ェニルアミノ基、ヒドロキシフェニルアミノ基等が挙げ
られる。

アルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ、プロポキ
シ、インブトキシ、フェノキシ、ベンジルオキシ、アリ
ルオキシ等が挙げられる。

前記−紋穴ＣＩ）で示される代表的具体例としては以下
のものを挙げることができる。

（ニー１３） （Ｉ　−１４） （Ｉ−１５） （Ｉ−１６） 本発明の一般式ＣＩ）で示される化合物の添加量は、感
光材料の種類、ハロゲン化銀組成、化合物等により一定
ではないが、−収約には隣接／Ｓロゲン化銀乳剤層中の
ハロゲン化銀１モル当りＯ０ｌ〜１０００＋＋＋ｇが好
ましく、１〜５００ｍｇの範囲が特に好ましい。

本発明のハロゲン化銀写真感光材料は支持体及び該支持
体上に少なくとも一層のハロゲン化銀乳剤層を包含する
親水性コロイド層を塗設してなり、このハロゲン化銀乳
剤層は支持体上に直接塗設されるか、あるいはハロゲン
化銀乳剤を含まない親水性コロイド層を介して塗設され
、該ハロゲン化銀乳剤層の上にさらに保護層として親水
性コロイド層を塗設してもよい。又、ハロゲン化銀乳剤
層は異なる感度、例えば高感度及び低感度のハロゲン化
銀乳剤層に分けてもよい。該ハロゲン化銀乳剤層は、こ
の層の間に、親水性コロイド層の中間層を設けてもよい
し、またハロゲン化銀乳剤層と保護層との間には中間層
を設けてもよい。

具体的には、感光層であるハロゲン化銀乳剤層が支持体
の片面に１層設けられているもの、支持体の両面に各々
ｌそ設けられているもの、支持体の片面に１層、他の片
面に非感光層に属する中間層を介して２層以上設けられ
ているもの、並びに支持体の両面に非感光層を介して２
層以上設けられているもの等が挙げられる。尚、支持体
表面に非感光層に属する下地層が、一番表面には保護層
が設けられていてもよく、性能を落とさない限り種々の
ものが設けられていても良い′。

親水性コロイド層は、主に感光層と非感光層とに大別す
ることができる。感光層はハロゲン化銀乳剤層が代表的
であり、非感光層は下地層、保護層等が挙げられる。

本発明の一般式ＣＩ）で表される化合物が含有せしめら
れる層は、ハロゲン化銀乳剤層に隣接する親水性コロイ
ド層であり、好ましくは保護層である。親水性コロイド
層に含有せしめるには、適宜の水及び／又は有機溶媒に
両者を溶解して添加する方法、あるいは有機溶媒に溶か
した液をゼラチンあるいはゼラチン誘導体等の親水性コ
ロイドマトリックス中に分散してから添加する方法また
はラテックス中に分散して添加する方法等が挙げられる
。本発明はこれらの方法のいづれを用いてもよい。

本発明において用いられる一般式（ｉで表される化合物
は、１種を用いてもまた２種以上を適宜の比率で組み合
わせて用いてもよく、更に本発明の化合物と本発明外の
抑制剤を適宜の比率で組み合せて用いてもよい。

本発明のハロゲン化銀感光材料には、印刷用感光材料、
特にリス現像を用いなくとも高いコントラストを得るこ
とができる印刷用感光材料に好適であり、好ましくは下
記−紋穴（Ｕ）で表されるテトラゾリウム化合物又は−
紋穴ＣＩ［［］で表されるヒドラゾン化合物を含有する
。

一般式（Ｉｆ） 〔式中、Ｒ、、Ｒ２及びＲ１は各々水素原子または置換
基を表し、ｘｅはアニオンを表す。〕一般紋穴Ｉ［［） 〔式中、Ａは脂肪族基、又は芳香族基を表し、Ｂはホル
ミル基、アシル基、アルキル基もしくはアリールスルホ
ニル基、アルキルもしくはアリールスルフィニル基、カ
ルバモイル基、アルコキシもしくはアリールオキシカル
ボニル基、スルフィナモイル基、アルコキシスルホニル
基、チオアシル基、チオカルバモイル基、又はヘテロ環
基を表し、Ｒ、、Ｒ２はともに水素原子或いは一方が水
素原子で他方が置換もしくは無置換のアルキルスルホニ
ル基、又は置換もしくは無置換のアリールスルホニル基
、又は置換もしくは無置換のアシル基を表す。ただし、
Ｂ、Ｒ２及びそれらが縮合する窒／ 素原子がヒドラゾンの部分構造−Ｎ−Ｃを形成＼ してもよい。〕 次に前記−紋穴（ｎ）の化合物について説明する。

前記−紋穴（ＩＩ）において、Ｒ１ないしＲ１が表す置
換基の好ましい例としてアルキル基（例えばメチル、エ
チル、シクロプロピル、プロピル、インプロビル、シク
ロブチル、ブチル、イソブチル、ペンチル、シクロヘキ
シル等）、アミノ基、アシルアミノ基　（例えばアセチ
ルアミノ）、ヒドロキシル基、アルコキシ基（例えばメ
トキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペントキシ
等）、アシルオキシ基（例えばアセチルオキシ）、ハロ
ゲン原子（例えばフッ素、塩素、臭素等）、カルバモイ
ル基、アシルチオ基（例えばアセチルチオ）、アルコキ
シカルボニル基（例えばエトキシカルボニル）、カルボ
キシル基、アシル基（例えばアセチル）、シアノ基、ニ
トロ基、メルカプト基、スルホオキシ基、アミノスルホ
キシ基のような基が挙げられる。

