JPH03110293A - 都市部における斜坑トンネルの施工法 - Google Patents
都市部における斜坑トンネルの施工法Info
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- JPH03110293A JPH03110293A JP25026089A JP25026089A JPH03110293A JP H03110293 A JPH03110293 A JP H03110293A JP 25026089 A JP25026089 A JP 25026089A JP 25026089 A JP25026089 A JP 25026089A JP H03110293 A JPH03110293 A JP H03110293A
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- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 10
- 238000009412 basement excavation Methods 0.000 claims description 17
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- 239000011440 grout Substances 0.000 abstract description 6
- 239000004568 cement Substances 0.000 abstract description 2
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- 235000013336 milk Nutrition 0.000 abstract description 2
- 201000005569 Gout Diseases 0.000 abstract 1
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- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 5
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Landscapes
- Excavating Of Shafts Or Tunnels (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(発明が属する技術分野)
本発明は、都市部における斜坑トンネルの施工技術に関
する。
する。
(発明の課題とその特徴点)
最近、各方面において、都市部の大深度地下空間の利用
に関する技術開発が進められており、その−環として、
地表と大深度地下施設(大深度地下鉄道駅舎等)とを結
ぶアクセス用斜坑トンネルの施工技術の研究もなされて
いる。
に関する技術開発が進められており、その−環として、
地表と大深度地下施設(大深度地下鉄道駅舎等)とを結
ぶアクセス用斜坑トンネルの施工技術の研究もなされて
いる。
都市部における急勾配の斜坑トンネルの施工は、地盤条
件や環境条件から、実績はないものの、現在技術の中で
はシールド工法が最適であり、基本的には現在技術の延
長で可能とされているが、この場合の大きな問題点はシ
ールドの蛇行であり、特に、シールド機の重心は、その
構造上、機体の前方にあり、斜坑トンネルの施工時には
、更に前方に偏るので、シールドは前のめりになり易く
、−変曲がり出すと手に負えなくなることが考えられる
。
件や環境条件から、実績はないものの、現在技術の中で
はシールド工法が最適であり、基本的には現在技術の延
長で可能とされているが、この場合の大きな問題点はシ
ールドの蛇行であり、特に、シールド機の重心は、その
構造上、機体の前方にあり、斜坑トンネルの施工時には
、更に前方に偏るので、シールドは前のめりになり易く
、−変曲がり出すと手に負えなくなることが考えられる
。
そして、現在技術におけるシールドの蛇行の修正は、ジ
ヤツキによる片押し等によってなされているが、都市部
における地盤構成は、上部に沖積粘土層が厚く堆積して
いるケースが多く見られ、このような軟弱地盤ではシー
ルドの姿勢もしくは方向の修正に必要な大きな地盤反力
が得られないことが予想される。
ヤツキによる片押し等によってなされているが、都市部
における地盤構成は、上部に沖積粘土層が厚く堆積して
いるケースが多く見られ、このような軟弱地盤ではシー
ルドの姿勢もしくは方向の修正に必要な大きな地盤反力
が得られないことが予想される。
本発明は、都市部における斜坑トンネルをシールド工法
で施工する場合の前記問題点の解決を意図しているもの
であって、その構成上の特徴は特許請求の範囲に記載し
たとおりである。
で施工する場合の前記問題点の解決を意図しているもの
であって、その構成上の特徴は特許請求の範囲に記載し
