JPH0311646A - フィルムキャリア - Google Patents
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- JPH0311646A JPH0311646A JP14578889A JP14578889A JPH0311646A JP H0311646 A JPH0311646 A JP H0311646A JP 14578889 A JP14578889 A JP 14578889A JP 14578889 A JP14578889 A JP 14578889A JP H0311646 A JPH0311646 A JP H0311646A
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 35
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 3
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- OFLYIWITHZJFLS-UHFFFAOYSA-N [Si].[Au] Chemical compound [Si].[Au] OFLYIWITHZJFLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000003139 buffering effect Effects 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 1
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 1
- 239000006023 eutectic alloy Substances 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/161—Disposition
- H01L2224/16151—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/16221—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/16225—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
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- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
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- H01L2224/161—Disposition
- H01L2224/16151—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/16221—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/16225—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
- H01L2224/16227—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation the bump connector connecting to a bond pad of the item
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はエリアTABと称されるTAB (TapeA
utomated Bonding)用フィルムキャリ
アに関する。
utomated Bonding)用フィルムキャリ
アに関する。
(従来の技術)
エリアT A B (AREA−TAB)は第4図およ
び第5図に示すように、ポリイミド等の耐熱性を有する
キャリアフィルム12の片面側に外部接続用の回路パタ
ーン14が形成され、キャリアフィルム12の他面側に
、スルーホールめっき層16を介して上記回路パターン
14に導通する内部回路パターン18が形成されて、該
内部回路パターン18上にバンプ26を介して半導体素
子20が接続されるようになっている。
び第5図に示すように、ポリイミド等の耐熱性を有する
キャリアフィルム12の片面側に外部接続用の回路パタ
ーン14が形成され、キャリアフィルム12の他面側に
、スルーホールめっき層16を介して上記回路パターン
14に導通する内部回路パターン18が形成されて、該
内部回路パターン18上にバンプ26を介して半導体素
子20が接続されるようになっている。
このようにエリアTABは、外部接続用の回路パターン
14に重ねて内部回路パターン18を形成しうるため、
複雑な回路パターンの設計が自由に行え、特に半導体素
子の接続用電極の位置に合わせて内部回路パターンを設
計することが可能となり、半導体素子の回路配置がTA
B側の接続ピン位置に制約されることなく行なえるので
、半導体素子の回路配置の自由度が増し、−層の高集積
化が可能となる利点を有している。
14に重ねて内部回路パターン18を形成しうるため、
複雑な回路パターンの設計が自由に行え、特に半導体素
子の接続用電極の位置に合わせて内部回路パターンを設
計することが可能となり、半導体素子の回路配置がTA
B側の接続ピン位置に制約されることなく行なえるので
、半導体素子の回路配置の自由度が増し、−層の高集積
化が可能となる利点を有している。
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら従来のエリアTABには次のような問題点
がある。
がある。
すなわち、キャリアフィルム12とこれに搭載される半
導体素子20とでは熱膨張係数に大きな差があるために
