JPH11152986A - 低土被り部のシールド掘進防護方法 - Google Patents

低土被り部のシールド掘進防護方法

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JPH11152986A
JPH11152986A JP32136897A JP32136897A JPH11152986A JP H11152986 A JPH11152986 A JP H11152986A JP 32136897 A JP32136897 A JP 32136897A JP 32136897 A JP32136897 A JP 32136897A JP H11152986 A JPH11152986 A JP H11152986A
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JP
Japan
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ground
pipe
shafts
pipe roof
roof
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JP32136897A
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English (en)
Inventor
Hitoshi Miyajima
均 宮嶋
Tetsuji Oshima
哲司 大島
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Obayashi Corp
Original Assignee
Obayashi Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 交通渋滞を引き起こすことなしに、シールド
トンネル周辺地盤の緩みを防止し、また地下埋設物に損
傷を与えることのない低土被り部のシールド掘進防護方
法を提供する。 【解決手段】 地盤2の緩みを防止すべき低土被り区間
Aのシールド掘進を行うに際し、低土被り区間Aの両側
に立坑6,7を築造し、両立坑間にシールドトンネル3
直上に位置することとなるように推進工法によりパイプ
ルーフ9を設け、上側を防護した後で、下側をシールド
掘進する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、低土被り部のシー
ルド掘進防護方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】都市部の幹線道路下は各種の埋設物で飽
和状態に近いため、シールドトンネルの構築は地下深部
を対象に行なうことが望ましい。しかし、都市部の幹線
道路下の非常に浅い所にシールドトンネルを通すことが
必要となることがある。
【0003】例えば、既存の地下構造物と連結させたい
場合、シールドトンネルの到達付近では、地表との距離
が非常に浅いところを掘ることになり、土被りがシール
ドトンネルの直径以下の低土被り区間となり、しかも主
要幹線道路を横断することがある。
【0004】幹線道路及びその周辺は大変交通量が激し
く、また道路下には重要埋設物が輻輳しているため、シ
ールド通過に伴う影響が心配され、陥没事故や第三者災
害を未然に防止する手段を講ずる必要がある。
【0005】そこで、従来は、道路上からの地盤改良工
により地盤を補強していた。即ち、低土被り部における
シールド掘進に先立ち、道路上から薬液注入による地盤
改良を行い、これにより地盤の緩みを防止して地盤沈下
を抑制する方法を採っていた。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、道路上
での作業は様々な制約があるため実施が容易でない。例
えば、地下埋設物の損傷を避けるために、試験堀による
綿密な地下埋設物調査、埋設管路の移設などの必要があ
る。また、施工時には大規模な道路占用が必要であるた
め、車線の減少や車線の変更を行わざるを得ず、交通渋
滞を引き起こすこととなる。
【0007】そこで、本発明の目的は、上記課題を解決
し、交通渋滞を引き起こすことなしに、シールドトンネ
ル周辺地盤の緩みを防止し、また地下埋設物に損傷を与
えることのない低土被り部のシールド掘進防護方法を提
供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明による低土被り部のシールド掘進防護方法
