JPS61132947A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents
感光性樹脂組成物Info
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- JPS61132947A JPS61132947A JP25487184A JP25487184A JPS61132947A JP S61132947 A JPS61132947 A JP S61132947A JP 25487184 A JP25487184 A JP 25487184A JP 25487184 A JP25487184 A JP 25487184A JP S61132947 A JPS61132947 A JP S61132947A
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- type epoxy
- acid
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
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- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は感光性樹脂組成物に関し、更に詳しくは印刷配
線板製造、金属精密加工等に使用し得る保護膜形成用の
感光性樹脂組成物に関する。
線板製造、金属精密加工等に使用し得る保護膜形成用の
感光性樹脂組成物に関する。
（従来の技術）
従来、印刷配線板業界において、ソルダマスク、化学め
っき用レジスト等に使用可能な優れた特性を有する感光
性樹脂組成物が知られている。ソルダマスクの主な目的
は、はんだ付は時のはんだ付は領域を限定し、はんだブ
リッジ等を防ぐこと、裸の銅導体の腐食を防止すること
、および長期にわたって導体間の電気絶縁性を保持する
ことである。通常ソルダマスクとしては、エポキシ樹脂
、アミノブラスト樹脂等の熱硬化性樹脂を主成分とする
もの（印刷マスク）が用いられる。
っき用レジスト等に使用可能な優れた特性を有する感光
性樹脂組成物が知られている。ソルダマスクの主な目的
は、はんだ付は時のはんだ付は領域を限定し、はんだブ
リッジ等を防ぐこと、裸の銅導体の腐食を防止すること
、および長期にわたって導体間の電気絶縁性を保持する
ことである。通常ソルダマスクとしては、エポキシ樹脂
、アミノブラスト樹脂等の熱硬化性樹脂を主成分とする
もの（印刷マスク）が用いられる。
しかし、近年、印刷配線板の配線密度が高まり、また導
体間の電気絶縁性の要求も厳しくなり、それに用いるソ
ルダマスクも厚膜で寸法精度の優れたものが要求される
ようになり、スクリーン印刷方式のものでは対処できな
くなっている。
体間の電気絶縁性の要求も厳しくなり、それに用いるソ
ルダマスクも厚膜で寸法精度の優れたものが要求される
ようになり、スクリーン印刷方式のものでは対処できな
くなっている。
そこで写真法（像状露光に続く現像により画像を形成）
で厚膜（導体上２５μｍ）で、かつ寸法精度の優れた高
信頼性のソルダマスクを形成する感光性樹脂組成物の出
現が望まれている。
で厚膜（導体上２５μｍ）で、かつ寸法精度の優れた高
信頼性のソルダマスクを形成する感光性樹脂組成物の出
現が望まれている。
従来、ソルダマスク形成用感光性樹脂組成物としては、
（１）アクリル系ポリマおよび光重合性上ツマを主成分
とする感光性樹脂組成物（特開昭５３−５６０１８号公
報、特開昭５４−１０１８号公報等）、（２）光反応性
が付与されたエポキシ樹脂およびエポキシ樹脂硬化剤を
主成分とする感光性樹脂組成物（特開昭５２−３７９９
６号公報、特開昭５８−６２６３６号公報等）等が知ら
れている。
（１）アクリル系ポリマおよび光重合性上ツマを主成分
とする感光性樹脂組成物（特開昭５３−５６０１８号公
報、特開昭５４−１０１８号公報等）、（２）光反応性
が付与されたエポキシ樹脂およびエポキシ樹脂硬化剤を
主成分とする感光性樹脂組成物（特開昭５２−３７９９
６号公報、特開昭５８−６２６３６号公報等）等が知ら
れている。
しかしながら前記（１）の感光性樹脂組成物は、通常の
エツチングおよびめっき用フィルム状感光材料（例えば
デュポン社製、商品名リストン、日立化成工業（株）製
、商品名フォテック等）に使用されているＪＭｉ燃性の
１．１．１−）リクロルエタンで現像可能であり、高解
像度のソルダマスクを形成することはできるが、このよ
うな感光性樹脂組成物はフィルム性付与のためアクリル
系ポリマを多量に使用しているため、硬化被膜の耐熱性
が充分でないという欠点がある。
エツチングおよびめっき用フィルム状感光材料（例えば
デュポン社製、商品名リストン、日立化成工業（株）製
、商品名フォテック等）に使用されているＪＭｉ燃性の
１．１．１−）リクロルエタンで現像可能であり、高解
像度のソルダマスクを形成することはできるが、このよ
うな感光性樹脂組成物はフィルム性付与のためアクリル
系ポリマを多量に使用しているため、硬化被膜の耐熱性
が充分でないという欠点がある。
一方、前記（２）の感光性樹脂組成物は、エポキシ樹脂
をベースとしており、硬化被膜の耐熱性には優れている
が、１．１．１−１−リクロルエタン等の難燃性有機溶
剤に不溶性であるため、現像液として、シクロヘキサノ
ン等の可燃性有機溶剤を使用する必要があり、安全上好
ましくないという欠点がある。
をベースとしており、硬化被膜の耐熱性には優れている
が、１．１．１−１−リクロルエタン等の難燃性有機溶
剤に不溶性であるため、現像液として、シクロヘキサノ
ン等の可燃性有機溶剤を使用する必要があり、安全上好
ましくないという欠点がある。
（発明が解決しようとする問題点）
本発明の目的は、前記従来技術の欠点を除去し、１．１
．１−トリクロルエタン等の難燃性現像液により現像で
き、かつ解像度および耐熱性にも優れた高信頼性ソルダ
マスクを形成することのできる感光性樹脂組成物を提供
することにある。
．１−トリクロルエタン等の難燃性現像液により現像で
き、かつ解像度および耐熱性にも優れた高信頼性ソルダ
マスクを形成することのできる感光性樹脂組成物を提供
することにある。
（問題点を解決するための手段）
本発明は（ａ）オルソクレゾールノボラック型エポキシ
樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂およびハロ
ゲン化フェノールノボラック型エポキシ樹脂からなる群
から選ばれた少なくとも１種のノボラック型エポキシ樹
脂と、不飽和カルボン酸とを、酸当量／エポキシ当量比
が０．１〜０．９８の範囲で付加反応させて得られる不
飽和化合物の２級水酸基に、イソシアナートエチルメタ
クリレートを、イソシアナート当量／水酸基当量比が０
．１〜１の範囲で反応させて得られる光重合性不飽和化
合物並びに（ｂ）活性光により遊離ラジカルを生成する
増感剤および（または）増感剤系を含有してなる感光性
樹脂組成物に関する。
樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂およびハロ
ゲン化フェノールノボラック型エポキシ樹脂からなる群
から選ばれた少なくとも１種のノボラック型エポキシ樹
脂と、不飽和カルボン酸とを、酸当量／エポキシ当量比
が０．１〜０．９８の範囲で付加反応させて得られる不
飽和化合物の２級水酸基に、イソシアナートエチルメタ
クリレートを、イソシアナート当量／水酸基当量比が０
．１〜１の範囲で反応させて得られる光重合性不飽和化
合物並びに（ｂ）活性光により遊離ラジカルを生成する
増感剤および（または）増感剤系を含有してなる感光性
樹脂組成物に関する。
本発明の感光性樹脂組成物は必須成分（ａ）として、オ
ルソクレゾールノボラック型工虜キシ樹脂、フェノール
ノボラック型エポキシ樹脂およびハロゲン化フェノール
ノボラック型エポキシ樹脂からなる群から選ばれた少な
くとも１種のノボラック型エポキシ樹脂と、不飽和カル
ボン酸とを、酸当量／エポキシ当量比が０．１〜０．９
８の範囲で付加反応させて得られる不飽和化合物の２級
水酸基に、イソシアナートエチルメタクリレートを、イ
ソシアナート当量／水酸基当量比が０．１〜１の範囲で
反応させて得られる光重合不飽和化合物を含有する。
ルソクレゾールノボラック型工虜キシ樹脂、フェノール
ノボラック型エポキシ樹脂およびハロゲン化フェノール
ノボラック型エポキシ樹脂からなる群から選ばれた少な
くとも１種のノボラック型エポキシ樹脂と、不飽和カル
ボン酸とを、酸当量／エポキシ当量比が０．１〜０．９
８の範囲で付加反応させて得られる不飽和化合物の２級
水酸基に、イソシアナートエチルメタクリレートを、イ
ソシアナート当量／水酸基当量比が０．１〜１の範囲で
反応させて得られる光重合不飽和化合物を含有する。
本発明に用いられるノボラック型エポキシ樹脂は、例え
ばオルソクレゾール、フェノール、ハロゲン化フェノー
ル等とアルデヒドを酸触媒の存在下に反応させて得られ
るノボラック型樹脂のフェノール性水酸基にアルカリの
存在下にエピクロルヒドリンを反応させて得られるもの
で、商業的にも入手可能である。
ばオルソクレゾール、フェノール、ハロゲン化フェノー
ル等とアルデヒドを酸触媒の存在下に反応させて得られ
るノボラック型樹脂のフェノール性水酸基にアルカリの
存在下にエピクロルヒドリンを反応させて得られるもの
で、商業的にも入手可能である。
オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂としては、
例えばチバ・ガイギー社製アラルダイトＥＣＮ１２９９
（軟化点９９℃、エポキシ当量２３０）、ＥＣＮ１２８
０ （軟化点８０℃、エポキシ当量２３０） 、ＥＣＮ
１２７３ （軟化点７３℃、エポキシ当量２３０）、日
本北東（株）製 ＥＯＣＮ１０４（軟化点９０−１００
℃、エポキシ当量２２５〜２４５） 、ＥＯＣＮＬ Ｏ
３（軟化点８０〜９０℃、エポキシ当量２１５〜２３５
）、ＥＯＣＮＩＱ２（軟化点７０〜８０℃、エポキシ当
量２１５〜２３５）等が挙げられる。
例えばチバ・ガイギー社製アラルダイトＥＣＮ１２９９
（軟化点９９℃、エポキシ当量２３０）、ＥＣＮ１２８
０ （軟化点８０℃、エポキシ当量２３０） 、ＥＣＮ
１２７３ （軟化点７３℃、エポキシ当量２３０）、日
本北東（株）製 ＥＯＣＮ１０４（軟化点９０−１００
℃、エポキシ当量２２５〜２４５） 、ＥＯＣＮＬ Ｏ
３（軟化点８０〜９０℃、エポキシ当量２１５〜２３５
）、ＥＯＣＮＩＱ２（軟化点７０〜８０℃、エポキシ当
量２１５〜２３５）等が挙げられる。
フェノールノボラック型エポキシ樹脂としては、例えば
シェル社製エピコート１５４（エポキシ当量１７６〜１
８１）、ダウケミカル社製ＤＥＮ４３１ （エポキシ当
量１７２〜１７９） 、ＤＥＮ４３８（エポキシ当量１
７５〜１８２）、東部化成（株）製ＹＤＰＮ−６３８（
エポキシ当量１７０〜１９０）、ＹＤＰＮ−６０１（エ
ポキシ当量１８０〜２２０） 、ＹＤＰＮ−６０２（エ
ポキシ当量１８０〜２２０）等が挙げられる。
シェル社製エピコート１５４（エポキシ当量１７６〜１
８１）、ダウケミカル社製ＤＥＮ４３１ （エポキシ当
量１７２〜１７９） 、ＤＥＮ４３８（エポキシ当量１
７５〜１８２）、東部化成（株）製ＹＤＰＮ−６３８（
エポキシ当量１７０〜１９０）、ＹＤＰＮ−６０１（エ
ポキシ当量１８０〜２２０） 、ＹＤＰＮ−６０２（エ
ポキシ当量１８０〜２２０）等が挙げられる。
ハロゲン化フェノールノボラック型エポキシ樹脂として
は、例えば日本北東（株）製ＢＲＥＮ （エポキシ当量
２７０〜３００、臭素含有量３５〜３７％、軟化点８０
〜９０℃）等の臭素化フェノールノボラック型エポキシ
樹脂等が挙げられる。
は、例えば日本北東（株）製ＢＲＥＮ （エポキシ当量
２７０〜３００、臭素含有量３５〜３７％、軟化点８０
〜９０℃）等の臭素化フェノールノボラック型エポキシ
樹脂等が挙げられる。
不飽和カルボン酸としては、アクリル酸、メタクリル酸
、β−フリルアクリル酸、β−スチリルアクリル酸、α
−シアノケイ皮酸、ケイ皮酸等が用いられる。
、β−フリルアクリル酸、β−スチリルアクリル酸、α
−シアノケイ皮酸、ケイ皮酸等が用いられる。
本発明において、これらのノボラック型エポキシ樹脂と
不飽和カルボン酸との付加反応は、式（■）に示すよう
であり、酸当量／エポキシ当量比が０．１〜０．９８（
好ましくは０．１５〜０．８）の範囲で常法により行な
われる。酸当量／エポキシ当量比が０．１未満ではイメ
ージ露光後の現像処理により光硬化被膜が膨潤しやすく
、０．９８を超えると、密着性、はんだ耐熱性等の特性
が低下する。
不飽和カルボン酸との付加反応は、式（■）に示すよう
であり、酸当量／エポキシ当量比が０．１〜０．９８（
好ましくは０．１５〜０．８）の範囲で常法により行な
われる。酸当量／エポキシ当量比が０．１未満ではイメ
ージ露光後の現像処理により光硬化被膜が膨潤しやすく
、０．９８を超えると、密着性、はんだ耐熱性等の特性
が低下する。
例えば前記ノボラック型エポキシ樹脂をメチルエチルケ
トン、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブ
アセテート、シクロヘキサノン等の不活性有機溶剤に熔
解し、触媒としてトリエチルアミン、トリーｎ−ブチル
アミン、ジエチルシクロヘキシルアミン等の３級アミン
、塩化ベンジルトリメチルアンモニウム、塩化ベンジル
トリエチルアンモニウム等の４級アンモニウム塩を、ま
た重合禁止剤としてハイドロキノン、ｐ−メトキシフェ
ノール等を用い、７０〜１１０℃で前記不飽和カルボン
酸と攪拌反応させることにより、光重合性不飽和化合物
が得られる。
トン、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブ
アセテート、シクロヘキサノン等の不活性有機溶剤に熔
解し、触媒としてトリエチルアミン、トリーｎ−ブチル
アミン、ジエチルシクロヘキシルアミン等の３級アミン
、塩化ベンジルトリメチルアンモニウム、塩化ベンジル
トリエチルアンモニウム等の４級アンモニウム塩を、ま
た重合禁止剤としてハイドロキノン、ｐ−メトキシフェ
ノール等を用い、７０〜１１０℃で前記不飽和カルボン
酸と攪拌反応させることにより、光重合性不飽和化合物
が得られる。
上記のようにノボラック型エポキシ樹脂を不飽和カルボ
ン酸とを付加反応させて得られる不飽和化合物の２級水
酸基に対するイソシアナートエチルメタクリレートの反
応は、式（ＩＦ）に示すようであり、イソシアナート当
量／水酸基当量比が０゜１〜１の範囲で常法により行な
われる。イソシアナート当量／水酸基当量比が０．１未
満の場合には、１．１．１−）リクロルエタン等の難燃
性有機溶剤による現像が困難となり、また光硬化性も低
下する。イソシアナート当量／水酸基当量比が１を超え
る場合には、保有安定性、耐熱性等が低下する。イソシ
アナートエチルメタクリレートとしては、例えばダウケ
ミカル社製のものが用いられる。
ン酸とを付加反応させて得られる不飽和化合物の２級水
酸基に対するイソシアナートエチルメタクリレートの反
応は、式（ＩＦ）に示すようであり、イソシアナート当
量／水酸基当量比が０゜１〜１の範囲で常法により行な
われる。イソシアナート当量／水酸基当量比が０．１未
満の場合には、１．１．１−）リクロルエタン等の難燃
性有機溶剤による現像が困難となり、また光硬化性も低
下する。イソシアナート当量／水酸基当量比が１を超え
る場合には、保有安定性、耐熱性等が低下する。イソシ
アナートエチルメタクリレートとしては、例えばダウケ
ミカル社製のものが用いられる。
例えば前記のノボラック型エポキシ樹脂と不飽和カルボ
ン酸との付加反応を行ない、次いでこの生成物にジブチ
ルチンジラウレート、ジブチルチンジ２エチルヘキソエ
ート等のウレタン化触媒を添加し、所定量のイソシアナ
ートエチルメタクリレートを５０〜１１０℃で攪拌反応
させることにより、光重合性不飽和化合物が得られる。
ン酸との付加反応を行ない、次いでこの生成物にジブチ
ルチンジラウレート、ジブチルチンジ２エチルヘキソエ
ート等のウレタン化触媒を添加し、所定量のイソシアナ
ートエチルメタクリレートを５０〜１１０℃で攪拌反応
させることにより、光重合性不飽和化合物が得られる。
このような反応条件下ではウレタン結合とエポキシ基と
の反応、不飽和結合の熱重合等の副反応を防止すること
ができ、その結果ゲル状物を生成させることなく、光重
合性不飽和化合物を得ることができる。
の反応、不飽和結合の熱重合等の副反応を防止すること
ができ、その結果ゲル状物を生成させることなく、光重
合性不飽和化合物を得ることができる。
本発明において、特に有用な光重合性不飽和化合物とし
ては、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂／ア
クリル酸／イソシアナートエチルメタクリレート（酸当
量／エポキシ当量比０．１〜０．９８、イソシアナート
当量／水酸基当量比０．１〜１）系反応物、オルソクレ
ゾール、ノボラック型エポキシ樹脂／メタクリル酸／イ
ソシアナートエチルメタクリレート（酸当量／エポキシ
当量比０゜１〜０．９８、イソシアナート当量／水酸基
当量比０、１〜１）系反応物等が挙げられる。
ては、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂／ア
クリル酸／イソシアナートエチルメタクリレート（酸当
量／エポキシ当量比０．１〜０．９８、イソシアナート
当量／水酸基当量比０．１〜１）系反応物、オルソクレ
ゾール、ノボラック型エポキシ樹脂／メタクリル酸／イ
ソシアナートエチルメタクリレート（酸当量／エポキシ
当量比０゜１〜０．９８、イソシアナート当量／水酸基
当量比０、１〜１）系反応物等が挙げられる。
本発明の感光性樹脂組成物は、活性光により遊離ラジカ
ルを生成する増感剤および（または）増感剤系を必須成
分（ｂ）として含有する。
ルを生成する増感剤および（または）増感剤系を必須成
分（ｂ）として含有する。
増感剤としては、置換または非置換の多核牛ノン類、例
えば、２−エチルアントラキノン、２−ｔ−ブチルアン
トラキノン、オクタメチルアントラキノン、ｌ、２−ベ
ンズアントラキノン、２゜３−ジフェニルアントラキノ
ン等、ジアセチルベンジル等のケトアルドニル化合物、
ベンゾイン、ピバロン等のα−ケタルドニルアルコール
類およびエーテル類、α−炭化水素置換芳香族アシロイ
ン類、例えばα−フェニル−ベンゾイン、α、α−ジェ
トキシアセトフェノン等、ベンゾフェノン、４．４′−
ビスジアルキルアミノベンゾフェノン等の芳香族ケトン
類、２メチルチオキサントン、２．４−ジエチルチオキ
サントン、２．４−ジメチルチオキサントン、２−クロ
ルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、
２−エチルチオキサントン等のチオキサントン類が用い
られ、これらは単独でも組合わせて使用してもよい。
えば、２−エチルアントラキノン、２−ｔ−ブチルアン
トラキノン、オクタメチルアントラキノン、ｌ、２−ベ
ンズアントラキノン、２゜３−ジフェニルアントラキノ
ン等、ジアセチルベンジル等のケトアルドニル化合物、
ベンゾイン、ピバロン等のα−ケタルドニルアルコール
類およびエーテル類、α−炭化水素置換芳香族アシロイ
ン類、例えばα−フェニル−ベンゾイン、α、α−ジェ
トキシアセトフェノン等、ベンゾフェノン、４．４′−
ビスジアルキルアミノベンゾフェノン等の芳香族ケトン
類、２メチルチオキサントン、２．４−ジエチルチオキ
サントン、２．４−ジメチルチオキサントン、２−クロ
ルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、
２−エチルチオキサントン等のチオキサントン類が用い
られ、これらは単独でも組合わせて使用してもよい。
増感剤系としては、例えば２．４．５−）リアリ、ルイ
ミダゾールニ量体と２−メルカプトベンゾキナゾール、
ロイコクリスタルバイオレット、トリス（４−ジエチル
アミノ−２−メチルフェニル）メタン等との組合わせが
用いられる。またそれ自体で光開始性はないが、前記物
質と組合わせて用いることにより全体として光開始性能
のより良好な増感剤系となるような添加剤、例えば、ベ
ンゾフェノンに対するトリエタノールアミン等の３級ア
ミン、チオキサントン類に対するジメチルアミノ安息香
酸イソアミル、Ｎ−メチルエチルケトン、とスエチルア
ミノベンゾフエノン等を用いることもできる。
ミダゾールニ量体と２−メルカプトベンゾキナゾール、
ロイコクリスタルバイオレット、トリス（４−ジエチル
アミノ−２−メチルフェニル）メタン等との組合わせが
用いられる。またそれ自体で光開始性はないが、前記物
質と組合わせて用いることにより全体として光開始性能
のより良好な増感剤系となるような添加剤、例えば、ベ
ンゾフェノンに対するトリエタノールアミン等の３級ア
ミン、チオキサントン類に対するジメチルアミノ安息香
酸イソアミル、Ｎ−メチルエチルケトン、とスエチルア
ミノベンゾフエノン等を用いることもできる。
本発明の感光性樹脂組成物においては、これらの増感剤
および（または）増感剤系（ｂ）は、光重合性不飽和化
合物（ａ）に対して、０．５〜１０重量％の割合で含有
されることが好ましい。
および（または）増感剤系（ｂ）は、光重合性不飽和化
合物（ａ）に対して、０．５〜１０重量％の割合で含有
されることが好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物は他の副次的成分を含有して
いてもよい、Ｗ１次的成分としては、熱重合防止剤、染
料、顔料、フィラー、塗工性向上剤、難燃剤、難燃助剤
、密着性向上剤、エポキシ樹脂の潜在性硬化剤、熱可塑
性有機高分子化合物等のフィルム性向上剤、消泡剤等が
挙げられる。
いてもよい、Ｗ１次的成分としては、熱重合防止剤、染
料、顔料、フィラー、塗工性向上剤、難燃剤、難燃助剤
、密着性向上剤、エポキシ樹脂の潜在性硬化剤、熱可塑
性有機高分子化合物等のフィルム性向上剤、消泡剤等が
挙げられる。
本発明の感光性樹脂組成物を用いて感光層を形成するに
際しては、例えば、感光性樹脂組成物をメチルエチルケ
トン、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブ
アセテート、シクロヘキサノン等の有機溶剤に溶解させ
、この溶液をディップコート法、フローコート法、ロー
ルコート法、スクリーン印刷法等の常法により、加工保
護すべき基板板上に直接塗布し、溶剤を乾燥させること
により、厚さ１０〜１５０μｍの感光層を容易に形成す
ることができる。
際しては、例えば、感光性樹脂組成物をメチルエチルケ
トン、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブ
アセテート、シクロヘキサノン等の有機溶剤に溶解させ
、この溶液をディップコート法、フローコート法、ロー
ルコート法、スクリーン印刷法等の常法により、加工保
護すべき基板板上に直接塗布し、溶剤を乾燥させること
により、厚さ１０〜１５０μｍの感光層を容易に形成す
ることができる。
また前記溶液を、例えばポリエチレンテレフタレートフ
ィルム、ポリイミドフィルム等の支持体フィルム上に、
ナイフコート法、ロールコート法等により塗布し、乾燥
して得られる感光性エレメントを、熱ロールを用いて基
板上に加熱加圧積層して感光層を形成することもできる
。この際基板が導体配線ラインの形成された印刷配線板
等の１０μｍ以上の凹凸を有する場合には、空気の巻き
込みを防ぐため、２００＋＋ａａＨｇ以下の真空下で積
層することが好ましい。このための装置としては例えば
特公昭５５−１３３４１号公報に記載される積層装置が
用いられる。なお活性光に不透明な支持体フィルムを用
いる場合には、露光時に支持体フィルムを剥離する必要
がある。
ィルム、ポリイミドフィルム等の支持体フィルム上に、
ナイフコート法、ロールコート法等により塗布し、乾燥
して得られる感光性エレメントを、熱ロールを用いて基
板上に加熱加圧積層して感光層を形成することもできる
。この際基板が導体配線ラインの形成された印刷配線板
等の１０μｍ以上の凹凸を有する場合には、空気の巻き
込みを防ぐため、２００＋＋ａａＨｇ以下の真空下で積
層することが好ましい。このための装置としては例えば
特公昭５５−１３３４１号公報に記載される積層装置が
用いられる。なお活性光に不透明な支持体フィルムを用
いる場合には、露光時に支持体フィルムを剥離する必要
がある。
こうして形成された感光層の露光および現像は常法によ
り行なわれる。すなわち、光源として超高圧水銀灯、高
圧水銀灯等を用い、感光性樹脂組成物の層上に直接また
は支持体フィルムを介し、ネガマスクを通して、像的に
露光する。露光後支持体フィルムが残っている場合は支
持体フィルムを剥離した後、現像する。
り行なわれる。すなわち、光源として超高圧水銀灯、高
圧水銀灯等を用い、感光性樹脂組成物の層上に直接また
は支持体フィルムを介し、ネガマスクを通して、像的に
露光する。露光後支持体フィルムが残っている場合は支
持体フィルムを剥離した後、現像する。
現像処理に用いられる現像液は露光部にダメージを与え
ず、未露光部を選択的に溶出するものであればその種類
については特に制限はない、現像液としては、例えば１
．１．１−）リクロルエタン等のハロゲン化炭化水素、
ジエチレングリコ−ルモノブチルエーテル／炭酸ナトリ
ウム水溶液等の有機溶剤／希アルカリ水溶液混合液等が
用いられる。また１、１．１−トリクロルエタンを主成
分とする洗浄剤、例えばスリーワンＥＸ（東亜合成化学
（株）製）を使用することもできる。
ず、未露光部を選択的に溶出するものであればその種類
については特に制限はない、現像液としては、例えば１
．１．１−）リクロルエタン等のハロゲン化炭化水素、
ジエチレングリコ−ルモノブチルエーテル／炭酸ナトリ
ウム水溶液等の有機溶剤／希アルカリ水溶液混合液等が
用いられる。また１、１．１−トリクロルエタンを主成
分とする洗浄剤、例えばスリーワンＥＸ（東亜合成化学
（株）製）を使用することもできる。
上記の方法で得られた像的な保護被膜は、通常のエツチ
ング、めっき等のための耐食膜であるが、現像後に活性
光の露光および８０〜２００℃での加熱処理を行なうこ
とにより、更に優れた特性を有する保護膜が得られる。
ング、めっき等のための耐食膜であるが、現像後に活性
光の露光および８０〜２００℃での加熱処理を行なうこ
とにより、更に優れた特性を有する保護膜が得られる。
これらの活性光の露光および加熱処理の順序はどちらが
先でもよい。
先でもよい。
（発明の効果）
本発明の感光性樹脂組成物を用いて得られる保護被膜は
、トリクレン、メチルエチルケトン、イソプロピルアル
コール、トルエン等の有機溶剤に充分耐え、酸性水溶液
またはアルカリ水溶液にも耐える。更に耐熱性、機械的
特性にも優れているので、ソルダマスク等の永久的な保
護膜として使用することができる。更に本発明の感光性
樹脂組成物を用いて形成される被膜は優れた化学的、物
理的特性を有し、このため多層印刷配線板の眉間絶縁層
、感光性接着剤、塗料、プラスチックレリーフ、印刷版
材料、金属精密加工材料等にも用いることができる。
、トリクレン、メチルエチルケトン、イソプロピルアル
コール、トルエン等の有機溶剤に充分耐え、酸性水溶液
またはアルカリ水溶液にも耐える。更に耐熱性、機械的
特性にも優れているので、ソルダマスク等の永久的な保
護膜として使用することができる。更に本発明の感光性
樹脂組成物を用いて形成される被膜は優れた化学的、物
理的特性を有し、このため多層印刷配線板の眉間絶縁層
、感光性接着剤、塗料、プラスチックレリーフ、印刷版
材料、金属精密加工材料等にも用いることができる。
また、本発明の感光性樹脂組成物を用いることにより、
１．Ｌ、１−）リクロルエタン等の難燃性現像液により
現像でき、解像度および耐熱性に優れたソルダマスクを
形成することができる。しかも写真法により厚膜のソル
ダマスクを形成することも可能である。
１．Ｌ、１−）リクロルエタン等の難燃性現像液により
現像でき、解像度および耐熱性に優れたソルダマスクを
形成することができる。しかも写真法により厚膜のソル
ダマスクを形成することも可能である。
（実施例）
実施例中の部は重量部を意味する。
実施例１
（ａ）光重合性不飽和化合物の合成
Ａ１オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ＥＯ
ＣＮ１０４（！ボキシ当量２３０１０９５部 エチルセロソルブアセテート ８００部Ｂ１アクリル
酸 ２５７部塩化ベンジルトリメ
チルアンモニウム ７部 ｐ−メトキシフェノール ３部エチルセロソ
ルブアセテート １００部Ｃ、イソシアナートエチル
メタクリレート５５３部 ジブチルチンジラウレート ０．５部エチルセロ
ソルブアセテート １００部Ｄ１メタノール
１０部温度針、攪拌装置、冷却管および
滴下器の付いた加熱および冷却可能な５ｉの反応器に、
前記Ａを加え、攪拌しながら６０℃に昇温し、均一に溶
解させた。反応温度を６０℃に保ちながら、これに約１
時間かけてＢを滴下した。Ｂ滴下後、２時間かけて８０
℃に昇温し、８０℃で約２０時間攪拌を続は反応系の酸
価を１以下にした。
ＣＮ１０４（！ボキシ当量２３０１０９５部 エチルセロソルブアセテート ８００部Ｂ１アクリル
酸 ２５７部塩化ベンジルトリメ
チルアンモニウム ７部 ｐ−メトキシフェノール ３部エチルセロソ
ルブアセテート １００部Ｃ、イソシアナートエチル
メタクリレート５５３部 ジブチルチンジラウレート ０．５部エチルセロ
ソルブアセテート １００部Ｄ１メタノール
１０部温度針、攪拌装置、冷却管および
滴下器の付いた加熱および冷却可能な５ｉの反応器に、
前記Ａを加え、攪拌しながら６０℃に昇温し、均一に溶
解させた。反応温度を６０℃に保ちながら、これに約１
時間かけてＢを滴下した。Ｂ滴下後、２時間かけて８０
℃に昇温し、８０℃で約２０時間攪拌を続は反応系の酸
価を１以下にした。
次いで温度を６０℃に低下させ、反応温度を６０℃に保
ちながら約３時間かけて均一にＣを滴下した。Ｃ滴下後
、約５時間かけて徐々に反応温度を８０℃まで昇温した
後、温度を６０℃に低下させ、Ｄを加え、約１時間攪拌
を続けた。こうして不揮発分６６％のオルソクレゾール
ノボランク型エポキシ樹脂／アクリル酸／イソシアナー
トエチ゛ルメタクリレート（酸当量／エポキシ当量比−
０゜７５、イソシアナート当量／水酸基当量比−１）系
光重合性不飽和化合物の溶液（１）を得た。
ちながら約３時間かけて均一にＣを滴下した。Ｃ滴下後
、約５時間かけて徐々に反応温度を８０℃まで昇温した
後、温度を６０℃に低下させ、Ｄを加え、約１時間攪拌
を続けた。こうして不揮発分６６％のオルソクレゾール
ノボランク型エポキシ樹脂／アクリル酸／イソシアナー
トエチ゛ルメタクリレート（酸当量／エポキシ当量比−
０゜７５、イソシアナート当量／水酸基当量比−１）系
光重合性不飽和化合物の溶液（１）を得た。
（ｂ）感光性樹脂組成物の調製
（ａ）で得られた光重合性不飽和化合物の溶液（Ｉ）１
５２部（不揮発分１００部）、２．４−ジエチルチオキ
サントン１部、ジメチルアミノ安息香酸イソアミル２部
およびビクトリアピュアブルー０．０１部を混合して本
発明の感光性樹脂組成物の溶液を調製した。
５２部（不揮発分１００部）、２．４−ジエチルチオキ
サントン１部、ジメチルアミノ安息香酸イソアミル２部
およびビクトリアピュアブルー０．０１部を混合して本
発明の感光性樹脂組成物の溶液を調製した。
（ｃ）硬化被膜の形成
（ｂ）で得られた感光性樹脂組成物の溶液を、銅張り積
層板上に塗布し、室温で２０分、８０℃で２０分間乾燥
し、厚さ４０部ｍの感光層を形成した０次いでネガマス
クを通してオーク製作所（株）製フェニックス３０００
型露光機を用い、２００ｍＪ／ｃｄで露光した。露光後
８０℃で５分間加熱し、常温で３０分放置した後、１，
１．１−トリクロルエタンを用いて２０℃で９０秒間ス
プレー現像した。次いで東芝電材（株）製東芝紫外線照
射装置（定格電圧２００Ｖ、定格消費型カフ。
層板上に塗布し、室温で２０分、８０℃で２０分間乾燥
し、厚さ４０部ｍの感光層を形成した０次いでネガマス
クを通してオーク製作所（株）製フェニックス３０００
型露光機を用い、２００ｍＪ／ｃｄで露光した。露光後
８０℃で５分間加熱し、常温で３０分放置した後、１，
１．１−トリクロルエタンを用いて２０℃で９０秒間ス
プレー現像した。次いで東芝電材（株）製東芝紫外線照
射装置（定格電圧２００Ｖ、定格消費型カフ。
２ＫＷ、適合ランプＨ５６００Ｌ／２、ランプ本数１本
）を使用し、ＩＪ／−で照射した後、１５０℃で３０分
間加熱処理してネガマスクに相応する寸法精度の優れた
ソルダマスクを得た。このソルダマスクは耐冷熱衝撃性
に優れ、ロジン系フラックスＡ−２２６（タムラ化研（
株）製）を用いて、２６０″Ｃで１０秒間、はんだ付は
処理し、更にトリクレンで２５℃、１０分間清浄化処理
した後、ＭＩＬ−３ＴＤ−２０２Ｅ １０７Ｄ 条
件Ｂ（−６５℃３０分間、常温５分以内、１２５℃３０
分間）、５０サイクルの冷熱衝撃試験でクラ・ツクの発
生および被膜の剥がれは認められず、長期間の信頼性が
非常に優れていることがわかった。
）を使用し、ＩＪ／−で照射した後、１５０℃で３０分
間加熱処理してネガマスクに相応する寸法精度の優れた
ソルダマスクを得た。このソルダマスクは耐冷熱衝撃性
に優れ、ロジン系フラックスＡ−２２６（タムラ化研（
株）製）を用いて、２６０″Ｃで１０秒間、はんだ付は
処理し、更にトリクレンで２５℃、１０分間清浄化処理
した後、ＭＩＬ−３ＴＤ−２０２Ｅ １０７Ｄ 条
件Ｂ（−６５℃３０分間、常温５分以内、１２５℃３０
分間）、５０サイクルの冷熱衝撃試験でクラ・ツクの発
生および被膜の剥がれは認められず、長期間の信頼性が
非常に優れていることがわかった。
実施例２
（ａ）光重合性不飽和化合物の合成
Ａ、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ＥＯ
ＣＮ１０４（エポキシ当量２３０１０９５部 メチルエチルケトン ６００部Ｂ１メタクリ
ル酸 ２２８部塩化ベンジルトリメチ
ルアンモニウム ７部 ｐ−メトキシフェノール ３部メチルエチル
ケトン １００部Ｃ、イソシアナートエチル
メタクリレート２２１部 ジブチルチンジラウレート ０．５部メチルエチ
ルケトン １００部Ｄ、メタノール
１０部Ａ−Ｄを用い、その他は実施例１
−（ａ）と同様にして、不揮発分６６％のオルソクレゾ
ールノボラック型エポキシ樹脂／メタクリル酸／イソシ
アナートエチルメタクリレート（酸当量／エポキシ当量
比＝０．５、イソシアナート当量／水酸基当量比＝ ０
．６ ）系光重合性不飽和化合物の溶液（Ｉｆ）を得た
。
ＣＮ１０４（エポキシ当量２３０１０９５部 メチルエチルケトン ６００部Ｂ１メタクリ
ル酸 ２２８部塩化ベンジルトリメチ
ルアンモニウム ７部 ｐ−メトキシフェノール ３部メチルエチル
ケトン １００部Ｃ、イソシアナートエチル
メタクリレート２２１部 ジブチルチンジラウレート ０．５部メチルエチ
ルケトン １００部Ｄ、メタノール
１０部Ａ−Ｄを用い、その他は実施例１
−（ａ）と同様にして、不揮発分６６％のオルソクレゾ
ールノボラック型エポキシ樹脂／メタクリル酸／イソシ
アナートエチルメタクリレート（酸当量／エポキシ当量
比＝０．５、イソシアナート当量／水酸基当量比＝ ０
．６ ）系光重合性不飽和化合物の溶液（Ｉｆ）を得た
。
（ｂ）感光性樹脂組成物の調製
（ａ）で得られた光重合性不飽和化合物の溶液（ＩＩ）
１５２部（不揮発分１００部）、２．４−ジメチルチオ
キサントン１部、ジメチルアミノ安息香酸イソアミル２
部およびＢＦ３−モノエタノールアミンコンプレックス
１部を混合して本発明の感光性樹脂組成物の溶液を調製
した。
１５２部（不揮発分１００部）、２．４−ジメチルチオ
キサントン１部、ジメチルアミノ安息香酸イソアミル２
部およびＢＦ３−モノエタノールアミンコンプレックス
１部を混合して本発明の感光性樹脂組成物の溶液を調製
した。
以下、実施例１−（Ｃ）と同様にして耐熱性に優れた硬
化被膜を得た。
化被膜を得た。
実施例３
実施例１−（ａ）で得られた光重合性不飽和化合物の溶
液（Ｉ）１５２部（不揮発分１００部）、２．４−ジエ
チルオキサントン１．５部、ホスマーＭ（油脂製品（株
）製リン酸エステル）とベンゾトリアゾールとの等モル
塩０．１部、シムボン（日本タルク（株）製 超微粒子
タルク）３０部およびフタロシアニングリーン０．５部
を３本ロールを用いて混練し、本発明の感光性樹脂組成
物の溶液を調製した。以下実施例１−（Ｃ）と同様にし
て耐熱性に優れた硬化被膜を得た。
液（Ｉ）１５２部（不揮発分１００部）、２．４−ジエ
チルオキサントン１．５部、ホスマーＭ（油脂製品（株
）製リン酸エステル）とベンゾトリアゾールとの等モル
塩０．１部、シムボン（日本タルク（株）製 超微粒子
タルク）３０部およびフタロシアニングリーン０．５部
を３本ロールを用いて混練し、本発明の感光性樹脂組成
物の溶液を調製した。以下実施例１−（Ｃ）と同様にし
て耐熱性に優れた硬化被膜を得た。
実施例４
（ａ）光重合性不飽和化合物の合成
Ａ１臭素化フェノールノボラフク型エポキシ樹脂ＢＲＥ
Ｎ （エポキシ当量２８０） １３３３部 エチルセロソルブアセテート ６００部Ｂ１アクリル
酸 ８６部塩化ベンジルトリメ
チルアンモニウム １部 Ｐ−メトキシフェノール ３部エチルセロソ
ルブアセテート ４０部Ｃ１イソシアナートエチル
メタクリレート２２１部 ジブチルチンジラウレート ０．１部エチルセロ
ソルブアセテート １００部Ｄ１メタノール
１０部Ａ−Ｄを用い、その他は実施例１
−（ａ）と同様にして、不揮発分６９％の臭素化フェノ
ールノボラック型エポキシ樹脂／アクリル酸／イソシア
ナートエチルメタクリレート（酸当量／エポキシ当量比
＝０．２５、イソシアナート当量／水酸基当量比＝１）
系光重合性不飽和化合物の溶液（１）を得た。
Ｎ （エポキシ当量２８０） １３３３部 エチルセロソルブアセテート ６００部Ｂ１アクリル
酸 ８６部塩化ベンジルトリメ
チルアンモニウム １部 Ｐ−メトキシフェノール ３部エチルセロソ
ルブアセテート ４０部Ｃ１イソシアナートエチル
メタクリレート２２１部 ジブチルチンジラウレート ０．１部エチルセロ
ソルブアセテート １００部Ｄ１メタノール
１０部Ａ−Ｄを用い、その他は実施例１
−（ａ）と同様にして、不揮発分６９％の臭素化フェノ
ールノボラック型エポキシ樹脂／アクリル酸／イソシア
ナートエチルメタクリレート（酸当量／エポキシ当量比
＝０．２５、イソシアナート当量／水酸基当量比＝１）
系光重合性不飽和化合物の溶液（１）を得た。
（ｂ）感光性樹脂組成物の調整
（ａ）で得られた光重合性不飽和化合物の溶液（ＩＩＩ
）１５２部（不揮発分１００部）、２．４−ジエチルチ
オキサントン２部およびジメチルアミノ安息香酸エチル
３部を混合して本発明の感光性樹脂組成物の溶液を調製
した。以下、実施例１−（ｃ）と同様にして耐熱性に優
れた硬化被膜を得た。
）１５２部（不揮発分１００部）、２．４−ジエチルチ
オキサントン２部およびジメチルアミノ安息香酸エチル
３部を混合して本発明の感光性樹脂組成物の溶液を調製
した。以下、実施例１−（ｃ）と同様にして耐熱性に優
れた硬化被膜を得た。
実施例５
（ａ）光重合性不飽和化合物の合成
Ａ、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂ＥＯＣ
Ｎ１０３（エポキシ当量２３０）１０９５部 エチルセロソルブアセテート ６００部Ｂ１ケイ皮酸
１７６部アクリル酸
８６部塩化ベンジルトリメチルアンモニ
ウム １部 Ｐ−メトキシフェノール ３部エチルセロソ
ルブアセテート １００部Ｃ１イソシアナートエチル
メタクリレート３６９部 ジブチルチンジラウレート０．１部 エチルセロソルブアセテート １００部Ｄ、メタノー
ル １０部Ａ−Ｄを用い、その他
は実施例１−（ａ）と同様にして、ＮＶ６８％のオルソ
クレゾールノボラック型エポキシ樹脂／ケイ皮酸／アク
リル酸／イソシアナートエチルメタクリレート（酸当量
／エポキシ当量比−０，５、イソシアナート当量／水酸
基当量比＝１）系光重合性不飽和化合物の溶液（■）を
得た。
Ｎ１０３（エポキシ当量２３０）１０９５部 エチルセロソルブアセテート ６００部Ｂ１ケイ皮酸
１７６部アクリル酸
８６部塩化ベンジルトリメチルアンモニ
ウム １部 Ｐ−メトキシフェノール ３部エチルセロソ
ルブアセテート １００部Ｃ１イソシアナートエチル
メタクリレート３６９部 ジブチルチンジラウレート０．１部 エチルセロソルブアセテート １００部Ｄ、メタノー
ル １０部Ａ−Ｄを用い、その他
は実施例１−（ａ）と同様にして、ＮＶ６８％のオルソ
クレゾールノボラック型エポキシ樹脂／ケイ皮酸／アク
リル酸／イソシアナートエチルメタクリレート（酸当量
／エポキシ当量比−０，５、イソシアナート当量／水酸
基当量比＝１）系光重合性不飽和化合物の溶液（■）を
得た。
（ｂ）感光性樹脂組成物の調製
（ａ）で得られた光重合性不飽和化合物の溶液（■）１
４７部（不揮発分１００部）、２．４−ジエチルチオキ
サントン２部およびジメチルアミノ安息香酸イソブチル
３部を混合して本発明の感光性樹脂組成物の溶液を調製
した。以下、実施例１−（ｃ）と同様にして耐熱性に優
れた硬化被膜を得た。
４７部（不揮発分１００部）、２．４−ジエチルチオキ
サントン２部およびジメチルアミノ安息香酸イソブチル
３部を混合して本発明の感光性樹脂組成物の溶液を調製
した。以下、実施例１−（ｃ）と同様にして耐熱性に優
れた硬化被膜を得た。
実施例６
（ａ）光重合性不飽和化合物の合成
Ａ、フェノールノボラック型エポキシ樹脂ＹＤＰＮ−６
３８（エポキシ当量１８０） ８５７部 エチルセロソルブアセテート ５ｏｏｓＢ５アクリル
酸 ６９部塩化ベンジルトリメチ
ルアンモニウム ０．５部 エチルセロソルブアセテ−） １０（ＩＣ５イソシ
アナ一トエチルメタクリレート１４８部 ジブチルチンジラウレートｏ、 ｓ部 エチルセロソルブアセテート １００部Ｄ、メタノー
ル １０部Ａ−Ｄを用い、Ｂの反
応温度を１００°Ｃとする他は実施例１−（ａ）と同様
にして、ＮＶ５７％のフェノールノボラック型エポキシ
樹脂／アクリル酸／イソシアナートエチルメタクリレー
ト（酸当量／エポキシ当量比−０，２、イソシアナート
当量／水酸基当量比−１）系光重合性不飽和化合物の溶
液（Ｖ）を得た。
３８（エポキシ当量１８０） ８５７部 エチルセロソルブアセテート ５ｏｏｓＢ５アクリル
酸 ６９部塩化ベンジルトリメチ
ルアンモニウム ０．５部 エチルセロソルブアセテ−） １０（ＩＣ５イソシ
アナ一トエチルメタクリレート１４８部 ジブチルチンジラウレートｏ、 ｓ部 エチルセロソルブアセテート １００部Ｄ、メタノー
ル １０部Ａ−Ｄを用い、Ｂの反
応温度を１００°Ｃとする他は実施例１−（ａ）と同様
にして、ＮＶ５７％のフェノールノボラック型エポキシ
樹脂／アクリル酸／イソシアナートエチルメタクリレー
ト（酸当量／エポキシ当量比−０，２、イソシアナート
当量／水酸基当量比−１）系光重合性不飽和化合物の溶
液（Ｖ）を得た。
（ｂ）感光性樹脂組成物の調製
（ａ）で得られた光重合性不飽和化合物の溶液（Ｖ）１
１４部（不揮発分６５部）、２．４−ジメチルチオキサ
ントン１．５部、ジメチルアミノ安息香酸イソブチル３
部、キュアゾールＣ，，Ｚ−ＡＺＩＮＥ１部、およびメ
チルセロソルブ５部を混合して本発明の感光性樹脂組成
物の溶液を調製した。
１４部（不揮発分６５部）、２．４−ジメチルチオキサ
ントン１．５部、ジメチルアミノ安息香酸イソブチル３
部、キュアゾールＣ，，Ｚ−ＡＺＩＮＥ１部、およびメ
チルセロソルブ５部を混合して本発明の感光性樹脂組成
物の溶液を調製した。
（Ｃ）硬化被膜の形成
現像液として１．１．１−）リクロルエタンの代わりに
スリーワンＥＸ （１，１，１−トリクロルエタンを主
成分とする洗浄液、東亜合成（株）製）を用い、その他
は実施例１−（Ｃ）と同様にして耐熱性に優れた硬化被
膜を得た。
スリーワンＥＸ （１，１，１−トリクロルエタンを主
成分とする洗浄液、東亜合成（株）製）を用い、その他
は実施例１−（Ｃ）と同様にして耐熱性に優れた硬化被
膜を得た。
Claims (1)
- １、（ａ）オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂
、フェノールノボラック型エポキシ樹脂およびハロゲン
化フェノールノボラック型エポキシ樹脂からなる群から
選ばれた少なくとも１種のノボラック型エポキシ樹脂と
、不飽和カルボン酸とを、酸当量／エポキシ当量比が０
．１〜０．９８の範囲で付加反応させて得られる不飽和
化合物の２級水酸基に、イソシアナートエチルメタクリ
レートを、イソシアナート当量／水酸基当量比が０．１
〜１の範囲で反応させて得られる光重合性不飽和化合物
並びに（ｂ）活性光により遊離ラジカルを生成する増感
剤および（または）増感剤系を含有してなる感光性樹脂
組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25487184A JPS61132947A (ja) | 1984-11-30 | 1984-11-30 | 感光性樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25487184A JPS61132947A (ja) | 1984-11-30 | 1984-11-30 | 感光性樹脂組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61132947A true JPS61132947A (ja) | 1986-06-20 |
| JPH0310295B2 JPH0310295B2 (ja) | 1991-02-13 |
Family
ID=17270989
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25487184A Granted JPS61132947A (ja) | 1984-11-30 | 1984-11-30 | 感光性樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61132947A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62247353A (ja) * | 1986-04-21 | 1987-10-28 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性エレメント |
| JPS63280244A (ja) * | 1987-05-12 | 1988-11-17 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
| US4975347A (en) * | 1986-09-11 | 1990-12-04 | Siemens Aktiengesellschaft | Method for manufacturing heat-stable structured layers from photopolymers which are addition reaction products of olefinic unsaturated monoisocyanates and phenol-formaldehyde resins |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5545793A (en) * | 1978-09-26 | 1980-03-31 | Bayer Ag | Dry resisting film and composition producing it |
| JPS5872140A (ja) * | 1981-10-26 | 1983-04-30 | Hitachi Chem Co Ltd | 光硬化性樹脂組成物 |
| JPS5936246A (ja) * | 1975-12-19 | 1984-02-28 | バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト | 樹脂組成物 |
-
1984
- 1984-11-30 JP JP25487184A patent/JPS61132947A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5936246A (ja) * | 1975-12-19 | 1984-02-28 | バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト | 樹脂組成物 |
| JPS5545793A (en) * | 1978-09-26 | 1980-03-31 | Bayer Ag | Dry resisting film and composition producing it |
| JPS5872140A (ja) * | 1981-10-26 | 1983-04-30 | Hitachi Chem Co Ltd | 光硬化性樹脂組成物 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62247353A (ja) * | 1986-04-21 | 1987-10-28 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性エレメント |
| US4975347A (en) * | 1986-09-11 | 1990-12-04 | Siemens Aktiengesellschaft | Method for manufacturing heat-stable structured layers from photopolymers which are addition reaction products of olefinic unsaturated monoisocyanates and phenol-formaldehyde resins |
| JPS63280244A (ja) * | 1987-05-12 | 1988-11-17 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0310295B2 (ja) | 1991-02-13 |
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