JPH0298171A - 耐熱性オーミック電極 - Google Patents
耐熱性オーミック電極Info
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- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims abstract description 41
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 37
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 37
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 28
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 24
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 6
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 abstract description 15
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract description 9
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 abstract description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 22
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 18
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 14
- 238000005275 alloying Methods 0.000 description 13
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 7
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 2
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 150000003608 titanium Chemical class 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
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- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、耐熱性オーミック電極に係り、具体的には、
高温保持中における特性劣化の小さなオーミック電極に
関する。
高温保持中における特性劣化の小さなオーミック電極に
関する。
半導体であるGaAs上に、接触抵抗が小さいオーミッ
ク性のあるオーミック電極を形成する方法は、これまで
にも多数提案されている。
ク性のあるオーミック電極を形成する方法は、これまで
にも多数提案されている。
これらの電極形成方法のうちでも、n型GaAsに最も
広く用いられているものは、AuGeNi法である。
広く用いられているものは、AuGeNi法である。
この方法は、GaAs上にGeを含んだAuを真空蒸着
させ、このAuGe1liの上にNiを蒸着させ、場合
によってはNi膜の上にさらにAuを真空蒸着させた後
、AuGeの融点く356℃)以上の温度で10秒から
数分間熱処理(合金化熱処理)を施してオーミックコン
タクト用金属層と形成するものである。ちなみに、Au
GeN i法におけるAuGeとNiの蒸着膜では、そ
の厚さの合計が1000〜2500人で、AuGell
fllooo人に対してNi膜の厚さが約280人のも
のがよいと言われている。
させ、このAuGe1liの上にNiを蒸着させ、場合
によってはNi膜の上にさらにAuを真空蒸着させた後
、AuGeの融点く356℃)以上の温度で10秒から
数分間熱処理(合金化熱処理)を施してオーミックコン
タクト用金属層と形成するものである。ちなみに、Au
GeN i法におけるAuGeとNiの蒸着膜では、そ
の厚さの合計が1000〜2500人で、AuGell
fllooo人に対してNi膜の厚さが約280人のも
のがよいと言われている。
このようにしてAuGeNi法により形成されたオーミ
ックコンタクト用金属層は、膜厚、膜組成および合金化
熱処理条件を適当に選べば、電極表面が滑らかで信頼性
の高いものが得られるとされている。一方、半導体の電
極にあっては、リードフレームとの接続のためにAuワ
イヤーボンディング性が要求されることが多い。しかし
ながら、上記のオーミックコンタクト用金属層では、電
極形成工程において合金化熱処理を施されるため、表面
にAu膜を蒸着させている場合でも電極表面を純粋なA
uに保つことが難しく、Auワイヤーボンディング性に
劣るという問題があった。即ち、純粋なAu表面にワイ
ヤーボンディングした場合に比べてボンディング強度が
低くなることがあった。
ックコンタクト用金属層は、膜厚、膜組成および合金化
