JP4525480B2 - 地盤変状防止方法 - Google Patents

地盤変状防止方法 Download PDF

Info

Publication number
JP4525480B2
JP4525480B2 JP2005176769A JP2005176769A JP4525480B2 JP 4525480 B2 JP4525480 B2 JP 4525480B2 JP 2005176769 A JP2005176769 A JP 2005176769A JP 2005176769 A JP2005176769 A JP 2005176769A JP 4525480 B2 JP4525480 B2 JP 4525480B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
section
ground
tunnel
thickness
shield machine
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2005176769A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2006016962A (ja
Inventor
慶造 三木
成卓 林
文行 横溝
公明 阪本
征治 羽立
公宏 吉田
貞文 井上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Obayashi Corp
Original Assignee
Obayashi Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Obayashi Corp filed Critical Obayashi Corp
Priority to JP2005176769A priority Critical patent/JP4525480B2/ja
Publication of JP2006016962A publication Critical patent/JP2006016962A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4525480B2 publication Critical patent/JP4525480B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Excavating Of Shafts Or Tunnels (AREA)
  • Consolidation Of Soil By Introduction Of Solidifying Substances Into Soil (AREA)

Description

本発明は、地盤変状防止方法に関し、特に、道路等をアンダーパスするトンネルをシールド工法により構築する際に、低土被り区間の地盤変状を防止するのに有効な地盤変状防止方法に関する。
シールド工法は、道路等を開削することなく、道路等をアンダーパスするトンネルを構築することができるので、工期を短縮することができるとともに、工事費を削減することができるものである。また、交通を遮断する必要がないので、周辺の住宅環境に影響を与えることもないものである(例えば、特許文献1参照。)。
特開平10−184268号公報
しかし、土被り区間の両端部においては、構造上、土被りの厚さが薄い部分(超低土被り区間)が生じてしまうため、その部分においては、切羽圧力、排出量、裏込注入等の掘進管理を適切に実施することが困難になり、地表面に沈下、隆起等の地盤変状が発生し、この地盤変状が適正に掘進管理を行うことができる部分や、施工箇所の側部にも伝播してしまう。
このため、上記のような地盤変状の発生する可能性の高い部分においては、地上占有を行って第三者への影響を防止する必要がある。また、占有部分に既設道路がある場合には迂回路を設ける必要があり、特に、交差点付近においては、右左折レーンを確保する必要があるが、迂回路のための用地を確保することが非常に困難となる。さらに、超低土被り区間で掘進が不安定になった場合、十分な土被りが確保できる区間に入っても、掘進の状態を安定させるまでに時間を要することがある。
本発明は、上記のような従来の問題に鑑みなされたものであって、道路等をアンダーパスするトンネルを構築する場合に、低土被り区間を掘進する際に、十分な土被り厚さを確保できない部分においても、地盤変状が発生するのを確実に防止することができ、これにより、交差点直下をアンダーパスする区間を施工する場合においても、既設道路の迂回路を設けたり、迂回路のための用地を確保したりする必要がない地盤変状防止方法を提供することを目的とするものである。
本発明は、上記のような課題を解決するために、以下のような手段を採用している。