前記Ｘｅで示されるアニオンとしては、例えば塩化物イ
オン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン等のハロゲンイオ
ン、硝酸、硫酸、過塩素酸等の無機酸の酸根、スルホン
酸、カルボン酸等の有機酸の酸根、アニオン系の活性剤
、具体的にはＩ）−トルエンスルホン酸アニオン等の低
級アルキルベンゼンスルホン酸アニオン、ｐ−ドデシル
ベンゼンスルホン ン酸アニオン、ラウリルスルフェートアニオンの高級ア
ルキル硫酸エステルアニオン、アトラフェニルポロン等
の硼酸系アニオン、ジー２−エチルへキシルスルホサク
シネートアニオン等のジアルキルスルホサクシネートア
ニオン、セチルポリエテノキシサル７エートアニオン等
のポリエーテルアルコール硫酸エステルアニオン、ステ
アリン酸アニオン等の高級脂肪族アニオン、ポリアクリ
ル酸アニオン等のポリマーに酸根のついたもの等を挙げ
ることができる。

以下、本発明に用いられる一般式（ＩＩ）で表される化
合物の具体例を挙げるが、本発明の化合物は、これらに
限定されるものではない。

（例示化合物） 本発明に用いられるテトラゾリウム化合物は、例えばケ
ミカル・レビュー　（Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｒｅｖｉｅｗ
ｓ）ｖｊ５５巻、第３３５頁〜４８３頁に記載の方法に
従って容易に合成することができる。

本発明の一紋穴ＣＩ＋）で表されるテトラゾリウム化合
物は、本発明のハロゲン化銀写真感光材料中に含有され
るハロゲン化銀１モル当り約１ｍｇ以上１０ｇまで、好
ましくは約１ｍｇ以上約２ｇまでの範囲で用いられるの
が好ましい。

本発明において用いられる一般式（ＩＩ）で表されるテ
トラゾリウム化合物は、１種を用いてもまた２種以上を
適宜の比率で組合せて用いてもよい。

更に本発明のテトラゾリウム化合物と本発明外のテトラ
ゾリウム化合物を適宜の割合で組合せて用いてもよい。

本発明において、本発明のテトラゾリウム化合物と結合
し、本発明のテトラゾリウム化合物の親水性を下げるア
ニオンを併用すると、特に好ましい結果が得られる。こ
のようなアニオンとしては例えば過塩素酸等の無機酸の
酸根、スルホン酸、カルボン酸等の有機酸の酸根、アニ
オン系の活性剤、具体的にはｐ−トルエンスルホン酸ア
ニオン等の低級アルキルベンゼンスルホン酸アニオン、
ｐドデシルベンゼンスルホン酸アニオン類、アルキルナ
フタレンスルホン酸アニオン類、ラウリルサルフェート
アニオン類、テトラフェニールポロン類、ジー２−エチ
ルへキシルスルホサクシネートアニオン類等のジアルキ
ルスルホサクシネートアニオン、セチルポリエテノキシ
サルフェートアニオン等のポリエーテルアルコール硫酸
エステルアニオン、ステアリン酸アニオン類等、ポリア
クリル酸アニオン類等を挙げることができる。

このようなアニオンは、本発明のテトラゾリウム化合物
と予め混合した後、親水性コロイド層へ添加してもよい
し、又、単独で本発明のテトラゾリウムを含有もしくは
含有しないハロゲン化銀乳剤層または親水性コロイド層
に添加することができる。

次に一般式（ＩＩＩ）で表される化合物について説明す
る。

一般式ＣＩ［［）において、Ａで表される脂肪族基は好
ましくは炭素数１〜３０のものであって、特に炭素数１
〜２０の直鎖、分岐又は環状のアルキル基である。ここ
で分岐アルキル基はその中に１つ又はそれ以上のへテロ
原子を含んだ飽和へテロ環を形成するように環化されて
いてもよい。又このアルキル基は、アリール基、アルコ
キシ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、カルボンア
ミド基等の置換基を有していてもよい。

例えばＬ−ブチル基、ｎ−オクチル基、し−オクチル基
、シクロヘキシル基、ピロリジル基、イミダゾリル基、
テトラヒドロフリル基、モルフォリノ基などのをその例
として挙げることができる。

−紋穴（Ｉ［［）においてＡで表される芳香族基は単環
又は２環のアリール基又は不飽和へテロ環基である。こ
こで不飽和へテロ環基は単環又は２環のアリール基と縮
合してヘテロアリール基を形成してもよい。

例えばベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、ピリミ
ジン環、イミダゾール環、ビロラゾール環、キノリン環
、インキノリン環、ベンズイミダゾール環、チアゾール
環、ベンゾチアゾール環等があるなかでもベンゼン環を
含むものが好ましい。

Ａとして特に好ましいのはアリール基である。

Ａのアリール基又は不飽和へテロ環基は置換基を持って
いてもよい。代表的な置換基としては、直鎖、分岐又は
環状のアルキル基、（好ましくは炭素数１〜２０のもの
）、アラルキル基（好ましくはアルキル部分の炭素数が
１〜３の単環又は２環のもの）、アルコキシ基（好まし
くは炭素数１〜２０のもの）、置換アミノ基（好ましく
は炭素数１〜２０のアルキル基で置換されたアミノ基）
、アノルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３０を持つも
の）、スルホンアミド基（好ましくは炭素数１〜３０を
持つもの）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜３０を
持つもの）などがある。

一般式（Ｉ［Ｉ）のＡはその中にカブクー寺の不動性写
真用添加剤において常用されているバラスト基が組み込
まれているものでもよい。バラスト基は８に以上の炭素
数を有する写真性に対して比較的不活性な基であり、例
えばアルキル基、アルコキシ基、フェニル基、アルキル
フェニル基、フェノキシ基、アルキルフェノキシ基など
の中から選ぶことができる。

一般式（Ｉ［［）のＡはその中にハロゲン化銀粒子表面
に対する吸着を強める基が組み込まれているものでもよ
い。かかる吸着基としては、チオ尿素基、複素環チオア
ミド基、メルカプト複素環基、トリアゾール基などの米
国特許４，３８５．：０８号、同４゜４５９．３４７号
、特開昭５９−１９５２３３号、同５９−２００２３１
号、同５９−２０１０４５号、同５９−２０１０４６号
、同５９−２０１０４７号、同５９−２０１０４８号、
同５９−２０１０４９号、特願昭５９−３６７８８号、
同６０−１１４５９号、同６０−１９７３９号等に記載
された基が挙げられる。

