JPS63133147A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents
感光性樹脂組成物Info
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は感光性樹脂組成物に関し、更に詳しくは印刷配
線板製造、金属精密加工等に使用し得る保護膜形成用の
感光性樹脂組成物に関する。
線板製造、金属精密加工等に使用し得る保護膜形成用の
感光性樹脂組成物に関する。
(従来の技術)
従来、印刷配線板業界において、ソルダマスク。
化学めっき用レジスト等に使用可能な優れた特性を有す
る感光性樹脂組成物が知られている。ソルダマスクの主
な目的は、はんだ付は時のはんだ付は領域を限定し、は
んだブリッジ等を防ぐこと。
る感光性樹脂組成物が知られている。ソルダマスクの主
な目的は、はんだ付は時のはんだ付は領域を限定し、は
んだブリッジ等を防ぐこと。
裸の銅導体の腐食を防止すること、および長期にわたっ
て導体間の電気絶縁性を保持することである。通常ソル
ダマスクとしては、エポキシ樹脂。
て導体間の電気絶縁性を保持することである。通常ソル
ダマスクとしては、エポキシ樹脂。
アミノブラスト樹脂等の熱硬化性樹脂を主成分とするも
ので(印刷マスク)が用いられる。
ので(印刷マスク)が用いられる。
しかし、近年、印刷配線板の配線密度が高まシ。
また導体間の電気絶縁性の要求も厳しくなり、それに用
いるソルダマスクも厚膜で寸法精度の優れたものが要求
されるようになり、スクリーン印刷方式のものでは対処
できなくなっている。
いるソルダマスクも厚膜で寸法精度の優れたものが要求
されるようになり、スクリーン印刷方式のものでは対処
できなくなっている。
そこで写真法(像状露光に続く現像により画像を形成)
で厚膜(通常導体上15μmが望まれている)で、かつ
寸法精度の優れた高信頼性のソルダマスクを形成する感
光性樹脂組成物の出現が望まれている。
で厚膜(通常導体上15μmが望まれている)で、かつ
寸法精度の優れた高信頼性のソルダマスクを形成する感
光性樹脂組成物の出現が望まれている。
従来、ソルダマスク形成用感光性樹脂組成物としては、
(1)アクリル系ポリマおよび光重合性モノマを主成分
とする感光性樹脂組成物(特開昭53−56018号公
報、4!開昭54−1018号公報等)、(21光反応
性が付与されたエポキシ樹脂およびエポキシ樹脂硬化剤
を主成分とする感光性樹脂組成物(特開昭52−379
96号公報、特開昭58−62636号公報等)等が知
られている。
(1)アクリル系ポリマおよび光重合性モノマを主成分
とする感光性樹脂組成物(特開昭53−56018号公
報、4!開昭54−1018号公報等)、(21光反応
性が付与されたエポキシ樹脂およびエポキシ樹脂硬化剤
を主成分とする感光性樹脂組成物(特開昭52−379
96号公報、特開昭58−62636号公報等)等が知
られている。
しかしながら前記(1)の感光性樹脂組成物は1通常の
エツチングおよびめっき用フィルム状感光材料(例えば
デュポン社製、商品名リストン、日立化成工業■製、商
品名フオテツク等)に使用されている難燃性の1.1.
l−トリクロルエタンで現像□ 可能でアシ、高解像度
のソルダマスクを形成することはできるが、このような
感光性樹脂組成物はフィルム性付与のためアクリル系ポ
リマを多量に使用しているため、硬化被膜の耐熱性が充
分でないという欠点がある。
エツチングおよびめっき用フィルム状感光材料(例えば
デュポン社製、商品名リストン、日立化成工業■製、商
品名フオテツク等)に使用されている難燃性の1.1.
l−トリクロルエタンで現像□ 可能でアシ、高解像度
のソルダマスクを形成することはできるが、このような
感光性樹脂組成物はフィルム性付与のためアクリル系ポ
リマを多量に使用しているため、硬化被膜の耐熱性が充
分でないという欠点がある。
一部、前記(2)の感光性樹脂組成物は、エポキシ樹脂
をベースとしておシ、硬化被膜の耐熱性には優れている
が、1,1.1−)ジクロルエタン等の難燃性有機溶剤
に不溶性であるため、現像液として。
をベースとしておシ、硬化被膜の耐熱性には優れている
が、1,1.1−)ジクロルエタン等の難燃性有機溶剤
に不溶性であるため、現像液として。
シクロヘキサノン等の可燃性有機溶剤を使用する必要が
あり、安全上好ましくないという欠点がある。
あり、安全上好ましくないという欠点がある。
(発明が解決しようとする問題点)
本発明の目的は、前記従来技術の欠点を除去し。
1、1.1− ) IJジクロルタン等の難燃性現像液
により現像でき、かつ解像度および耐熱性にも優れた高
信頼性ソルダマスクを形成することのできる感光性樹脂
組成物を提供することにある。
により現像でき、かつ解像度および耐熱性にも優れた高
信頼性ソルダマスクを形成することのできる感光性樹脂
組成物を提供することにある。
(問題点を解決するための手段2
本発明は
(a) オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂
、フェノールノボラック型エポキシ樹脂およびハロゲン
化フェノールノボラック型エポキシ樹脂からなる群から
選ばれた少なくとも1種のノボラック型エポキシ樹脂と
、不飽和カルボン酸とを。
、フェノールノボラック型エポキシ樹脂およびハロゲン
化フェノールノボラック型エポキシ樹脂からなる群から
選ばれた少なくとも1種のノボラック型エポキシ樹脂と
、不飽和カルボン酸とを。
酸当量/エポキシ当量比が0.1〜0.98の範囲で付
加反応させて得られる不飽和化合物の2級水酸基に、脂
肪族モノイソシアナートを、イソシアナート当量/水酸
基当量比が0.1〜1.2の範囲で反応させて得られる
光重合性不飽和化合物並びに(b) 活性光によシ遊
離ラジカルを生成する増感剤および(または)増感剤系
。
加反応させて得られる不飽和化合物の2級水酸基に、脂
肪族モノイソシアナートを、イソシアナート当量/水酸
基当量比が0.1〜1.2の範囲で反応させて得られる
光重合性不飽和化合物並びに(b) 活性光によシ遊
離ラジカルを生成する増感剤および(または)増感剤系
。
を含有してなる感光性樹脂組成物に関する。
本発明の感光性樹脂組成物は必須成分子a)として。
オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノー
ルノボラック型エポキシ樹脂およびハロゲン化フェノー
ルノボラック型エポキシ樹脂からなる群から選ばれた少
なくとも1種の7ボラツク型エポキシ樹脂と、不飽和カ
ルボン酸とを、酸当量/エポキシ当量比が0.1〜0.