たとおりである。
すなわち、本発明は、都市部において、シールド工法で
斜坑トンネルを施工する際に、予め、シールド発進地点
から斜めに、シールド掘進路の周辺地盤の固化処理を行
うことを特徴としているものであって、予め、シールド
掘進路に沿ってシールド掘進のガイドとなる固化処理層
を形成することにより、シールドが斜坑トンネル計画線
から外れることを極力防止するとともに、シールドの姿
勢もしくは方向の修正を行う場合に十分な地盤反力が得
られるようにしているものである。
斜坑トンネルを施工する際に、予め、シールド発進地点
から斜めに、シールド掘進路の周辺地盤の固化処理を行
うことを特徴としているものであって、予め、シールド
掘進路に沿ってシールド掘進のガイドとなる固化処理層
を形成することにより、シールドが斜坑トンネル計画線
から外れることを極力防止するとともに、シールドの姿
勢もしくは方向の修正を行う場合に十分な地盤反力が得
られるようにしているものである。
(実施態様の説明)
本発明では、前述のように、都市部において、シールド
工法で斜坑トンネルを施工する際に、予め、シールド発
進地点から斜めに、シールドの掘進路の周辺地盤の固化
処理を行うが、この固化処理は、例えば、次のようにし
てなされる。
工法で斜坑トンネルを施工する際に、予め、シールド発
進地点から斜めに、シールドの掘進路の周辺地盤の固化
処理を行うが、この固化処理は、例えば、次のようにし
てなされる。
シールド発進地点から斜めに、シールド掘進路(斜坑ト
ンネル計画線)の周辺地盤にグラウト管を貫入し、この
グラウト管を引き抜きつつ、その下端部の噴射孔からセ
メントミルクのような地盤固化材を噴出させて、グラウ
ト管を貫入した地点の地盤を所要゛深度に互って固化処
理し、これを繰り返してシールド掘進路の周辺に固化処
理層を形成する。
ンネル計画線)の周辺地盤にグラウト管を貫入し、この
グラウト管を引き抜きつつ、その下端部の噴射孔からセ
メントミルクのような地盤固化材を噴出させて、グラウ
ト管を貫入した地点の地盤を所要゛深度に互って固化処
理し、これを繰り返してシールド掘進路の周辺に固化処
理層を形成する。
第1図は、シールド掘進路1の全周の周辺地盤をシール
ド掘進路1の全長(地表のシールド発進地点2から大深
度地下施設3までの間)に亙って固化処理した場合、第
2図は、シールド掘進路1の下半部の周辺地盤をシール
ド掘進路1の全長に互って固化処理した場合、第3図は
、シールド掘進路1の下方部地盤をシールド掘進路1の
全長に互って固化処理するとともに、シールド掘進路1
の上方部地盤をシールド発進地点2から適宜長さだけ固
化処理した場合をそれぞれ示しており、このように、原
地盤の性状に応じて所要区域を固化処理すればよい。
ド掘進路1の全長(地表のシールド発進地点2から大深
度地下施設3までの間)に亙って固化処理した場合、第
2図は、シールド掘進路1の下半部の周辺地盤をシール
ド掘進路1の全長に互って固化処理した場合、第3図は
、シールド掘進路1の下方部地盤をシールド掘進路1の
全長に互って固化処理するとともに、シールド掘進路1
の上方部地盤をシールド発進地点2から適宜長さだけ固
化処理した場合をそれぞれ示しており、このように、原
地盤の性状に応じて所要区域を固化処理すればよい。
(発明の効果)
本発明は、以上のようなものであって、予め、シールド
掘進路の周辺地盤の固化処理を行うので、シールドの蛇
行特性が改善されて、施工精度が向上するのみならず、
シールド施工に伴う周辺地盤への影響が低減され、さら
に、セグメントに作用する荷重が軽減されて、セグメン
トの寸法が節約でき、また、シールド発進地点から斜め
に固化処理を行うので、シールド発進坑口の用地を利用
して所要区域を確実に固化処理することができる、等の
諸効果が期待できる。
掘進路の周辺地盤の固化処理を行うので、シールドの蛇
行特性が改善されて、施工精度が向上するのみならず、
シールド施工に伴う周辺地盤への影響が低減され、さら
に、セグメントに作用する荷重が軽減されて、セグメン
トの寸法が節約でき、また、シールド発進地点から斜め
に固化処理を行うので、シールド発進坑口の用地を利用
して所要区域を確実に固化処理することができる、等の
諸効果が期待できる。
第1図の(イ)はシールド掘進路の周辺地盤を全体的に
固化処理した場合の側断面図、同図の(υ)は(イ)の
A−A線断面図、第2図の(イ)はシールド掘進路の下
半部の周辺地盤を固化処理した場合の側断面図、同図の
(T?)は(イ)のB−B線断面図、第3図の(イ)は
、シールド掘進路の下方部地盤と上方部地盤(一部)を
固化処理した場合の側断面図、同図の(17)と(ハ)
は(イ)のC−C線断面図とD−D線断面図である。 1:シールド掘進路、2:シールド発進地点、3:大深
度地下施設。
固化処理した場合の側断面図、同図の(υ)は(イ)の
A−A線断面図、第2図の(イ)はシールド掘進路の下
半部の周辺地盤を固化処理した場合の側断面図、同図の
(T?)は(イ)のB−B線断面図、第3図の(イ)は
、シールド掘進路の下方部地盤と上方部地盤(一部)を
固化処理した場合の側断面図、同図の(17)と(ハ)
は(イ)のC−C線断面図とD−D線断面図である。 1:シールド掘進路、2:シールド発進地点、3:大深
度地下施設。
Claims (1)
- 都市部において、シールド工法で斜坑トンネルを施工す
る際に、予め、シールド発進地点から斜めに、シールド
掘進路の周辺地盤の固化処理を行うことを特徴とする都
市部における斜坑トンネルの施工法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25026089A JP2757214B2 (ja) | 1989-09-26 | 1989-09-26 | 都市部における斜坑トンネルの施工法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25026089A JP2757214B2 (ja) | 1989-09-26 | 1989-09-26 | 都市部における斜坑トンネルの施工法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03110293A true JPH03110293A (ja) | 1991-05-10 |
JP2757214B2 JP2757214B2 (ja) | 1998-05-25 |
Family
ID=17205242
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25026089A Expired - Lifetime JP2757214B2 (ja) | 1989-09-26 | 1989-09-26 | 都市部における斜坑トンネルの施工法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2757214B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006016962A (ja) * | 2005-06-16 | 2006-01-19 | Ohbayashi Corp | 地盤変状防止方法 |
JP2008243423A (ja) * | 2007-03-26 | 2008-10-09 | Mitsubishi Electric Corp | 非常用照明器具 |
JP2010086946A (ja) * | 2008-09-04 | 2010-04-15 | Panasonic Corp | 照明用光源およびそれを用いた反射鏡付き照明器具 |
JP2010126997A (ja) * | 2008-11-27 | 2010-06-10 | Ohbayashi Corp | シールド機の沈下防止方法及び沈下防止構造 |
JP2010190015A (ja) * | 2009-02-20 | 2010-09-02 | Ohbayashi Corp | トンネル構築工法及びその構築工法にて構築されるトンネル |
-
1989
- 1989-09-26 JP JP25026089A patent/JP2757214B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006016962A (ja) * | 2005-06-16 | 2006-01-19 | Ohbayashi Corp | 地盤変状防止方法 |
JP4525480B2 (ja) * | 2005-06-16 | 2010-08-18 | 株式会社大林組 | 地盤変状防止方法 |
JP2008243423A (ja) * | 2007-03-26 | 2008-10-09 | Mitsubishi Electric Corp | 非常用照明器具 |
JP2010086946A (ja) * | 2008-09-04 | 2010-04-15 | Panasonic Corp | 照明用光源およびそれを用いた反射鏡付き照明器具 |
JP2010126997A (ja) * | 2008-11-27 | 2010-06-10 | Ohbayashi Corp | シールド機の沈下防止方法及び沈下防止構造 |
JP2010190015A (ja) * | 2009-02-20 | 2010-09-02 | Ohbayashi Corp | トンネル構築工法及びその構築工法にて構築されるトンネル |
JP4656243B2 (ja) * | 2009-02-20 | 2011-03-23 | 株式会社大林組 | トンネル構築工法及びその構築工法にて構築されるトンネル |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2757214B2 (ja) | 1998-05-25 |
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