JP2001011849A - 地盤の液状化防止構造およびその工法並びに地盤改良工法 - Google Patents
地盤の液状化防止構造およびその工法並びに地盤改良工法Info
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- JP2001011849A JP2001011849A JP11184915A JP18491599A JP2001011849A JP 2001011849 A JP2001011849 A JP 2001011849A JP 11184915 A JP11184915 A JP 11184915A JP 18491599 A JP18491599 A JP 18491599A JP 2001011849 A JP2001011849 A JP 2001011849A
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- Investigation Of Foundation Soil And Reinforcement Of Foundation Soil By Compacting Or Drainage (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 液状化の可能性のある地層あるいは軟弱地盤
のみに、液状化防止対策または地盤改良対策を施すこと
を可能にするとともに、その施工時の土地占有面積を小
さくする。 【解決手段】 液状化の可能性のある地層2に達するよ
うに少なくとも1つの小規模の立坑4を掘削し、次に立
坑4の下部から地層2に円弧状の孔5を複数掘削し、次
に円弧状孔5にグラベルを充填し、最後に立坑4にグラ
ベルを充填する。
のみに、液状化防止対策または地盤改良対策を施すこと
を可能にするとともに、その施工時の土地占有面積を小
さくする。 【解決手段】 液状化の可能性のある地層2に達するよ
うに少なくとも1つの小規模の立坑4を掘削し、次に立
坑4の下部から地層2に円弧状の孔5を複数掘削し、次
に円弧状孔5にグラベルを充填し、最後に立坑4にグラ
ベルを充填する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、地震時における地
盤の液状化防止構造およびその工法並びに地盤改良工法
に関する。
盤の液状化防止構造およびその工法並びに地盤改良工法
に関する。
【0002】
【従来の技術】地震時における地盤の液状化防止あるい
は軟弱地盤の補強のための従来技術をあげると次のよう
なものがある。
は軟弱地盤の補強のための従来技術をあげると次のよう
なものがある。
【0003】(1)特開昭63−268809号(従来
技術1) この従来技術1は、図5に示すように、構造物1の周辺
から該構造物1の下部地盤2に達する円弧状のボーリン
グ孔11を円弧推進工法により掘削し、このボーリング
孔11に砕石を充填して遊離水を排出したり、または強
固材を注入することにより地盤2を補強するものであ
る。
技術1) この従来技術1は、図5に示すように、構造物1の周辺
から該構造物1の下部地盤2に達する円弧状のボーリン
グ孔11を円弧推進工法により掘削し、このボーリング
孔11に砕石を充填して遊離水を排出したり、または強
固材を注入することにより地盤2を補強するものであ
る。
【0004】(2)特開平8−277522号(従来技
術2) この従来技術2は、図6に示すように、構造物1の片側
周辺の地表面にスリット孔12を設け、このスリット孔
12に少なくとも下端部に直線区間を有する曲線ガイド
管13を挿入設置し、この曲線ガイド管内を通して掘削
管14を構造物下方の改良対象地層2内またはこの下方
に直線状に推進させ、この掘削管14により形成される
掘削孔15を介して改良対象地層2内の水を排水して地
下水位を16から16aに低下させたり、または地盤改
良材を掘削孔15に注入するものである。図中、17は
掘削管14の推進装置である。
術2) この従来技術2は、図6に示すように、構造物1の片側
周辺の地表面にスリット孔12を設け、このスリット孔
12に少なくとも下端部に直線区間を有する曲線ガイド
管13を挿入設置し、この曲線ガイド管内を通して掘削
管14を構造物下方の改良対象地層2内またはこの下方
に直線状に推進させ、この掘削管14により形成される
掘削孔15を介して改良対象地層2内の水を排水して地