すなわち、請求項1に係る発明は、シールド機を地上発進させて下り勾配を有する下りアプローチ区間を構築し、前記シールド機により、前記下りアプローチ区間の終点から道路等をアンダーパスするトンネル区間を構築し、前記シールド機により、前記トンネル区間の終点から上り勾配を備える上りアプローチ区間を構築して地上に到達させることによって、前記道路等をアンダーパスするトンネルを構築する際に、土被り区間の地盤変状を防止するための地盤変状防止方法であって、前記トンネル区間の両端部に位置する土被り厚さが所定の厚さよりも薄い部分に地盤改良を施したことを特徴とする。
本発明による地盤変状防止方法によれば、トンネル区間の土被り厚さが所定の厚さよりも薄い両端部を地盤改良により補強することができるので、トンネル区間の全区間において地盤変状が生じるのを防止でき、トンネル区間の全区間においてシールド機による安定した掘進を行うことができる。
請求項2に係る発明は、シールド機を用いて道路等をアンダーパスするトンネルを構築する際に、土被り区間の地盤変状を防止するために、トンネル区間の両端部に位置する土被り厚さが所定の厚さよりも薄い部分に地盤改良を施す地盤変状防止方法であって、前記シールド機として、断面が円形又は正方形である複数の主シールドを縦横に所定の配列で組み合わせて、各々の主シールドを独立して駆動可能としたものを用い、前記地盤改良区間は、前記複数の主シールドのうちの最上段に位置する主シールドの径(前記主シールドの断面が円形である場合は直径、正方形である場合は一辺の長さ)をDとしたときに、土被り厚さが0.5D〜0.7Dとなる位置を後端とし、その後端からトンネル区間の始端に向かう所定の区間であることを特徴とする。
本発明による地盤変状防止方法によれば、地盤変状が発生する可能性の高い土被り厚さが0.5D〜0.7D以下のトンネル区間の両端部が地盤改良によって補強されることになるので、トンネル区間の全区間において地盤変状が生じるのを防止でき、トンネル区間の全区間においてシールド機による安定した掘進を行うことができる。また、主シールドの径がシールド機全体の径よりも小さいため、地盤改良が必要な領域を小さくすることができる。
請求項3に係る発明は、請求項1又は2に記載の地盤変状防止方法において、前記トンネル区間の両端部に位置する土被り厚さが所定の厚さよりも薄い部分及び当該部分の幅方向両側部に地盤改良を施したことを特徴とする。
本発明による地盤変状防止方法によれば、トンネル区間の両端部に位置する土被り厚さが所定の厚さよりも薄い部分の幅方向両側部を地盤改良によって補強することができるので、その部分が崩壊するのを防止できることになる。
以上、説明したように、本発明の地盤変状防止方法によれば、道路等をアンダーパスするトンネルを構築する場合、トンネル区間の土被り厚さが所定の厚さよりも薄い両端部を地盤改良により補強することができることになる。従って、トンネル区間の全区間において、シールド機による地盤変状が生じるのを防止できるので、トンネル区間の全区間において、シールド機による安定した掘進を行うことができ、工期の短縮化、工事費の削減を図ることができる。
また、本発明による地盤変状防止方法によれば、地盤変状が発生する可能性の高い土被り厚さが0.5D〜0.7D以下のトンネル区間の両端部を地盤改良によって補強することができることになる。従って、トンネル区間の全区間において、シールド機による地盤変状が生じるのを防止できるので、トンネル区間の全区間において、シールド機による安定した掘進を行うことができる。本発明において、シールド機として、複数の主シールドを縦横に所定の配列で組み合わせて、各々の主シールドを独立して駆動可能としたものを用いた場合であって、複数の主シールドのうちの最上段に位置する主シールドの径をトンネルの径Dとすることにより、主シールドの径をシールド機全体の径よりも小さくなるため、地盤改良が必要な領域を小さくすることができる。
さらに、本発明による地盤変状防止方法によれば、前記トンネル区間の両端部に位置する土被り厚さが所定の厚さよりも薄い部分の幅方向両側部を地盤改良によって補強することができることになる。従って、当該土被り厚さが所定の厚さよりも薄い部分の幅方向両側部が崩壊するのを防止できることになる。
以下、図面に示す本発明の実施の形態について説明する。
図1〜図7には、本発明による地盤変状防止方法の一実施の形態が示されていて、図1は地盤変状防止箇所の全体を示す断面図、図2はシールド機の例を示す斜視図、図3は図1の拡大された部分断面図、図4は図3の縦断面図、図5は図3のA−A線断面図、図6は図3のB−B線断面図、図7は図3のC−C線断面図、図8はトンネル区間の両端部に位置する土被り厚さが所定の厚さよりも薄い部分の幅方向両側部における地盤変状防止箇所を示す断面図である。
すなわち、この実施の形態に示す地盤変状防止方法は、図1に示すように、道路1をアンダーパスするトンネル3をシールド工法により構築する場合に適用したものであって、特に、交差点2の直下をアンダーパスするトンネル区間4を掘進する際に有効なものである。なお、図中の7,7は、トンネル区間4の両側に形成されるアプローチ区間である。