、高温で半導体素子20がキャリアフィルムI2の内部
回路パターン18上に接続されたのち、両者の熱収縮の
差異による応力、および半導体素子200発熱冷却の際
に、半導体素子20とキャリアフィルム12との熱膨張
係数の差によって発生する応力が半導体素子20と内部
回路パターン18の接合部であるバンプに集中し、接合
部の剥がれが住じ、接合不良が発生するなど、信頼上大
きな問題点を有していた。
導体素子20とでは熱膨張係数に大きな差があるために
、高温で半導体素子20がキャリアフィルムI2の内部
回路パターン18上に接続されたのち、両者の熱収縮の
差異による応力、および半導体素子200発熱冷却の際
に、半導体素子20とキャリアフィルム12との熱膨張
係数の差によって発生する応力が半導体素子20と内部
回路パターン18の接合部であるバンプに集中し、接合
部の剥がれが住じ、接合不良が発生するなど、信頼上大
きな問題点を有していた。
そこで本発明は上記問題点を解消すべくなされたもので
あり、その目的とするところは、半導体素子と内部回路
パターンとの接合が確実となり信頬性を高めるこのでき
るTAB用フィルムキャリアを提供するにある。
あり、その目的とするところは、半導体素子と内部回路
パターンとの接合が確実となり信頬性を高めるこのでき
るTAB用フィルムキャリアを提供するにある。
(課題を解決するための手段)
上記目的を達成するため、本発明に係るTAB用フィル
ムキャリアでは、キャリアフィルムの片面側に外部接続
用の回路パターンが形成され、キャリアフィルムの他面
側に前記回路パターンに導通して内部回路パターンが形
成され、該内部回路パターン上にバンプを介して半導体
素子が搭載されるTAB用フィルムキャリアにおいて、
前記半導体素子が接合される部位の内部回路パターン先
端部が前記キャリアフィルム面に対して離れた状態にあ
ることを特徴とする。
ムキャリアでは、キャリアフィルムの片面側に外部接続
用の回路パターンが形成され、キャリアフィルムの他面
側に前記回路パターンに導通して内部回路パターンが形
成され、該内部回路パターン上にバンプを介して半導体
素子が搭載されるTAB用フィルムキャリアにおいて、
前記半導体素子が接合される部位の内部回路パターン先
端部が前記キャリアフィルム面に対して離れた状態にあ
ることを特徴とする。
また特に、半導体素子が接合される内部回路パターン部
に対応するキャリアフィルムに透孔を設けておけば好適
である。
に対応するキャリアフィルムに透孔を設けておけば好適
である。
(作用)
本発明によれば、半導体素子と接合される部位の内部回
路パターン先端部がキャリアフィルム面に対して離れた
状態にあるので、半導体素子とキャリアフィルムの熱膨
張係数の差などによる応力が当該部位によって吸収され
、接合部が剥離するという不具合が解消される。
路パターン先端部がキャリアフィルム面に対して離れた
状態にあるので、半導体素子とキャリアフィルムの熱膨
張係数の差などによる応力が当該部位によって吸収され
、接合部が剥離するという不具合が解消される。
また、回路パターン先端部に対応するキャリアフィルム
に透孔を設けておけば、半導体素子と内部回路パターン
先端部の接合状態を外部から確認しうるので、−層信顛
性が高いTAB用フィルムキャリアが提供される。
に透孔を設けておけば、半導体素子と内部回路パターン
先端部の接合状態を外部から確認しうるので、−層信顛
性が高いTAB用フィルムキャリアが提供される。
(実施例)
以下では本発明の好適な実施例を添付図面に基づいて詳
細に説明する。
細に説明する。
第1図はTAB用フィルムキャリア10の部分平面図、
第2図は部分断面図である。
第2図は部分断面図である。
ポリイミド等の耐熱性を有するキャリアフィルム12の
片面側に外部接続用の回路パターン14が形成され、キ
ャリアフィルム12の他面側に、スルーホールめっき皮
膜16を介して上記回路パターン1′4に導通ずる内部
回路パターン18が形成されている点は従来と同じであ
る。
片面側に外部接続用の回路パターン14が形成され、キ
ャリアフィルム12の他面側に、スルーホールめっき皮
膜16を介して上記回路パターン1′4に導通ずる内部
回路パターン18が形成されている点は従来と同じであ
る。
本実施例で特徴とする点は、半導体素子20が接合され
る部位の内部回路パターン18の先端部に対応するキャ
リアフィルム12部分に透孔22が形成されている点に
ある。したがって内部回路パターン18の先端部は透孔
22内に位置し、キャリアフィルム12とは離れた状態
にある。
る部位の内部回路パターン18の先端部に対応するキャ
リアフィルム12部分に透孔22が形成されている点に
ある。したがって内部回路パターン18の先端部は透孔
22内に位置し、キャリアフィルム12とは離れた状態
にある。
内部回路パターン18先端部は、半導体素子20との接
続エリアを広く確保するためにランド24に形成すると
よい。
続エリアを広く確保するためにランド24に形成すると
よい。
また内部回路パターン18先端部は第2図に明確なよう
に、ランド24がキャリアフィルム12面からはさらに
外方に離反するように中途において曲折されている。
に、ランド24がキャリアフィルム12面からはさらに
外方に離反するように中途において曲折されている。
上記のTAB用フィルムキャリア10を形成するには、
まずキャリアフィルム12に上記の透孔22およびその
他の必要な透孔などを打ち抜き、しかる後、該キャリア
フィルム上に接着剤により銅箔を接着して所要のエツチ
ング加工を施して回路パターンI4、内部回路パターン
18を形成するか、あるいはキャリアフィルム12上に
蒸着もしくはスパッタリングにより銅層を形成し、この
銅層をエンチング加工して回路パターン14、内部回路
パターン1Bに形成してのち、上記透孔22等をキャリ
アフィルム12をエツチング加工することによって形成
するとよい。なおスルーホールめっき皮膜16は通常の
ごとく無電解めっき等によって形成する。
まずキャリアフィルム12に上記の透孔22およびその
他の必要な透孔などを打ち抜き、しかる後、該キャリア
フィルム上に接着剤により銅箔を接着して所要のエツチ
ング加工を施して回路パターンI4、内部回路パターン
18を形成するか、あるいはキャリアフィルム12上に
蒸着もしくはスパッタリングにより銅層を形成し、この
銅層をエンチング加工して回路パターン14、内部回路
パターン1Bに形成してのち、上記透孔22等をキャリ
アフィルム12をエツチング加工することによって形成
するとよい。なおスルーホールめっき皮膜16は通常の
ごとく無電解めっき等によって形成する。
上記のように構成されているので、半導体素子20を半
導体素子20に形成されているバンプ26によってラン
ド24上に接合して搭載することができる。
導体素子20に形成されているバンプ26によってラン
ド24上に接合して搭載することができる。
なおバンプ26は、第3図に示すように内部回路パター
ン1日先端部のランド24上にあらかじめ形成しておい
てもよい。
ン1日先端部のランド24上にあらかじめ形成しておい
てもよい。
上記のように、半導体素子20と接合される内部回路パ
ターン18の先端部はキャリアフィルム12とは離れた
状態にあるので、半導体素子20とキャリアフィルム1
2の熱膨張係数の差などによって発生する応力は内部回
路パターン18の先端部によって吸収され、したがって
半導体素子20と内部回路パターン18先端部の接合部
への応力集中を緩和でき、該接合部の剥離という不具合
を解消できる。
ターン18の先端部はキャリアフィルム12とは離れた
状態にあるので、半導体素子20とキャリアフィルム1
2の熱膨張係数の差などによって発生する応力は内部回
路パターン18の先端部によって吸収され、したがって
半導体素子20と内部回路パターン18先端部の接合部
への応力集中を緩和でき、該接合部の剥離という不具合
を解消できる。
上記のように内部回路パターン18の先端部を曲折させ
ることで応力緩衝部分が形成されるので、より応力集中
を回避できるが、曲折せずともキャリアフィルム12に
対して離れた状態になっていればよい。
ることで応力緩衝部分が形成されるので、より応力集中
を回避できるが、曲折せずともキャリアフィルム12に
対して離れた状態になっていればよい。
また上記のように内部回路パターン18の先端部に対応
するキャリアフィルム12部分に透孔22が形成されて
いるので、該透孔22から接合部の接続状態、例えば金
−シリコン共晶合金によるハンプ26のメニスカス形状
などを確認することができ、半導体素子20と内部回路
パターン18の接合の良否を判定でき、−層信転性を高
めることができる。
するキャリアフィルム12部分に透孔22が形成されて
いるので、該透孔22から接合部の接続状態、例えば金
−シリコン共晶合金によるハンプ26のメニスカス形状
などを確認することができ、半導体素子20と内部回路
パターン18の接合の良否を判定でき、−層信転性を高
めることができる。
なお上記においては透孔22を形成したが、要は本発明
では、内部回路パターン先端部がキャリアフィルム12
面に対して離れた状態にあればよいので、内部回路パタ
ーン18先端部が単にキャリアフィルム12面と接合し
ていない状態に形成してもよいものである。
では、内部回路パターン先端部がキャリアフィルム12
面に対して離れた状態にあればよいので、内部回路パタ
ーン18先端部が単にキャリアフィルム12面と接合し
ていない状態に形成してもよいものである。
このように内部回路パターン18先端部がキャリアフィ
ルム12面と接合していない状態に形成するには、キャ
リアフィルム12上に銅箔を接着する際、当該内部回路
パターン18先端部に対応する部位のキャリアフィルム
12上に接着剤を塗布しないようにすることで形成でき
る。
ルム12面と接合していない状態に形成するには、キャ
リアフィルム12上に銅箔を接着する際、当該内部回路
パターン18先端部に対応する部位のキャリアフィルム
12上に接着剤を塗布しないようにすることで形成でき
る。
以上、本発明につき好適な実施例を挙げて種々説明した
が、本発明はこの実施例に限定されるものではなく、発
明の精神を逸脱しない範囲内で多くの改変を施し得るの
はもちろんのことである。
が、本発明はこの実施例に限定されるものではなく、発
明の精神を逸脱しない範囲内で多くの改変を施し得るの
はもちろんのことである。
(発明の効果)
以上のように本発明によれば、半導体素子と接合される
部位の内部回路パターン先端部がキャリアフィルム面に
対して離れた状態にあるので、半導体素子とキャリアフ
ィルムの熱膨張係数の差などによる応力が当該部位によ
って吸収され、接合部が剥離するという不具合が解消さ
れる。
部位の内部回路パターン先端部がキャリアフィルム面に
対して離れた状態にあるので、半導体素子とキャリアフ
ィルムの熱膨張係数の差などによる応力が当該部位によ
って吸収され、接合部が剥離するという不具合が解消さ
れる。
また、回路パターン先端部に対応するキャリアフィルム
に透孔を設けておけば、半導体素子と内部回路パターン
の先端部との接合状態を外部から確認しうるので、−層
信頼性が高いTAB用フィルムキャリアが提供できる。
に透孔を設けておけば、半導体素子と内部回路パターン
の先端部との接合状態を外部から確認しうるので、−層
信頼性が高いTAB用フィルムキャリアが提供できる。
第1図は本発明に係るTAB用フィルムキャリアの一例
を示す部分平面図、第2図はその部分断面図、第3図は
バンプを内部回路パターン側に形成した実施例の部分断
面図を示す。 第4回は従来のTAB用フィルムキャリアの平面図、第
5図はその部分断面図を示す。 10・・・TAB用フィルムキャリア、12・・・キャ
リアフィルム、 14・・・回路パターン、 18・・・内部回路パターン、 20・・・半導体素子、 22・・・透孔、26・・・
バンプ。
を示す部分平面図、第2図はその部分断面図、第3図は
バンプを内部回路パターン側に形成した実施例の部分断
面図を示す。 第4回は従来のTAB用フィルムキャリアの平面図、第
5図はその部分断面図を示す。 10・・・TAB用フィルムキャリア、12・・・キャ
リアフィルム、 14・・・回路パターン、 18・・・内部回路パターン、 20・・・半導体素子、 22・・・透孔、26・・・
バンプ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、キャリアフィルムの片面側に外部接続用の回路パタ
ーンが形成され、キャリアフィルムの他面側に前記回路
パターンに導通して内部回路パターンが形成され、該内
部回路パターン上にバンプを介して半導体素子が搭載さ
れるTAB用フィルムキャリアにおいて、 前記半導体素子が接合される部位の内部回 路パターン先端部が前記キャリアフィルム面に対して離
れた状態にあることを特徴とするTAB用フィルムキャ
リア。 2、前記半導体素子が接合される部位の内部回路パター
ン先端部に対応するキャリアフィルムに透孔が形成され
ていることを特徴とする請求項1記載のTAB用フィル
ムキャリア。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1145788A JP2823242B2 (ja) | 1989-06-08 | 1989-06-08 | フィルムキャリア |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1145788A JP2823242B2 (ja) | 1989-06-08 | 1989-06-08 | フィルムキャリア |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0311646A true JPH0311646A (ja) | 1991-01-18 |
JP2823242B2 JP2823242B2 (ja) | 1998-11-11 |
Family
ID=15393176
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1145788A Expired - Lifetime JP2823242B2 (ja) | 1989-06-08 | 1989-06-08 | フィルムキャリア |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2823242B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2673043A1 (fr) * | 1991-02-20 | 1992-08-21 | Telecommunications Sa | Systeme de composants electriques, d'un reseau d'interconnexion et d'une embase. |
JPH0521538A (ja) * | 1991-07-17 | 1993-01-29 | Hitachi Cable Ltd | フイルムキヤリア装置 |
JPH06310573A (ja) * | 1993-04-23 | 1994-11-04 | Rohm Co Ltd | Tab用キャリヤテープおよびこれを用いたテープキャリヤパッケージ |
JPH07321157A (ja) * | 1994-05-25 | 1995-12-08 | Nec Corp | フレキシブルフィルム及びこれを有する半導体装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5626448A (en) * | 1979-08-13 | 1981-03-14 | Chiyou Lsi Gijutsu Kenkyu Kumiai | Semiconductor device |
JPS60154536A (ja) * | 1984-01-24 | 1985-08-14 | Toshiba Corp | 集積回路素子の配線方法 |
JPS62112144U (ja) * | 1985-12-28 | 1987-07-17 | ||
JPS63167733U (ja) * | 1987-04-20 | 1988-11-01 |
-
1989
- 1989-06-08 JP JP1145788A patent/JP2823242B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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FR2673043A1 (fr) * | 1991-02-20 | 1992-08-21 | Telecommunications Sa | Systeme de composants electriques, d'un reseau d'interconnexion et d'une embase. |
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JPH07321157A (ja) * | 1994-05-25 | 1995-12-08 | Nec Corp | フレキシブルフィルム及びこれを有する半導体装置 |
US5905303A (en) * | 1994-05-25 | 1999-05-18 | Nec Corporation | Method for manufacturing bump leaded film carrier type semiconductor device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2823242B2 (ja) | 1998-11-11 |
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