Ｂは、具体的にはホルミル基、アシル基（アセチル基、
プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、クロロアセ
チル基、ベンゾイル基、４−クロロベンゾイル基、ビル
ボイル基、メトキサリル基、メチルオキサモイル基等）
、アルキルスルホニル基（メタンスルホニル基、２−ク
ロロエタンスルホニル基等）、アリールスルホニル基（
ベンゼンスルホニル基等）、アルキルスルフィニル基（
メタンスルフィニル基等）　、アリールスルフィニル基
（ベンゼンスルフィニル基等）、カルバモイル基（メチ
ルカルバモイル基、フェニルカルバモイルＭｌ）、スル
ファモイル基（ジメチルスルファモイル基等）、アルコ
キシカルボニル基（メトキンカルボニル基、メトキシエ
トキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基
（フェノキシカルボニル基等＞　、スルファモイル基（
メチルスルファモイル基等）、アルコキシスルホニル（
メトキンスルホニル基、エトキシスルホニル基等）、チ
オアシル基（メチルチオカルボニル基等）、チオカルバ
モイル基（メチルチオカルバモイル基等）又はヘテロ環
基（ピリジン類等）を表す。

Ｂとしてはホルミル基又はアシル基が特に好ましい。

一般式ＣＩＩ［）のＢはＲ２及びこれらが縮合している
窒素原子とともにヒドラジンの部分構造上記においてＲ
１はアルキル基、アリール基又はへテロ環基を表す。Ｒ
４は水素原子、アルキル基、アリール基又はヘテロ環基
を表す。

Ｒ、、Ｒ、は水素原子、炭素数２０以下のアルキルスル
ホニル基及びアリールスルホニル基（好ましくはフェニ
ルスルホニル基又はハメットの置換基定数の和が−０，
５以上となるように置換されたフェニルスルホニル基）
、炭素数２０以下のアシル基（好ｆＬ＜はベンゾイル基
、又はハメットの置換基定数の和が−０，５以上となる
ように置換されたベンゾイル基、或いは直鎖又は分岐状
又は環状の無置換及び置換脂肪族アシル基（ｌｌ置換基
しては例えばハロゲン原子、エーテル基、スルホンアミ
ド基、カルボンアミド基、水酸基、カルボキシ基、スル
ホン酸基が挙げられる。） Ｒ＋　、　Ｒ２としては、水素原子が最も好ましｌ、％
０ヒドラジン誘導体の具体例を以下に示す。

ただし、本発明は以下の化合物に限定されるものではな
い。

ｌｌ−１ ■ ■ ■ １ｌ−５ Ｉ［［−９ Ｉ［１−６ Ｉ［１−１゜ ■ ■ １ １［［−８ ｌｌ−１２ しＺｎ％ ■−１３ Ｉ［１−１７ ■〜１４ ｔ［［−１８ Ｉ［１−１９ ｌｌ−１５ ■−２０ ｌｌ−１６ ＩＩＩ　−２１ ヒドラジン誘導体を写真感光材料中に含有させるときに
は、ハロゲン化銀乳剤層に含有させるのが好ましいがそ
れ以外の非感光性の親水性コロイド層（例えば保護層、
中間層、フィルター層、ハレーション防止層など）に含
有させてもよい。

具体的には使用する化合物が水溶性の場合には水溶液と
して、又難水溶性の場合にはアルコール類、エステル類
、ケトン類などの水と混和しうるを機溶媒の溶液として
、親水性コロイド溶液に添加すればよい。ハロゲン化銀
乳剤層に添加する場合は化学熟成の開始から塗布前まで
の任意の時期に行ってよいが、化学熟成終了後から塗布
前の間に添加するのが好ましい。特に塗布のために用意
された塗布液中に添加するのがよい。

ヒドラジン誘導体の含有量はハロゲン化銀乳剤の粒子径
、ハロゲン組成、化学増感の方法と程度、該化合物を含
有させる層とハロゲン化銀乳剤層の関係、カブリ防止化
合物の種類などに応じて最適の量を選択することが望ま
しく、その選択のための試験の方法は当業者のよく知る
ところである。

通常は好ましくはハロゲン化銀１モル当りｌＯ−＠モル
ナイし１ｘｌＯ−１モル、特に１０−’ないし４Ｘ　１
０−２モルの範囲で用いられる。

又ヒドラジン誘導体は現像液中に混入して用いることが
できる。その場合の添加量としては現像液ＩＱ当り５Ｂ
〜５ｇ、特にｌｏｍｇ−１ｇが好適である。

本発明のハロゲ′ン化銀写真感光材料に用いるハロゲン
化銀については、特に限定はないが、臭化銀、沃臭化銀
、塩化銀もしくは塩臭化銀が好ましい。塩臭化銀の組成
はＡｇＣＱ／ＡｇＢｒ　−１００１０〜２／９Ｂのいず
れでもよいが、好ましくはＡｇ（Ｊ／ＡｇＢｒ＝　１０
０１０〜５０１５０のモル比である。また、沃臭化銀の
組成はＡｇＢｒ／Ａｇｌ　＝　１００１０〜９０／１０
が好ましい。ハロゲン化銀粒子の平均粒径は、０．ｌＯ
μｍ＝０．４０μｍが好ましく、（粒径の標準偏差）／
（平均粒径）ｘｌｏｏで表される変動係数が１５％以下
の粒径分布の狭いものがより好ましい。