下水位を16から16aに低下させたり、または地盤改
良材を掘削孔15に注入するものである。図中、17は
掘削管14の推進装置である。
【0005】(3)特開平10−183599号(従来
技術3) この従来技術3は、図7、図8に示すように、改良対象
地盤2の側方に作業用立坑18を設け、この作業用立坑
18から改良対象地盤2中をオーガーでほぼ水平方向に
掘削しながら中空円筒状のケーシングを圧入し、その後
オーガーおよびケーシングを引き抜きながらオーガーの
先端から固化材を高圧噴射して水平な円筒状固化物19
を改良対象地盤2中に形成するものである。
技術3) この従来技術3は、図7、図8に示すように、改良対象
地盤2の側方に作業用立坑18を設け、この作業用立坑
18から改良対象地盤2中をオーガーでほぼ水平方向に
掘削しながら中空円筒状のケーシングを圧入し、その後
オーガーおよびケーシングを引き抜きながらオーガーの
先端から固化材を高圧噴射して水平な円筒状固化物19
を改良対象地盤2中に形成するものである。
【0006】(4)斜めドレーンによる液状化防止工法
(従来技術4) この従来技術4は、図9、図10に示すように、構造物
1の周辺からドレーンパイプ20を構造物1下方の液状
化の可能性のある地層2に斜めに打設することにより、
周辺のみならず構造物直下地盤2の過剰間隙水圧の上昇
を抑制するものである。ドレーンパイプ20の上端は構
造物1の周辺に設けられた砕石マット21に接続されて
いる。
(従来技術4) この従来技術4は、図9、図10に示すように、構造物
1の周辺からドレーンパイプ20を構造物1下方の液状
化の可能性のある地層2に斜めに打設することにより、
周辺のみならず構造物直下地盤2の過剰間隙水圧の上昇
を抑制するものである。ドレーンパイプ20の上端は構
造物1の周辺に設けられた砕石マット21に接続されて
いる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術1〜4に
おける問題点は次のとおりである。
おける問題点は次のとおりである。
【0008】従来技術1では、円弧推進工法により多数
の円弧状のボーリング孔11を構造物下方の液状化の可
能性のある地層2を横断して掘削しなければならないの
で、円弧推進機の発進口を構造物1から遠く離れた位置
にてボーリング孔11の円弧線上の位置に設置する必要
があり、このため施工時に広大な土地面積を確保する必
要が生じる。この点が実際問題として難点となってい
る。
の円弧状のボーリング孔11を構造物下方の液状化の可
能性のある地層2を横断して掘削しなければならないの
で、円弧推進機の発進口を構造物1から遠く離れた位置
にてボーリング孔11の円弧線上の位置に設置する必要
があり、このため施工時に広大な土地面積を確保する必
要が生じる。この点が実際問題として難点となってい
る。
【0009】従来技術2でも多数のスリット孔12を周
辺部に設けなければならないので、上記と同様の問題点
がある。加えて、地下水低下により液状化を防止する工
法であるので、地下水を低下させると、周辺地盤の地盤
沈下、井戸水の枯渇等、周囲の環境に与える影響が大き
く現実的ではない。
辺部に設けなければならないので、上記と同様の問題点
がある。加えて、地下水低下により液状化を防止する工
法であるので、地下水を低下させると、周辺地盤の地盤
沈下、井戸水の枯渇等、周囲の環境に与える影響が大き
く現実的ではない。
【0010】従来技術3では、構造物1の側方に該構造
物の幅L1よりも大きな長さL2を有する作業用立坑1
8を設ける必要があるため、従来技術1と同様の問題点
があり、かつ、大規模な立坑掘削工事が必要になる。
物の幅L1よりも大きな長さL2を有する作業用立坑1
8を設ける必要があるため、従来技術1と同様の問題点
があり、かつ、大規模な立坑掘削工事が必要になる。
【0011】従来技術4では、地表面から液状化の可能
性のある地層2が存在する深度まで、ドレーンパイプ2
0を設置する工法であるので、該地層2が、ある一定の
深度のみに分布する場合、その地層以外にもドレーンパ
イプを設置することになるため、無駄が生じる。
性のある地層2が存在する深度まで、ドレーンパイプ2
0を設置する工法であるので、該地層2が、ある一定の
深度のみに分布する場合、その地層以外にもドレーンパ
イプを設置することになるため、無駄が生じる。