は、地盤の緩みを防止すべき低土被り区間のシールド掘
進を行うに際し、低土被り区間の両側に立坑を築造し、
両立坑間にシールドトンネル直上に位置することとなる
ように推進工法によりパイプルーフを設置し、しかる後
にかかるパイプルーフによって覆われた下方地盤中にシ
ールド掘進機を通過させるものである。
【0009】この方法は、例えば幹線道路を避けた両側
位置に立坑を築造し、その立坑間つまり低土被り区間に
おいて、パイプルーフを予定するシールドトンネル直上
に位置するように形成するものである。これによって地
盤の緩みを防止すべき低土被り区間の地盤は、パイプル
ーフにより補強される。従って、これの下方のシールド
掘進時における路面、埋設物の沈下を抑制して、地下埋
設物に損傷を与えることを容易に回避することができ
る。また、パイプルーフの設置には従来のような地盤表
面からの施工を必要としない。このため、交通渋滞を引
き起こすことなしに、シールドトンネル周辺の地盤の緩
みを防止することができる。
【0010】本発明においては、上記パイプループ設置
工の採用と共に、必要に応じ、上記パイプルーフ周辺地
盤に立坑を介して薬液を注入し、地盤改良を行うことが
好ましい。このパイプループ工及び薬液注入工の両者に
より防護工を施すことによって、より効果的に周辺地盤
の緩みを防止し地盤沈下を抑制することができる。この
薬液注入工の施工も、立坑よりパイプルーフ内を通して
行うことができ、交通渋滞を引き起こさない。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、本発明を図示の実施形態に
基づいて説明する。図1において、1は幹線道路であ
り、その下の地盤2中をシールドトンネル3が横断する
関係になっている。4はシールド掘進機であり、5はこ
れから掘進される部分を示す。このシールドトンネル3
は、土被りがシールドトンネル3の直径(この例では
4.2m)以下の低土被り区間A,Bを通過し、そのう
ち特に区間Aの道路下には、図示してないが重要埋設物
が輻輳している。そこで、シールド掘進機4による低土
被り区間のトンネル工事に先立ち、パイプループ工及び
薬液注入工による防護工を施工して、周辺地盤の緩みを
防止し、地盤沈下を抑制する。
【0012】<パイプルーフ工>幹線道路1を挟んで両
側に第1立坑6、第2立坑7を築造する。この例の場
合、第1立坑6は幹線道路1の一側に築造された到達立
坑をそのまま使用し、また第2立坑7は幹線道路1の他
側つまり低土被り区間Aを挟み込む位置に築造されたパ
イプルーフの施工専用の中間立坑から成る。すなわち、
第2立坑は、シールドトンネル3の下方部分に至る深さ
まで掘削形成する必要はない。
【0013】この両立坑6、7間つまり地盤の緩みを防
止すべき低土被り区間Aにおいて、立坑6又は7内よ
り、複数のパイプルーフ用鋼管8を推進工法によって図
1の如く水平に施工し、パイプルーフ9を、図3の如く
シールドトンネル3の直上に位置することとなるように
形成する。パイプルーフ用鋼管8の平面配置形状を図2
に、これによって形成されるパイプルーフ9の外形を図
4に示す。このパイプルーフ9の存在によって、シール
ドトンネル3の上部地盤が補強され防護されて、シール
ド掘進時における路面、埋設物の沈下が抑制される。
【0014】ここで、パイプルーフ用鋼管8を設置する
推進工法としては、この実施形態では、例えばロックマ
ン工法を採用する。ロックマン工法は、岩盤用トリコン
ビットで管先端を掘削し、先導管で方向修正をしなが
ら、高精度に埋設管を圧入する推進機械(ロックマン)
を用いるものである。ロックマンは方向修正装置を備え
ており、高精度を要求される施工が可能となっている。
また、排泥管を介して掘削土砂を排出する泥水掘進方式
であるため施工時の騒音、振動が少ないとともに、地表
からの開削を必要とせず、地上構造物に影響を与えるこ
となく、鋼管を安全、正確に、そして効率良く、地中に
圧入することができる特長を有する。ここでは直径φ4
06.4mm、厚さt=9.5mmの鋼管8をロックマ
ンの後続推進管として用いて推進する。
【0015】ロックマン工法による鋼管推進工の作業手
順は次のようにして行う。 本体を発進立坑に据え付けて掘進機をセットする。 埋設管内に送排泥管、油圧ホース等を挿入し、管を接
続する。 方向修正を行いながら埋設管を順次推進する。 上記のの作業を繰り返し、掘進機を到達立坑に到
着させる。
【0016】なお、この実施形態では、第2立坑の後方
すなわち第1立坑とは反対側の部分にも、複数のパイプ