本発明において用いられるハロゲン化銀は感光材料業界
で公知の種々な増感剤、増感色素安定剤等を用いる゛こ
とができる。

本発明による前記ハロゲン化銀及び−紋穴ＣＩ）で表さ
れる化合物は親水性コロイド層中に添加せしめられる。

本発明に特に有利に用いられる親水性コロイドはゼラチ
ンであるが、ゼラチン以外の感光材料業界公知の親水性
コロイドも用いることができる。

これらの親水性コロイドはハロゲン化銀を含有しない層
、例えばハレーション防止層、保護層、中間層等にも適
用できる。

本発明に用いる支持体としては、例えばポリエステルフ
ィルム等感光材料業界公知の各種支持体を用いることが
できる。

本発明に係る感光材料は、適度の膜厚を有する保護層、
即ち好ましくは０．１−１０μｍ１特に好ましくは０．
８〜２μｍのゼラチン保護層が塗設されているのが望ま
しい。

本発明に用いられる前記親水性コロイド層には必要に応
じて当業界公知の各種写真用添加剤、例えばゼラチン可
塑剤、硬膜剤、界面活性剤、画像安定剤、紫外線吸収剤
、アンチスティン剤、ｐＨ１１整剤、酸化防止剤、帯電
防止剤、増粘剤、粒状性向上剤、染料、モルダント、増
白剤、現像速度調整剤、マット剤等を本発明の効果が損
なわれない範囲内で使用することができる。

本発明のハロゲン化銀写真感光材料の現像に用いられる
現像主薬としてはＴ、Ｈ，ジェームス著ザ・セオリイ・
オブ・ザ・ホトグラフィック・プロセス第４版（Ｔｈｅ
　Ｔｈｅｏｒｙ　ｏｆ　ｔｈｅ　Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈ
ｉｃ　Ｐｅｏｃ−ｅｓｓ、Ｆｏｕｒｔｈ　Ｅｄｉｔｉｏ
ｎ）第２９１−３３４頁およびジャーナル・オブ・ザ・
アメリカン・ケミカル・ソサイテ　イ　（Ｊｏｕｒｎａ
ｌ　　ｏｆ　　ＴＨｅ　　Ａｍｅｒｉｃａｎ　　Ｃｈｅ
ｍｉｃａｌ　　５ｏｉｅｔｙ）第７３巻、第３，１００
頁（１９５１）に記載されているごとき現像剤が本発明
に有効に使用し得るものである。

これらの現像剤は単独で使用しても２種以上を組合せて
もよいが、２種以上組合せて用いる方が好ましい。又本
発明の感光材料の現像に使用する現像液には保恒剤とし
て、例えば亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム等の亜硫
酸塩を用いても、本発明の効果が損なわれることなく、
本発明の１つの特徴として挙げることができる。又保恒
剤としてヒドロキシルアミン、ヒドラジド化合物を用い
てもよい。その他一般白黒現像液で用いられるような苛
性アルカリ、炭酸アルカリまたはアミンなどによるｐＨ
の調整とバッファー機能を持たせること及びブロムカリ
など無機現像抑制剤及びベンゾトリアゾールなどの有機
現像抑制剤、エチレンジアミン四酢酸等の金属イオン捕
捉剤、メタノール、エタノール、ベンジルアルコール、
ポリアルキレンオキシド等の現像促進剤、アルキルアリ
ールスルホン酸ナトリウム、天然のサポニン、糖類又は
前記化合物のアルキルエステル物等の界面活性剤、グル
タルアルデヒド、ホルマリン、グリオキザール等の硬膜
剤、硫酸ナトリウム等のイオン強度調整剤等の添加を行
うことは任意である。

本発明の現像液には、特開昭５６−１０６２４４号に記
載のアルカノールアミンなどのアミノ化合物を用いるこ
とができる。

この他り、Ｆ、Ａ、メソン著［フォトグラフィック・プ
ロセシン・ケミストリー」、フォーカル・プレス刊（１
９６６年）の２２６〜２２９頁、米国特許第２．１９３
．０１５号、同２，５９２，３６４号、特開昭４８−６
４９３３号などに記載のものを用いてもよい。

本発明において「現像時間」、「定着時間」とは各々、
処理する感光材料が自現機の現像タンク液に浸漬してか
ら次の定着液に浸漬するまでの時間、定着タンク液に浸
漬してから次の水洗タンク液（安定液）に浸漬するまで
の時間を言う。

また「水洗時間」とは、水洗タンク液に浸漬している時
間をいう。

また「乾燥時間」とは通常３５°Ｃ−１００°Ｃで好ま
しくは４０°Ｃ〜８０°Ｃの熱風が吹きつけられる乾燥
ゾーンが、自現機には設置されているが、その乾燥ゾー
ンに入っている時間をいう。

現像温度及び時間は約２５℃〜５０°Ｃで２０秒以下で
あるが好ましくは３０°Ｃ〜４０°Ｃで６秒〜２０秒で
ある。

定着液はチオ硫酸塩を含む水溶液であり、ｐＨ３，８以
上、好ましくは４．２〜５．５を有する。

定着剤としてはチオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸アンモニ
ウムがあるが、チオ硫酸イオンとアンモニウムイオンと
を必須成分とするものであり、定着速度の点からチオ硫
酸アンモニウムが特に好ましい。定着剤の使用量は適宜
変えることができ、一般には約０．１〜約６モル／βで
ある。

定着液には硬膜剤として作用する水溶性アルミニウム塩
を含んでも良く、それらには、例えば塩化アルミニウム
、硫酸アンモニウム、カリ明ばんなどがある。

定着液には、酒石酸、クエン酸あるいはそれらの導体を
単独で、あるいは２種以上、併用することでかできる。

これらの化合物に定着液１（２につき０．００５モル以
上含むものが有効で、特に０．０１モル／ρ〜０．０３
モル／ａが特に有効である。

具体的には、酒石酸、酒石酸カリウム、酒石酸ナトリウ
ム、酒石酸カリウムナトリウム、クエン酸、クエン酸ナ
トリウム、クエン酸カリウム、クエン酸リチウム、クエ
ン酸アンモニウムなどがある。

定着液には所望により保恒剤（例えば、亜硫酸塩、重亜
硫酸塩）　、ｐＨ緩衡剤（例えば、酢酸、硝酸）、ｐＨ
Ｔｌ４整剤（例えば硫酸）、硬水軟化能のあるキレート
剤や特願昭６０−２１３５６２号記載の化合物を含むこ
とかでさる。

定着温度及び時間は約り０℃〜約５０℃で６秒〜１分が
好ましいが３０℃〜４０’Ｏで６秒〜３０秒がより好ま
しく、更に好ましくは３０’Ｏ〜４０　’Ｏで６秒〜２
０秒である。

定着液濃縮液が本発明の方法で自動現像機に、感光材料
が処理されるに従って、それを希釈する水と共に補充さ
れる場合、定着液濃縮液はｌ剤で構成されることが最も
好ましいことは現像液の場合と同じである。

ｌ剤として定１液現液が安定に存在しうるのはｐＨ４，
５以上であり、より好ましくはｐＨ４，６５以上である
。ｐＨ４，５未満では、特に定着液が実際に使われるま
での期間長年放置された場合にチオ硫酸塩が分解して最
終的には硫化してしまうためである。従ってｐＨ４，５
以上の範囲では亜硫酸ガスの発生も少なく、作業環境上
も良くなる。ｐＨの上限はそれ程厳しくないが余り高ｐ
Ｈで定着されると、以後水洗されても膜ｐＨが高くなっ
て膜膨潤が大きくなり従って乾燥負荷が大きくなるので
ｐＨ７まで位が限度である。アルミニウム塩を使って硬
膜する定着液ではアルミニウム塩の析出沈澱防止ｐＨ５
，５までが限界である。

本発明は現像液または定着液のいずれかが上記のような
希釈水を必要としない（すなわち原液のままで補充する
）いわゆる使用液であっても構わない。

各濃縮液の処理タンク液への供給量及び希釈水との混合
割合１ネそれぞれ濃縮液の組成に依存して種々変化させ
ることができるが、一般に濃縮液対希釈水は１対０〜８
の割合で、これらの現像液、定着液各々の全量は感光材
料１　ｍ２に対して５０ｍＱから１５００ｍＱであるこ
とが好ましい。

本発明においては感光材料は塊成、定着した後、水洗又
は安定化処理に施される。

水洗又は安定化処理は本分野で公知のあらゆる方法を適
用することができ、本分野で公知の種々の添加剤を含有
する水を水洗水又は安定化液として用いることもできる
。防黴手段を施した水を水洗水又は安定化液に使用する
ことにより、感光材料１ｍ２当たり３Ｑ以下の補充量と
いう節水処理も可能となるのみならず、自現機設置の配
管が不要となり更にストック槽の削減が可能となる。即
ち現像液及び定着液用の調液希釈水及び水洗水又は安定
化液を共通の一層のストック槽から供給でき、自動現像
機の一層のコンパクト化が可能となる。

防黴手段を施した水を水洗水又は安定化液に併用すると
、水垢の発生等が有効に防止し得るため、感光材料１　
ｍ２当たり０〜３Ｑ、好ましくは０〜ｌＱ、の節水処理
を行うことができる。

ここで、補充量が０の場合とは、水洗槽中の水洗水が自
然蒸発等により減少した分だけ適宜補充する以外は全く
補充を行なわない、即ち実質的に無補充のいわゆる「た
め水」処理方法を行なう場合をいう。

補充量を少なくする方法として、古くより多段向流方式
（例えば２段、３段など）が知られている。この多段向
流方式を本発明に適用すれば定着液の感光材料はだんだ
んと清浄な方向、つまり定清液で汚れていない処理液の
方に順次接触して処理されて行くので、更に効率の良い
水洗がなされる。これによれば、不安定なチオ硫酸塩等
が適度に除去され、変退色の可能性が一層小さくなって
、更に著しい安定化効果が得られる。水洗水も従来に比
べ津、非常に少ない量ですむ。

少量の水洗水で水洗するときには特願昭６０〜１７２９
６８号に記載のスクイズローラー洗浄槽を設けることが
より好ましい。

更に水洗又は安定化浴に防黴手段を施した水を処理に応
じて補充することによって生ずる水洗又は安定化浴から
のオーバーフロー液の一部又は全部は特開昭６０−２３
５１３３号に記載されているようにその前の処理工程で
ある定着能を有する処理液に利用することもできる。こ
うすることによって上記ストック水の節水ができ、しか
も廃液がより少なくなるためより好ましい。

防黴手段としては、特開昭６０−２６３９３９号に記さ
れた紫外線照射法、同６０−２６３９４０号に記された
磁場を用いる方法、同６１−１３１６３２号に記された
イオン交換樹脂を用いて純水にする方法、特願昭６０−
２５３８０７号、同６０．−２９５８９４号、同６１−
６３０３０号、同６１−５１３９６号に記載の防菌剤を
用いる方法を用いることができる。

更には、Ｌ、Ｅ、Ｗｅｓｔ　　Ｗａｔｅｒ　Ｑｕａｌｉ
ｔｙ　Ｃｒ１ｔｅｒｉａＰｈｏｔｏ　Ｓｃｉ　＆　Ｅｎ
ｇ、　Ｖｏｌ、９Ｎｏ、　６　（１９６５）、Ｍ、Ｗ、
Ｂｅ−ａｃｈ″Ｍｉｃｒｏｂｉｏｌｏｇｉｃａｌ　Ｇｒ
ｏｗｔｈｓ　ｉｎ　Ｍｏｔｉｏｎ−Ｐｉｃ−ｔｕｒｅ　
Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ”　ＳＭＰＴＥ　Ｊｏｕｒｎａｌ
　Ｖｏｌ、８５．（１９７６）。

Ｒ，Ｏ，Ｄｅｅｇａｎ、　　“Ｐｈｏｔｏ　Ｐｒｏｃｅ
ｓｓｉｎｇ　Ｗａｓｈ　ＷａｔｅｒＢｉｏｃｉｄｅｓ”
　Ｊ、Ｉｍａｇｉｎｇ　Ｔｅｃｈ、Ｖｏｌ　１０．Ｎｏ
、６（１９８４）及び特開昭５７−８５４２号、同５７
−５８１４３号、同５８−１０５１４５号、同５７−１
３２１４６号、同５８−１８６３１号、同５７−９７５
３０号、同５７−１５７２４４号などに記載されている
防菌剤、防パイ剤、界面活性剤などを併用することもで
きる。

更に水洗浴には、Ｒ，Ｔ、Ｋｒｅｉｍａｎ著Ｊ　、　Ｉ
ｍａｇｅ　、　Ｔｅｃｈｌｏ、（６）　２４２　（１９
８４）に記載されたインチアゾリン系化合物、ＲＥＳＥ
ＡＲＣＨＤＩＳＣＬＯＳＵＲＥ第２０５巻、Ｉ　ｔｅｍ
２０５２６　（１９８１年、５月号）に記載されたイソ
チアゾリン系化合物、同第２２８巻、Ｉｔｅｍ　２２８
４５　（１９８３年、４月号）に記載されたインチアゾ
リン系化合物特願昭６１−５１３９６号に記載された化
合物、などを防菌剤（Ｍｉｃｒｏｂｉｏｃｉｄｅ）とし
て併用することもできる。

更に防パイ剤の具体例としては、フェノール、４−クロ
ロフェノール、ペンタクロロフェノール、クレゾール、
０−７エニル７モノール、クロロフェン、ジクロロ７エ
ン、ホルムアルデヒド、ゲルタールアルデヒド、クロル
アセトアミド、ｐ−ヒドロキシ安息香酸エステル、２−
（４〜チアゾリン）−ベンゾイミダゾール、ベンゾイソ
チアゾリン−３−オン、ドデシル−ベンジル−ジメチル
アンモニウム−クロライド、Ｎ−（フルオロジクロロメ
チルチオ）−７タルイミド、２．４．４’−トリクロロ
−２７−ハイドロオキシジフェニルエーテルなどである
。

防黴手段を施して水ストック槽に保存された水は前記現
像液定着液などの処理液原液の希釈水とその添加量は好
ましくは０．０１〜ｌＯｇ／　（１，より好ましくはＯ
０１〜５ｇ／Ｑである。

更に水洗水中には銀画像安定化剤の他に水滴むらを防止
する目的で、各種の界面活性剤を添加することかできる
。界面活性剤としては、陽イオン型、陰イオン型、非イ
オン型および両イオン型のいずれを用いてもよい。界面
活性剤の具体例としてはたとえば工学図書（株）発行の
「界面活性剤ハンドブック」に記載されている化合物な
どがある。

上記安定化浴中には画像を安定化する目的で各種化合物
が添加される。例えば膜ｐＨを調整する（例えばｐＨ３
〜８）だめの各種の緩衝剤（例えばホウ酸塩、メタホウ
酸塩、ホウ砂、リン酸塩、炭酸塩、水酸化カリ、水酸化
ナトリウム、アンモニア水、モノカルボン酸、ジカルボ
ン酸、ポリカルボン酸などを組み合わせて使用）やホル
マリンなどのアルデヒドを代表例として挙げることがで
きる。その他、キレート剤、殺菌剤（チアゾール系、イ
ンチアゾール系、ハロゲン化フェノール、スルファニル
アミド、ベンゾトリアゾールなど）、界面活性剤、蛍光
増白剤、硬膜剤などの各種添加剤を使用してもよく、同
一もしくは異種の目的の化合物を２種以上併用しても良
い。

また、処理液の膜ｐＨ調整剤として塩化アンモニウム、
硝酸アンモニウム、硫酸アンモニウム、リン酸アンモニ
ウム、亜硫酸アンモニウム、チオ硫酸アンモニウム等の
各種アンモニウム塩を添加するのが画像保存性を良化す
るために好ましい。

上記の方法による水洗または安定浴温度及び時間はＯ℃
〜５０°Ｃで６秒〜１分が好ましいが１５℃〜４０℃で
６秒から３０秒がより好ましく、更には１５°Ｃ〜４０
°Ｃで６秒から１５秒が好ましい。

本発明の方法によれば、現像、定着及び水洗された写真
材料は水洗水をしぼり切る、すなわちスクイズローラ法
を経て乾燥される。乾燥は約４０°Ｃ〜約１００　’Ｃ
で行なわれ、乾燥時間は周囲の状態によって適宜変えら
れるが、通常は約５秒〜１分でよいが、より好ましくは
４０　’Ｏ〜８０℃で約゛５秒〜３０秒である。

本発明においては、感光材料における膨潤百分率を低減
する程その乾燥時間を短縮できるという更に優れた効果
を発揮する。

本発明の方法によれば、現像、定着、水洗及び乾燥され
るまでのいわゆる　Ｄｒｙ　ｔｏ　Ｄｒｙの処理時間は
１００秒以内、好ましくは６０秒以内で処理されること
である。

ここで“ｄｒｙ　ｔｏ　ｄｒｙ″とは処理される感材の
先端が自現機のフィルム挿入部分に入った瞬間から、処
理されて、同先端が自現機から出てくる瞬間までの時間
を言う。

〔実施例〕

以下に具体的実施例を示して、本発明を更に詳しく説明
する。

実施例１ 〔乳剤（Ａ）の調製方法〕 次に示すＡ液、Ｂ液、Ｃ液の溶液を用いて塩臭化銀乳剤
を調製した。

〈溶液Ａ〉 オセインゼラチン　　　　　　　　　　　１７ｇポリイ
ソプロピレンーポリエチレンオキシジコハク酸エステル
ナトリウム塩 １０％エタノール水溶液　　　　　　　　５ｍＱ蒸留水
　　　　　　　　　　　　　　１２８０ｍＱ。

〈溶液Ｂ〉 硝酸銀　　　　　　　　　　　　　　　１７０ｇ蒸留水
　　　　　　　　　　　　　　　４１０ｍ４く溶液Ｃ〉 塩化ナトリウム　　　　　　　　　　４５．０ｇ臭化カ
リウム　　　　　　　　　　　２７．４ｇ三塩化ロジウ
ム３水塩　　　　　　　２８μｇポリイソプロピレンオ
キシジコハク酸 エステルナトリウム塩 １０％エタノール溶液　　　　　　　　　３ｍ（１オセ
インゼラチン　　　　　　　　　　ｌ１ｇ蒸留水　　　
　　　　　　　　　　　４０７ｍβ溶液ＡをＡ液°Ｃに
保温した後ＥＡｇ値が１６０ｍＶになる様に塩化ナトリ
ウムを添加した。

次に特開昭５７−９２５２３号と同５７−９２５２４号
記載の混合撹拌機を用いて、ダブルジェット法にて溶液
Ｂ及び溶液Ｃを添加した。

添加流量は表１に示した様に全添加時間８０分の間に亘
って、除々に添加流量を増加させＥＡｇ値を一定に保ち
ながら添加を行った。

ＥＡｇ値は１６０ｍ　Ｖより添加開始５分後に３ｍＱ／
Ｑの塩化ナトリウム水溶液を用いてＥＡｇ値１２０ｍＶ
に変化させ、以後混合の完了迄この値を維持した。

ＥＡｇ値を一定に保つ！こめ、３モル／Ｑの塩化ナトリ
ウム水溶液を用いてＥＡｇ値を制御した。

ＥＡｇ値の測定には、金属銀電極と、ダブルジャンクシ
ジン型飽和Ａｇ／ＡｇＣＱ比較電極を用いた（電極の構
成は、特開昭５７−１９７５３４号に開示されるダブル
ジャンクションを使用した。）。

又、溶液Ｂ液、Ｃ液の添加には、流量可変型のローラー
チューブ定量ポンプを用いｔ；。

又、添加中、乳剤のサンプリングにより、系内に新たな
粒子の発生が認められないことを電子顕微鏡により観察
し、確認している。

又、添加中、系のｐＨ値を３．０に一定に保つように３
％硝酸水溶液で制御した。

Ｂ液、Ｃ液を添加終了後、乳剤は１０分間オストワルド
熟成した後、常法により脱塩、水洗を行い、その後オセ
インゼラチンの水溶液６００ｍｆｆ　（オセインゼラチ
ン３０ｇ含有）を加えて、５５°Ｃ・３０分間撹拌によ
り分散した後、７５０ｍ＜２にｍ整した。

乳剤（Ａ）に対して全硫黄増感を施し、増感色素Ａを乳
剤中に含まれるハロゲン化銀１モルあたり３００ｍｇ、
安定剤として４−ヒドロキシ−６−メチル−１，３゜３
ａ、７−チトラザインデンを加え、増感色素Ｂを乳剤中
に含まれるハロゲン銀１モルあたり１００ｍｇ添加した
。

増感色素Ａ ＣＨ２Ｃｌ、ＣＮ 増感色素Ｂ 次いでハロゲン化銀１モル当り下記ａに示す化合物を８
００ｍｇ加え、更にｐ−ドデシルベンゼンスルホン酸ソ
ーダ３００＋＊ｇ、スチレン−マレイン酸共重合体がポ
リマー２ｇ１　スチレン−ブチルアクリレート−アクリ
ル酸共重合体ラテックス（平均粒径約ｏ、２５μｍｌ）
１５ｇヲ加エテ、Ａｇ量４．０ｇ／ｍ”、ゼラｆ７量２
．００／＋＋１″になるように特開昭５９−１９９４１
号実施例（１）に記載の下引を施しｔ；ポリエチレンテ
レフタレートフィルムベース上に塗布した。その際ゼラ
チン量１．０ｇ／Ｉｌ＋”になるように延展剤として、
ビス−（２−エチルヘキシル）スルホコハク酸エステル
を１０ｍｇ１ｔｓ２、ハロゲン化銀１モル当たり表２に
示すごとく一般式（１）の化合物を加え、更にＣ及びＤ
で示す化合物に、硬膜剤としてホルマリン１５ｍｇ／ｍ
”、グリオキザール８　ｍｇ／ｍ２を含む保護層を同時
重層塗布した。

化合物ａ 上述のようにして得られた試料を表２に示した。

得られた試料をそれぞれ二分し、−半はウェッジを用い
タングステン光源によって露光した。

他の一半は、濃度が１．０になるように露光した。

上記テストサンプルを下記の処方による現像液及び定着
液とを用いて自動現像機にて処理した。

〔現像魁理条件〕

（工程） 現　　　像 定　　　着 水　　　洗 乾　　　燥 現像液処方 （組成Ａ） 純水（イオン交換水） エチレンジアミン四酢酸二す １５０ｍ＜１ トリウム塩 （時間） １５’秒 約１５′秒 約１２’秒 １０’秒 （温度） ３５℃ ３４℃ 常温 　０００ ジエチレングリコール　　　　　　　５０ｇ亜硫酸カリ
ウム（５５％ｗ／ｖ水溶液）　　　１００ｍ＋２炭酸カ
リウム　　　　　　　　　　　５０ｇハイドロキノン　
　　　　　　　　　　１５ｇ５−メチルベンゾトリアゾ
ール　　　２００ｍｇ１−フェニル−５−メルカプトテ
トラゾール０ｍｇ 使用液のｐＨを１０．４にする量 ４．５ｇ 水酸化カリウム 臭化カリウム （組成り） 純水（イオン交換水）　　　　　　　　　３ｍＱジエチ
レングリコール　　　　　　　５０ｇエチレンジアミン
四酢酸二ナトリウム塩５ｒｎｇ 酢酸（９０％水溶液）　　　　　　　　　０．３ｍＱ５
−ニトロインダゾール　　　　　　　１１０ｍｇ１−７
ｚニル−３−ピラゾリドン　　　　７００ｍｇブチルア
ミンジエタノールアミン　　１５ｇ現像液の使用時に水
５００ｍＱ中に上記組成Ａ１組成りの順に溶かし、ｔｃ
に仕上げて用いた。

定着液処方 （組成Ａ） チオ硫酸アンモニウム（７２，５％Ｗ／Ｖ水溶液）４０
ｍＱ ７ｇ ６．５ｇ ６ｇ ２水塩　　　　　　２ｇ １３．６ｔＱ 亜硫酸ナトリウム 酢酸ナトリウム・３水塩 硼酸 クエン酸ナトリウム・ 酢酸（９０％ｗ／ｗ水溶液） （ｌ成り） 純水（イオン交換水）　　　　　　　　１７ｍ（を硫酸
（５０％ｗ／ｗ水溶液）　　　　　　　　４．７ｇ硫酸
アルミニウム （Ａ１２２０３換算含量が８．１％ｗ／ｖの水溶液）２
６．５ｇ 定着液の使用時に水５００ａ＋ｆ２中に上記組成Ａ１組
成りの順に溶かし、ｌαに仕上げて用いた。

この定着液のｐＨは約４．３であった。

現像処理した試料について写真特性曲線を書き、コント
ラストは光学濃度０．２及び１．５を与える露光量に対
するガンマ値で示した。

更に現像の不均一による画像濃度むらの尺度として、濃
度１．０の試料におけるむらを官能評価した。そしてラ
ンク３は、業界で認められる下限をしめし、ランク５は
全く問題のないレベルを示す。

実施例２ 硝酸銀水溶液と臭化カリウム、沃化カリウム水溶液を、
アンモニアの存在下でＩ）Ａｇを７．９に保ちつつダブ
ルジェット法により混合し、平均粒子サイズ０．２μｍ
の単分散立方体の沃臭化銀乳剤Ｂ（沃化銀２モル％、臭
化銀９８モル％）を作成した。

別に硝酸銀水溶液と臭化カリウム水溶液をアンモニアの
存在下でｌｌｌＡｇを７．９に保ちつつダブルジェット
法により混合し、平均粒子サイズ０．３５μｍの単分散
立方体の臭化銀乳剤Ｃを得た。

乳剤Ｂは更にチオ硫酸ナトリウムで硫黄増感を行った。

又、各乳剤Ｂ、Ｃ共に増感色素として５，５′−ジクロ
ロ−３，３’ジ（３−スルホプロピル）−９−エチル−
オキサカルボシアニンナトリウム塩を、乳剤Ａ及びＢに
対して銀１モル当たり、それぞれ６　Ｘ　１０−’モル
、４．５Ｘ　１０”’モル添加して分光増感した。

更に安定剤として４−ヒドロキシ−６−メチル−１，３
゜３ａ、７−チトラザインデンを添加した。

この乳剤Ｂ、Ｃをハロゲン化銀重量比で６対４のような
比率になるように混合した。

更に下記のヒドラジン誘導体を銀１モル当たり４　Ｘ　
１０−”モル添加した。

更に界面活性剤としてアルキルベンゼンスルホン酸塩、
硬膜剤としてビニルスルホン系硬膜剤全添加し、乳剤の
ｐＨを５．８になるように調整した後、膜厚１００μｍ
のポリエチレンテレフタレート支持体上に塗布銀量３．
Ｏｇ／ｍ’になるように塗布し、更にその上層の保護層
には、表３に示すように本発明の化合物をそれぞれ加え
、ゼラチン量１ｇ／ｍ”となるように塗布した。得られ
た試料をそれぞれ二分し、−半はウェッジを用いタング
ステン光源によって露光した。他の一半は、濃度が１．
０になるように露光した。露光後、下記組成の現像液で
４０’Ｏ。

１０秒間現像し、定着１０秒、水洗９秒、乾燥１０秒の
処理を行った。

現像液処方 ハイドロキノン　　　　　　　　　　　４５．０ｇＮ−
メチル−ｐ−アミンフェノール １／２硫酸塩 水酸化ナトリウム 水酸化カリウム ５−スルホサリチル酸 硼酸 ０．８ｇ １８．０ｇ ５５．０ｇ ４５．０ｇ ２５．０ｇ 亜硫酸カリウム １ＬＯｇ エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩１．０ｇ 臭化カリウム ５−メチルベンゾトリアゾール Ｎ−ブチルジェタノールアミン 水を加えてｌｆｆ ６．０ｇ ０．６ｇ １５．０ｇ （ｐＨ＝　１２．０） 表３から明らかなように本発明に属する試料Ｎｏ。

２−Ｎｏ、９は、ラインスピードを２０００ｍｍ／ｍｉ
ｎ以上にしてもコントラストが良好であり、現像むらも
ランクが４〜５と実用に耐えるレベルであることがわか
る。これに対して比較例に属する表３の試料Ｎｏ、１は
現像むらが実用に耐えないレベルである。

〔発明の効果〕

本発明により、ラインスピードが１０００ｍｍ／ｆｆ１
ｉｎ以上の自動現像機を用いても、高コントラストで、
かつ現像時の不均一現像による画像濃度のむらが低減さ
れたハロゲン化銀写真感光材料の処理方法を提供するこ
とができた。

手続補正書 平成　２年６月２３日 平成　１年特許願第１５０８１１号 ２、発明の名称 ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 ３、補正をする者 事件との関係　　特許出願人

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）支持体上に、少なくとも１層のハロゲン化銀乳剤
   層を有するハロゲン化銀写真感光材料において、該乳剤
   層に隣接する親水性コロイド層の少なくとも１層に、下
   記一般式〔 I 〕で表される化合物の少なくとも１種を
   含有し、かつ自動現像機を用いて処理され、その現像、
   定着、水洗及び／又は安定化液までの処理時間が４５秒
   以内であることを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料
   の処理方法。
2. （２）ラインスピードが１０００ｍｍ／ｓｅｃ以上の自
   動現像機を用いて処理することを特徴とする請求項１記
   載のハロゲン化銀写真感光材料の現像処理方法。 一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Ｒ＿１、Ｒ＿２及びＲ＿３は炭素原子数１〜１２
   の置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、ア
   ルコキシ基、アルコキシカルボニル基、置換もしくは無
   置換のアミノ基、アリール基、水酸基、メルカプト基、
   カルボキシル基もしくはその塩、又は水素原子を表す。 〕