本実施の形態では、シールド機として、例えば、図2に示されるものが採用される。同図のシールド機100は、矩形筒状の前胴体101と、前胴体101内に縦横に所定の組合せで配列されるとともに、各々が独立して前胴体101から出没可能、かつ各々が独立して駆動可能な複数の矩形状の主シールド102と、幅方向の両端の主シールド102と前胴体101との間に設けられるとともに、各々が独立して前胴体101から出没可能、かつ各々が独立して駆動可能な複数の主シールド102よりも小幅にして縦長の矩形状の側部シールド103とを備えている。
道路1の交差点2の直下をアンダーパスするトンネル区間4は、図3〜図5に示すように、シールド機による土被りの地盤変状を防止するため、土被りの厚さが0.5D〜0.7D(D;トンネルの径、シールド機が断面円形であるときは直径、断面矩形であるときは一辺の長さ、以下、同じ。)以上に設定される。本実施の形態におけるトンネルの径Dは、複数の主シールド101のうちの最上段に位置する主シールドの径である。
ところで、トンネル区間4の両端部5、5においては、構造上、例えば0.5Dよりも薄い部分が生じるため、その部分に地盤変状の問題が生じることは避けられない。また、図3及び図4に示すように、トンネル区間4の両端部5、5に位置する土被り厚さが所定の厚さよりも薄い部分の幅方向両側部8、8では、トンネル区間4の地盤変状に起因する崩壊が生じることがある。
このため、この実施の形態においては、トンネル区間4の軸方向両端部5、5に位置する土被り厚さが所定の厚さよりも薄い部分に対して地盤改良を施し、この地盤改良部6によって当該部分を補強している。地盤改良方法としては、周知の薬液注入工法、高圧噴射攪拌工法(例えば、CJG工法(商品名):http://www.raito.co.jp/construction/ground/cjg.html)等の地盤改良方法を用いることができる。薬液としては、例えば、水ガラスと硬化剤とを組み合わせたものを使用することができ、薬液を地盤改良部分に注入して硬化させることにより、その部分を補強することができる。
地盤改良部6は、図1、図3〜5に示すように、後端を土被りの厚さが0.5D〜0.7Dとなる位置とし、先端をトンネル区間4の始端に向かう所定の区間とする範囲内とする。この範囲は、土質、トンネル径等に基づいて、掘削時にトンネル区間4に地盤変状が生じないものとなる値を計算することにより求めることができる。そして、その範囲内の全体に薬液を注入して硬化させることにより、その部分に直方体状の補強された地盤を形成することができる。
地盤改良部6のさらにトンネル軸方向両側には、地盤改良部6と連続して、トンネル幅方向両側部8,8に地盤改良を施すことが好ましい。さらに、トンネル幅方向両側部に位置する地盤改良部9、9は、図1、図2〜図8に示すように、セグメントSの上部に位置する地盤改良部9aと連続しトンネル軸方向と直交する鉛直断面がL字形状となっていることが好ましい。
ここで、トンネル幅方向両側部8,8の地盤改良部9、9の始端は、トンネル軸方向と直交する鉛直断面において、トンネル幅方向における工事占有部分を画定する境界線と、掘削部分の開口上縁(セグメントSの外側上角部)とのなす角度が所定角度(例えば45度)を超えない位置とするものとする。この角度が例えば45度を超えると、トンネル掘削の際、地盤が変状する領域が工事占有部分を超えるおそれがあるから、上記角度を超えない位置を地盤改良部9,9の始端とすることにより、トンネル掘削に際して地盤変状部分が工事占有部分を超えることがない。
そして、上記のように、トンネル区間4の軸方向両端部5、5に位置する土被り厚さが所定の厚さよりも薄い部分に対して地盤改良を施した地盤改良部6と、トンネル幅方向両側部8,8に位置する地盤改良部9、9とを備えることにより、シールド機によりアプローチ区間7及びトンネル区間4の掘進を行う際、トンネル区間4に土被りの地盤変状に伴う地盤の変状の問題が生じることがなく、トンネル3となる部分の全区間に対して、シールド機により安定した掘進を効率良く行うことができることになる。
従って、交差点2の直下をアンダーパスする区間を施工する場合においても、既設道路の迂回路を設けたり、迂回路のための用地を確保したりする必要がなくなり、工期の短縮化、工事費の削減を図ることができる。
本発明による地盤変状防止方法の一実施の形態を示したものであって、地盤変状防止箇所の全体を示す断面図である。 シールド機の例を示す斜視図 図1の拡大された部分断面図である。 図3の縦断面図である。 図3のA−A線断面図である。 図3のB−B線断面図である。 図3のC−C線断面図である。 トンネル幅方向の地盤改良位置を示す断面図である。
符号の説明
1 道路
2 交差点
3 トンネル
4 トンネル区間
5 端部
6 地盤改良部
8 側部
9 地盤改良部