ルーフ用鋼管8’を、ロックマン工法よりも簡易な例え
ば公知のベビーモール工法を使用して、到達側の立坑を
設けることなく一方向に推進設置してパイプルーフ9’
を設置し、これによって第2立坑の到達側の地盤をも防
護するようになっている。
【0017】要するに、上記パイプルーフ工は、地盤1
の緩みを防止すべき低土被り区間Aのシールド掘進を行
うに際し、低土被り区間Aの両側に立坑6、7を築造
し、両立坑間に予定するシールドトンネル3の直上に位
置することとなるようにルーフ9を形成し、これの上側
を防護した状態で、ルーフ9によって覆われる下方地盤
中にシールド掘進機4を通過させるものであるから、地
盤の緩みや地下埋設物の損傷を有効に防止することがで
きる。また、幹線道路1を避けた立坑6、7より推進工
法によってルーフ9を形成するため、交通渋滞を引き起
こすこともない。
【0018】<薬液注入工>薬液注入工は、上記立坑
6、7間に設置したパイプルーフ9を構成するパイプル
ーフ用鋼管8を利用し、その各パイプルーフ用鋼管8の
周辺地盤に立坑から薬液を注入することにより地盤改良
を行うものである。
【0019】通常、立坑から薬液注入を行うには、水平
ボーリングを利用して行われる。しかし、土被りが浅い
ときは、水平ボーリングに用いるロッドが埋設物に当接
して損傷を負わせる可能性があり、また地盤に転石が混
在しているときは、転石に当たってロッドが曲がる虞が
あるため、水平ボーリングによる注入は難しい。そこ
で、鋼管を推進して形成した上記パイプルーフ9を利用
し、該パイプルーフ9を構成する各パイプルーフ用鋼管
8内に予め取り付けた鞘管11にダブルパッカー付の注
入管13を挿入し、この注入管13より薬液の注入を行
う。
【0020】すなわち、図5〜図7に示すように、上記
鋼管推進工において、各パイプルーフ用鋼管8の長手方
向には一直線上に並ぶように複数個の注入用開口10が
所定ピッチで設けられている。また、その注入用開口1
0に沿って、パイプルーフ用鋼管8の内壁の一側面に
は、溶接12によって、パイプルーフ用鋼管8の直径の
10分の1程度の小径の鞘管11が添設されて行く。鞘
管11には注入用開口10の領域内に位置するように注
入孔14が予め設けられている。
【0021】この場合、鞘管11は図7に示すように、
その一端を継手部分として所定長さだけ鋼管8から出
し、他端を引き込めておき、その一端部には継手雄部1
1aをまた他端部には継手雌部11bを形成しておく。
この継手雄部11aを次のパイプルーフ用鋼管8の鞘管
11の継手雌部11bと連接しながら、延設して行く。
【0022】また、鋼管8の注入用開口10の領域内に
おいて、上記鞘管11の注入孔14の両側にはリベット
孔16を設けておき、これを利用して、外側からラバー
15を取り付け、これにより注入孔14を開放可能に塞
いでおく。このラバー15は掘進時に注入孔14を覆う
役目をなすものであり、注入時には薬液が吐出できるよ
うにその注入圧力によって開口し得るようにする。
【0023】パイプルーフ用鋼管8の掘進完了後、3〜
4本ごとに鋼管8回りの防護注入を行う。すなわち、鋼
管8内に延設された鞘管11内に、ダブルパッカー付の
注入管13を挿入し、その密封箇所を注入を行う注入孔
14に対応させた後、注入管13に薬液たる超微粒子セ
メントを注入すれば、薬液はダブルパッカー付の注入管
13の注入流路内を圧送されて、ラバー15を押し出す
ようにして注入孔14より吐出し、地盤中に注入され
る。
【0024】このようにして、図1及び図3に示すよう
に、第1立坑6と第2立坑7の間の低土被り区間Aに設
置された、パイプルーフ用鋼管8によるパイプルーフ9
の周囲には改良された防護注入地盤19が造成されるこ
とになる。また、かかる薬液注入工の施工も、立坑6又
は7より各パイプルーフ用鋼管8内の鞘管11を通して
行うものであり、交通渋滞を引き起こさない。
【0025】また、このようにして鋼管8を介した薬液
の注入作業が終了したら、鋼管8の内部に例えば気泡ミ
ルクを注入して鋼管8の中詰めを行う。
【0026】なお、この実施形態によれば、パイプルー
フ用鋼管8を介したパイプルーフ9の周囲の防護注入地
盤19の他、図1に示すように、第1立坑防護注入領域
17、到達防護注入領域18、第2立坑防護注入領域2
0、第2立坑手前の防護注入領域21にもまた、例えば
立坑6又は7内からの水平ボーリング注入によって、シ
ールド掘進機4による掘進作業に先立って、防護注入地
盤が造成されることになる。
