JPH0262532A - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/005—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
- G03C1/06—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein with non-macromolecular additives
- G03C1/08—Sensitivity-increasing substances
- G03C1/10—Organic substances
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- Materials Engineering (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はハロゲン化銀写真感光材料に関するものであり
、更に詳しくは高コントラストであり、かつ現像時の不
均一な現像により画像むちの低減されI;ハロゲン化銀
写真感光材料に関する。
、更に詳しくは高コントラストであり、かつ現像時の不
均一な現像により画像むちの低減されI;ハロゲン化銀
写真感光材料に関する。
ハロゲン化銀写真感光材料を用いる写真用製版過程には
連続階調の原稿を網点画像に変換する工程、即ち連続階
調の濃度変化を該濃度に比例する面積を有する網点の集
合体に変換する工程及び該工程で得られた網点画像をよ
り鮮鋭度の良好な網点画像に変換する工程すなわち返し
工程などが含まれている。
連続階調の原稿を網点画像に変換する工程、即ち連続階
調の濃度変化を該濃度に比例する面積を有する網点の集
合体に変換する工程及び該工程で得られた網点画像をよ
り鮮鋭度の良好な網点画像に変換する工程すなわち返し
工程などが含まれている。
これらの工程に使用される感光材料は良好な網点品質を
得る必要から高コントラストを有することが不可欠とさ
れている。
得る必要から高コントラストを有することが不可欠とさ
れている。
このような特性を得る方法として従来から比較的微粒子
で粒子径分布が狭く、かつ塩化銀含有率の高い塩臭化銀
乳剤よりなる感光材料を亜硫酸イオン濃度が非常に小さ
いアルカリハイドロキノン現像液で処理する方法、いわ
ゆるリス現像法が知られている。
で粒子径分布が狭く、かつ塩化銀含有率の高い塩臭化銀
乳剤よりなる感光材料を亜硫酸イオン濃度が非常に小さ
いアルカリハイドロキノン現像液で処理する方法、いわ
ゆるリス現像法が知られている。
しかし、この方法を用いると現像液中の亜硫酸イオン濃
度が小さいため保恒性が極めて悪く、かつハイドロキノ
ン単体主薬を用いるために現像速度が遅く迅速処理がで
きないという欠点を有してい tこ 。
度が小さいため保恒性が極めて悪く、かつハイドロキノ
ン単体主薬を用いるために現像速度が遅く迅速処理がで
きないという欠点を有してい tこ 。
従って、保恒性が良好で迅速処理可能な超加成性現像主
薬を含有し、比較的高濃度の亜硫酸塩を含有するいわゆ
るPQ型或いはMQ型の現像液による処理によって高い
コントラストが得られる新規な感光材料の開発が望まれ
ている。
薬を含有し、比較的高濃度の亜硫酸塩を含有するいわゆ
るPQ型或いはMQ型の現像液による処理によって高い
コントラストが得られる新規な感光材料の開発が望まれ
ている。
この新規な感光材料に関するものとして特公昭59−1
7825号、同59−17818号、同59−1781
9号、同59−17820号、同59−17821号、
同59−17826号、同59−17822号の各公報
にはテトラゾリウム化合物を含有するハロゲン化銀写真
感光材料が、又特開昭53−16623号、同53−2
0927号、同53−84714号、同57−5813
7号等には、ヒドラジン化合物を含有するハロゲン化銀
写真感光材料が開示されている。
7825号、同59−17818号、同59−1781
9号、同59−17820号、同59−17821号、
同59−17826号、同59−17822号の各公報
にはテトラゾリウム化合物を含有するハロゲン化銀写真
感光材料が、又特開昭53−16623号、同53−2
0927号、同53−84714号、同57−5813
7号等には、ヒドラジン化合物を含有するハロゲン化銀
写真感光材料が開示されている。
これらの化合物を含有する感光材料を超加成性現像液で
処理し、高いコントラストを有する銀画像を得る方法は
、従来技術に対し極めて画期的技術ということができる
。
処理し、高いコントラストを有する銀画像を得る方法は
、従来技術に対し極めて画期的技術ということができる
。
しかし、ハロゲン化銀写真感光材料の階調を非常に高コ
ントラストにすると、現像のほんのわずかの不均一、例
えば現像主薬の拡散の不均一や、臭素イオン等の現像抑
制物の拡散の不均一によって微妙に画像濃度が変化し、
使用上好ましくないという問題点があった。このような
リス現像法における臭素イオンによる画像濃度むら、い
わゆるr Br−drugJ という現象もこの例であ
る。
ントラストにすると、現像のほんのわずかの不均一、例
えば現像主薬の拡散の不均一や、臭素イオン等の現像抑
制物の拡散の不均一によって微妙に画像濃度が変化し、
使用上好ましくないという問題点があった。このような
リス現像法における臭素イオンによる画像濃度むら、い
わゆるr Br−drugJ という現象もこの例であ
る。
リス現象における上記現象を改善する方法としては、
■リス用感光材料のハロゲン化銀組成におけるBr含量
を減らす。
を減らす。
■アミン化合物を感光材料中に用いるという方法が知ら
れているが、減感、Fog増を生じたりしてその効果が
不十分であった。更に前記化合物を含有した感光材料も
、リス現像の約3倍の現像スピードを持つため、高コン
トラストによる現像の不均一は処理条件によってはより
強くなって現れることがある。
れているが、減感、Fog増を生じたりしてその効果が
不十分であった。更に前記化合物を含有した感光材料も
、リス現像の約3倍の現像スピードを持つため、高コン
トラストによる現像の不均一は処理条件によってはより
強くなって現れることがある。
本発明の目的は、上記した従来技術を解決し、高コント
ラストであり、かつ現像時の不均一現像による画像濃度
の不均一が低減されたハロゲン化銀写真感光材料を提供
することである。
ラストであり、かつ現像時の不均一現像による画像濃度
の不均一が低減されたハロゲン化銀写真感光材料を提供
することである。
本発明の上記目的は、支持体上に少なくとも一層の感光
性ハロゲン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材
料において、該乳剤層に隣接する親水性コロイド層に下
記一般式(I)で示される化合物の少なくとも1種を含
有することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。
性ハロゲン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材
料において、該乳剤層に隣接する親水性コロイド層に下
記一般式(I)で示される化合物の少なくとも1種を含
有することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。
一般式CI)
〔式中R1、R2及びR1は炭素原子数1〜12の置換
もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、アルコキ
シ基、アルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換の
アミノ基、アリール基、水酸基、メルカプト基、カルボ
キシル基もしくはその塩、又は水素原子を表す。〕 まず一般式CI)については、式中、R、、R。
もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、アルコキ
シ基、アルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換の
アミノ基、アリール基、水酸基、メルカプト基、カルボ
キシル基もしくはその塩、又は水素原子を表す。〕 まず一般式CI)については、式中、R、、R。