【0012】本発明は、上記のような問題点を解決する
ためになされたもので、液状化の可能性のある地層ある
いは軟弱地盤のみに、液状化防止対策または地盤改良対
策を施すことを可能にするとともに、その施工時の土地
占有面積を小さくすることを課題としている。
ためになされたもので、液状化の可能性のある地層ある
いは軟弱地盤のみに、液状化防止対策または地盤改良対
策を施すことを可能にするとともに、その施工時の土地
占有面積を小さくすることを課題としている。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明に係る地盤の液状
化防止構造は、構造物の近辺に設けられた少なくとも1
つの小規模のグラベル立坑(立坑内にグラベルを充填し
たものをいう。以下同じ。)と、前記グラベル立坑の下
部にそれぞれの基端が接続され、前記構造物の下方の液
状化の可能性のある地層に延びる複数の円弧状グラベル
ドレーン(円弧状の掘削孔にグラベルを充填したものを
いう。以下同じ。)とを有することを特徴とするもので
ある。
化防止構造は、構造物の近辺に設けられた少なくとも1
つの小規模のグラベル立坑(立坑内にグラベルを充填し
たものをいう。以下同じ。)と、前記グラベル立坑の下
部にそれぞれの基端が接続され、前記構造物の下方の液
状化の可能性のある地層に延びる複数の円弧状グラベル
ドレーン(円弧状の掘削孔にグラベルを充填したものを
いう。以下同じ。)とを有することを特徴とするもので
ある。
【0014】この液状化防止構造を施工するための液状
化防止工法は、液状化の可能性のある地層に達するよう
に少なくとも1つの小規模の立坑を掘削する工程と、前
記立坑の下部から前記地層に円弧状の孔を複数掘削する
工程と、前記孔にグラベルを充填する工程と、前記立坑
にグラベルを充填する工程とからなるものである。
化防止工法は、液状化の可能性のある地層に達するよう
に少なくとも1つの小規模の立坑を掘削する工程と、前
記立坑の下部から前記地層に円弧状の孔を複数掘削する
工程と、前記孔にグラベルを充填する工程と、前記立坑
にグラベルを充填する工程とからなるものである。
【0015】また、本発明の地盤改良工法は、軟弱地盤
に達するように少なくとも1つの小規模の立坑を掘削す
る工程と、前記立坑の下部から前記軟弱地盤に円弧状の
孔を複数掘削する工程と、前記孔に地盤改良材を充填す
る工程と、前記立坑を埋め戻す工程とからなるものであ
る。
に達するように少なくとも1つの小規模の立坑を掘削す
る工程と、前記立坑の下部から前記軟弱地盤に円弧状の
孔を複数掘削する工程と、前記孔に地盤改良材を充填す
る工程と、前記立坑を埋め戻す工程とからなるものであ
る。
【0016】本発明においては、液状化の可能性のある
地層のみに、円弧推進工法を用いて複数の円弧状グラベ
ルドレーンを設置しており、かつ、円弧状グラベルドレ
ーンの基端は1つのグラベル立坑に集約的に接続されて
いるため、地震時に発生する過剰間隙水を円弧状グラベ
ルドレーンからグラベル立坑を経由して速やかに地上に
排水する。このグラベル立坑は、幅の小さい小規模のも
のであるため、掘削工事が小規模で済み、かつ土地占有
面積を小さくすることができる。また、地下水位を低下
させることにより、液状化を防止する工法ではないの
で、地盤沈下や井戸水の枯渇等、周囲環境に与える影響
がきわめて小さい。なお、本発明において「グラベル」
とは、液状化防止対策用に普通に用いられる砕石のほ
か、砂利、礫、その他透水性の良好な物質をいう。
地層のみに、円弧推進工法を用いて複数の円弧状グラベ
ルドレーンを設置しており、かつ、円弧状グラベルドレ
ーンの基端は1つのグラベル立坑に集約的に接続されて
いるため、地震時に発生する過剰間隙水を円弧状グラベ
ルドレーンからグラベル立坑を経由して速やかに地上に
排水する。このグラベル立坑は、幅の小さい小規模のも
のであるため、掘削工事が小規模で済み、かつ土地占有
面積を小さくすることができる。また、地下水位を低下
させることにより、液状化を防止する工法ではないの
で、地盤沈下や井戸水の枯渇等、周囲環境に与える影響
がきわめて小さい。なお、本発明において「グラベル」
とは、液状化防止対策用に普通に用いられる砕石のほ
か、砂利、礫、その他透水性の良好な物質をいう。
【0017】本発明はまた地盤改良工法に利用すること
ができる。この場合には、軟弱地盤中に立坑の下部から
円弧状の孔を掘削してその孔に地盤改良材を充填するこ