Claims (3)

  1. シールド機を地上発進させて下り勾配を有する下りアプローチ区間を構築し、前記シールド機により、前記下りアプローチ区間の終点から道路等をアンダーパスするトンネル区間を構築し、前記シールド機により、前記トンネル区間の終点から上り勾配を備える上りアプローチ区間を構築して地上に到達させることによって、前記道路等をアンダーパスするトンネルを構築する際に、土被り区間の地盤変状を防止するための地盤変状防止方法であって、
    前記トンネル区間の両端部に位置する土被り厚さが所定の厚さよりも薄い部分に地盤改良を施したことを特徴とする地盤変状防止方法。
  2. シールド機を用いて道路等をアンダーパスするトンネルを構築する際に、土被り区間の地盤変状を防止するために、トンネル区間の両端部に位置する土被り厚さが所定の厚さよりも薄い部分に地盤改良を施す地盤変状防止方法であって、
    前記シールド機として、断面が円形又は正方形である複数の主シールドを縦横に所定の配列で組み合わせて、各々の主シールドを独立して駆動可能としたものを用い、
    前記地盤改良区間は、前記複数の主シールドのうちの最上段に位置する主シールドの径(前記主シールドの断面が円形である場合は直径、正方形である場合は一辺の長さ)をDとしたときに、土被り厚さが0.5D〜0.7Dとなる位置を後端とし、その後端からトンネル区間の始端に向かう所定の区間であることを特徴とする地盤変状防止方法。
  3. 請求項1又は2に記載の地盤変状防止方法において、
    前記トンネル区間の両端部に位置する土被り厚さが所定の厚さよりも薄い部分及び当該部分の幅方向両側部に地盤改良を施したことを特徴とする地盤変状防止方法。
JP2005176769A 2005-06-16 2005-06-16 地盤変状防止方法 Expired - Fee Related JP4525480B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005176769A JP4525480B2 (ja) 2005-06-16 2005-06-16 地盤変状防止方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005176769A JP4525480B2 (ja) 2005-06-16 2005-06-16 地盤変状防止方法

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004197172 Division 2004-07-02 2004-07-02

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006016962A JP2006016962A (ja) 2006-01-19
JP4525480B2 true JP4525480B2 (ja) 2010-08-18

Family

ID=35791489

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005176769A Expired - Fee Related JP4525480B2 (ja) 2005-06-16 2005-06-16 地盤変状防止方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4525480B2 (ja)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4973051B2 (ja) * 2006-07-27 2012-07-11 株式会社大林組 土圧式シールド機による小土被り区間の掘進方法及びチャンバ内の圧力管理方法
JP2009243222A (ja) * 2008-03-31 2009-10-22 Ohbayashi Corp 地盤変状防止方法
JP5526532B2 (ja) * 2008-11-27 2014-06-18 株式会社大林組 シールド機の沈下防止方法及び沈下防止構造
JP5282542B2 (ja) * 2008-11-27 2013-09-04 株式会社大林組 地盤変状防止方法及び地盤変状防止構造
JP6043090B2 (ja) * 2012-05-18 2016-12-14 鹿島建設株式会社 地下構造物の構築方法

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62101798A (ja) * 1985-10-29 1987-05-12 株式会社竹中工務店 海底トンネルの施工法
JPH02269295A (ja) * 1989-02-20 1990-11-02 Morimotogumi:Kk 斜坑トンネルの施工法
JPH03110293A (ja) * 1989-09-26 1991-05-10 Fudo Constr Co Ltd 都市部における斜坑トンネルの施工法
JPH05287983A (ja) * 1992-04-09 1993-11-02 Nippon Steel Corp 長尺・大口径地下空間の構築方法
JP2000170481A (ja) * 1998-12-09 2000-06-20 Ohbayashi Corp 廃棄物処分場の構築工法
JP2001193386A (ja) * 2000-01-11 2001-07-17 Tobishima Corp 浅い土被り用シールド掘進装置及びシールド掘進方法
JP2001295579A (ja) * 2000-04-18 2001-10-26 Taisei Corp 土被りの浅いトンネルの構築方法
JP2002129588A (ja) * 2000-10-26 2002-05-09 Penta Ocean Constr Co Ltd 海底トンネル接続工法
JP2003148086A (ja) * 2001-11-13 2003-05-21 Taisei Corp トンネルの分合流部の構築方法
JP2004108094A (ja) * 2002-09-20 2004-04-08 Daiho Constr Co Ltd シールドトンネルおよびシールド掘削機
JP2005105695A (ja) * 2003-09-30 2005-04-21 Taisei Corp トンネル構築方法
JP2005113594A (ja) * 2003-10-10 2005-04-28 Ohbayashi Corp シールド掘進機およびトンネル掘削方法