及びR3で表されるアルキル基としては、例えばメチル
、エチル、プロピル、i・プロピル、S−ブチル、t−
ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、ノニル等の各
層が挙げられ、置換アルキル基としては、アラルキル基
(例えばベンジル、フェネチル、ベンズヒドリル、l−
ナフチルメチルニル−ブチル)、アルコキシアルキル基
(例えばメトキシメチル、2−メトキシエチル、3−エ
トキシプロピル、4−メトキシブチル等)やクロロメチ
ル、ヒドロキシメチル、2−ヒドロキシプロピル、3−
ヒドロキシブチル、カルボキシメチル、2−カルボキシ
エチル、2−(メトキシカルボニル ノメチル、ジエチルアミノメチル、ペンゾイルアミノエ
チル等が挙げられる。
、エチル、プロピル、i・プロピル、S−ブチル、t−
ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、ノニル等の各
層が挙げられ、置換アルキル基としては、アラルキル基
(例えばベンジル、フェネチル、ベンズヒドリル、l−
ナフチルメチルニル−ブチル)、アルコキシアルキル基
(例えばメトキシメチル、2−メトキシエチル、3−エ
トキシプロピル、4−メトキシブチル等)やクロロメチ
ル、ヒドロキシメチル、2−ヒドロキシプロピル、3−
ヒドロキシブチル、カルボキシメチル、2−カルボキシ
エチル、2−(メトキシカルボニル ノメチル、ジエチルアミノメチル、ペンゾイルアミノエ
チル等が挙げられる。
又アルケニル基としては、ビニル、アリル、プロペニル
等が挙げられる。
等が挙げられる。
又アリール基としては、例えばフェニル基、l−ナフチ
ル基等が挙げられ、置換アリール基としてハ、例、tl
fp−)リル、m−エチルフェニル、m−クメニル、メ
シチル、2.3−キシリル、p−クロロフェニル、0−
ブロモフェニル、p−ヒドロキシフェニル、l−ヒドロ
キシ−2−ナフチル、m−メトキシフェニル、p−エト
キシフェニル、p−カルボニルフェニル、0−(メトキ
シカルボニル)フェニル、m−Cエトキシカルボニル)
フェニル、4−力ルポキシ−1−ナフチル等の各層が挙
げられる。
ル基等が挙げられ、置換アリール基としてハ、例、tl
fp−)リル、m−エチルフェニル、m−クメニル、メ
シチル、2.3−キシリル、p−クロロフェニル、0−
ブロモフェニル、p−ヒドロキシフェニル、l−ヒドロ
キシ−2−ナフチル、m−メトキシフェニル、p−エト
キシフェニル、p−カルボニルフェニル、0−(メトキ
シカルボニル)フェニル、m−Cエトキシカルボニル)
フェニル、4−力ルポキシ−1−ナフチル等の各層が挙
げられる。
アルコキシカルボニル
ルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル
等が挙げられる。
等が挙げられる。
置換アミノ基としては、ベンジルアミノ基、メトキシフ
ェニルアミノ基、ヒドロキシフェニルアミノ基等が挙げ
られる。
ェニルアミノ基、ヒドロキシフェニルアミノ基等が挙げ
られる。
アルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ、プロポキ
ン、イソブトキシ、フェノキシ、ペンシルオキシ、アリ
ルオキシ等が挙げられる。
ン、イソブトキシ、フェノキシ、ペンシルオキシ、アリ
ルオキシ等が挙げられる。
前記一般式(I)で示される代表的具体例としCI−3
) CI−13) (I−15) (I−16) 本発明のハロゲン化銀写真感光材料は支持体及び該支持
体上に少なくとも一層のハロゲン化銀乳剤層を包含する
親水性コロイド層を塗設してなり、このハロゲン化銀乳
剤層は支持体上に直接塗設されるか、あるいはハロゲン
化銀乳剤を含まない親水性コロイド層を介して塗設され
、該ハロゲン化銀乳剤層の上にさらに保護層として親水
性コロイド層を塗設してもよい。又、ハロゲン化銀乳剤
層は異なる感度、例えば高感度及び低感度のハロゲン化
銀乳剤層に分けてもよい。該ハロゲン化銀乳剤層は、こ
の層の間に、親水性コロイド層の中間層を設けてもよい
し、またハロゲン化銀乳剤層と保護層との間には中間層
を設けてもよい。 具体的には、感光層であハロゲン化
銀乳剤層が支持体の片面に1層設けられているもの、支
持体の両面に各々lそ設けられているもの、支持体の片
面に1層、他の片面に非感光層に属する中間層を介して
2層以上設けられているもの、並びに支持体の両面に非
感光層を介して2層以上設けられているもの等が挙げら
れる。尚、支持体表面には非感光層に属する下地層が、
一番表面には保護層が設けられていてもよく、性能を落
とさない限り種々のものが設けられていても良い。
) CI−13) (I−15) (I−16) 本発明のハロゲン化銀写真感光材料は支持体及び該支持
体上に少なくとも一層のハロゲン化銀乳剤層を包含する
親水性コロイド層を塗設してなり、このハロゲン化銀乳
剤層は支持体上に直接塗設されるか、あるいはハロゲン
化銀乳剤を含まない親水性コロイド層を介して塗設され
、該ハロゲン化銀乳剤層の上にさらに保護層として親水
性コロイド層を塗設してもよい。又、ハロゲン化銀乳剤
層は異なる感度、例えば高感度及び低感度のハロゲン化
銀乳剤層に分けてもよい。該ハロゲン化銀乳剤層は、こ
の層の間に、親水性コロイド層の中間層を設けてもよい
し、またハロゲン化銀乳剤層と保護層との間には中間層
を設けてもよい。 具体的には、感光層であハロゲン化
銀乳剤層が支持体の片面に1層設けられているもの、支
持体の両面に各々lそ設けられているもの、支持体の片
面に1層、他の片面に非感光層に属する中間層を介して
2層以上設けられているもの、並びに支持体の両面に非
感光層を介して2層以上設けられているもの等が挙げら
れる。尚、支持体表面には非感光層に属する下地層が、
一番表面には保護層が設けられていてもよく、性能を落
とさない限り種々のものが設けられていても良い。
親水性コロイド層は、主に感光層と非感光層とに大別す
ることができる。感光層はハロゲン化銀乳剤層が代表的
であり、非感光層は下地層、保護層等が挙げられる。
ることができる。感光層はハロゲン化銀乳剤層が代表的
であり、非感光層は下地層、保護層等が挙げられる。
本発明の一般式[I)で表される化合物が含有せしめら
れる層は、ハロゲン化銀乳剤層に隣接する親水性コロイ
ド層であり、好ましくは保護層である。親水性コロイド
層に含有せしめるには、適宜の水及び/又は有機溶媒に
両者を溶解して添加する方法、あるいは有機溶媒に溶か
した液をゼラチンあるいはゼラチン誘導体等の親水性コ
ロイドマトリックス中に分散してから添加する方法また
はラテックス中に分散して添加する方法等が挙げられる
。本発明はこれらの方法のいづれを用いてもよい。
れる層は、ハロゲン化銀乳剤層に隣接する親水性コロイ
ド層であり、好ましくは保護層である。親水性コロイド
層に含有せしめるには、適宜の水及び/又は有機溶媒に
両者を溶解して添加する方法、あるいは有機溶媒に溶か
した液をゼラチンあるいはゼラチン誘導体等の親水性コ
ロイドマトリックス中に分散してから添加する方法また
はラテックス中に分散して添加する方法等が挙げられる
。本発明はこれらの方法のいづれを用いてもよい。
本発明において用いられる一般式〔I〕で表される化合
物は、1種を用いてもまた2種以上を適宜の比率で組み
合わせて用いてもよく、更に本発明の化合物と本発明外
の抑制剤を適宜の比率で組み合せて用いてもよい6 本発明のハロゲン化銀感光材料には、印刷用感光材料、
特にリス現像を用いなくとも高いコントラス]・を得る
ことができる印刷用感光材料に好適であり、好ましくは
下記一般式〔■〕で表されるテトラゾリウム化合物又は
一般式CIII)で表されるヒドラゾン化合物を含有す
る。
物は、1種を用いてもまた2種以上を適宜の比率で組み
合わせて用いてもよく、更に本発明の化合物と本発明外
の抑制剤を適宜の比率で組み合せて用いてもよい6 本発明のハロゲン化銀感光材料には、印刷用感光材料、
特にリス現像を用いなくとも高いコントラス]・を得る
ことができる印刷用感光材料に好適であり、好ましくは
下記一般式〔■〕で表されるテトラゾリウム化合物又は
一般式CIII)で表されるヒドラゾン化合物を含有す
る。
一般式〔「〕
〔式中、R、、R、及びR3は各々水素原子または置換