とで、軟弱地盤を補強する。軟弱地盤のみを対象とする
ことは上記と同様であり、また、作業用の立坑も上記と
同様に小規模のものでよい。この立坑は最後に埋め戻さ
れる。
ができる。この場合には、軟弱地盤中に立坑の下部から
円弧状の孔を掘削してその孔に地盤改良材を充填するこ
とで、軟弱地盤を補強する。軟弱地盤のみを対象とする
ことは上記と同様であり、また、作業用の立坑も上記と
同様に小規模のものでよい。この立坑は最後に埋め戻さ
れる。
【0018】
【発明の実施の形態】図1〜図3は本発明の液状化防止
工法を示すもので、図1は断面図、図2は平面図、図3
は施工後の断面図である。各図において、1は構造物、
2は地盤3に存在する液状化の可能性のある地層であ
る。
工法を示すもので、図1は断面図、図2は平面図、図3
は施工後の断面図である。各図において、1は構造物、
2は地盤3に存在する液状化の可能性のある地層であ
る。
【0019】施工に際しては、まず、構造物1の近辺に
おいて少なくとも1つの立坑4を掘削する。この立坑4
は円弧推進機の発進口となるもので、底部が液状化の可
能性のある地層2に到達するまで掘削する。立坑4の幅
L3は、円弧推進機を搬入設置して作業が自由にできる
範囲の大きさであれば十分で、構造物1よりも小さくて
よく、しかも構造物1の大小にかかわらず一定の大きさ
にすることができる。このような立坑4が、この例で
は、構造物1の両側に2箇所設けられている。
おいて少なくとも1つの立坑4を掘削する。この立坑4
は円弧推進機の発進口となるもので、底部が液状化の可
能性のある地層2に到達するまで掘削する。立坑4の幅
L3は、円弧推進機を搬入設置して作業が自由にできる
範囲の大きさであれば十分で、構造物1よりも小さくて
よく、しかも構造物1の大小にかかわらず一定の大きさ
にすることができる。このような立坑4が、この例で
は、構造物1の両側に2箇所設けられている。
【0020】次に、一方の立坑4の下部より構造物1の
下方の液状化の可能性のある地層2に延びる円弧状の孔
5を他方の立坑4に到達する如く円弧推進工法により掘
削する。孔5は平面から見て円弧縞模様の如く形成され
る。立坑4が1つの場合はその立坑4から円弧状に延び
る孔5を掘削すればよい。
下方の液状化の可能性のある地層2に延びる円弧状の孔
5を他方の立坑4に到達する如く円弧推進工法により掘
削する。孔5は平面から見て円弧縞模様の如く形成され
る。立坑4が1つの場合はその立坑4から円弧状に延び
る孔5を掘削すればよい。
【0021】次に、それぞれの円弧状の孔5にグラベル
を充填する。最後に、円弧推進機等を搬出した後の空の
立坑4内にグラベルを投入し充填する。これによって、
構造物1の下方に存在する液状化の可能性のある地層2
に複数の円弧状グラベルドレーン6が設置され、各円弧
状グラベルドレーン6の端部はそれぞれの小規模のグラ
ベル立坑7に集約的に接続される。
を充填する。最後に、円弧推進機等を搬出した後の空の
立坑4内にグラベルを投入し充填する。これによって、
構造物1の下方に存在する液状化の可能性のある地層2
に複数の円弧状グラベルドレーン6が設置され、各円弧
状グラベルドレーン6の端部はそれぞれの小規模のグラ
ベル立坑7に集約的に接続される。
【0022】地震時に発生する過剰間隙水は各円弧状グ
ラベルドレーン6から両側のグラベル立坑7を経由して
速やかに地上に排水されるので、構造物1の下方に存在
する液状化の可能性のある地層2の液状化を防止するこ
とができる。また、グラベル立坑7はその立坑下部が円
弧推進機の発進口となるため、従来のように構造物1よ
り遠く離れた位置に設ける必要がなく、構造物1の側方
の近くに設置できるため土地占有面積を小さくすること
ができる。
ラベルドレーン6から両側のグラベル立坑7を経由して
速やかに地上に排水されるので、構造物1の下方に存在
する液状化の可能性のある地層2の液状化を防止するこ
とができる。また、グラベル立坑7はその立坑下部が円
弧推進機の発進口となるため、従来のように構造物1よ
り遠く離れた位置に設ける必要がなく、構造物1の側方
の近くに設置できるため土地占有面積を小さくすること
ができる。
【0023】なお、図1においては、円弧状グラベルド
レーン6をわかりやすくするためにループ状に示してあ
り、実際には液状化の可能性のある地層2の鉛直断面内
において水平な直線状となっている。ただし、該地層2
が図1のように水平な場合であって、仮にこの地層2が
斜めに存在する場合には円弧状グラベルドレーン6も当
該地層2の鉛直断面内において斜め方向に設置される。
レーン6をわかりやすくするためにループ状に示してあ
り、実際には液状化の可能性のある地層2の鉛直断面内
において水平な直線状となっている。ただし、該地層2
が図1のように水平な場合であって、仮にこの地層2が
斜めに存在する場合には円弧状グラベルドレーン6も当
該地層2の鉛直断面内において斜め方向に設置される。
【0024】図4は本発明の地盤改良工法を示す断面図
である。この例においては、立坑4の掘削、円弧状孔5
の掘削までは上記と同じである。そして次に、これらの
円弧状孔5に、砂、水ガラス等の薬液、あるいはセメン
ト系の固化材など公知の地盤改良材を高圧噴射するなど
して充填する。最後に空の立坑4内を埋め戻す。したが
って、構造物1の下方に存在する軟弱地盤2が円弧縞模
様を形成する如く設置された地盤改良芯材8によって円
形マット状に補強されるため、構造物1を安全に支持す
ることができる。
である。この例においては、立坑4の掘削、円弧状孔5
の掘削までは上記と同じである。そして次に、これらの
円弧状孔5に、砂、水ガラス等の薬液、あるいはセメン
ト系の固化材など公知の地盤改良材を高圧噴射するなど
して充填する。最後に空の立坑4内を埋め戻す。したが
って、構造物1の下方に存在する軟弱地盤2が円弧縞模
様を形成する如く設置された地盤改良芯材8によって円
形マット状に補強されるため、構造物1を安全に支持す
ることができる。
【0025】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
円弧推進工法を用いて、構造物の下方に存在する液状化
の可能性のある地層または軟弱地盤のみを対象にして液
状化防止対策または地盤補強対策を施すことができ、し
かも円弧推進機の発進口となる少なくとも1つの小規模
の立坑を構造物の側方近くに設置するだけでよいため、
土地占有面積を小さくすることができ、掘削工事が簡単
で小規模で済む。また、全体的に工期も短くなる。さら
に、地下水位を低下させるものではないので、地盤沈下
等周囲環境に与える影響が非常に少ないものとなる。
円弧推進工法を用いて、構造物の下方に存在する液状化
の可能性のある地層または軟弱地盤のみを対象にして液
状化防止対策または地盤補強対策を施すことができ、し
かも円弧推進機の発進口となる少なくとも1つの小規模
の立坑を構造物の側方近くに設置するだけでよいため、
土地占有面積を小さくすることができ、掘削工事が簡単
で小規模で済む。また、全体的に工期も短くなる。さら
に、地下水位を低下させるものではないので、地盤沈下
等周囲環境に与える影響が非常に少ないものとなる。
【図1】本発明の液状化防止工法を示す平面図である。
【図2】図1の断面図である。
【図3】施工後の断面図である。
【図4】本発明の地盤改良工法を示す断面図である。
【図5】従来技術1の地盤改良工法、液状化防止工法を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図6】従来技術2の地盤改良工法、液状化防止工法を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図7】従来技術3の地盤改良工法、液状化防止工法を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図8】図7の平面図である。
【図9】従来技術4の地盤改良工法、液状化防止工法を
示す平面図である。
示す平面図である。
【図10】図9の断面図である。
1 構造物 2 液状化の可能性のある地層または軟弱地盤 3 地盤 4 立坑 5 円弧状孔 6 円弧状グラベルドレーン 7 グラベル立坑 8 地盤改良芯材
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山本 行範 東京都千代田区丸の内一丁目1番2号 日 本鋼管株式会社内 (72)発明者 安部 大志 東京都千代田区丸の内一丁目1番2号 日 本鋼管株式会社内 (72)発明者 蝦名 滋 東京都千代田区丸の内一丁目1番2号 日 本鋼管株式会社内 (72)発明者 平野 雄也 東京都千代田区丸の内一丁目1番2号 日 本鋼管株式会社内 (72)発明者 鈴木 操 東京都千代田区丸の内一丁目1番2号 日 本鋼管株式会社内 Fターム(参考) 2D043 DA07 EA02