98の範囲で付加反応させて得られる不飽和化合物の2
級水酸基に。
ルノボラック型エポキシ樹脂およびハロゲン化フェノー
ルノボラック型エポキシ樹脂からなる群から選ばれた少
なくとも1種の7ボラツク型エポキシ樹脂と、不飽和カ
ルボン酸とを、酸当量/エポキシ当量比が0.1〜0.
98の範囲で付加反応させて得られる不飽和化合物の2
級水酸基に。
脂肪族モノイソシアナートを、イソシアナート当量/水
酸基当量比が0.1〜1.2の範囲で反応させて得られ
る光重合不飽和化合物を含有する。
酸基当量比が0.1〜1.2の範囲で反応させて得られ
る光重合不飽和化合物を含有する。
5一
本発明に用いられるノボラック型エポキシ樹脂ハ9例え
ばオルソクレゾール、フェノール、ハロゲン化フェノー
ル等とアルデヒドを酸触媒の存在下に反応させて得られ
るノボラック型樹脂のフェノール性水酸基にアルカリの
存在下にエピクロルヒドリンを反応させて得られるもの
で、商業的にも入手可能である。
ばオルソクレゾール、フェノール、ハロゲン化フェノー
ル等とアルデヒドを酸触媒の存在下に反応させて得られ
るノボラック型樹脂のフェノール性水酸基にアルカリの
存在下にエピクロルヒドリンを反応させて得られるもの
で、商業的にも入手可能である。
オルソクレゾールノボラック聾エポキシ樹脂としては9
例えばチバ・ガイギー社製、アラルダイ)ECN129
9(軟化点99℃、エポキシ当量230)、ECN12
80 (軟化点80℃、エポキシ凸量230)、ECN
1280 <軟化点73℃、エポキシ当量230)、日
本化薬■製、EOCN104(軟化点90〜100℃、
エポキシ当量225〜245)、EOCN103 (軟
化点80〜90℃、エポキシ当量215〜235)、E
CN〜235 )、 EOCNI O1(軟化点65〜
69℃、エポキシ当量205〜225)等が挙げられる
。
例えばチバ・ガイギー社製、アラルダイ)ECN129
9(軟化点99℃、エポキシ当量230)、ECN12
80 (軟化点80℃、エポキシ凸量230)、ECN
1280 <軟化点73℃、エポキシ当量230)、日
本化薬■製、EOCN104(軟化点90〜100℃、
エポキシ当量225〜245)、EOCN103 (軟
化点80〜90℃、エポキシ当量215〜235)、E
CN〜235 )、 EOCNI O1(軟化点65〜
69℃、エポキシ当量205〜225)等が挙げられる
。
フェノールノボラック型エポキシ樹脂としては。
例えばシェル社製、エピコート154 (エポキシ当量
176〜181)、ダウケミカル社製、DEN431(
エポキシ当ji172〜179)、DEN438(エポ
キシ当量175〜182)、東部化成■製、YDPN−
638(エポキシ当量170〜190)、YDPN−6
01(エポキシ当量180〜220 )、YDPN−6
02(エポキシ当量180〜220)等が挙げられる。
176〜181)、ダウケミカル社製、DEN431(
エポキシ当ji172〜179)、DEN438(エポ
キシ当量175〜182)、東部化成■製、YDPN−
638(エポキシ当量170〜190)、YDPN−6
01(エポキシ当量180〜220 )、YDPN−6
02(エポキシ当量180〜220)等が挙げられる。
ハロゲン化フェノールノボラック型エポキシ樹脂として
は2例えば日本化薬■製、BREN(エポキシ当量27
0〜300.臭素含有量35〜37チ、軟化点80〜9
0℃)等の臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹脂
等が挙げられる。不飽和カルボン酸としては、アクリル
酸、メタクリル酸、β−フリルアクリル酸、β−スチリ
ルアクリル酸、α−シアノケイ皮酸、ケイ皮酸等が用い
られる。
は2例えば日本化薬■製、BREN(エポキシ当量27
0〜300.臭素含有量35〜37チ、軟化点80〜9
0℃)等の臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹脂
等が挙げられる。不飽和カルボン酸としては、アクリル
酸、メタクリル酸、β−フリルアクリル酸、β−スチリ
ルアクリル酸、α−シアノケイ皮酸、ケイ皮酸等が用い
られる。
本発明において、これらのノボラック型エポキシ樹脂と
不飽和カルボン酸との付加反応は、酸当量/エポキシ当
量比が0.1〜0.98の範囲で常法によシ行なわれる
。酸当量/エポキシ当量比が0.1未満ではイメージ露
光後の現像処理によシ光硬化被膜が膨潤しやすい。酸当
量/エポキシ当量比が0.98を超える場合には、密着
性、耐熱性等が低下する。
不飽和カルボン酸との付加反応は、酸当量/エポキシ当
量比が0.1〜0.98の範囲で常法によシ行なわれる
。酸当量/エポキシ当量比が0.1未満ではイメージ露
光後の現像処理によシ光硬化被膜が膨潤しやすい。酸当
量/エポキシ当量比が0.98を超える場合には、密着
性、耐熱性等が低下する。
ノボラック型エポキシ樹脂と不飽和カルボン酸との付加
反応物は9例えば前記ノボラック型エポキシ樹脂をメチ
ルエチルケトン、メチルセロソルブアセテート、エチル
セロソルブアセテート、シクロヘキサノン等の不活性有
機溶剤に溶解し、触媒としてトリエチルアミン、トリー
n−ブチルアミン、ジエチルシクロヘキシルアミン等の
3級アミ7、flL化ベンジルトリメチルアンモニウム
、塩化ベンジルトリエチルアンモニウム等の4Rアンモ
ニウム塩などを、また重合禁止剤としてハイドロキノン
、p−メトキシフェノール等を用イ、70〜110℃で
前記不飽和カルボン酸と上記の当量比の範囲で攪拌反応
させることによシ得られる。
反応物は9例えば前記ノボラック型エポキシ樹脂をメチ
ルエチルケトン、メチルセロソルブアセテート、エチル
セロソルブアセテート、シクロヘキサノン等の不活性有
機溶剤に溶解し、触媒としてトリエチルアミン、トリー
n−ブチルアミン、ジエチルシクロヘキシルアミン等の
3級アミ7、flL化ベンジルトリメチルアンモニウム
、塩化ベンジルトリエチルアンモニウム等の4Rアンモ
ニウム塩などを、また重合禁止剤としてハイドロキノン
、p−メトキシフェノール等を用イ、70〜110℃で
前記不飽和カルボン酸と上記の当量比の範囲で攪拌反応
させることによシ得られる。
本発明において用いられる脂肪族モノインシアナートと
しては、特に制限はなく2例えばメチルイソシアナート
、エチルイソシアナート、プロピルイソシアナート、イ
ソプロピルイソシアナート。
しては、特に制限はなく2例えばメチルイソシアナート
、エチルイソシアナート、プロピルイソシアナート、イ
ソプロピルイソシアナート。
ブチルイソシアナート、イソブチルペンタアナー)、
5ee−ブチルイソシアナート、 tert−ブチ
ルイソシアナート、アミルイソシアナー) 、 ter
t −アミルイソシアナート、インアミルイソシアナー
ト、ネオペンチルイソシアナート、ヘキシルイソシアナ
ート、インヘキシルイソシアナート、ヘプチルイソシア
ナート、オクチルイソシアナート。
5ee−ブチルイソシアナート、 tert−ブチ
ルイソシアナート、アミルイソシアナー) 、 ter
t −アミルイソシアナート、インアミルイソシアナー
ト、ネオペンチルイソシアナート、ヘキシルイソシアナ
ート、インヘキシルイソシアナート、ヘプチルイソシア
ナート、オクチルイソシアナート。
ノニルイソシアナート、デシルイソシアナート。
ウンデシルインシアナート、ドデシルイソシアナート、
トリデシルイソシアナート、テトラデシルイソシアナー
ト、ペンタデシルイソシアナート。
トリデシルイソシアナート、テトラデシルイソシアナー
ト、ペンタデシルイソシアナート。
ヘキサデシルイソシアナート、ヘプタデシルイソシアナ
ート、オクタデシルイソシアナート等が挙げられる。ま
た炭素数19以上のアルキルイソシアナートも使用する
ことができる。
ート、オクタデシルイソシアナート等が挙げられる。ま
た炭素数19以上のアルキルイソシアナートも使用する
ことができる。
ノボラック型エポキシ樹脂と不飽和カルボン酸とを付加
反応させて得られる不飽和化合物の2級水酸基に対する
脂肪族モノイソシアナートの反応はイソシアナート当量
/水酸基当量比が0.1〜1.2の範囲で常法により行
なわれる。インシアナート当量/水酸基当量比が0.1
未満の場合には、1,1゜1−トリクロルエタン等の離
燃性有機溶剤による現像が困難となり、また光硬化性も
低下する。イソシアナート当量/水酸基当量比が1.2
を超える場合には、耐熱性等の特性が低下する。反応後
。
反応させて得られる不飽和化合物の2級水酸基に対する
脂肪族モノイソシアナートの反応はイソシアナート当量
/水酸基当量比が0.1〜1.2の範囲で常法により行
なわれる。インシアナート当量/水酸基当量比が0.1
未満の場合には、1,1゜1−トリクロルエタン等の離
燃性有機溶剤による現像が困難となり、また光硬化性も
低下する。イソシアナート当量/水酸基当量比が1.2
を超える場合には、耐熱性等の特性が低下する。反応後
。
メタノール、エタノール、2−ヒドロキシエチルメタク
リレート等の1級アルコールを用いて残存する脂肪族モ
ノイン7アナートをウレタン化し。
リレート等の1級アルコールを用いて残存する脂肪族モ
ノイン7アナートをウレタン化し。
失活させることが安全上および保存安定性向上の上で望
ましい。
ましい。
例えば前記のノボラック型エポキシ樹脂と不飽和カルボ
ン酸との付加反応を行ない9次いでこの生成物にジブチ
ルチンジラウレート、ジブチルデンジ2エチルヘキソエ
ート等のウレタン化触媒を添加し、上記の当量比の範囲
で脂肪族モノイソシアナートを50〜110℃で攪拌反
応させることにより、光重合性不飽和化合物が得られる
。この−10= ような反応条件下ではウレタン結合とエポキシ基との反
応、不飽和結合の熱重合等の副反応を防止することがで
き、その結果ゲル状物を生成させることなく、光重合性
不飽和化合物を得ることができる。
ン酸との付加反応を行ない9次いでこの生成物にジブチ
ルチンジラウレート、ジブチルデンジ2エチルヘキソエ
ート等のウレタン化触媒を添加し、上記の当量比の範囲
で脂肪族モノイソシアナートを50〜110℃で攪拌反
応させることにより、光重合性不飽和化合物が得られる
。この−10= ような反応条件下ではウレタン結合とエポキシ基との反
応、不飽和結合の熱重合等の副反応を防止することがで
き、その結果ゲル状物を生成させることなく、光重合性
不飽和化合物を得ることができる。
本発明において、特に好ましい光重合性不飽和化合物と
しては、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂/
アクリル酸/プロピルイソシアナート(酸当量/エポキ
シ浩量比0.1〜0.98.イソシアナート当量/水酸
基当量比0.1〜1.2)系反応物、オルソクレゾール
ノボラック型エポキシ樹脂/メタクリル酸/プロピルイ
ソシアナート(酸当量/エポキシ当量比0.1〜0.9
8.インシアナート当量/水酸基当量比0.1〜1.2
)系反応物、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹
脂/アクリル酸/オクタデシルイソシアナート(酸当量
/エポキシ当量比0.1〜0.98.イソシアナート当
量/水酸基当量比0.1〜1.2)系反応物。
しては、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂/
アクリル酸/プロピルイソシアナート(酸当量/エポキ
シ浩量比0.1〜0.98.イソシアナート当量/水酸
基当量比0.1〜1.2)系反応物、オルソクレゾール
ノボラック型エポキシ樹脂/メタクリル酸/プロピルイ
ソシアナート(酸当量/エポキシ当量比0.1〜0.9
8.インシアナート当量/水酸基当量比0.1〜1.2
)系反応物、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹
脂/アクリル酸/オクタデシルイソシアナート(酸当量
/エポキシ当量比0.1〜0.98.イソシアナート当
量/水酸基当量比0.1〜1.2)系反応物。
オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂/メタクリ
ル酸/オクタデシルイソシアナート(酸当量/エポキシ
当量比01〜0.98.インシアナート当量/水酸基当
量比0.1〜1,2)系反応物等が挙げられる。
ル酸/オクタデシルイソシアナート(酸当量/エポキシ
当量比01〜0.98.インシアナート当量/水酸基当
量比0.1〜1,2)系反応物等が挙げられる。
本発明の感光性樹脂組成物は活性光により遊離ラジカル
を生成する増感剤および(または)増感剤系を必須成分
子b)として含有する。
を生成する増感剤および(または)増感剤系を必須成分
子b)として含有する。
増感剤としては、置換または非置換の多核キノン類2例
えば、2−エチルアントラキノン、2−を−フ゛チルア
ントラキノン、オクタメチルアントラキノン、1.2−
ベンズアントラキノン、2.3−ジフェニルア/トラキ
ノン等、ジアセチルベンジル等のケトアルドニル化合物
、ベンゾイン、ピバロン等のα−ケタルドニルアルコー
ル類おヨヒエーテル類、α−炭化水素置換芳香族アシロ
イン類。
えば、2−エチルアントラキノン、2−を−フ゛チルア
ントラキノン、オクタメチルアントラキノン、1.2−
ベンズアントラキノン、2.3−ジフェニルア/トラキ
ノン等、ジアセチルベンジル等のケトアルドニル化合物
、ベンゾイン、ピバロン等のα−ケタルドニルアルコー
ル類おヨヒエーテル類、α−炭化水素置換芳香族アシロ
イン類。
側光ばα−フェニル−ベンゾイン、α、α−ジェトキシ
アセトフェノン等、ベンゾフェノン、4.4’−ビスジ
アルキルアミノベンゾフェノン等の芳香族ケトン類、2
メチルチオキサントン、λ4−ジエチルチオキサントン
、2−クロルチオキサントン、2−インプロピルチオキ
サントン、2−エチルチオキサントン等のチオキサント
ン類、2−メチル−1−(4−(メチルチオ)フェニル
クー2−モルホリノ−プロパノン−1などが用いられ。
アセトフェノン等、ベンゾフェノン、4.4’−ビスジ
アルキルアミノベンゾフェノン等の芳香族ケトン類、2
メチルチオキサントン、λ4−ジエチルチオキサントン
、2−クロルチオキサントン、2−インプロピルチオキ
サントン、2−エチルチオキサントン等のチオキサント
ン類、2−メチル−1−(4−(メチルチオ)フェニル
クー2−モルホリノ−プロパノン−1などが用いられ。
これらは単独でも組み合わせて使用してもよい。
増感剤系としては2例えば2,4.5−)リアリルイミ
ダゾールニ量体と2−メルカプトベンゾキナゾール、ロ
イコクリスタルバイオレット、トリス(4−ジエチルア
ミノ−2〜メチルフエニル〕メタン等との組み合わせが
用いられる。またそれ自体で光開始性はないが、前記物
質と組み合わせて用いることによシ全体として光開始性
能のよシ良好な増感剤系となるような添加剤9例えば、
ベンゾフェノンに対するトリエタノールアミン等の3級
アミン、チオキサントン類に対するジメチルアミノ安息
香酸イソアミル、N−メチルジエタールアミン、ビスエ
チルアミノベンゾフェノン等を用いることもできる。
ダゾールニ量体と2−メルカプトベンゾキナゾール、ロ
イコクリスタルバイオレット、トリス(4−ジエチルア
ミノ−2〜メチルフエニル〕メタン等との組み合わせが
用いられる。またそれ自体で光開始性はないが、前記物
質と組み合わせて用いることによシ全体として光開始性
能のよシ良好な増感剤系となるような添加剤9例えば、
ベンゾフェノンに対するトリエタノールアミン等の3級
アミン、チオキサントン類に対するジメチルアミノ安息
香酸イソアミル、N−メチルジエタールアミン、ビスエ
チルアミノベンゾフェノン等を用いることもできる。
本発明の感光性樹脂組成物は、光重合性不飽和化合物(
a)100重量部に対して、増感剤および(またはン増
感剤系fb)をO51〜30重量部の範囲で用いること
が、解像度および早出耐熱性に優れたソルダマスクを形
成する上で好ましい。更に本発明の組成物は他の光重合
性化合物を含有してもよい。他の光重合性化合物として
は9例えばトリメチロールプロパントリアクリレート、
ペンタエリスリトールトリアクリレート、メリメチルへ
キサメチレンジインシアナート/2−ヒドロキシエチル
アクリレート(172モル比)反応物イソシアナートエ
チルメタクリレート/水(2/1モル比)反応物等が挙
げられる。また特開昭53−56018号公報に示され
る光重合性化合物を用いることもできる。しかしこれら
他の光重合性化合物の含有量は、耐熱性の保持上から、
(a)光重合性不飽和化合物に対して10重量%以下で
あることが好ましい。
a)100重量部に対して、増感剤および(またはン増
感剤系fb)をO51〜30重量部の範囲で用いること
が、解像度および早出耐熱性に優れたソルダマスクを形
成する上で好ましい。更に本発明の組成物は他の光重合
性化合物を含有してもよい。他の光重合性化合物として
は9例えばトリメチロールプロパントリアクリレート、
ペンタエリスリトールトリアクリレート、メリメチルへ
キサメチレンジインシアナート/2−ヒドロキシエチル
アクリレート(172モル比)反応物イソシアナートエ
チルメタクリレート/水(2/1モル比)反応物等が挙
げられる。また特開昭53−56018号公報に示され
る光重合性化合物を用いることもできる。しかしこれら
他の光重合性化合物の含有量は、耐熱性の保持上から、
(a)光重合性不飽和化合物に対して10重量%以下で
あることが好ましい。
さらに本発明の感光性樹脂組成物は微粒状充填剤を含有
してもよい。
してもよい。
微粒状充填剤としては2例えばタルク、シリカ。
酸化チタン、クレイ、炭酸カルシウム、含水珪酸。
水酸化アルミニウム、アルミナ、硫酵バリウム。
三酸化アンチモン、炭酸マグネシウム、マイカ粉。
珪酸アルミニウム、珪酸マグネシウム等が用いられる。
微粒状充填剤の粒径は、解像度、硬化被膜の密着性等の
低下防止の点から、好ましくは001〜10μm、よシ
好ましくは0901〜1.5μmである。微粒状充填剤
は感光性樹脂組成物中に均一に分散されていることが好
ましい。充填剤と前記光重合性不飽和化合物との間の接
着力を増すために、充填剤の表面を、水酸基、アミン基
、エポキシ基、ビニル基等の官能基を有するシランカッ
プリング剤で処理することもできる。シランカップリン
グ剤としては9例えばγ−アミノプロピルトリエトキシ
シラン、β−アミノエチル−γ−アミノプロピルトリメ
トキシシラン、γ−グリシドオキシグロビルトリメトキ
シシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシ
シラン等が挙げられる。
低下防止の点から、好ましくは001〜10μm、よシ
好ましくは0901〜1.5μmである。微粒状充填剤
は感光性樹脂組成物中に均一に分散されていることが好
ましい。充填剤と前記光重合性不飽和化合物との間の接
着力を増すために、充填剤の表面を、水酸基、アミン基
、エポキシ基、ビニル基等の官能基を有するシランカッ
プリング剤で処理することもできる。シランカップリン
グ剤としては9例えばγ−アミノプロピルトリエトキシ
シラン、β−アミノエチル−γ−アミノプロピルトリメ
トキシシラン、γ−グリシドオキシグロビルトリメトキ
シシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシ
シラン等が挙げられる。
さらに本発明の感光性樹脂組成物は他の副次的成分を含
有していてもよい。副次的成分としては。
有していてもよい。副次的成分としては。
高分子結合剤、熱重合防止剤、染料、顔料、塗工性向上
剤、消泡剤、難燃剤、密着性向上剤、エポキシ樹脂の潜
在性硬化剤等が挙げられる。
剤、消泡剤、難燃剤、密着性向上剤、エポキシ樹脂の潜
在性硬化剤等が挙げられる。
本発明の感光性樹脂組成物はディップコート法。
フローコート法、スクリーン印刷法等の常法により、加
工保護すべき基板上に直接塗工し、厚さ10〜150μ
mの感光層を容易に形成することができる。塗工にあた
り、必要表らは組成物を溶剤に溶解させて行なうことも
できる。溶剤としてハ2例えばメチルエチルケトン、メ
チルセロソルブアセテート、エチルセロノルブアセテー
ト、シクロヘキサノン、メチルセロソルブ、プロピレン
クリコールモノメチルエーテルアセテート、塩化メチレ
ン、1,1.1−)リクロルエタン等を挙げることがで
きる。
工保護すべき基板上に直接塗工し、厚さ10〜150μ
mの感光層を容易に形成することができる。塗工にあた
り、必要表らは組成物を溶剤に溶解させて行なうことも
できる。溶剤としてハ2例えばメチルエチルケトン、メ
チルセロソルブアセテート、エチルセロノルブアセテー
ト、シクロヘキサノン、メチルセロソルブ、プロピレン
クリコールモノメチルエーテルアセテート、塩化メチレ
ン、1,1.1−)リクロルエタン等を挙げることがで
きる。
tiこの溶液を9例えばポリエチレンテレフタレートフ
ィルム、ポリイミドフィルム等のフィルム上に、ナイフ
コート法、O−ルコート法等により塗布し、乾燥して得
られる感光性エレメントを熱ロールを用いて基板上に加
熱加圧積層して感光層を形成することもできる。この際
基板が導体配線ラインの形成された印刷配線板等の10
μm以上の凹凸を有する場合には、空気の巻き込みを防
ぐため、 200 mmHg以下の真空下で積層するこ
とが好ましい。このための装置としては例えば特公昭5
5−13341号公報に記載される積層装置が用いられ
る。なお活性光に不透明な支持体フィルムを用いる場合
には、露光時に支持体フィルムを剥離する必要がある。
ィルム、ポリイミドフィルム等のフィルム上に、ナイフ
コート法、O−ルコート法等により塗布し、乾燥して得
られる感光性エレメントを熱ロールを用いて基板上に加
熱加圧積層して感光層を形成することもできる。この際
基板が導体配線ラインの形成された印刷配線板等の10
μm以上の凹凸を有する場合には、空気の巻き込みを防
ぐため、 200 mmHg以下の真空下で積層するこ
とが好ましい。このための装置としては例えば特公昭5
5−13341号公報に記載される積層装置が用いられ
る。なお活性光に不透明な支持体フィルムを用いる場合
には、露光時に支持体フィルムを剥離する必要がある。
こうして形成された感光層の露光および現像は常法によ
シ行なわれる。すなわち、光源として超高圧水銀灯、高
圧水銀灯等を用い、感光性樹脂組成物の層上に直接また
はポリエチレンテレフタレートフィルム等の透明フィル
ムを介し、ネガマスクを通して像的に露光する。露光後
透明フィルムが残っている場合には、これを剥離した後
現像する。
シ行なわれる。すなわち、光源として超高圧水銀灯、高
圧水銀灯等を用い、感光性樹脂組成物の層上に直接また
はポリエチレンテレフタレートフィルム等の透明フィル
ムを介し、ネガマスクを通して像的に露光する。露光後
透明フィルムが残っている場合には、これを剥離した後
現像する。
現像処理に用いられる現像液は露光部にダメージを与え
ず、未露光部を選択的に溶出するものであればその種類
については特に制限はない。現像液としては9例えば1
.1.1− )リクロルエタン等のハロゲン化炭化水素
が用いられる。また1、 1.1−トリクロルエタンを
主成分とする洗浄剤2例えばスリーワンEXf東亜合成
化学■製)を使用することもできる。
ず、未露光部を選択的に溶出するものであればその種類
については特に制限はない。現像液としては9例えば1
.1.1− )リクロルエタン等のハロゲン化炭化水素
が用いられる。また1、 1.1−トリクロルエタンを
主成分とする洗浄剤2例えばスリーワンEXf東亜合成
化学■製)を使用することもできる。
上記の方法で得られた像的な保護被膜は2通常のエツチ
ング、めっき等のための耐食膜としての特性を持ってい
るが、現像後に活性光の露光および80〜200℃での
加熱処理を行なうことにより、密着性、耐熱性、耐溶剤
等の特性を向上でき。
ング、めっき等のための耐食膜としての特性を持ってい
るが、現像後に活性光の露光および80〜200℃での
加熱処理を行なうことにより、密着性、耐熱性、耐溶剤
等の特性を向上でき。
ソルダマスクとしての特性を満足する永久的な保護膜が
得られる。これらの活性光の露光および加熱処理の順序
はどちらが先でもよい。
得られる。これらの活性光の露光および加熱処理の順序
はどちらが先でもよい。
(発明の効果)
本発明の感光性樹脂組成物を用いて得られる保護被膜は
、トリクレン、メチルエチルケトン、イソプロピルアル
コール、トルエン等の有機溶剤に充分耐え、酸性水溶液
またはアルカリ水溶液にも耐える。更に耐熱性9機械的
特性にも優れているので、エツチング、めっき等のため
の耐食膜、ソルダマスク等の永久的な保護膜として使用
することができる。更に本発明の感光性樹脂組成物を用
いて形成される被膜は優れた化学的、物理的特性を有し
、このため多層印刷配線板の層間絶縁層。
、トリクレン、メチルエチルケトン、イソプロピルアル
コール、トルエン等の有機溶剤に充分耐え、酸性水溶液
またはアルカリ水溶液にも耐える。更に耐熱性9機械的
特性にも優れているので、エツチング、めっき等のため
の耐食膜、ソルダマスク等の永久的な保護膜として使用
することができる。更に本発明の感光性樹脂組成物を用
いて形成される被膜は優れた化学的、物理的特性を有し
、このため多層印刷配線板の層間絶縁層。
感光性接着剤、塗料、プラスチックレリーフ、印刷版材
料、金属精密加工材料等にも用いることができる。
料、金属精密加工材料等にも用いることができる。
また1本発明の感光性樹脂組成物を用いることにより、
1,1.1−)リクロルエタン等の難燃性現像液によシ
現像でき、解像度および耐熱性に優れたソルダマスクを
形成することができる。しかも写真法により厚膜のソル
ダマスクを形成することも可能である。
1,1.1−)リクロルエタン等の難燃性現像液によシ
現像でき、解像度および耐熱性に優れたソルダマスクを
形成することができる。しかも写真法により厚膜のソル
ダマスクを形成することも可能である。
(実施例)
実施例中の部は重量部を意味する。
実施例1
(a) 光重合性不飽和化合物の合成A、オルソクレ
ゾールノボラック型エポキシ樹脂、EOCN102 (
エポキシ当量230)1095部 メチルエチルケトン 800部B部子。リル
酸 172部塩化ベンジルトリメ
チルアンモニウム 7部 p−メトキシフェノール 3部メチルエチル
ケトン 100部C,プロピルイソシアナー
ト 202部ジブチルチンジラウレー)
0.5 部メチルエチルケトン 100部
り、メタノール 10部温度計、
攪拌装置、冷却管および滴下器の付いた加熱および冷却
可能な51の反応器に、前記Aを加え、攪拌しながら6
0℃に昇温し、均一に溶解させた。反応温度を60℃に
保ちながら、これに約1時間かけてBを滴下した。Bの
滴下後、2時間かけて80℃に昇温し、80℃で約15
時間攪拌を続は反応系の酸価を1以下にした。 。
ゾールノボラック型エポキシ樹脂、EOCN102 (
エポキシ当量230)1095部 メチルエチルケトン 800部B部子。リル
酸 172部塩化ベンジルトリメ
チルアンモニウム 7部 p−メトキシフェノール 3部メチルエチル
ケトン 100部C,プロピルイソシアナー
ト 202部ジブチルチンジラウレー)
0.5 部メチルエチルケトン 100部
り、メタノール 10部温度計、
攪拌装置、冷却管および滴下器の付いた加熱および冷却
可能な51の反応器に、前記Aを加え、攪拌しながら6
0℃に昇温し、均一に溶解させた。反応温度を60℃に
保ちながら、これに約1時間かけてBを滴下した。Bの
滴下後、2時間かけて80℃に昇温し、80℃で約15
時間攪拌を続は反応系の酸価を1以下にした。 。
次いで温度を60℃に低下させ2反応温度を60℃に保
ちながら約3時間かけて均一にCを滴下した。C滴下後
、約5時間かけて徐々に反応温度を80℃まで昇温した
後、温度を60℃に低下させ、Dを加え、約1時間攪拌
を続けた。こうして不揮発分60重量係のオルソクレゾ
ールノボラック型エポキシ樹脂/アクリル酸/プロピル
イソシアナート(酸当量/エポキシ当量比= 0.5
、インシアナート当量/水酸基当量比=1.0)系光重
合性不飽和化合物の溶液CI)を得た。
ちながら約3時間かけて均一にCを滴下した。C滴下後
、約5時間かけて徐々に反応温度を80℃まで昇温した
後、温度を60℃に低下させ、Dを加え、約1時間攪拌
を続けた。こうして不揮発分60重量係のオルソクレゾ
ールノボラック型エポキシ樹脂/アクリル酸/プロピル
イソシアナート(酸当量/エポキシ当量比= 0.5
、インシアナート当量/水酸基当量比=1.0)系光重
合性不飽和化合物の溶液CI)を得た。
(b) 感光性樹脂組成物の調製
+8>で得られた光重合性不飽和化合物の溶液m83部
(不揮発分50部)に2−メチル−1−(:4− (メ
チルチオ)フェニルクー2−モルホリノ−プロペン−1
5部、4.4’ビスジエチルアミノベンゾフエノン0.
5部、フタロシアニングリーン0.1部およびモダフロ
ー0.1部を配合し、ロールミルで混合分散させて9本
発明の感光性樹脂組成物の溶液を調製した。
(不揮発分50部)に2−メチル−1−(:4− (メ
チルチオ)フェニルクー2−モルホリノ−プロペン−1
5部、4.4’ビスジエチルアミノベンゾフエノン0.
5部、フタロシアニングリーン0.1部およびモダフロ
ー0.1部を配合し、ロールミルで混合分散させて9本
発明の感光性樹脂組成物の溶液を調製した。
(C) 硬化被膜の形成
(b)で得られた感光性樹脂組成物の溶液を、銅張シ積
層板上に塗布し、室温で20分、80℃で20分間乾燥
し、厚さ40μmの感光層を形成した。次いでネガマス
クを通してオーク製作所■製。
層板上に塗布し、室温で20分、80℃で20分間乾燥
し、厚さ40μmの感光層を形成した。次いでネガマス
クを通してオーク製作所■製。
フェニックス3000型露光、機を用い、600mJ1
012で露光した。露光後80℃で5分間加熱し。
012で露光した。露光後80℃で5分間加熱し。
常温で30分放置した後、1,1.1−トリクロルエタ
ンを用いて20℃で90秒間スプレー現像した。
ンを用いて20℃で90秒間スプレー現像した。
次いで東芝電材■製、東芝紫外線照射装置(定格電圧2
00 V、定格消費電カフ、2KW、適合ランプH56
00L/2. ランプ本数1本)を使用し。
00 V、定格消費電カフ、2KW、適合ランプH56
00L/2. ランプ本数1本)を使用し。
I J /crn2で照射した後、150℃で30分間
加熱処理してネガマスクに相応する寸法精度の優れたソ
ルダマスクを得た。このソルダマスクは耐冷熱衝撃性に
優れ、ロジン系ンラツクスA−226(タムラ化研■製
)を用いて、260℃で10秒間、はんだ付は処理し、
更にトリクレンで25℃。
加熱処理してネガマスクに相応する寸法精度の優れたソ
ルダマスクを得た。このソルダマスクは耐冷熱衝撃性に
優れ、ロジン系ンラツクスA−226(タムラ化研■製
)を用いて、260℃で10秒間、はんだ付は処理し、
更にトリクレンで25℃。
10分間清浄化処理した後、MIL−8TD−202E
107D条件B(−65℃30分間、常温5分以内、1
25℃30分間)、50サイクルの冷熱衝撃試験でクラ
ックの発生および被膜の剥がれは認められず、長期間の
信頼性が非常に優れていることがわかった。
107D条件B(−65℃30分間、常温5分以内、1
25℃30分間)、50サイクルの冷熱衝撃試験でクラ
ックの発生および被膜の剥がれは認められず、長期間の
信頼性が非常に優れていることがわかった。
実施例2
fa) 光重合性不飽和化合物の合成A、オルソクレ
ゾールノボラック型エポキシ樹脂、EOCN104 (
エポキシ当量230)920部 ハロゲン化フェノールノボラック型エポキシ樹脂、BR
EN(エポキシ当量285)285部 メチルセロソルブアセテート 600部B部子。リル
酸 288部塩化ベンジルトリメ
チルアンモニウム 7部 p−メトキシフェノール 3部メチルセロソ
ルブアセテ−) 10(IC。オクタデシルイソシ
アナート 154部ジブチルチンジラウレート
0,5部メチルセロソルブアセテート 100部り
、メタノール 10部A−Dを用
い、その他は実施例1(a)と同様にして、不揮発分6
7重量%のノボラック型エポキシ樹脂/アクリル酸/オ
クタデシルイソシアナート(酸当量/エポキシ当量比=
0.8 、インシアナート当量/水酸基当量比−0,
131系光重合性不飽和化合物の溶液(n)を得た。
ゾールノボラック型エポキシ樹脂、EOCN104 (
エポキシ当量230)920部 ハロゲン化フェノールノボラック型エポキシ樹脂、BR
EN(エポキシ当量285)285部 メチルセロソルブアセテート 600部B部子。リル
酸 288部塩化ベンジルトリメ
チルアンモニウム 7部 p−メトキシフェノール 3部メチルセロソ
ルブアセテ−) 10(IC。オクタデシルイソシ
アナート 154部ジブチルチンジラウレート
0,5部メチルセロソルブアセテート 100部り
、メタノール 10部A−Dを用
い、その他は実施例1(a)と同様にして、不揮発分6
7重量%のノボラック型エポキシ樹脂/アクリル酸/オ
クタデシルイソシアナート(酸当量/エポキシ当量比=
0.8 、インシアナート当量/水酸基当量比−0,
131系光重合性不飽和化合物の溶液(n)を得た。
(b)感光性樹脂組成物の調製
(a)で得られた光重合性不飽和化合物の溶液(I[)
119部(不揮発分80部)、三酸化アンチモン(平均
粒径0.15μm ) 3部、ベンゾフェノン2.7部
、ミヒラーケトン0.3部およびビクトリアピュアブル
ー0.02部を配合し、三本ロールで混合して本発明の
感光性樹脂組成物の溶液を調製した。
119部(不揮発分80部)、三酸化アンチモン(平均
粒径0.15μm ) 3部、ベンゾフェノン2.7部
、ミヒラーケトン0.3部およびビクトリアピュアブル
ー0.02部を配合し、三本ロールで混合して本発明の
感光性樹脂組成物の溶液を調製した。
以下、実施例1(C)と同様にして耐熱性に優れた硬化
被膜を得た。
被膜を得た。
また前記感光性樹脂組成物を厚さ0.8 m+n、 U
L94V−0のガラスエポキシ難燃基材(日立化成工
業■製、MCL−E−67)の両面に適用し。
L94V−0のガラスエポキシ難燃基材(日立化成工
業■製、MCL−E−67)の両面に適用し。
厚さ75μmの硬化被膜を形成させた場合には。
UL94V−1の難燃性を保持することがわかった。
実施例3
(a)光重合性不飽和化合物の合成
A、オルンクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、EO
CN104 (エポキシ当量230)1095部 メチルセロソルブアセテート 600部B、メタクリ
ル酸 368部塩化ベンジルトリメチ
ルアンモニウム 7部 p−メトキシフェノール 3部メチルセロソ
ルブアセテート 100部C,ヘキシルイソシアナー
ト 241部ジブチルチンジラウレート
0.5部メチルセロソルブアセテ−) 100部り
、メタノール 10部A、 −D
を用い、その他は実施例1(a)と同様にして、不揮発
分72重量%のノボラック型エポキシ樹脂/メタクリル
酸/ヘキシルイソシアナート(酸当量/エポキシ当量比
−0,8,インシアナート当量/水酸基当量比−0,5
)系光重合性不飽和化合物の溶液(III)を得た。
CN104 (エポキシ当量230)1095部 メチルセロソルブアセテート 600部B、メタクリ
ル酸 368部塩化ベンジルトリメチ
ルアンモニウム 7部 p−メトキシフェノール 3部メチルセロソ
ルブアセテート 100部C,ヘキシルイソシアナー
ト 241部ジブチルチンジラウレート
0.5部メチルセロソルブアセテ−) 100部り
、メタノール 10部A、 −D
を用い、その他は実施例1(a)と同様にして、不揮発
分72重量%のノボラック型エポキシ樹脂/メタクリル
酸/ヘキシルイソシアナート(酸当量/エポキシ当量比
−0,8,インシアナート当量/水酸基当量比−0,5
)系光重合性不飽和化合物の溶液(III)を得た。
(1)) 感光性樹脂組成物の調製
実施例2(a)の光重合性不飽和化合物の溶液(n)の
代わυに、(a)で得られた光重合性不飽和化合物の溶
液(叩111部(不揮発分80部)を用い、その他は実
施例1(b)および(C)と同様にして、耐熱性に優れ
た硬化被膜を得た。
代わυに、(a)で得られた光重合性不飽和化合物の溶
液(叩111部(不揮発分80部)を用い、その他は実
施例1(b)および(C)と同様にして、耐熱性に優れ
た硬化被膜を得た。
実施例4
(a) 光重合性不飽和化合物の合成A、フェノール
ノボラック型エポキシ樹脂。
ノボラック型エポキシ樹脂。
YDPN−638(エポキシ当量180)857部
エチルセロンルブアセテー) 60(IB、ケイ皮
酸 176部アクリル酸
172部塩化ベンジルトリメチルアンモ
ニウム塩7部 p−メトキシフェノール 3部エチルセロソ
ルブアセテ−) 100部C。オクタデシルイソシ
アナート 133部ジブチルチンジラウレート0.1
部 エチルセロソルブアセテート 100部り、メタノー
ル 10部A−Dを用い、その他
は実施例1 (alと同様にして、不揮発分62重量−
のフェノールノボラック型エポキシ樹脂/ケイ皮酸/ア
クリル酸/オクタデシルイソシアナート(酸当量/エポ
キシ当量比=0.75.イソシアナート当量/水酸基当
蓋比=0.13)系光重合性不飽和化合物の溶液(IV
)を得た。
酸 176部アクリル酸
172部塩化ベンジルトリメチルアンモ
ニウム塩7部 p−メトキシフェノール 3部エチルセロソ
ルブアセテ−) 100部C。オクタデシルイソシ
アナート 133部ジブチルチンジラウレート0.1
部 エチルセロソルブアセテート 100部り、メタノー
ル 10部A−Dを用い、その他
は実施例1 (alと同様にして、不揮発分62重量−
のフェノールノボラック型エポキシ樹脂/ケイ皮酸/ア
クリル酸/オクタデシルイソシアナート(酸当量/エポ
キシ当量比=0.75.イソシアナート当量/水酸基当
蓋比=0.13)系光重合性不飽和化合物の溶液(IV
)を得た。
(b) 感光性樹脂組成物の調製
fa)で得られた光重合性不飽和化合物の溶液(IV)
96部(不揮発分60部)、ンクロエースP−4(日本
タルク製タルク、平均粒径1,5μm)15部、2.4
−ジエチルチオキサントン2部、ジメチルアミ7安息香
酸工チル3部、ビクトリアピュアブルー0.02部、キ
ュアゾールQtZ AZINE1部およびメチルセロ
ソルブ5部を配合し、三本ロールで混合分散させて本発
明の感光性樹脂組成物の分散液を調製した。
96部(不揮発分60部)、ンクロエースP−4(日本
タルク製タルク、平均粒径1,5μm)15部、2.4
−ジエチルチオキサントン2部、ジメチルアミ7安息香
酸工チル3部、ビクトリアピュアブルー0.02部、キ
ュアゾールQtZ AZINE1部およびメチルセロ
ソルブ5部を配合し、三本ロールで混合分散させて本発
明の感光性樹脂組成物の分散液を調製した。
(C)硬化被膜の形成
現像液として、1.1.1−)リクロルエタンの代わシ
にスリーワンEX(1,1,1−トリクロルエタンを主
成分とする洗浄液、東亜合成■製)を用い。
にスリーワンEX(1,1,1−トリクロルエタンを主
成分とする洗浄液、東亜合成■製)を用い。
その他は実施例1(C)と同様にして耐熱性に優れた硬
化被膜を得た。
化被膜を得た。
実施例より明らかなように9本発明の感光性樹脂組成物
を用いることにより、写真法による厚膜の画像形成が可
能であシ、また1、 1.1− トリクロルエタン等の
難燃性現像液を用いて、解像度および耐熱性に優れた高
信頼性のンルダマスクを形成することができる。
を用いることにより、写真法による厚膜の画像形成が可
能であシ、また1、 1.1− トリクロルエタン等の
難燃性現像液を用いて、解像度および耐熱性に優れた高
信頼性のンルダマスクを形成することができる。
−)・・、
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、(a)オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂
、フェノールノボラック型エポキシ樹脂およびハロゲン
化フェノールノボラック型エポキシ樹脂からなる群から
選ばれた少なくとも1種のノボラック型エポキシ樹脂と
、不飽和カルボン酸とを、酸当量/エポキシ当量比が0
.1〜0.98の範囲で付加反応させて得られる不飽和
化合物の2級水酸基に、脂肪族モノイソシアナートを、
イソシアナート当量/水酸基当量比が0.1〜1.2の
範囲で反応させて得られる光重合性不飽和化合物並びに
(b)活性光により遊離ラジカルを生成する増感剤およ
び(または)増感剤系、 を含有してなる感光性樹脂組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28047586A JPS63133147A (ja) | 1986-11-25 | 1986-11-25 | 感光性樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28047586A JPS63133147A (ja) | 1986-11-25 | 1986-11-25 | 感光性樹脂組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63133147A true JPS63133147A (ja) | 1988-06-04 |
Family
ID=17625593
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP28047586A Pending JPS63133147A (ja) | 1986-11-25 | 1986-11-25 | 感光性樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63133147A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101322017B1 (ko) * | 2009-07-07 | 2013-10-25 | (주)엘지하우시스 | 수지 조성물, 이의 경화물을 포함하는 투명 칩 및 인조대리석 |
-
1986
- 1986-11-25 JP JP28047586A patent/JPS63133147A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101322017B1 (ko) * | 2009-07-07 | 2013-10-25 | (주)엘지하우시스 | 수지 조성물, 이의 경화물을 포함하는 투명 칩 및 인조대리석 |
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