JPH1010725A - 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光硬化性及び耐熱性に優れた感光性樹脂組成
物並びに感光性エレメントを提供する。 【解決手段】 （ａ）オルソクレゾールノボラック型エ
ポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂及び
ハロゲン化フェノールノボラック型エポキシ樹脂からな
る群から選ばれた少なくとも１種のノボラック型エポキ
シ樹脂と、不飽和カルボン酸とを、酸当量／エポキシ当
量比が０．１〜１．０となる範囲で付加反応させて得ら
れる不飽和化合物の二級水酸基に、イソシアナートエチ
ルアクリレートを、イソシアナート当量／水酸基当量比
が０．１〜１．０となる範囲で反応させて得られる光重
合性不飽和化合物並びに（ｂ）活性光により遊離ラジカ
ルを生成する光重合開始剤を含有してなる感光性樹脂組
成物並びにこの感光性樹脂組成物を支持体フィルム上に
積層してなる感光性エレメント。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、感光性樹脂組成物
及びこれを用いた感光性エレメントに関する。

【０００２】

【従来の技術】印刷配線板製造の分野において、めっき
あるいはエッチングのためのレジスト形成に感光性樹脂
組成物及びこれを用いた感光性エレメントを用いること
は良く知られている。また、最近では無電解めっきマス
ク、ソルダマスク等の永久マスクの分野にも感光性樹脂
組成物及びこれを用いた感光性エレメントが使用されて
きている。これらの感光性エレメントとしては、支持体
フィルム上に感光性樹脂組成物を積層したものが広く使
用されている。

【０００３】永久マスクは、耐熱性、耐溶剤性、耐薬品
性、電気的特性、機械的特性等の優れた特性が要求され
るため、使用できる感光性樹脂は限られている。従来、
永久マスク形成用感光性樹脂組成物としては、光反応
性が付与されたエポキシ樹脂を主成分とする感光性樹脂
組成物（特開昭５２−３７９９６号公報、特開昭５８−
６２６３６号公報等）、エポキシ樹脂とアクリル酸又
はメタクリル酸とを付加反応させて得られる不飽和化合
物の二級水酸基にイソシアナートエチルメタクリレート
を反応させて得られる光重合性化合物を主成分とする感
光性樹脂組成物（特開昭６１−１３２９４７号公報等）
などが知られている。しかしながら、前記の感光性樹
脂組成物は、エポキシ樹脂をベースとしており、硬化皮
膜の耐熱性には優れているが、厚膜での光硬化性が不足
しており、膜厚５０μｍでは高精度のマスク形成が困難
となる。一方、前記の感光性樹脂組成物は、厚膜での
光硬化性が優れており、膜厚１００μｍでも高精度のマ
スク形成が可能であるが、耐熱性が必ずしも充分とは言
えない。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】請求項１記載の発明
は、光硬化性及び耐熱性に優れた感光性樹脂組成物を提
供するものである。請求項２記載の発明は、光硬化性及
び耐熱性に優れ、作業性、取扱性等に優れた感光性エレ
メントを提供するものである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は、（ａ）オルソ
クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボ
ラック型エポキシ樹脂及びハロゲン化フェノールノボラ
ック型エポキシ樹脂からなる群から選ばれた少なくとも
１種のノボラック型エポキシ樹脂と、不飽和カルボン酸
とを、酸当量／エポキシ当量比が０．１〜１．０となる
範囲で付加反応させて得られる不飽和化合物の二級水酸
基に、イソシアナートエチルアクリレートを、イソシア
ナート当量／水酸基当量比が０．１〜１．０となる範囲
で反応させて得られる光重合性不飽和化合物並びに
（ｂ）活性光により遊離ラジカルを生成する光重合開始
剤を含有してなる感光性樹脂組成物に関する。また、本
発明は前記感光性樹脂組成物を支持体フィルム上に積層
してなる感光性エレメントに関する。

【０００６】

【発明の実施の形態】本発明の感光性樹脂組成物は、必
須成分である（ａ）成分として、オルソクレゾールノボ
ラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキ
シ樹脂及びハロゲン化フェノールノボラック型エポキシ
樹脂からなる群から選ばれた少なくとも１種のノボラッ
ク型エポキシ樹脂と、不飽和カルボン酸とを、酸当量／
エポキシ当量比が０．１〜１．０となる範囲で付加反応
させて得られる不飽和化合物の二級水酸基に、イソシア
ナートエチルアクリレートを、イソシアナート当量／水
酸基当量比が０．１〜１．０となる範囲で反応させて得
られる光重合性不飽和化合物を含有する。

【０００７】（ａ）成分の製造に使用しうるノボラック
型エポキシ樹脂は、例えば、オルソクレゾール、フェノ
ール、ハロゲン化フェノールなどとアルデヒドとを酸触
媒の存在下に反応させて得られるノボラック型樹脂のフ
ェノール性水酸基にアルカリの存在下にエピクロルヒド
リンを反応させて得られるもので、商業的に入手可能で
ある。オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂とし
ては、例えばチバ・ガイギー社製アラルダイトＥＣＮ１
２９９（軟化点９９℃、エポキシ当量２３０）、ＥＣＮ
１２８０（軟化点８０℃、エポキシ当量２３０）、ＥＣ
Ｎ１２７３（軟化点７３℃、エポキシ当量２３０）、日
本化薬(株)製ＥＯＣＮ１０４（軟化点９０〜１００℃、
エポキシ当量２２５〜２４５）、ＥＯＣＮ１０３（軟化
点８０〜９０℃、エポキシ当量２１５〜２３５）、ＥＯ
ＣＮ１０２（軟化点７０〜８０℃、エポキシ当量２１５
〜２３５）などが挙げられる。

【０００８】フェノールノボラック型エポキシ樹脂とし
ては、例えばシェル社製エピコート１５４（エポキシ当
量１７６〜１８１）、ダウケミカル社製ＤＥＮ４３１
（エポキシ当量１７２〜１７９）、ＤＥＮ４３８（エポ
キシ当量１７５〜１８２）、東都化成(株)製ＹＤＰＮ−
６３８（エポキシ当量１７０〜１９０）、ＹＤＰＮ−６
０１（エポキシ当量１８０〜２２０）、ＹＤＰＮ−６０
２（エポキシ当量１８０〜２２０）などが挙げられる。
ハロゲン化フェノールノボラック型エポキシ樹脂として
は、例えば、日本化薬(株)製ＢＲＥＮ（エポキシ当量２
７０〜３００、臭素含有量３５〜３７％、軟化点８０〜
９０℃）等の臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹
脂などが挙げられる。上記のようなノボラック型エポキ
シ樹脂と反応させる不飽和カルボン酸としては、アクリ
ル酸、メタクリル酸、β−フリルアクリル酸、β−スチ
リルアクリル酸、α−シアノケイ皮酸、ケイ皮酸などが
用いられる。

【０００９】本発明においては、上記のようなノボラッ
ク型エポキシ樹脂と不飽和カルボン酸とを、酸当量／エ
ポキシ当量比が０．１〜１．０、好ましくは０．１５〜
０．８の範囲となるように付加反応させる。酸当量／エ
ポキシ当量比が０．１未満であると、イメージ露光後の
現像処理により光硬化皮膜が膨潤しやすく、１．０を超
えると、電気的特性、密着性、はんだ耐熱性等の特性が
低下する傾向がある。この付加反応は、常法により行う
ことができ、その反応は下記の式（Ｉ）に示すように進
行する。

【００１０】

【化１】

【００１１】上記の付加反応は、例えば、前記ノボラッ
ク型エポキシ樹脂をメチルエチルケトン、メチルセロソ
ルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、シクロ
ヘキサノン等の不活性有機溶剤に溶解し、触媒としてト
リエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ジエチルシ
クロヘキシルアミン等の三級アミン、塩化ベンジルトリ
メチルアンモニウム、塩化ベンジルトリエチルアンモニ
ウム等の四級アンモニウム塩を、また、重合禁止剤とし
てハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール等を用い、
７０〜１１０℃で前記不飽和カルボン酸と攪拌すること
により行われ、不飽和化合物が得られる。

【００１２】上記のようにノボラック型エポキシ樹脂と
不飽和カルボン酸とを付加反応させて得られる不飽和化
合物の二級水酸基に対するイソシアナートエチルアクリ
レートの反応は、下記の式（II）に示すように進行す
る。

【００１３】

【化２】

【００１４】上記の不飽和化合物の二級水酸基とイソシ
アナートエチルアクリレートとの反応は、イソシアナー
ト当量／水酸基当量比が０．１〜１．０となる範囲で常
法により行われる。イソシアナート当量／水酸基当量比
が０．１未満であると、解像度及び光硬化性が低下し、
イソシアナート当量／水酸基当量比が１．０を超える
と、保有安定性、耐熱性などが低下する傾向がある。式
（ＩＩ）で示した反応は、常法で行われ、例えば、前記
のノボラック型エポキシ樹脂と不飽和カルボン酸とを付
加反応させて得られた不飽和化合物にジブチルチンジラ
ウレート、ジブチルチンジ−２−エチルヘキソエート等
のウレタン化触媒を添加し、所定量のイソシアナートエ
チルアクリレートを５０〜１１０℃で攪拌反応させるこ
とにより、光重合性不飽和化合物が得られる。このよう
な反応条件下では、ウレタン結合とエポキシ基との反
応、不飽和結合の熱重合等の副反応を防止することがで
き、その結果ゲル状物を生成させることなく、光重合性
不飽和化合物を得ることができる。

【００１５】本発明において、（ａ）成分として特に有
用な光重合性不飽和化合物としては、オルソクレゾール
ノボラック型エポキシ樹脂／アクリル酸／イソシアナー
トエチルアクリレート（酸当量／エポキシ当量比０．１
〜１．０、イソシアナート当量／水酸基当量比０．１〜
１．０）系反応物、オルソクレゾールノボラック型エポ
キシ樹脂／メタクリル酸／イソシアナートエチルアクリ
レート（酸当量／エポキシ当量比０．１〜１．０、イソ
シアナート当量／水酸基当量比０．１〜１．０）系反応
物が挙げられる。

【００１６】本発明の感光性樹脂組成物は、必須成分で
ある（ｂ）成分として、活性光により遊離ラジカルを生
成する光重合開始剤を含有する。光重合開始剤として
は、例えば、２−エチルアントラキノン、２−ｔ−ブチ
ルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，
２−ベンズアントラキノン、２，３−ジフェニルアント
ラキノン等の置換又は非置換の多核キノン類、ジアセチ
ルベンジル等のケトアルドニル化合物、ベンゾイン、ピ
バロン等のα−ケタルドニルアルコール類及びエーテル
類、α−炭化水素置換芳香族アシロイン類、例えば、α
−フェニル−ベンゾイン、α，α−ジエトキシアセトフ
ェノン等、ベンゾフェノン、４，４’−ビスジアルキル
アミノベンゾフェノン等の芳香族ケトン類、２−メチル
チオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、
２，４−ジメチルチオキサントン、２−クロルチオキサ
ントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−エチル
チオキサントン等のチオキサントン類、２−メチル−１
−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルホリノ−
プロパン−１などが用いられ、これらは単独で又は２種
類以上を組み合わせて用いることができる。

【００１７】また、例えば、２，４，５−トリアリルイ
ミダゾール二量体と２−メルカプトベンゾキナゾール、
ロイコクリスタルバイオレット、トリス（４−ジエチル
アミノ−２−メチルフェニル）メタン等との組合せ系を
が用いることができる。また、それ自体で光重合開始性
はないが、前記物質と組み合わせて用いることにより全
体として光重合開始性能のより良好な系となるような添
加剤、例えば、ベンゾフェノンに対するトリエタノール
アミン等の三級アンミン、チオキサントン類に対するジ
メチルアミノ安息香酸イソアミル、Ｎ−メチルジエタノ
ールアミン、ビスエチルアミノベンゾフェノン等を用い
ることもできる。

【００１８】本発明の感光性樹脂組成物においては、
（ｂ）成分の光重合開始剤は、（ａ）成分の光重合性不
飽和化合物に対して０．５〜１０重量％の割合で含有さ
れることが好ましい。

【００１９】本発明の感光性樹脂組成物は、他の副次的
成分を含有していてもよい。副次的成分としては、例え
ば、熱重合防止剤、染料、顔料、フィラー、塗工性向上
剤、難燃剤、難燃助剤、密着性向上剤、エポキシ樹脂の
潜在性硬化剤、熱可塑性有機高分子化合物等のフィルム
性向上剤、消泡剤などが挙げられる。

【００２０】本発明の感光性エレメントは、支持体フィ
ルム上に前記の感光性樹脂組成物を積層することによっ
て得られる。支持体フィルム上への感光性樹脂組成物の
積層は、常法により行うことができ、例えば、感光性樹
脂組成物をメチルエチルケトン、プロピレングリコール
モノメチルエーテル等の有機溶剤に均一に溶解させ、こ
の溶液を支持体フィルム上にナイフコート法、ロールコ
ート法などの方法で塗布し、乾燥することにより行われ
る。

【００２１】本発明に用いられる支持体フィルムは、感
光性エレメントの製造時に必要な耐熱性及び耐溶剤性を
有していることが好ましい。使用しうる支持体フィルム
の例としては、ポリエチレンテレフタレートフィルム等
のポリエステルフィルム、ポリイミドフィルム、ポリプ
ロピレンフィルム等を挙げることができる。

【００２２】長尺の感光性エレメントを製造する場合に
は、製造の最終段階で、そのエレメントをロール状に巻
き取るのが好ましい。この場合、感光性樹脂組成物層の
支持体フィルム背面への付着を防ぎ、さらに塵の付着を
防ぐ目的で、その感光性樹脂組成物層の上に剥離可能な
カバーフィルムを積層することが好ましい。剥離可能な
カバーフィルムの具体例としては、ポリエチレンフィル
ム等が挙げられる。本発明の感光性エレメントを構成す
る感光性樹脂組成物の層の厚さは、５〜２００μｍが好
ましく、２０〜１５０μｍとすることがより好ましい。
感光性樹脂組成物の層が薄くなると、印刷配線板表面へ
の追従性が低下し、また、厚くなると感光性が低下する
傾向がある。

【００２３】次に、本発明の感光性エレメントの使用方
法について説明する。本発明の感光性エレメントの印刷
配線板上への積層は、容易である。カバーフィルムのな
い場合にはそのまま、カバーフィルムがある場合には、
カバーフィルムを剥離して又は剥離しながら、加熱、加
圧積層する。加熱、加圧積層は、公知の常圧ラミネータ
ーなどを用いて行うことができる。印刷配線板の回路厚
が８μｍ以上の場合には、凹凸部への空気の巻き込みを
防止するため、特開昭５１−６３７０２号公報、特公昭
５３−３１６７０号公報などに記載されているような連
続式真空ラミネーターや特公昭５５−１３３４１号公
報、特開平２−６９６０号公報などに記載されているバ
ッチ式真空ラミネーターを用いることが好ましい。感光
性エレメントの加熱加圧積層の際の温度は、室温〜１７
０℃、圧力は０．１〜５０kgf/cm²、真空度は０．０１
〜６００mmHgの範囲であることが好ましい。

【００２４】積層後の露光及び現像処理は、常法により
行うことができる。すなわち、支持体フィルムが活性光
に不透明である場合には、支持体フィルムを剥離した
後、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライド灯など
の光源を用い、ネガマスクを通して像的に露光する。透
明フィルムが残っている場合には、これを剥離した後、
現像する。現像処理に用いられる現像液は、露光部にダ
メージを与えず、未露光部を選択的に溶出するもので、
露光部を汚染しないものであれば、その種類について特
に制限はない。現像液としては、例えば、シクロヘキサ
ノン、トルエン、ジエチレングリコールモノブチルエー
テル等の有機溶剤、ジエチレングリコールモノブチルエ
ーテル／水（９／１重量比）の混合液等の有機溶剤と水
との混合溶剤などが挙げられる。

【００２５】上記の方法で得られた像的な保護皮膜は、
通常のエッチング、めっき等のための耐食膜であるが、
現像後に活性光の露光及び８０〜２００℃での加熱処理
を行うことにより、さらに優れた特性を有する保護膜が
得られる。これらの活性光の露光及び加熱処理の順序
は、どちらが先でもよい。

【００２６】本発明の感光性樹脂組成物及びこれを用い
た感光性エレメントを用いて得られる保護被膜は、耐溶
剤性に優れており、トリクレン、メチルエチルケトン、
イソプロピルアルコール、トルエン等の有機溶剤に充分
に耐え、また、酸性水溶液又はアルカリ水溶液にも耐え
る。さらに、耐熱性及び機械的特性にも優れているの
で、ソルダマスク等の永久的な保護膜として好適であ
る。さらに、本発明の感光性樹脂組成物を用いて形成さ
れる被膜は、優れた化学的、物理的特性を有し、そのた
め多層印刷配線板の層間絶縁層、感光性接着剤、塗料、
プラスチックレリーフ、印刷版材料、金属精密加工材料
などにも好適である。また、本発明の感光性樹脂組成物
を用いれば、１，１，１−トリクロルエタン等の難燃性
現像液により現像でき、解像度及び耐熱性に優れたソル
ダマスクを形成することができる。しかも写真法により
厚膜のソルダマスクを形成することも可能である。

【００２７】

【実施例】次に、実施例により本発明を詳細に説明す
る。なお、以下の実施例中、「部」は特に断らない限
り、「重量部」を意味する。

【００２８】実施例１ （ａ）光重合性不飽和化合物の合成

【表１】

【００２９】温度計、攪拌装置、冷却管及び滴下器の付
いた加熱及び冷却可能な５リットルの反応器に、表１の
Ａを加え、攪拌しながら６０℃に昇温し、均一に溶解さ
せた。反応温度を６０℃に保ちながら、これに約１時間
かけて表１のＢを滴下した。Ｂ滴下後、２時間かけて８
０℃に昇温し、８０℃で約２０時間攪拌を続け、反応系
の酸価を１以下にした。次いで、温度を６０℃に低下さ
せ、反応温度を６０℃に保ちながら約３時間かけて均一
に表１のＣを滴下した。Ｃ滴下後、約５時間かけて徐々
に反応温度を８０℃まで昇温した後、温度を６０℃に低
下させ、表１のＤを加え、約１時間攪拌を続けた。こう
して不揮発分６６％のオルソクレゾールノボラック型エ
ポキシ樹脂／アクリル酸／イソシアナートエチルアクリ
レート（酸当量／エポキシ当量比＝０．７５、イソシア
ナート当量／水酸基当量比＝１）系光重合性不飽和化合
物の溶液を得た。

【００３０】（ｂ）感光性樹脂組成物の調製 上記（ａ）で得られた光重合性不飽和化合物の溶液１５
２部（不揮発分１００部）、２，４−ジエチルチオキサ
ントン１部、ジメチルアミノ安息香酸イソアミル２部及
びビクトリアピュアブルー０．０１部を混合して感光性
樹脂組成物の溶液を調製した。

【００３１】（ｃ）硬化被膜の形成 上記（ｂ）で得られた感光性樹脂組成物の溶液を、銅張
り積層板上に塗布し、室温で２０分、８０℃で２０分間
乾燥し、厚さ４０μｍの感光性樹脂組成物層を形成し
た。次いで、ネガマスクを通してオーク製作所(株)製２
０１Ｂ型露光機を用い、２００mJ/cm²で露光した。露光
後、８０℃で５分間加熱し、常温で３０分放置した後、
シクロヘキサノンを用いて２０℃で９０秒間スプレー現
像した。次いで、東芝電材(株)製東芝紫外線照射装置
（定格電圧２００Ｖ、定格消費電力７．２kW、適合ラン
プＨ５６００Ｌ／２、ランプ本数１本）を使用し、１J/
cm²で照射してネガマスクに相応する寸法精度の優れた
ソルダマスクを得た。このソルダマスクは、耐冷熱衝撃
性に優れ、ロジン系フラックスＡ−２２６（タムラ化研
(株)製）を用いて、２６０℃で２０秒間、はんだ付け処
理し、さらにトリクレンで２５℃で１０分間清浄化処理
した後、ＭＩＬ−ＳＴＤ−２０２Ｅ １０７Ｄ条件Ｂ
（−６５℃３０分、常温５分以内、１２５℃３０分
間）、５０サイクルの冷熱衝撃試験でクラックの発生及
び被膜の剥がれは認められず、長期間の信頼性が非常に
優れていることが分かった。

【００３２】実施例２ （ａ）光重合性不飽和化合物の合成

【表２】

【００３３】表２のＡ〜Ｄを用いた以外は、実施例１の
（ａ）と同様にして、不揮発分６６％のオルソクレゾー
ルノボラック型エポキシ樹脂／メタクリル酸／イソシア
ナートエチルアクリレート（酸当量／エポキシ当量比＝
０．５、イソシアナート当量／水酸基当量比＝０．６）
系光重合性不飽和化合物の溶液を得た。

【００３４】（ｂ）感光性樹脂組成物の調製及び硬化被
膜の形成 上記（ａ）で得られた光重合製不飽和化合物の溶液１５
２部（不揮発分１００部）、２，４−ジメチルチオキサ
ントン１部、ジメチルアミノ安息香酸イソアミル２部及
びＢＦ₃−モノエタノールアミンコンプレックス１部を
混合して感光性樹脂組成物の溶液を調製した。得られた
感光性樹脂組成物の溶液を用いた以外は、実施例１の
（ｃ）と同様にして耐熱性に優れた硬化被膜を得た。

【００３５】実施例３ 実施例１の（ｂ）で得られた感光性樹脂組成物の溶液を
厚さ２０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム上
に塗布し、室温で２０分、８０℃で１０分間、１０５℃
で５分間乾燥し、感光性樹脂組成物の層厚が７５μｍの
感光性エレメントを得た。得られた感光性エレメント
を、厚さ５０μｍ、幅１２５μｍの銅導体を有する印刷
配線板（ガラスエポキシ基板、厚さ１．６mm）上に日立
化成工業(株)製真空ラミネーター（真空度２０mmHg、ラ
ミネート温度８０℃、ラミネート速度１ｍ／分）を用
い、加熱加圧積層した。積層後、オーク製作所製２０１
Ｂ型露光機を用い、ネガマスクを通して、１００mJ/cm²
で露光した。室温で１５分間放置し、ポリエチレンテレ
フタレートフィルムを剥離した後、シクロヘキサノンを
用い、２５℃で９０秒間スプレー現像した。

【００３６】次いで、東芝電材(株)製東芝紫外線照射装
置（定格電圧２００Ｖ、定格消費電力７．２kW）を使用
し、８０℃で３J/cm²で照射してネガマスクに相応する
ソルダマスクを得た。このソルダマスクは、密着性、耐
溶剤性及び耐熱性に優れ、ロジン系フラックスＡ−２２
６（タムラ化研(株)製）を用いて、２６０℃で９０秒
間、はんだ付け処理し、次いで、花王(株)製プリント基
板洗浄剤クリーンスルー７５０Ｈ（水系洗浄剤）で５０
℃で１０分間洗浄処理したところ、被膜の剥離は認めら
れなかった。

【００３７】

【発明の効果】請求項１記載の感光性樹脂組成物は、光
硬化性及び耐熱性に優れたものである。請求項２記載の
感光性エレメントは、光硬化性及び耐熱性に優れ、作業
性、取扱性等に優れたものである。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０３Ｆ 7/027 ５１５ Ｇ０３Ｆ 7/027 ５１５ 7/028 7/028 Ｈ０５Ｋ 3/06 Ｈ０５Ｋ 3/06 Ｈ Ｊ 3/18 0430−4Ｅ 3/18 Ｄ 3/28 3/28 Ｄ

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （ａ）オルソクレゾールノボラック型エ
   ポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂及び
   ハロゲン化フェノールノボラック型エポキシ樹脂からな
   る群から選ばれた少なくとも１種のノボラック型エポキ
   シ樹脂と、不飽和カルボン酸とを、酸当量／エポキシ当
   量比が０．１〜１．０となる範囲で付加反応させて得ら
   れる不飽和化合物の二級水酸基に、イソシアナートエチ
   ルアクリレートを、イソシアナート当量／水酸基当量比
   が０．１〜１．０となる範囲で反応させて得られる光重
   合性不飽和化合物並びに（ｂ）活性光により遊離ラジカ
   ルを生成する光重合開始剤を含有してなる感光性樹脂組
   成物。
2. 【請求項２】 請求項１記載の感光性樹脂組成物を支持
   体フィルム上に積層してなる感光性エレメント。