Claims (3)
- 【請求項1】 構造物の近辺に設けられた少なくとも1
つの小規模のグラベル立坑と、 前記グラベル立坑の下部にそれぞれの基端が接続され、
前記構造物の下方の液状化の可能性のある地層に延びる
複数の円弧状グラベルドレーンと、を有することを特徴
とする地盤の液状化防止構造。 - 【請求項2】 液状化の可能性のある地層に達するよう
に少なくとも1つの小規模の立坑を掘削する工程と、 前記立坑の下部から前記地層に円弧状の孔を複数掘削す
る工程と、 前記孔にグラベルを充填する工程と、 前記立坑にグラベルを充填する工程と、からなることを
特徴とする地盤の液状化防止工法。 - 【請求項3】 軟弱地盤に達するように少なくとも1つ
の小規模の立坑を掘削する工程と、 前記立坑の下部から前記軟弱地盤に円弧状の孔を複数掘
削する工程と、 前記孔に地盤改良材を充填する工程と、 前記立坑を埋め戻す工程と、からなることを特徴とする
地盤改良工法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11184915A JP2001011849A (ja) | 1999-06-30 | 1999-06-30 | 地盤の液状化防止構造およびその工法並びに地盤改良工法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11184915A JP2001011849A (ja) | 1999-06-30 | 1999-06-30 | 地盤の液状化防止構造およびその工法並びに地盤改良工法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001011849A true JP2001011849A (ja) | 2001-01-16 |
Family
ID=16161567
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11184915A Pending JP2001011849A (ja) | 1999-06-30 | 1999-06-30 | 地盤の液状化防止構造およびその工法並びに地盤改良工法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001011849A (ja) |
Cited By (5)
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---|---|---|---|---|
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JP2016211189A (ja) * | 2015-05-01 | 2016-12-15 | 清水建設株式会社 | 既存構造物の液状化対策方法 |
WO2017147083A1 (en) * | 2016-02-22 | 2017-08-31 | Board Of Regents Of Nevada System Of Higher Education, On Behalf Of University Of Nevada, Reno | Deep foundation porewater pressure dissipater |
US10407859B2 (en) | 2016-02-22 | 2019-09-10 | Board Of Regents Of The Nevada System Of Higher Education On Behalf Of The University Of Nevada, Reno | Method and loading module to mechanically increase pile/drilled shaft end bearing stiffness |
CN111851597A (zh) * | 2020-07-31 | 2020-10-30 | 安徽省交通建设股份有限公司 | 顶管近距离下穿管廊的穿越防护结构及施工方法 |
-
1999
- 1999-06-30 JP JP11184915A patent/JP2001011849A/ja active Pending
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