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62101798A (ja) * 1985-10-29 1987-05-12 株式会社竹中工務店 海底トンネルの施工法
JPH02269295A (ja) * 1989-02-20 1990-11-02 Morimotogumi:Kk 斜坑トンネルの施工法
JPH03110293A (ja) * 1989-09-26 1991-05-10 Fudo Constr Co Ltd 都市部における斜坑トンネルの施工法
JPH05287983A (ja) * 1992-04-09 1993-11-02 Nippon Steel Corp 長尺・大口径地下空間の構築方法
JP2000170481A (ja) * 1998-12-09 2000-06-20 Ohbayashi Corp 廃棄物処分場の構築工法
JP2001193386A (ja) * 2000-01-11 2001-07-17 Tobishima Corp 浅い土被り用シールド掘進装置及びシールド掘進方法
JP2001295579A (ja) * 2000-04-18 2001-10-26 Taisei Corp 土被りの浅いトンネルの構築方法
JP2002129588A (ja) * 2000-10-26 2002-05-09 Penta Ocean Constr Co Ltd 海底トンネル接続工法
JP2003148086A (ja) * 2001-11-13 2003-05-21 Taisei Corp トンネルの分合流部の構築方法
JP2004108094A (ja) * 2002-09-20 2004-04-08 Daiho Constr Co Ltd シールドトンネルおよびシールド掘削機
JP2005105695A (ja) * 2003-09-30 2005-04-21 Taisei Corp トンネル構築方法
JP2005113594A (ja) * 2003-10-10 2005-04-28 Ohbayashi Corp シールド掘進機およびトンネル掘削方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2006016962A (ja) 2006-01-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4525480B2 (ja) 地盤変状防止方法
JP4640674B2 (ja) トンネル掘削方法
JP5860576B2 (ja) プレキャスト柱梁の接合構造
KR101877369B1 (ko) 터널의 보강 시공 방법 및 그 시공 구조
JP5032012B2 (ja) 矢板併用型直接基礎及びその施工方法
KR102258280B1 (ko) 지하 연속벽 판넬간 연결부위 결합보강용 구조물 및 그 시공방법
JP2000303466A (ja) 土留め工法
JP5117683B2 (ja) 堤体の補強構造
JP4824653B2 (ja) トンネル合流部およびトンネル合流部の構築方法
JP6470648B2 (ja) 複合地中連続壁の構造および複合地中連続壁の構築方法
KR20090078684A (ko) H빔으로 이루어진 엄지 말뚝을 구비한 지지말뚝, 이를이용한 합성 벽체 및 그 시공방법
JP4179944B2 (ja) 杭の損傷防止方法
JP5267879B2 (ja) ボックスカルバートの耐震補強構造
JP2007056544A (ja) 推進函体、トンネルの構築方法および大断面トンネルの構築方法
JPH1181317A (ja) 地盤改良工法による自立山留め壁
JP7110015B2 (ja) 幅変更用路面覆工ユニット
KR102647387B1 (ko) 흙막이 벽 시공을 위한 말뚝용 강재 조립체
JP6043090B2 (ja) 地下構造物の構築方法
JP3181384U (ja) 土留め壁用矢板補助体
JP6340248B2 (ja) 山留め壁、山留め壁の構築方法
JP7137358B2 (ja) 土留め壁の支持構造
JPH10195866A (ja) 地中連続壁
JP2881665B2 (ja) 高圧噴射系地盤改良による地中連続壁の構築方法
JP3082059B2 (ja) 柱、梁内蔵型の鉄骨鉄筋コンクリート造連続地下壁
JP2007009562A (ja) 拡幅部を有するシールドトンネル内道路の施工法およびこれに用いるセグメント

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070620

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20091006

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20091201

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100202

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100329

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100511

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100524

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130611

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130611

Year of fee payment: 3

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130611

Year of fee payment: 3

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130611

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140611

Year of fee payment: 4

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees