JPH0310295B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は感光性樹脂組成物に関し、更に詳しく
は印刷配線板製造、金属精密加工等に使用し得る
保護膜形成用の感光性樹脂組成物に関する。

（従来の技術） 従来、印刷配線板業界において、ソルダマス
ク、化学めつき用レジスト等に使用可能な優れた
特性を有する感光性樹脂組成物が知られている。
ソルダマスクの主な目的は、はんだ付け時のはん
だ付け領域を限定し、はんだブリツジ等を防ぐこ
と、裸の銅導体の腐食を防止すること、および長
期にわたつて導体間の電気絶縁性を保持すること
である。通常ソルダマスクとしては、エポキシ樹
脂、アミノブラスト樹脂等の熱硬化性樹脂を主成
分とするもの（印刷マスク）が用いられる。

しかし、近年、印刷配線板の配線密度が高ま
り、また導体間の電気絶縁性の要求も厳しくな
り、それに用いるソルダマスクも厚膜で寸法精度
の優れたものが要求されるようになり、スクリー
ン印刷方式のものでは対処できなくなつている。

そこで写真法（像状露光に続く現像により画像
を形成）で厚膜（導体上25μm）で、かつ寸法精
度の優れた高信頼性のソルダマスクを形成する感
光性樹脂組成物の出現が望まれている。

従来、ソルダマスク形成用感光性樹脂組成物と
しては、(1)アクリル系ポリマおよび光重合性モノ
マを主成分とする感光性樹脂組成物（特開昭53−
56018号公報、特開昭54−1018号公報等）、(2)光反
応性が付与されたエポキシ樹脂およびエポキシ樹
脂硬化剤を主成分とする感光性樹脂組成物（特開
昭52−37996号公報、特開昭58−62636号公報等）
等が知られている。

しかしながら前記(1)の感光性樹脂組成物は、通
常のエツチングおよびめつき用フイルム状感光材
料（例えばデユポン社製、商品名リストン、日立
化成工業（株）製、商品名フオテツク等）に使用
されている難燃性の１，１，１−トリクロルエタ
ンで現像可能であり、高解像度のソルダマスクを
形成することができるが、このような感光性樹脂
組成物はフイルム性付与のためアクリル系ポリマ
を多量に使用しているため、硬化被膜の耐熱性が
充分でないという欠点がある。

一方、前記(2)の感光性樹脂組成物は、エポキシ
樹脂をベースとしており、硬化被膜の耐熱性には
優れているが、１，１，１−トリクロルエタン等
の難燃性有機溶剤に不溶性であるため、現像液と
して、シクロヘキサノン等の可燃性有機溶剤を使
用する必要があり、安全上好ましくないという欠
点がある。

（発明が解決しようとする問題点） 本発明の目的は、前記従来技術の欠点を除去
し、１，１，１−トリクロルエタン等の難燃性現
像液により現像でき、かつ解像度および耐熱性に
も優れた高信頼性ソルダマスクを形成することの
できる感光性樹脂組成物を提供することにある。

（問題点を解決するための手段） 本発明は(a)オルソクレゾールノボラツク型エポ
キシ樹脂，フエノールノボラツク型エポキシ樹脂
およびハロゲン化フエノールノボラツク型エポキ
シ樹脂からなる群から選ばれた少なくとも１種の
ノボラツク型エポキシ樹脂と、不飽和モノカルボ
ン酸とを、酸当量／エポキシ当量比が0.1〜0.98
の範囲で付加反応させて得られる不飽和化合物の
２級水酸基に、イソシアナートエチルメタクリレ
ートをイソシアナート当量／水酸基当量比が0.1
〜１の範囲で反応させて得られる光重合性不飽和
化合物並びに(b)活性光により遊離ラジカルを生成
する増感剤および（または）増感剤系を含有して
なる感光性樹脂組成物に関する。

本発明の感光性樹脂組成物は必須成分(a)とし
て、オルソクレゾールノボラツク型エポキシ樹
脂、フエノールノボラツク型エポキシ樹脂および
ハロゲン化フエノールノボラツク型エポキシ樹脂
からなる群から選ばれた少なくとも１種のノボラ
ツク型エポキシ樹脂と、不飽和モノカルボン酸と
を、酸当量／エポキシ当量比が0.1〜0.98の範囲
で付加反応させて得られる不飽和化合物の２級水
酸基に、イソシアナートエチルメタクリレート
を、イソシアナート当量／水酸基当量比が0.1〜
１の範囲で反応させて得られる光重合不飽和化合
物を含有する。