【0027】また、パイプルーフの施工専用の第2立杭
は、埋め戻すことなどによって必要に応じて撤去する。
【0028】そして、このようにして低土被り区間Aに
設置された、パイプルーフ9及びこれの周囲の防護注入
地盤19により覆われた下方地盤を、シールド掘進機4
が通過してゆくことになるが、この実施形態によれば、
上方の地盤がこれらのパイプルーフ9や防護注入地盤1
9によって防護されていることにより、かかる掘進作業
中に、シールドトンネルの周辺地盤の緩みの発生や、地
下埋設物への損傷を容易に防止することが可能になる。
【0029】なお、この発明は、上記実施形態の実施の
態様のものに限定されるものではなく、各請求項に記載
された構成の範囲内において、種々に変更して採用する
ことができる。例えば、パイプルーフ9のみによって底
土被り区間Aの地盤を十分に補強することができる場合
には、必ずしも、これの周囲を薬液注入によって改良す
る必要はない。
【0030】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、地
盤の緩みを防止すべき低土被り区間のシールド掘進を行
うに際し、低土被り区間の両側に立坑を築造し、両立坑
間にシールドトンネル直上に位置することとなるように
推進工法によりパイプルーフを形成し、上側を防護した
後で、下側をシールド掘進するものであるから、交通渋
滞を引き起こすことなしに、シールドトンネル周辺地盤
の緩みを防止し、また地下埋設物に損傷を与えることな
く低土被り部のシールド掘進を行ってゆくことができ
る。
【0031】すなわち、地盤の緩みを防止すべき低土被
り区間はパイプルーフによって補強され、そのパイプル
ーフは、幹線道路等の低土被り区間を避けた立坑より推
進工法によって形成されるため、従来のような地盤表面
からの施工を必要としない。このため、幹線道路を占用
する必要がなく、交通渋滞を引き起こすことなしに、シ
ールドトンネル周辺の地盤の緩みを防止し、シールド掘
進時における路面、埋設物の沈下を抑制して、地下埋設
物の損傷を防止することができる。
【0032】また、本発明においては、上記パイプルー
プ工の採用と共に、上記パイプルーフ周辺地盤に立坑を
介して薬液を注入し、地盤改良を行うことによって、よ
り効果的に周辺地盤の緩みを防止し地盤沈下を抑制する
ことができる。この薬液注入工の施工も、立坑よりパイ
プルーフ内を通して行うものであり、交通渋滞を引き起
こさない。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態に係る低土被り部のシール
ド掘進防護方法を説明する断面図である。
【図2】パイプルーフを構成するパイプルーフ用鋼管の
配置を示した平面図である。
【図3】図2のIII −III 断面図である。
【図4】低土被り部に設置したパイプルーフの外形を示
した平面図である。
【図5】パイプルーフ用鋼管の断面図である。
【図6】図5のパイプルーフ用鋼管の注入孔付近の拡大
図である。
【図7】パイプルーフ用鋼管の側面図である。
【図8】図7のパイプルーフ用鋼管の注入孔付近の拡大
図である。
【符号の説明】
1 幹線道路 2 地盤 3 シールドトンネル 4 シールド掘進機 5 掘進される部分 6 第1立坑 7 第2立坑 8 パイプルーフ用鋼管 9 パイプルーフ 10 注入用開口 11 鞘管(注入用鋼管) 12 溶接 13 ダブルパッカー付の注入管 14 注入孔 15 ラバー 19 防護注入地盤 A 低土被り区間

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 地盤の緩みを防止すべき低土被り区間の
    シールド掘進を行うに際し、低土被り区間の両側に立坑
    を築造し、両立坑間にシールドトンネル直上に位置する
    こととなるように推進工法によりパイプルーフを設置
    し、しかる後にかかるパイプルーフによって覆われた下
    方地盤中にシールド掘進機を通過させることを特徴とす
    る低土被り部のシールド掘進防護方法。
  2. 【請求項2】 上記パイプルーフ周辺地盤に立坑を介し
    て薬液を注入し地盤改良を行うことを特徴とする請求項
    1記載の低土被り部のシールド掘進防護方法。
JP32136897A 1997-11-21 1997-11-21 低土被り部のシールド掘進防護方法 Pending JPH11152986A (ja)

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