基を表し、Xeはアニオンを表す。〕一般式(I[I) 〔式中、Aは脂肪族基、又は芳香族基を表し、Bはホル
ミル基、アシル基、アルキル基もしくはアリールスルホ
ニル基、アルキルもしくはアリールスルフィニル基、カ
ルバモイル基、アルコキシもしくはアリールオキシカル
ボニル基、スルフィナモイル基、アルコキシスルホニル
基、チオアシル基、チオカルバモイル基、又はへテロ環
基を表し、R、、R2はともに水素原子或いは一方が水
素原子で他方が置換もしくは無置換のアルキルスルホニ
ル基、又は置換もしくは無置換のアリールスルホニル基
、又は置換もしくは無置換のアシル基を表す。ただし、
B、R,及びそれらが縮合する窒/ 素原子がヒドラゾンの部分構造−N=Cを形成\ してもよい。〕 次に前記一般式(IF)の化合物について説明する。
基を表し、Xeはアニオンを表す。〕一般式(I[I) 〔式中、Aは脂肪族基、又は芳香族基を表し、Bはホル
ミル基、アシル基、アルキル基もしくはアリールスルホ
ニル基、アルキルもしくはアリールスルフィニル基、カ
ルバモイル基、アルコキシもしくはアリールオキシカル
ボニル基、スルフィナモイル基、アルコキシスルホニル
基、チオアシル基、チオカルバモイル基、又はへテロ環
基を表し、R、、R2はともに水素原子或いは一方が水
素原子で他方が置換もしくは無置換のアルキルスルホニ
ル基、又は置換もしくは無置換のアリールスルホニル基
、又は置換もしくは無置換のアシル基を表す。ただし、
B、R,及びそれらが縮合する窒/ 素原子がヒドラゾンの部分構造−N=Cを形成\ してもよい。〕 次に前記一般式(IF)の化合物について説明する。
前記一般式(n)において、R1ないしR1が表す置換
基の好ましい例としてアルキル基(例えばメチル、エチ
ル、シクロプロピル、プロピル、イソプロピル、シクロ
ブチル、ブチル、イソブチル、ペンチル、シクロヘキシ
ル等)、アミノ基、アシルアミノ基 (例えばアセチル
アミノ)、ヒドロキシル基、アルコキシ基(例えばメト
キシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペントキシ等
)、アセルオキシ基(例えばアセチルオキシ)、ハロゲ
ン原子(例えばフッ素、塩素、臭素等)、カルバモイル
基、アシルチオ基(例えばアセチルチオ)、アルコキシ
カルボニル基(例えばエトキシカルボニル)、カルボキ
シル基、アシル基(例えばアセチル)、シアノ基、ニト
ロ基、メルカプト基、スルホオキシ基、アミノスルホキ
シ基のような基が挙げられる。
基の好ましい例としてアルキル基(例えばメチル、エチ
ル、シクロプロピル、プロピル、イソプロピル、シクロ
ブチル、ブチル、イソブチル、ペンチル、シクロヘキシ
ル等)、アミノ基、アシルアミノ基 (例えばアセチル
アミノ)、ヒドロキシル基、アルコキシ基(例えばメト
キシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペントキシ等
)、アセルオキシ基(例えばアセチルオキシ)、ハロゲ
ン原子(例えばフッ素、塩素、臭素等)、カルバモイル
基、アシルチオ基(例えばアセチルチオ)、アルコキシ
カルボニル基(例えばエトキシカルボニル)、カルボキ
シル基、アシル基(例えばアセチル)、シアノ基、ニト
ロ基、メルカプト基、スルホオキシ基、アミノスルホキ
シ基のような基が挙げられる。
前記X0で示されるアニオンとしては、例えば塩化物イ
オン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン等のハロゲンイオ
ン、硝酸、硫酸、過塩素酸等の無機酸の酸根、スルホン
酸、カルボン酸等の有機酸の酸根、アニオン系の活性剤
、具体的にはp−トルエンスルホン酸アニオン等の低級
アルキルベンゼンスルホン酸アニオン、p−ドデシルベ
ンゼンスルホン酸アニオン等の高級アルキルベンゼンス
ルホン酸アニオン、ラウリルスルフェートアニオン等の
高級アルキル硫酸エステルアニオン、テトラフェニルホ
ロン等の硼酸系アニオン、ジー2−エチルへキシルスル
ホサクシネートアニオン等のジアルキルスルホサクシネ
ートアニオン、セチルポリエテノキシサルフェートアニ
オン等のポリエーテルア/l/ :l−/1/ fM
酸エステルアニオン、ステアリン酸アニオン等の高級脂
肪族アニオン、ポリアクリル酸アニオン等のポリマーに
酸根のついたもの等を挙げることができる。
オン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン等のハロゲンイオ
ン、硝酸、硫酸、過塩素酸等の無機酸の酸根、スルホン
酸、カルボン酸等の有機酸の酸根、アニオン系の活性剤
、具体的にはp−トルエンスルホン酸アニオン等の低級
アルキルベンゼンスルホン酸アニオン、p−ドデシルベ
ンゼンスルホン酸アニオン等の高級アルキルベンゼンス
ルホン酸アニオン、ラウリルスルフェートアニオン等の
高級アルキル硫酸エステルアニオン、テトラフェニルホ
ロン等の硼酸系アニオン、ジー2−エチルへキシルスル
ホサクシネートアニオン等のジアルキルスルホサクシネ
ートアニオン、セチルポリエテノキシサルフェートアニ
オン等のポリエーテルア/l/ :l−/1/ fM
酸エステルアニオン、ステアリン酸アニオン等の高級脂
肪族アニオン、ポリアクリル酸アニオン等のポリマーに
酸根のついたもの等を挙げることができる。
以下、本発明に用いられる一般式〔I[)で表される化
合物の具体例を挙げるが、本発明の化合物は、これらに
限定されるものではない。
合物の具体例を挙げるが、本発明の化合物は、これらに
限定されるものではない。
(例示化合物)
本発明に用いられるテトラゾリウム化合物は、例えばケ
ミカル・レビ−L (Chemical Revi
ews)第55巻、第335頁〜483頁に記載の方法
に従って容易に合成することができる。
ミカル・レビ−L (Chemical Revi
ews)第55巻、第335頁〜483頁に記載の方法
に従って容易に合成することができる。
本発明の一般式(n)で表されるテトラゾリウム化合物
は、本発明のハロゲン化銀写真感光材料中に含有される
ハロゲン化銀1モル当り約1 mg以上10gまで、好
ましくは約lO■g以1約2gまでの範囲で用いられる
のが好ましい。
は、本発明のハロゲン化銀写真感光材料中に含有される
ハロゲン化銀1モル当り約1 mg以上10gまで、好
ましくは約lO■g以1約2gまでの範囲で用いられる
のが好ましい。
本発明において用いられる一般式(II)で表されるテ
トラゾリウム化合物は、1種を用いてもまた2種以上を
適宜の比率で組合せて用いてもよい。
トラゾリウム化合物は、1種を用いてもまた2種以上を
適宜の比率で組合せて用いてもよい。
更に本発明のテトラゾリウム化合物と本発明外のテトラ
ゾリウム化合物を適宜の割合で組合せて用いてもよい。
ゾリウム化合物を適宜の割合で組合せて用いてもよい。
本発明において、本発明のテトラゾリウム化合物と結合
し、本発明のテトラゾリウム化合物の親水性を下げるア
ニオンを併用すると、特に好ましい結果が得られる。こ
のようなアニオンとしては例えば過塩素酸等の無機酸の
酸根、スルホン酸、カルボン酸等の有機酸の酸根、アニ
オン系の活性剤、具体的にはp−トルエンスルホン酸ア
ニオン等の低級アルキルベンゼンスルホン酸アニオン、
り−1’ 7’ ノルベンゼンスルホン酸アニオン類、
アルキルナフタレンスルホン酸アニオン類、ラウリルサ
ルフェートアニオン類、テトラフェニールポロン類、ジ
ー2−エチルへキシルスルホサクシネートアニオン類等
のジアルキルスルホサクシネートアニオン、セチルポリ
エテノキシサルフェートアニオン等のポリエーテルアル
コール硫酸エステルアニオン、ステアリン酸アニオン類
等、ポリアクリル酸アニオン類等を挙げることができる
。
し、本発明のテトラゾリウム化合物の親水性を下げるア
ニオンを併用すると、特に好ましい結果が得られる。こ
のようなアニオンとしては例えば過塩素酸等の無機酸の
酸根、スルホン酸、カルボン酸等の有機酸の酸根、アニ
オン系の活性剤、具体的にはp−トルエンスルホン酸ア
ニオン等の低級アルキルベンゼンスルホン酸アニオン、
り−1’ 7’ ノルベンゼンスルホン酸アニオン類、
アルキルナフタレンスルホン酸アニオン類、ラウリルサ
ルフェートアニオン類、テトラフェニールポロン類、ジ
ー2−エチルへキシルスルホサクシネートアニオン類等
のジアルキルスルホサクシネートアニオン、セチルポリ
エテノキシサルフェートアニオン等のポリエーテルアル
コール硫酸エステルアニオン、ステアリン酸アニオン類
等、ポリアクリル酸アニオン類等を挙げることができる
。
このようなアニオンは、本発明のテトラゾリウム化合物
と予め混合した後、親水性コロイド層へ添加してもよい
し、又、単独で本発明のテトラゾリウムを含有もしくは
含有しないハロゲン化銀乳剤層または親水性コロイド層
に添加することができる。
と予め混合した後、親水性コロイド層へ添加してもよい
し、又、単独で本発明のテトラゾリウムを含有もしくは
含有しないハロゲン化銀乳剤層または親水性コロイド層
に添加することができる。
次に一般式(I[I)で表される化合物について説明す
る。
る。
一般式CI[[]において、Aで表される脂肪族基は好
ましくは炭素数l〜30のものであって、特に炭素数1
〜20の直鎖、分岐又は環状のアルキル基である。ここ
で分岐アルキル基はその中に1つ又はそれ以上のへテロ
原子を含んだ飽和へテロ環を形成するように環化されて
いてもよい。又このアルキル基は、アリール基、アルコ
キシ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、カルボンア
ミド基等の置換基を有していてもよい。
ましくは炭素数l〜30のものであって、特に炭素数1
〜20の直鎖、分岐又は環状のアルキル基である。ここ
で分岐アルキル基はその中に1つ又はそれ以上のへテロ
原子を含んだ飽和へテロ環を形成するように環化されて
いてもよい。又このアルキル基は、アリール基、アルコ
キシ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、カルボンア
ミド基等の置換基を有していてもよい。
例えばt−ブチル基、n−オクチル基、L・オクチル基
、シクロヘキシル基、ピロリジル基、イミダゾリル基、
テトラヒドロ7リル基、モルフォリノ基などのをその例
として挙げることができる。
、シクロヘキシル基、ピロリジル基、イミダゾリル基、
テトラヒドロ7リル基、モルフォリノ基などのをその例
として挙げることができる。
一般式(I[[)においてAで表される芳香族基は単環
又は2環のアリール基又は不飽和へテロ環基である。こ
こで不飽和へテロ環基は単環又は2環のアリール基と縮
合してヘテロアリール基を形成してもよい。
又は2環のアリール基又は不飽和へテロ環基である。こ
こで不飽和へテロ環基は単環又は2環のアリール基と縮
合してヘテロアリール基を形成してもよい。
例えばベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、ピリミ
ジン環、イミダゾール環、ビロラゾール環、キノリン環
、イソキノリン環、ベンズイミダゾール環、チアゾール
環、ベンゾチアゾール環等があるなかでもベンゼン環を
含むものが好ましい。
ジン環、イミダゾール環、ビロラゾール環、キノリン環
、イソキノリン環、ベンズイミダゾール環、チアゾール
環、ベンゾチアゾール環等があるなかでもベンゼン環を
含むものが好ましい。
Aとして特に好ましいのはアリール基である。
Aのアリール基又は不飽和へテロ環基は置換基を持って
いてもよい。代表的な置換基としては、直鎖、分岐又は
環状のアルキル基、(好ましくは炭素数1〜20のもの
)、アラルキル基(好ましくはアルキル部分の炭素数が
l〜3の単環又は2環のもの)、アルコキシ基(好まし
くは炭素数1〜20のもの)、置換アミノ基(好ましく
は炭素数1〜20のアルキル基で置換されたアミノ基)
、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30を持つも
の)、スルホンアミド基(好ましくは炭素数1〜30を
持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜30を
持つもの)などがある。
いてもよい。代表的な置換基としては、直鎖、分岐又は
環状のアルキル基、(好ましくは炭素数1〜20のもの
)、アラルキル基(好ましくはアルキル部分の炭素数が
l〜3の単環又は2環のもの)、アルコキシ基(好まし
くは炭素数1〜20のもの)、置換アミノ基(好ましく
は炭素数1〜20のアルキル基で置換されたアミノ基)
、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30を持つも
の)、スルホンアミド基(好ましくは炭素数1〜30を
持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜30を
持つもの)などがある。
一般式CIII)のAはその中にカプラー等の不動性写
真用添加剤において常用されているバラスト基が組み込
まれているものでもよい。バラスト基は8に以上の炭素
数を有する写真性に対して比較的不活性な基であり、例
えばアルキル基、アルコキシ基、フェニル基、アルキル
フェニル基、フェノキシ基、アルキルフェノキシ基など
の中から選ぶことができる。
真用添加剤において常用されているバラスト基が組み込
まれているものでもよい。バラスト基は8に以上の炭素
数を有する写真性に対して比較的不活性な基であり、例
えばアルキル基、アルコキシ基、フェニル基、アルキル
フェニル基、フェノキシ基、アルキルフェノキシ基など
の中から選ぶことができる。
一般式(III)のAはその中にハロゲン化銀粒子表面
に対する吸着を強める基が組み込まれているものでもよ
い。かかる吸着基としては、チオ尿素基、複素環チオア
ミド基、メルカプト複素環基、トリアゾール基などの米
国特許4,385.108号、同4゜459.347号
、特開昭59−195233号、同59−200231
号、同59−201045号、同59−201046号
、同59−201047号、同59−201048号、
同59−201049号、特願昭59−36788号、
同60−11459号、同60−19739号等に記載
された基が挙げられる。
に対する吸着を強める基が組み込まれているものでもよ
い。かかる吸着基としては、チオ尿素基、複素環チオア
ミド基、メルカプト複素環基、トリアゾール基などの米
国特許4,385.108号、同4゜459.347号
、特開昭59−195233号、同59−200231
号、同59−201045号、同59−201046号
、同59−201047号、同59−201048号、
同59−201049号、特願昭59−36788号、
同60−11459号、同60−19739号等に記載
された基が挙げられる。
Bは、具体的にはホルミル基、アシル基(アセチル基、
プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、タロロアセ
チル基、ベンゾイル基、4−クロロベンゾイル基、ピル
ボイル基、メトキサリル基、メチルオキサモイル基等)
、アルキルスルホニル基(メタンスルホニル基、2−ク
ロロエタンスルホニル基等)、アリールスルホニル基(
ベンゼンスルホニル基等)、アルキルスルフィニル基(
メタンスルフィニル基等)、アリールスルフィニル基(
ベンゼンスルフィニル基等)、カルバモイル基(メチル
カルバモイル基、フェニルカルバモイル基等)、スルフ
ァモイル基(ジメチルスルファモイル基等)、アルコキ
シカルボニル基(メトキシカルボニル基、メトキシエト
キシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(
フェノキシカルボ二/Idl)、スルファモイル基(メ
チルスルファモイル基等)、アルコキシスルホニル(メ
トキシスルホニル基、エトキシスルホニル基等)、チオ
アシル基(メチルチオカルボニル基等)、チオカルバモ
イル基(メチルチオカルバモイル基等)又はへテロ環基
(ピリジン類等)を表す。
プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、タロロアセ
チル基、ベンゾイル基、4−クロロベンゾイル基、ピル
ボイル基、メトキサリル基、メチルオキサモイル基等)
、アルキルスルホニル基(メタンスルホニル基、2−ク
ロロエタンスルホニル基等)、アリールスルホニル基(
ベンゼンスルホニル基等)、アルキルスルフィニル基(
メタンスルフィニル基等)、アリールスルフィニル基(
ベンゼンスルフィニル基等)、カルバモイル基(メチル
カルバモイル基、フェニルカルバモイル基等)、スルフ
ァモイル基(ジメチルスルファモイル基等)、アルコキ
シカルボニル基(メトキシカルボニル基、メトキシエト
キシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(
フェノキシカルボ二/Idl)、スルファモイル基(メ
チルスルファモイル基等)、アルコキシスルホニル(メ
トキシスルホニル基、エトキシスルホニル基等)、チオ
アシル基(メチルチオカルボニル基等)、チオカルバモ
イル基(メチルチオカルバモイル基等)又はへテロ環基
(ピリジン類等)を表す。
Bとしてはホルミル基又はアシル基が特に好ましい。
一般式(I[I)のBはR2及びこれらが縮合している
窒素原子とともにヒドラジンの部分構造上記においてR
3はアルキル基、アリール基又はヘテロ環基を表す。R
6は水素原子、アルキル基、アリール基又はヘテロ環基
を表す。
窒素原子とともにヒドラジンの部分構造上記においてR
3はアルキル基、アリール基又はヘテロ環基を表す。R
6は水素原子、アルキル基、アリール基又はヘテロ環基
を表す。
R、、R、は水素原子、炭素数20以下のアルキルスル
ホニル基及びアリールスルホニル基(好ましくはフェニ
ルスルホニル基又はハメットの置換基定数の和が−0,
5以上となるように置換されたフェニルスルホニル基)
、炭素数20以下のアシル基(好ましくはベンゾイル基
、又はハメットの置換基定数の和が−0,5以上となる
ように置換されたベンゾイル基、或いは直鎖又は分岐状
又は環状の無置換及び置換脂肪族アシル基(置換基とし
ては例えばハロゲン原子、エーテル基、スルホンアミド
基、カルボンアミド基、水酸基、カルボキシ基、スルホ
ン酸基が挙げられる。) Rl、R2としては、 水素原子が最も好ましい。
ホニル基及びアリールスルホニル基(好ましくはフェニ
ルスルホニル基又はハメットの置換基定数の和が−0,
5以上となるように置換されたフェニルスルホニル基)
、炭素数20以下のアシル基(好ましくはベンゾイル基
、又はハメットの置換基定数の和が−0,5以上となる
ように置換されたベンゾイル基、或いは直鎖又は分岐状
又は環状の無置換及び置換脂肪族アシル基(置換基とし
ては例えばハロゲン原子、エーテル基、スルホンアミド
基、カルボンアミド基、水酸基、カルボキシ基、スルホ
ン酸基が挙げられる。) Rl、R2としては、 水素原子が最も好ましい。
I[I−5
ヒ
ドラジン誘導体の具体例を以下に示す。
ただし、゛本発明は以下の化合物に限定されるものでは
ない。
ない。
[11−1
l−6
I[[−2
■
I[[−3
ll−4
I[[−9
■
■
[[[−It
■−16
■
ll−17
■
ll−18
■−19
■−20
III−21
ヒドラジン誘導体を写真感光材料中に含有させるときに
は、ハロゲン化銀乳剤層に含有させるのが好ましいがそ
れ以外の非感光性の親水性コロイド層(例えば保護層、
中間層、フィルター層、ハレーション防止層など)に含
有させてもよい。
は、ハロゲン化銀乳剤層に含有させるのが好ましいがそ
れ以外の非感光性の親水性コロイド層(例えば保護層、
中間層、フィルター層、ハレーション防止層など)に含
有させてもよい。
具体的には使用する化合物が水溶性の場合には水溶液と
して、又難水溶性の場合にはアルコール類、エステル類
、ケトン類などの水と混和しうる有機溶媒の溶液として
、親水性コロイド溶液に添加すればよい。ハロゲン化銀
乳剤層に添加する場合は化学熟成の開始から塗布前まで
の任意の時期に行ってよいが、化学熟成終了後から塗布
前の間に添加するのが好ましい。特に塗布のために用意
された塗布液中に添加するのがよい。
して、又難水溶性の場合にはアルコール類、エステル類
、ケトン類などの水と混和しうる有機溶媒の溶液として
、親水性コロイド溶液に添加すればよい。ハロゲン化銀
乳剤層に添加する場合は化学熟成の開始から塗布前まで
の任意の時期に行ってよいが、化学熟成終了後から塗布
前の間に添加するのが好ましい。特に塗布のために用意
された塗布液中に添加するのがよい。
ヒドラジン誘導体の含有量はハロゲン化銀乳剤の粒子径
、ハロゲン組成、化学増感の方法と程度、該化合物を含
有させる層とハロゲン化銀乳剤層の関係、カブリ防止化
合物の種類などに応じて最適の量を選択することが望ま
しく、その選択のための試験の方法は当業者のよく知る
ところである。
、ハロゲン組成、化学増感の方法と程度、該化合物を含
有させる層とハロゲン化銀乳剤層の関係、カブリ防止化
合物の種類などに応じて最適の量を選択することが望ま
しく、その選択のための試験の方法は当業者のよく知る
ところである。
通常は好ましくはハロゲン化銀1モル当り1O−6モル
ないし1xlO−1モル、特+10−’ないし4X 1
0−”モルの範囲で用いられる。
ないし1xlO−1モル、特+10−’ないし4X 1
0−”モルの範囲で用いられる。
又ヒドラジン誘導体は現像液中に混入して用いることが
できる。その場合の添加量としては現像液IQ当り5m
g〜5g、特に10mg−1gが好適である。
できる。その場合の添加量としては現像液IQ当り5m
g〜5g、特に10mg−1gが好適である。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料に用いるノ・ロゲン
化銀については、特に限定はないが、塩化銀もしくは塩
臭化銀が好ましい。塩臭化銀の組成はAgC12/Ag
Br = 10010〜2/98のいずれでもよいが、
好ましくはAgC12/AgBr= 10010〜50
150のモル比である。ハロゲン化銀粒子の平均粒径は
、0.IOμm〜0.40μmが好ましく、(粒径の標
準偏差)/(平均粒径)X100で表される変動係数が
15%以下の粒径分、布の狭いものがより好ましい。
化銀については、特に限定はないが、塩化銀もしくは塩
臭化銀が好ましい。塩臭化銀の組成はAgC12/Ag
Br = 10010〜2/98のいずれでもよいが、
好ましくはAgC12/AgBr= 10010〜50
150のモル比である。ハロゲン化銀粒子の平均粒径は
、0.IOμm〜0.40μmが好ましく、(粒径の標
準偏差)/(平均粒径)X100で表される変動係数が
15%以下の粒径分、布の狭いものがより好ましい。
本発明において用いられるハロゲン化銀は感光材料業界
で公知の種々な増感剤、増感色素安定剤等を用いること
ができる。
で公知の種々な増感剤、増感色素安定剤等を用いること
ができる。
本発明による前記ハロゲン化銀及び一般式CI)で表さ
れる化合物は親水性コロイド層中に添加せしめられる。
れる化合物は親水性コロイド層中に添加せしめられる。
本発明に特に有利に用いられる親水性コロイドはゼラチ
ンであるが、ゼラチン以外の感光材料業界公知の親水性
コロイドも用いることができる。
ンであるが、ゼラチン以外の感光材料業界公知の親水性
コロイドも用いることができる。
これらの親水性コロイドはハロゲン化銀を含有しない層
、例えばハレーション防止層、保護層、中間層等にも適
用できる。
、例えばハレーション防止層、保護層、中間層等にも適
用できる。
本発明に用いる支持体としては、例えばポリエステルフ
ィルム等感光材料業界公知の各種支持体を用いることが
できる。
ィルム等感光材料業界公知の各種支持体を用いることが
できる。
本発明に係る感光材料は、適度の膜厚を有する保護層、
即ち好ましくは0.1− Lop m、特に好ましくは
0.8〜2μmのゼラチン保護層が塗設されているのが
望ましい。
即ち好ましくは0.1− Lop m、特に好ましくは
0.8〜2μmのゼラチン保護層が塗設されているのが
望ましい。
本発明に用いられる前記親水性コロイド層には必要に応
じて当業界公知の各種写真用添加剤、例えばゼラチン可
塑剤、硬膜剤、界面活性剤、画像安定剤、紫外線吸収剤
、アンチスティン剤、pH調整剤、酸化防止剤、帯電防
止剤、増粘剤、粒状性向上剤、染料、モルダント、増白
剤、現像速度調整剤、マット剤等を本発明の効果が損な
われない範囲内で使用することができる。
じて当業界公知の各種写真用添加剤、例えばゼラチン可
塑剤、硬膜剤、界面活性剤、画像安定剤、紫外線吸収剤
、アンチスティン剤、pH調整剤、酸化防止剤、帯電防
止剤、増粘剤、粒状性向上剤、染料、モルダント、増白
剤、現像速度調整剤、マット剤等を本発明の効果が損な
われない範囲内で使用することができる。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料の現像に用いられる
現像主薬としてはT、H,ジェームス著ザ・セオリイ・
オブ・ザ・ホトグラフィック・プロセス第4版(The
Theory of the Photograph
ic Peoc−ess、Fourth Editio
n)第291〜a34頁およびジャーナル・オブ・ザ・
アメリカン・ケミカル・ソサイテ イ (Journa
l of THe American Che
mical 5oiety)第73巻、第3,10
0頁(1951)に記載されているごとき現像剤が本発
明に有効に使用し得るものである。
現像主薬としてはT、H,ジェームス著ザ・セオリイ・
オブ・ザ・ホトグラフィック・プロセス第4版(The
Theory of the Photograph
ic Peoc−ess、Fourth Editio
n)第291〜a34頁およびジャーナル・オブ・ザ・
アメリカン・ケミカル・ソサイテ イ (Journa
l of THe American Che
mical 5oiety)第73巻、第3,10
0頁(1951)に記載されているごとき現像剤が本発
明に有効に使用し得るものである。
これらの現像剤は単独で使用しても2種以上を組合せて
もよいが、2種以上組合せて用いる方が好ましい。又本
発明の感光材料の現像に使用する現像液には保恒剤とし
て、例えば亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム等の亜硫
酸塩を用いても、本発明の効果が損なわれることなく、
本発明の1つの特徴として挙げることができる。又保恒
剤としてヒドロキシルアミン、ヒドラジド化合物を用い
てもよい。その他一般白黒現像液で用いられるような苛
性アルカリ、炭酸アルカリまたはアミンなどによるpt
+の調整とバッファー機能を持たせること及びブロムカ
リなど無機現像抑制剤及びベンゾトリアゾールなどの有
機現像抑制剤、エチレンジアミン四酢酸等の金属イオン
捕捉剤、メタノール、エタノール、ベンジルアルコール
、ポリアルキレンオキシド等の現像促進剤、アルキルア
リールスルホン酸ナトリウム、天然のサポニン、糖類又
は前記化合物のアルキルエステル物等の界面活性剤、グ
ルタルアルデヒド、ホルマリン、グリオキザール等の硬
膜剤、硫酸ナトリウム等のイオン強度調整剤等の添加を
行うことは任意である。
もよいが、2種以上組合せて用いる方が好ましい。又本
発明の感光材料の現像に使用する現像液には保恒剤とし
て、例えば亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム等の亜硫
酸塩を用いても、本発明の効果が損なわれることなく、
本発明の1つの特徴として挙げることができる。又保恒
剤としてヒドロキシルアミン、ヒドラジド化合物を用い
てもよい。その他一般白黒現像液で用いられるような苛
性アルカリ、炭酸アルカリまたはアミンなどによるpt
+の調整とバッファー機能を持たせること及びブロムカ
リなど無機現像抑制剤及びベンゾトリアゾールなどの有
機現像抑制剤、エチレンジアミン四酢酸等の金属イオン
捕捉剤、メタノール、エタノール、ベンジルアルコール
、ポリアルキレンオキシド等の現像促進剤、アルキルア
リールスルホン酸ナトリウム、天然のサポニン、糖類又
は前記化合物のアルキルエステル物等の界面活性剤、グ
ルタルアルデヒド、ホルマリン、グリオキザール等の硬
膜剤、硫酸ナトリウム等のイオン強度調整剤等の添加を
行うことは任意である。
本発明の感光材料の現像に使用される現像液には、有機
溶剤としてアルカノールアミン類やグリコール類を含有
させてもよい。上記のアルカノールアミンとしては、例
えばモノエタノールアミ、ン、ジェタノールアミン、ト
リエタノールアミンがあるが、トリエタノールアミンが
好ましく用いられる。これらアルカノールアミンの好ま
しい使用量は現像液lQ当り5〜500gで、より好ま
しくは20〜200gである。
溶剤としてアルカノールアミン類やグリコール類を含有
させてもよい。上記のアルカノールアミンとしては、例
えばモノエタノールアミ、ン、ジェタノールアミン、ト
リエタノールアミンがあるが、トリエタノールアミンが
好ましく用いられる。これらアルカノールアミンの好ま
しい使用量は現像液lQ当り5〜500gで、より好ま
しくは20〜200gである。
又上記のグリコール類としては、エチレングリコール、
ジエチレングリコール、プロピレングリコール、トリエ
チレングリコール、l、4−ブタンジオール、l、5−
ベンタンジオール等があるが、ジエチレングリコールが
好ましく用いられる。そしてこれらグリコール類の使用
量は現像液H2当り5〜500gで、より好ましくは2
0〜200gである。これらの有機溶媒は単独でも併用
しても用いることができる。
ジエチレングリコール、プロピレングリコール、トリエ
チレングリコール、l、4−ブタンジオール、l、5−
ベンタンジオール等があるが、ジエチレングリコールが
好ましく用いられる。そしてこれらグリコール類の使用
量は現像液H2当り5〜500gで、より好ましくは2
0〜200gである。これらの有機溶媒は単独でも併用
しても用いることができる。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、上記のごとき現
像抑制剤を含んだ現像液を用いて現像処理することによ
り極めて保存安定性に優れた感光材料を得ることができ
る。
像抑制剤を含んだ現像液を用いて現像処理することによ
り極めて保存安定性に優れた感光材料を得ることができ
る。
上記の組成になる現像液のpH値は9〜12であるが、
保恒性および写真特性上からはpH値はIO〜11の範
囲が好ましい。
保恒性および写真特性上からはpH値はIO〜11の範
囲が好ましい。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、種々の条件で処
理することができる。処理条件は、例えば現像温度は5
0°C以下が好ましく、特に30°C前後が好ましく、
又現像時間は3分以内に終了することが一般的であるが
、特に好ましくは2分以内が好結果をもたらすことが多
い。又現像以外の処理工程、例えば水洗、停止、安定、
定着、更に必要に応じて前硬膜、中和等の工程を採用す
ることは任意であり、これらは適宜省略することもでき
る。
理することができる。処理条件は、例えば現像温度は5
0°C以下が好ましく、特に30°C前後が好ましく、
又現像時間は3分以内に終了することが一般的であるが
、特に好ましくは2分以内が好結果をもたらすことが多
い。又現像以外の処理工程、例えば水洗、停止、安定、
定着、更に必要に応じて前硬膜、中和等の工程を採用す
ることは任意であり、これらは適宜省略することもでき
る。
更に又、これらの処理は皿現像、枠現像などいわゆる手
現像処理でも、ローラー現像、ハンガー現像など機械現
像であってもよい。
現像処理でも、ローラー現像、ハンガー現像など機械現
像であってもよい。
以下、具体的に実施例を示す。
〔乳剤(A)の調整方法〕
次に示すA液、B液、C液の溶液を用いて塩臭化銀乳剤
を調整した。
を調整した。
〈溶液A〉
オセインゼラチン 17gポリイ
ソプロピレンーポリエチレンオキシジコハク酸エステル
ナトリウム塩 5TnQlO%エタノール溶液蒸
留水 1280cc〈溶液B〉 硝酸銀 170g蒸留水
41O+IQく溶液C〉 塩化ナトリウム 45.0g臭化カリ
ウム 27.4g三塩化ロジウム三
水塩 28μgポリイソプロピレンオキシジ
コハク酸エステルナトリウム塩10%エタノール溶液3
m Qオセインゼラチン l1g
蒸留水 407mQ溶液A
を溶液°Cに保温した後EAg値が160mvになる様
に塩化ナトリウムを添加した。
ソプロピレンーポリエチレンオキシジコハク酸エステル
ナトリウム塩 5TnQlO%エタノール溶液蒸
留水 1280cc〈溶液B〉 硝酸銀 170g蒸留水
41O+IQく溶液C〉 塩化ナトリウム 45.0g臭化カリ
ウム 27.4g三塩化ロジウム三
水塩 28μgポリイソプロピレンオキシジ
コハク酸エステルナトリウム塩10%エタノール溶液3
m Qオセインゼラチン l1g
蒸留水 407mQ溶液A
を溶液°Cに保温した後EAg値が160mvになる様
に塩化ナトリウムを添加した。
次に特開昭57−92523号と同57−92524号
記載の混合撹拌機を用いて、ダブルジェット法にて溶液
B及び溶液Cを添加した。
記載の混合撹拌機を用いて、ダブルジェット法にて溶液
B及び溶液Cを添加した。
添加流量は表1に示した様に全添加時間80分の間にわ
たって、除々に添加流量を増加させEAgを一定に保ち
ながら添加を行った。
たって、除々に添加流量を増加させEAgを一定に保ち
ながら添加を行った。
EAg値は160mvより添加開始5分後に3mQ/Q
の塩化ナトリウム水溶液を用いてEAg値120mvに
変化させ、以後混合の完了までこの値を維持ルた。
の塩化ナトリウム水溶液を用いてEAg値120mvに
変化させ、以後混合の完了までこの値を維持ルた。
EAg値を一定に保つ為3モル/Qの塩化ナトリウム水
溶液を用いてEAg値を制御した。
溶液を用いてEAg値を制御した。
表1
EAg値の測定には、金属銀電極と、ダブルジャンクシ
ョン型飽和Ag/AgCQ比較電極を用いた(電極の構
成は、特開昭57−197534号に開示されるダブル
ジャンクションを使用した。)。
ョン型飽和Ag/AgCQ比較電極を用いた(電極の構
成は、特開昭57−197534号に開示されるダブル
ジャンクションを使用した。)。
又、溶液B液、C液の添加には流量可変型のローラーチ
ューブ定量ポンプを用いた。
ューブ定量ポンプを用いた。
又、添加中乳剤のサンプリングにより、系内に新たな粒
子の発生が認められないことを電子顕微鏡により観察し
、確認している。
子の発生が認められないことを電子顕微鏡により観察し
、確認している。
又、添加中、系のpt+値を3.0に一定に保つ様に3
%硝酸水溶液で制御した。
%硝酸水溶液で制御した。
B液、C液を添加後終了後、乳剤は10分間オストワル
ド熟成したのち、常法により脱塩、水洗を行い、その後
、オセインゼラチンの水溶液600m12(オセインゼ
ラチン30g含有)を加えて、55°030分間撹拌に
より分散した後、750ccに調製した。
ド熟成したのち、常法により脱塩、水洗を行い、その後
、オセインゼラチンの水溶液600m12(オセインゼ
ラチン30g含有)を加えて、55°030分間撹拌に
より分散した後、750ccに調製した。
実施例1
乳剤(A)に対して全硫黄、増感を施し、安定剤として
6−メチル−4−ヒドロキシ−1,3,3a、7−チト
ラザインデンを加え、増感色素としてi(β−ヒドロキ
ンエチル)−3−7二二ルー5−[(3−α−スルホプ
ロピル−α−ペンゾオキサゾリデン)−エチリデン]チ
オヒダントインを乳剤中に含まれるハロゲン化銀1モル
当り150+ag添加した。
6−メチル−4−ヒドロキシ−1,3,3a、7−チト
ラザインデンを加え、増感色素としてi(β−ヒドロキ
ンエチル)−3−7二二ルー5−[(3−α−スルホプ
ロピル−α−ペンゾオキサゾリデン)−エチリデン]チ
オヒダントインを乳剤中に含まれるハロゲン化銀1モル
当り150+ag添加した。
次いでハロゲン化銀1モル当り下記aに示す化合物を8
00r+g加え、更にp−ドデシルベンゼンスルホン酸
ソーダ300mg5 スチレン−マレイン酸共重合体が
ポリマー2g、スチレン−ブチルアクリレート−アクリ
ル酸共重合体ラテックス(平均粒径約0.25pm)1
5gを加えて、Ag量3.5g/+m2.ゼラチン量2
.007+12になるように特開昭59−19941号
実施例(1)に記載の下引を施したポリエチレンテレフ
タレートフィルムベース上に塗布した。その際ゼラチン
量1.09/Il+”になるように延展剤として、ビス
−(2−エチルヘキシル)スルホコハク酸エステルを1
01119/m”、ハロゲン化銀1モル当たり表2に示
すごとく一般式(1)の化合物を加え、更に硬膜剤とし
てホルマリン25mg/m”を含む保護層を同時重層塗
布した。
00r+g加え、更にp−ドデシルベンゼンスルホン酸
ソーダ300mg5 スチレン−マレイン酸共重合体が
ポリマー2g、スチレン−ブチルアクリレート−アクリ
ル酸共重合体ラテックス(平均粒径約0.25pm)1
5gを加えて、Ag量3.5g/+m2.ゼラチン量2
.007+12になるように特開昭59−19941号
実施例(1)に記載の下引を施したポリエチレンテレフ
タレートフィルムベース上に塗布した。その際ゼラチン
量1.09/Il+”になるように延展剤として、ビス
−(2−エチルヘキシル)スルホコハク酸エステルを1
01119/m”、ハロゲン化銀1モル当たり表2に示
すごとく一般式(1)の化合物を加え、更に硬膜剤とし
てホルマリン25mg/m”を含む保護層を同時重層塗
布した。
μ晒−−←・自
化合物a
上述のようにして得られた試料を表2に示した。
得られた試料をそれぞれ二分し、−半はウェッジを用い
タングステン光源によって露光した。
タングステン光源によって露光した。
他の一半は、濃度が1.0になるように露光した。
上記テストサンプルを下記の処方による現像液及び定着
液とを用いて自動現像機にて処理した。
液とを用いて自動現像機にて処理した。
(工程)
現 像
定 着
水 洗
乾 燥
現像液処方
(組成A)
純水(イオン交換水)
エチレンジアミン四酢酸二す
50m12
(時間)
30秒
約20秒
約20秒
15秒
トリウム塩
(温度)
28°0
28°C
常温
50°C
ジエチレングリコール 50g亜硫酸カリ
ウム(55%w/v水溶液) 100m12炭酸カ
リウム 50gハイドロキノン
15g5−メチルベンゾトリアゾ
ール 200+agl−7エニルー5−メルカプ
トテトラゾール0mg 使用液のpHをl014にする量 4.5g 水酸化カリウム 臭化カリウム (組成り) 純水(イオン交換水) 3+mQジエ
チレングリコール 50gエチレンジアミ
ン四酢酸二ナトリウム塩5mg 酢酸(90%水溶液) 0.3+iα
5−ニトロインダゾール 110+mgl
−7エニルー3〜ピラゾリドン 700mg現像
液の使用時に水50011Q中に上記組成A1組成りの
順に溶かし、lQに仕上げて用いた。
ウム(55%w/v水溶液) 100m12炭酸カ
リウム 50gハイドロキノン
15g5−メチルベンゾトリアゾ
ール 200+agl−7エニルー5−メルカプ
トテトラゾール0mg 使用液のpHをl014にする量 4.5g 水酸化カリウム 臭化カリウム (組成り) 純水(イオン交換水) 3+mQジエ
チレングリコール 50gエチレンジアミ
ン四酢酸二ナトリウム塩5mg 酢酸(90%水溶液) 0.3+iα
5−ニトロインダゾール 110+mgl
−7エニルー3〜ピラゾリドン 700mg現像
液の使用時に水50011Q中に上記組成A1組成りの
順に溶かし、lQに仕上げて用いた。
定着液処方
(組成A)
チオ硫酸アンモニウム(72,5%W/V水溶液)40
t12 亜硫酸ナトリウム 17g酢酸ナトリ
ウム・3水塩 6.5g硼酸
6gクエン酸ナトリウム・2水塩
2g酢酸(90%w/w水溶液)
13.6mff(組成り) 純水(イオン交換水) 17mQ硫酸(
50%w/v水溶液) 4.7g硫酸ア
ルミニウム (Aff20.換算含量が8.1%w/wの水溶液)2
6.5g 定着液の使用時に水500m+2中に上記組成A1組警 戒、Bの順に溶かし、lQに仕上げて用いた。
t12 亜硫酸ナトリウム 17g酢酸ナトリ
ウム・3水塩 6.5g硼酸
6gクエン酸ナトリウム・2水塩
2g酢酸(90%w/w水溶液)
13.6mff(組成り) 純水(イオン交換水) 17mQ硫酸(
50%w/v水溶液) 4.7g硫酸ア
ルミニウム (Aff20.換算含量が8.1%w/wの水溶液)2
6.5g 定着液の使用時に水500m+2中に上記組成A1組警 戒、Bの順に溶かし、lQに仕上げて用いた。
この定着液のpHは約4.3であった。
現像処理した試料について写真特性曲線を書き、コント
ラストは光学濃度0.2及び1.5を与える露光量に対
するガンマ値で示した。
ラストは光学濃度0.2及び1.5を与える露光量に対
するガンマ値で示した。
更に現像の不均一による画像濃度むらの尺度として、濃
度1.0の試料におけるむらを官能評価した。そしてラ
ンク3は、業界で認められる下限をしめし、ランク5は
全く問題のないレベルを示す。
度1.0の試料におけるむらを官能評価した。そしてラ
ンク3は、業界で認められる下限をしめし、ランク5は
全く問題のないレベルを示す。
それらの結果を表2にまとめて示した。
表2
実施例2
硝酸銀水溶液と臭化カリウム、沃化カリウム水溶液を、
アンモニアの存在下でpAgを7.9に保ちつつダブル
ジェット法により混合し、平均粒子サイズ0.2μmの
単分散立方体の法具化量乳剤B(沃化銀2モル%、臭化
銀98モル%)を作成した。
アンモニアの存在下でpAgを7.9に保ちつつダブル
ジェット法により混合し、平均粒子サイズ0.2μmの
単分散立方体の法具化量乳剤B(沃化銀2モル%、臭化
銀98モル%)を作成した。
別に硝酸銀水溶液と臭化カリウム水溶液をアンモニアの
存在下でpAgを7.9に保ちつつダブルジェット法に
より混合し、平均粒子サイズ0.35μmの単分散立方
体の臭化銀乳剤Cを得た。
存在下でpAgを7.9に保ちつつダブルジェット法に
より混合し、平均粒子サイズ0.35μmの単分散立方
体の臭化銀乳剤Cを得た。
乳剤Bは更にチオ硫酸ナトリウムで硫黄増感を行った。
又、各乳剤B、C共に増感色素として5,5′−ジクロ
ロ−3,3’ジ(3−スルホプロピル)−9−エチル−
オキサカルボシアニンナトリウム塩を、乳剤A及びBに
対して銀1モル当たり、それぞれ6 X 10−’モル
、4.5X 10−’モル添加して分光増感した。
ロ−3,3’ジ(3−スルホプロピル)−9−エチル−
オキサカルボシアニンナトリウム塩を、乳剤A及びBに
対して銀1モル当たり、それぞれ6 X 10−’モル
、4.5X 10−’モル添加して分光増感した。
更に安定剤として4−ヒドロキシ−6−メチル=1,3
゜3a、7−チトラザインデンを添加した。
゜3a、7−チトラザインデンを添加した。
この乳剤B、Cをハロゲン化銀重量比で6対4のような
比率になるように混合した。
比率になるように混合した。
更に下記のヒドラジン誘導体を銀1モル当たり4 X
10−”モル添加した。
10−”モル添加した。
更に界面活性剤としてアルキルベンゼンスルホン酸塩、
硬膜剤としてビニルスルホン系硬膜剤全添加し、乳剤の
pHを5.8になるように調整した後、膜厚100μm
のポリエチレンテレフタレート支持体上に塗布銀量3.
0g102になるように塗布し、更にその上層の保護層
には、表3に示すように本発明の化合物をそれぞれ加え
、ゼラチン量1g/m”となるように塗布した。得られ
た試料をそれぞれ二分し、−半はウェッジを用いタング
ステン光源によって露光した。他の一半は、濃度が1.
0になるように露光した。露光後、下記組成の現像液で
38°C930秒間現像し、定着、水洗、乾燥した。
硬膜剤としてビニルスルホン系硬膜剤全添加し、乳剤の
pHを5.8になるように調整した後、膜厚100μm
のポリエチレンテレフタレート支持体上に塗布銀量3.
0g102になるように塗布し、更にその上層の保護層
には、表3に示すように本発明の化合物をそれぞれ加え
、ゼラチン量1g/m”となるように塗布した。得られ
た試料をそれぞれ二分し、−半はウェッジを用いタング
ステン光源によって露光した。他の一半は、濃度が1.
0になるように露光した。露光後、下記組成の現像液で
38°C930秒間現像し、定着、水洗、乾燥した。
現像液処方
ハイドロキノン 45.0gN−
メチル−p−アミノフェノール 1/2硫酸塩 0.8g水酸
化ナトリウム 18.0g水酸化カリ
ウム 55.0g5−スルホサリチ
ル酸 45.0g硼酸
25.0g亜硫酸カリウム
llO,0gエチレンジアミン四酢酸二ナトリ
ウム塩1.0g 臭化カリウム 5−メチルベンゾトリアゾール N−ブチルジェタノールアミン 水を加えてiff 表3 6.0g 0.6g 15.0g (pH= 11.6) 表3から明らかなように本発明に属する試料N。
メチル−p−アミノフェノール 1/2硫酸塩 0.8g水酸
化ナトリウム 18.0g水酸化カリ
ウム 55.0g5−スルホサリチ
ル酸 45.0g硼酸
25.0g亜硫酸カリウム
llO,0gエチレンジアミン四酢酸二ナトリ
ウム塩1.0g 臭化カリウム 5−メチルベンゾトリアゾール N−ブチルジェタノールアミン 水を加えてiff 表3 6.0g 0.6g 15.0g (pH= 11.6) 表3から明らかなように本発明に属する試料N。
2〜No、9は、コントラストが良好であり、現像むら
もランクが4〜5と実用に耐えるレベルであることがわ
かる。これに対して比較例に属する表3の試料No、l
は現像むらが実用に耐えないレベルである。
もランクが4〜5と実用に耐えるレベルであることがわ
かる。これに対して比較例に属する表3の試料No、l
は現像むらが実用に耐えないレベルである。
本発明により、高コントラストで、かつ現像時の不均一
現像による画像濃度のむらが低減されたハロゲン化銀写
真感光材料を提供することができt二。
現像による画像濃度のむらが低減されたハロゲン化銀写
真感光材料を提供することができt二。
手
続
補
正置
平成 1年 7月
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 支持体上に少なくとも一層のハロゲン化銀乳剤層を有す
るハロゲン化銀写真感光材料において、該乳剤層に隣接
する親水性コロイド層に下記一般式〔 I 〕で示される
化合物の少なくとも1種を含有することを特徴とするハ
ロゲン化銀写真感光材料。 一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中R_1、R_2及びR_3は炭素原子数1〜12
の置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、ア
ルコキシ基、アルコキシカルボニル基、置換もしくは無
置換のアミノ基、アリール基、水酸基、メルカプト基、
カルボキシル基もしくはその塩、又は水素原子を表す。 〕
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21590088A JPH0262532A (ja) | 1988-08-29 | 1988-08-29 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21590088A JPH0262532A (ja) | 1988-08-29 | 1988-08-29 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0262532A true JPH0262532A (ja) | 1990-03-02 |
Family
ID=16680113
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21590088A Pending JPH0262532A (ja) | 1988-08-29 | 1988-08-29 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0262532A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6319660B1 (en) | 1998-12-28 | 2001-11-20 | Eastman Kodak Company | Color photographic element containing speed improving compound |
-
1988
- 1988-08-29 JP JP21590088A patent/JPH0262532A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6319660B1 (en) | 1998-12-28 | 2001-11-20 | Eastman Kodak Company | Color photographic element containing speed improving compound |
US6455242B1 (en) | 1998-12-28 | 2002-09-24 | Eastman Kodak Company | Color photographic element containing speed improving compound |
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