本発明に用いられるノボラツク型エポキシ樹脂
は、例えばオルソクレゾール、フエノール、ハロ
ゲン化フエノール等とアルデヒドを酸触媒の存在
下に反応させて得られるノボラツク型樹脂のフエ
ノール性水酸基にアルカリの存在下にエピクロル
ヒドリンを反応させて得られるもので、商業的に
も入手可能である。

オルソクレゾールノボラツク型エポキシ樹脂と
しては、例えばチバ・ガイギー社製アラルダイト
ECN1299（軟化点99℃、エポキシ当量230）、
ECN1280（軟化点80℃、エポキシ当量230）、
ECN1273（軟化点73℃、エポキシ当量230）、日本
化薬（株）製 EOCN104（軟化点90〜100℃、エ
ポキシ当量225〜245）、EOCN103（軟化点80〜90
℃、エポキシ当量215〜235）、EOCN102（軟化点
70〜80℃、エポキシ当量215〜235）等が挙げられ
る。

フエノールノボラツク型エポキシ樹脂として
は、例えばシエル社製エピコート154（エポキシ当
量176〜181）、ダウケミカル社製DEN431（エポキ
シ当量172〜179）、DEN438（エポキシ当量175〜
182）、東都化成（株）製YDPN−638（エポキシ
当量170〜190）、YDPN−601（エポキシ当量180
〜220）、YDPN−602（エポキシ当量180〜220）
等が挙げられる。

ハロゲン化フエノールノボラツク型エポキシ樹
脂としては、例えば日本化薬（株）製BREN（エ
ポキシ当量270〜300、臭素含有量35〜37％、軟化
点80〜90℃）等の臭素化フエノールノボラツク型
エポキシ樹脂等が挙げられる。不飽和モノカルボ
ン酸としては、アクリル酸、メタクリル酸、β−
フリルアクリル酸、β−スチリルアクリル酸、α
−シアノケイ皮酸、ケイ皮酸等が用いられる。

本発明において、これらのノボラツク型エポキ
シ樹脂と不飽和モノカルボン酸との付加反応は、
式（）に示すようであり、酸当量／エポキシ当
量比が0.1〜0.98（好ましくは0.15〜0.8）の範囲で
常法により行なわれる。酸当量／エポキシ当量比
が0.1未満ではイメージ露光後の現像処理により
光硬化被膜が膨潤しやすく、0.98を超えると、密
着性、はんだ耐熱性等の特性が低下する。

例えば前記ノボラツク型エポキシ樹脂をメチル
エチルケトン、メチルセロソルブアセテート、エ
チルセロソルブアセテート、シクロヘキサノン等
の不活性有機溶剤に溶解し、触媒としてトリエチ
ルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ジエチルシ
クロヘキシルアミン等の３級アミン、塩化ベンジ
ルトリメチルアンモニウム、塩化ベンジルトリエ
チルアンモニウム等の４級アンモニウム塩を、ま
た重合禁止剤としてハイドロキノン、ｐ−メトキ
シフエノール等を用い、70〜110℃で前記不飽和
カルボン酸と撹拌反応させることにより、光重合
性不飽和化合物が得られる。

上記のようにノボラツク型エポキシ樹脂を不飽
和モノカルボン酸とを付加反応させて得られる不
飽和化合物の２級水酸基に対するイソシアナート
エチルメタクリレートの反応は、式（）に示す
ようであり、イソシアナート当量／水酸基当量比
が0.1〜１の範囲で常法により行なわれる。イソ
シアナート当量／水酸基当量比が0.1未満の場合
には、１，１，１−トリクロルエタン等の難燃性
有機溶剤による現像が困難となり、また光硬化性
も低下する。イソシアナート当量／水酸基当量比
が１を超える場合には、保有安定性、耐熱性等が
低下する。イソシアナートエチルメタクリレート
としては、例えばダウケミカル社製のものが用い
られる。

例えば前記のノボラツク型エポキシ樹脂と不飽
和モノカルボン酸との付加反応を行ない、次いで
この生成物にジブチルチンジラウレート、ジブチ
ルチンジ２エチルヘキソエート等のウレタン化触
媒を添加し、所定量のイソシアナートエチルメタ
クリレートを50〜110℃で撹拌反応させることに
より、光重合性不飽和化合物が得られる。このよ
うな反応条件下ではウレタン結合とエポキシ基と
の反応、不飽和結合の熱重合等の副反応を防止す
ることができ、その結果ゲル状物を生成させるこ
となく、光重合性不飽和化合物を得ることができ
る。

本発明において、特に有用は光重合性不飽和化
合物としては、オルソクレゾールノボラツク型エ
ポキシ樹脂／アクリル酸／イソシアナートエチル
メタクリレート（酸当量／エポキシ当量比0.1〜
0.98、イソシアナート当量／水酸基当量比0.1〜
１）系反応物、オルソクレゾールノボラツク型エ
ポキシ樹脂／メタクリル酸／イソシアナートエチ
ルメタクリレート（酸当量／エポキシ当量比0.1
〜0.98、イソシアナート当量／水酸基当量比0.1
〜１）系反応物等が挙げられる。

本発明の感光性樹脂組成物は、活性光により遊
離ラジカルを生成する増感剤および（または）増
感剤系を必須成分(b)として含有する。

増感剤としては、置換または非置換の多核キノ
ン類、例えば、２−エチルアントラキノン、２−
ｔ−ブチルアントラキノン、オクタメチルアント
ラキノン、１，２−ベンズアントラキノン、２，
３−ジフエニルアントラキノン等、ジアセチルベ
ンジル等のケトアルドニル化合物、ベンゾイン、
ピバロン等のα−ケタルドニルアルコール類およ
びエーテル類、α−炭化水素置換芳香族アシロイ
ン類、例えばα−フエニル−ベンゾイン、α，α
−ジエトキシアセトフエノン等、ベンゾフエノ
ン、４，4′−ビスジアルキルアミノベンゾフエノ
ン等の芳香族ケトン類、２メチルチオキサント
ン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−
ジメチルチオキサントン、２−クロルチオキサン
トン、２−イソプロピルチオキサントン、２−エ
チルチオキサントン等のチオキサントン類が用い
られ、これらは単独でも組合わせて使用してもよ
い。

増感剤系としては、例えば２，４，５−トリア
リル、ルイミダゾール二量体と２−メルカプトベ
ンゾキナゾール、ロイコクリスタルバイオレツ
ト、トリス（４−ジエチルアミノ−２−メチルフ
エニル）メタン等との組合わせが用いられる。ま
たそれ自体で光開始性はないが、前記物質と組合
わせて用いることにより全体として光開始性能の
より良好な増感剤系となるような添加剤、例え
ば、ベンゾフエノンに対するトリエタレールアミ
ン等の３級アミン、チオキサントン類に対するジ
メチルアミノ安息香酸イソアミル、Ｎ−メチルジ
エタールアミン、ビスエチルアミノベンゾフエノ
ン等を用いることもできる。

本発明の感光性樹脂組成物においては、これら
の増感剤および（または）増感剤系(b)は、光重合
性不飽和化合物(a)に対して0.5〜10重量％の割合
で含有されることが好ましい。

本発明の感光性樹脂組成物は他の副次的成分を
含有していてもよい。副次的成分としては、熱重
合防止剤、染料、顔料、フイラー、塗工性向上
剤、難燃剤、難燃助剤、密着性向上剤、エポキシ
樹脂の潜在性硬化剤、熱可塑性有機高分子化合物
等のフイルム性向上剤、消泡剤等が挙げられる。

本発明の感光性樹脂組成物を用いて感光層を形
成するに際しては、例えば、感光性樹脂組成物を
メチルエチルケトン、メチルセロソルブアセテー
ト、エチルセロソルアセテート、シクロヘキサノ
ン等の有機溶剤に溶解させ、この溶液をデイツプ
コート法、フローコート法、ロールコート法、ス
クリーン印刷法等の常法により、加工保護すべき
基板板上に直接塗布し、溶剤を乾燥させることに
より、厚さ10〜150μmの感光層を容易に形成する
ことができる。

また前記溶液を、例えばポリエチレンテレフタ
レートフイルム、ポリイミドフイルム等の支持体
フイルム上に、ナイフコート法、ロールコート法
等により塗布し、乾燥して得られる感光性エレン
メントを、熱ロールを用いて基板上に加熱加圧積
層して感光層を形成することもできる。この際基
板が導体配線ラインの形成された印刷配線板等の
10μm以上の凹凸を有する場合には、空気の巻き
込みを防ぐため、200mmHg以下の真空下で積層す
ることが好ましい。このための装置としては例え
ば特公昭55−13341号公報に記載される積層装置
が用いられる。なお活性光に不透明な支持体フイ
ルムを用いる場合には、露光時に支持体フイルム
を剥離する必要がある。

こうして形成された感光層の露光および現像は
常法により行なわれる。すなわち、光源として超
高圧水銀灯、高圧水銀灯等を用い、感光性樹脂組
成物の層上に直接または支持体フイルムを介し、
ネガマスクを通して、像的に露光する。露光後支
持体フイルムが残つている場合は支持体フイルム
を剥離した後、現像する。

現像処理に用いられる現像液は露光部にダメー
ジを与えず、未露光部を選択的に溶出するもので
あればその種類については特に制限はない。現像
液としては、例えば１，１，１−トリクロルエタ
ン等のハロゲン化炭化水素、ジエチレングリコー
ルモノブチルエーテル／炭酸ナトリウム水溶液等
の有機溶剤／希アルカリ水溶液混合液等が用いら
れる。また１，１，１−トリクロルエタンを主成
分とする洗浄液、例えばスリーワンEX（東亜合成
化学（株）製）を使用することもできる。

上記の方法で得られた像的な保護被膜は、通常
のエツチング、めつき等のための耐食膜である
が、現像後に活性光の露光および80〜200℃での
加熱処理を行なうことにより、更に優れた特性を
有する保護膜が得られる。これらの活性光の露光
および加熱処理の順序はどちらが先でもよい。

（発明の効果） 本発明の感光性樹脂組成物を用いて得られる保
護被膜は、トリクレン、メチルエチルケトン、イ
ソプロピルアルコール、トルエン等の有機溶剤に
充分耐え、酸性水溶液またはアルカリ水溶液にも
耐える。更に耐熱性、機械的特性にも優れている
ので、ソルダマスク等の永久的な保護膜として使
用することができる。更に本発明の感光性樹脂組
成物を用いて形成される被膜は優れた化学的、物
理的特性を有し、このため多層印刷配線板の層間
絶縁層、感光性接着剤、塗料、プラスチツクレリ
ーフ、印刷版材料、金属精密加工材料等にも用い
ることができる。

また、本発明の感光性樹脂組成物を用いること
により、１，１，１−トリクロルエタン等の難燃
性現像液により現像でき、解像度および耐熱性に
優れたソルダマスクを形成することができる。し
かも写真法により厚膜のソルダマスクを形成する
ことも可能である。

（実施例） 実施例中の部は重量部を意味する。

実施例 １ (a) 光重合性不飽和化合物の合成 Ａ オルソクレゾールノボラツク型エポキシ樹
脂、EOCN104（エポキシ当量230） 1095部 エチルセロソルブアセテート 800部 Ｂ、アクリル酸 257部 塩化ベンジルトリメチルアンモニウム ７部 ｐ−メトキシフエノール ３部 エチルセロソルブアセテート 100部 Ｃ、イソシアナートエチルメタクリレート
553部 ジブチルチンジラウレート 0.5部 エチルセロソルブアセテート 100部 Ｄ、メタノール 10部 温度計、撹拌装置、冷却管および滴下器の付い
た加熱および冷却可能な５の反応器に、前記Ａ
を加え、撹拌しながら60℃に昇温し、均一に溶解
させた。反応温度を60℃に保ちながら、これに約
１時間かけてＢを滴下した。Ｂ滴下後、２時間か
けて80℃に昇温し、80℃で約20時間撹拌を談け反
応系の酸価を１以下にした。

次いで温度を60℃に低下させ、反応温度を60℃
に保ちながら約３時間かけて均一にＣを滴下し
た。Ｃ滴下後、約５時間かけて徐々に反応温度を
80℃まで昇温した後、温度を60℃に低下させ、Ｄ
を加え、約１時間撹拌を続けた。こうして不揮発
分66％オルソクレゾールノボラツク型エポキシ樹
脂／アクリル酸／イソシアナートエチルメタクリ
レート（酸当量／エポキシ当量比＝0.75、イソシ
アナート当量／水酸基当量比＝１）系光重合性不
飽和化合物の溶液（）を得た。

(b) 感光性樹脂組成物の調製 (a)で得られた光重合性不飽和化合物の溶液
（）152部（不揮発分100部）、２，４−ジエチル
チオキサントン１部、ジメチルアミノ安息香酸イ
ソアミル２部およびビクトリアピユアブルー0.01
部を混合して本発明の感光性樹脂組成物の溶液を
調製した。

(c) 硬化被膜で形成 (b)で得られた感光性樹脂組成物の溶液を、銅張
り積層板上に塗布し、室温で20分、80℃で20分間
乾燥し、厚さ40μmの感光層を形成した。次いで
ネガマスクを通してオーク製作所（株）製フエニ
ツクス3000型露光機を用い、200mJ／cm²で露光し
た。露光後80℃で５分間加熱し、常温で30分放置
した後、１，１，１−トリクロルエタンを用いて
20℃で90秒間スプレー現像した。次いで東芝電材
（株）製東芝紫外線照射装置（定格電圧200V、定
格消費電力7.2KW、適合ランプH5600L／２、ラ
ンプ本数１本）を使用し、1J／cm²で照射した後、
150℃で30分間加熱処理してネガマスクに相応す
る寸法精度の優れたソルダマスクを得た。このソ
ルダマスクは耐冷熱衝激性に優れ、ロジン系フラ
ツクスＡ−226（タムラ化研（株）製）を用いて、
260℃で10秒間、はんだ付け処理し、更にトリク
レンで25℃、10分間清浄化処理した後、MIL−
STD−202E 107D 条件Ｂ（−65℃30分間、常温
５分以内、125℃30分間）、50サイクルの冷熱衝撃
試験でクラツクの発生および被膜の剥がれは認め
られず、長期間の信頼性が非常に優れていること
がわかつた。

実施例 ２ (a) 光重合性不飽和化合物の合成 Ａ オルソクレゾールノボラツク型エポキシ樹
脂、EOCN104（エポキシ当量230） 1095部 メチルエチルケトン 600部 Ｂ メタクリル酸 228部 塩化ベンジルトリメチルアンモニウム ７部 ｐ−メトキシフエノール ３部 メチルエチルケトン 100部 Ｃ イソシアナートエチルメタクリレート 221部 ジブチルチンジラウレート 0.5部 メチルエチルケトン 100部 Ｄ、メタノール 10部 Ａ〜Ｄを用い、その他は実施例１−(a)と同様に
して、不揮発分66％のオルソクレゾールノボラツ
ク型エポキシ樹脂／メタクリル酸／イソシアナー
トエチルメタクリレート（酸当量／エポキシ当量
比＝0.5、イソシアナート当量／水酸基当量比＝
0.6）系光重合性不飽和化合物の溶液（）を得
た。

(b) 感光性樹脂組成物の調製 (a)で得られた光重合性不飽和化合物の溶液
（）152部（不揮発分100部）、２，４−ジメチル
チオキサントン１部、ジメチルアミノ安息香酸イ
ソアミル２部およびBF₃−モノエタノールアミン
コンプレツクス１部を混合して本発明の感光性樹
脂組成物の溶液を調製した。

以下、実施例１−(c)と同様にして耐熱性に優れ
た硬化被膜を得た。

実施例 ３ 実施例１−(a)で得られた光重合性不飽和化合物
の溶液（）152部（不揮発分100部）、２，４−
ジエチルチオキサントン1.5部、ホスマーＭ（油脂
製品（株）製リン酸エステル）とベンゾトリアゾ
ールとの等モル塩0.1部、シムゴン（日本タルク
（株）製 超微粒子タルク）30部およびフタロシ
アニングリーン0.5部を３本ロールを用いて混練
し、本発明の感光性樹脂組成物の溶液を調製し
た。以下実施例１−(c)と同様にして耐熱性に優れ
た硬化被膜を得た。

実施例 ４ (a) 光重合性不飽和化合物の合成 Ａ 臭素化フエノールノボラツク型エポキシ樹脂
BREN（エポキシ当量280） 1333部 エチルセロソルブアセテート 600部 Ｂ アクリル酸 86部 塩化ベンジルトリメチルアンモニウム １部 ｐ−メトキシフエノール ３部 エチルセロソルブアセテート 40部 Ｃ イソシアナートエチルメタクリレート 221部 ジブチルチンジラウレート 0.1部 エチルセルソルブアセテート 100部 Ｄ メタノール 10部 Ａ〜Ｄを用い、その他の実施例１−(a)と同様に
して、不揮発分69％の臭化フエノールノボラツク
型エポキシ樹脂／アクリル酸／イソシアナートエ
チルメタクリレート（酸当量／エポキシ当量比＝
0.25、イソシアナート当量／水酸基当量比＝１）
系光重合性不飽和化合物の溶液（）を得た。

(b) 感光性樹脂組成物の調整 (a)で得られた光重合性不飽和化合物の溶液
（）152部（不揮発分100部）、２，４−ジエチル
チオキサントン２部およびジメチルアミノ安息香
酸エチル部３部を混合して本発明の感光性樹脂組
成物の溶液を調製した。以下、実施例１−(c)と同
様にして耐熱性に優れた硬化被膜を得た。

実施例 ５ (a) 光重合性不飽和化合物の合成 Ａ オルソクレゾールノボラツク型エポキシ樹
脂、EOCN103（エポキシ当量230） 1095部 エチルセロソルブアセテート 600部 Ｂ ケイ皮酸 176部 アクリル酸 86部 塩化ベンジルトリメチルアンモニウム １部 ｐ−メトキシフエノール ３部 エチルセロソルブアセテート 100部 Ｃ イソシアナートエチルメタクリレート 369部 ジブチルチンジラウレート 0.1部 エチルセロソルブアセテート 100部 Ｄ メタノール 10部 Ａ〜Ｄを用い、その他は実施例１−(a)と同様に
して、NV68％のオルソクレゾールノボラツク型
エポキシ樹脂／ケイ皮酸／アクリル酸／イソシア
ナートエチルメタクリレート（酸当量／エポキシ
当量比＝0.5、イソシアナート当量／水酸基当量
比＝１）系光重合性不飽和化合物の溶液（）を
得た。

(b) 感光性樹脂組成物の調製 (a)で得られた光重合性不飽和化合物の溶液
（）147部（不揮発分100部）、２，４−ジエチル
チオキサントン２部およびジメチルアミノ安息香
酸イソブチル３部を混合して本発明の感光性樹脂
組成物の溶液を調製した。以下、実施例１−(c)と
同様にして耐熱性に優れた硬化被膜を得た。

実施例 ６ (a) 光重合性不飽和化合物の合成 Ａ フエノールノボラツク型エポキシ樹脂
YDPN−638（エポキシ当量180） 857部 エチルセロソルブアセテート 600部 Ｂ アクリル酸 69部 塩化ベンジルトリメチルアンモニウム 0.5部 エチルセロソルブアセテート 100部 Ｃ イソシアナートエチルメタクリレート 148部 ジブチルチンジラウレート 0.5部 エチルセロソルブアセテート 100部 Ｄ メタノール 10部 Ａ〜Ｄを用い、Ｂの反応温度を100℃とする他
は実施例１−(a)と同様にして、NV57％のフエノ
ールノボラツク型エポキシ樹脂／アクリル酸／イ
ソシアナートエチルメタクリレート（酸当量／エ
ポキシ当量比＝0.2、イソシアナート当量／水酸
基当量比＝１）系光重合性不飽和化合物の溶液
（）を得た。

(b) 感光性樹脂組成物の調製 (a)で得られた光重合性不飽和化合物の溶液
（）114部（不揮発分65部）、２，４−ジメチル
チオキサントン1.5部、ジメチルアミノ安息香酸
イソブチル３部、キユアゾールC₁₁Z−AZINE1
部、およびメチルセロソルブ５部を混合して本発
明の感光性樹脂組成物の溶液を調製した。

(c) 硬化被膜の形成 現像液として１，１，１−トリクロルエタンの
代わりにスリーワンEX（１，１，１−トリクロル
エタンを主成分とする洗浄液、東亜合成（株）
製）を用い、その他は実施例１−(c)と同様にして
耐熱性に優れた硬化被膜を得た。

実施例より明らかなように、本発明の感光性樹
脂組成物を用いることにより、写真法による厚膜
の画像形成が可能であり、また１，１，１−トリ
クロルエタン等の難燃性現像液を用いて、解像度
および耐熱性に優れた高信頼性のソルダマスクを
形成することができる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ (a)オルソクレゾールノボラツク型エポキシ樹
   脂，フエノールノボラツク型エポキシ樹脂および
   ハロゲン化フエノールノボラツク型エポキシ樹脂
   からなる群から選ばれた少なくとも１種のノボラ
   ツク型エポキシ樹脂と、不飽和モノカルボン酸と
   を、酸当量／エポキシ当量比が0.1〜0.98の範囲
   で付加反応させて得られる不飽和化合物の２級水
   酸基に、イソシアナートエチルメタクリレート
   を、イソシアナート当量／水酸基当量比が0.1〜
   １の範囲で反応させて得られる光重合性不飽和化
   合物並びに(b)活性光により遊離ラジカルを生成す
   る増感剤および（または）増感剤系を含有してな
   る感光性樹脂組成物。