熱処理条件を適当に選べば、電極表面が滑らかで信頼性
の高いものが得られるとされている。一方、半導体の電
極にあっては、リードフレームとの接続のためにAuワ
イヤーボンディング性が要求されることが多い。しかし
ながら、上記のオーミックコンタクト用金属層では、電
極形成工程において合金化熱処理を施されるため、表面
にAu膜を蒸着させている場合でも電極表面を純粋なA
uに保つことが難しく、Auワイヤーボンディング性に
劣るという問題があった。即ち、純粋なAu表面にワイ
ヤーボンディングした場合に比べてボンディング強度が
低くなることがあった。
そこで、この問題点を解消するため、オーミックコンタ
クト用金属層の上にさらにAu層を最上層とする上層電
極を積層したものがある。この改良された電極では、最
上層が純粋なAu層であるため、Auワイヤーボンディ
ング性が改善されている。しかし、合金化熱処理された
AuGeNi法のみのオーミック電極(上層電極を有し
ないもの)の場合には、高温保持中における接触抵抗の
特性変化や外観の変化が比較的小さいのに対し、オーミ
ックコンタクト用金属層の上に上層電極を積層されたオ
ーミック電極の場合には、高温に保持された時に外観や
接触抵抗が劣化することが報告されている( “Lo
w−Noise MESFET’s for Ion−
IIIlplanted GaAs M14IC’s
; IEEE TRANSACTIONSON EL
ECTRON DEVICES、VOL、ED−30,
NO,12,DECEMBER(1983) P、1g
50〜P、1854 参照)0例えば、キャリア濃度
10”/Ca+3のGaAsを使用してAuGeNi法
によるオーミックコンタクト用金属層の上にTi、 P
L及びAuの積層蒸着膜からなる上層電極を形成した場
合、幅290μl、長さ80J1fl+の電極の接触抵
抗は、300℃に10時間保持した後には4Ωから8Ω
に倍増しな(後述;第2図及び第3図参照)、また、こ
の接触抵抗の増加に伴い電極の表面の凹凸もかなり大き
くなった。
クト用金属層の上にさらにAu層を最上層とする上層電
極を積層したものがある。この改良された電極では、最
上層が純粋なAu層であるため、Auワイヤーボンディ
ング性が改善されている。しかし、合金化熱処理された
AuGeNi法のみのオーミック電極(上層電極を有し
ないもの)の場合には、高温保持中における接触抵抗の
特性変化や外観の変化が比較的小さいのに対し、オーミ
ックコンタクト用金属層の上に上層電極を積層されたオ
ーミック電極の場合には、高温に保持された時に外観や
接触抵抗が劣化することが報告されている( “Lo
w−Noise MESFET’s for Ion−
IIIlplanted GaAs M14IC’s
; IEEE TRANSACTIONSON EL
ECTRON DEVICES、VOL、ED−30,
NO,12,DECEMBER(1983) P、1g
50〜P、1854 参照)0例えば、キャリア濃度
10”/Ca+3のGaAsを使用してAuGeNi法
によるオーミックコンタクト用金属層の上にTi、 P
L及びAuの積層蒸着膜からなる上層電極を形成した場
合、幅290μl、長さ80J1fl+の電極の接触抵
抗は、300℃に10時間保持した後には4Ωから8Ω
に倍増しな(後述;第2図及び第3図参照)、また、こ
の接触抵抗の増加に伴い電極の表面の凹凸もかなり大き
くなった。
また、最近では、250〜350℃に10〜1000時
間保持しても特性劣化のないことが要求されることが多
いため、オーミックコンタクト用金属層と上層電極との
間に厚さ約500人のTiN1やTiWN膜、TaN膜
などの反応性スパッタリングによる拡散バリアーを形成
する方法が提案されている。これらの拡散バリアーによ
れば、接触抵抗の高温保持後の特性劣化を抑制すること
ができる(後述;第4図参照)、シかし、これらの拡散
バリアーは、反応性スパッタリングにより形成されるの
で、オーミックコンタクト用金属層や上層電極の真空蒸
着工程とは別にスパッタリング工程も必要となって電極
形成工程が複雑になり、また真空蒸着装置に加えて高価
なスパッタリング装置も必要になり、コストが上昇する
という問題があった。
間保持しても特性劣化のないことが要求されることが多
いため、オーミックコンタクト用金属層と上層電極との
間に厚さ約500人のTiN1やTiWN膜、TaN膜
などの反応性スパッタリングによる拡散バリアーを形成
する方法が提案されている。これらの拡散バリアーによ
れば、接触抵抗の高温保持後の特性劣化を抑制すること
ができる(後述;第4図参照)、シかし、これらの拡散
バリアーは、反応性スパッタリングにより形成されるの
で、オーミックコンタクト用金属層や上層電極の真空蒸
着工程とは別にスパッタリング工程も必要となって電極
形成工程が複雑になり、また真空蒸着装置に加えて高価
なスパッタリング装置も必要になり、コストが上昇する
という問題があった。
本発明は、蒸上の従来例の欠点に鑑みてなされたもので
あり、簡単な方法でオーミック電極の高温保持後におけ
る接触抵抗の特性劣化を防止することを目的とする。
あり、簡単な方法でオーミック電極の高温保持後におけ
る接触抵抗の特性劣化を防止することを目的とする。
本発明の耐熱性オーミック電極は、半導体の表面に設け
られたオーミックコンタクト用金属層の上に熱処理され
たチタンの蒸着膜を形成し、このチタン蒸着膜の上にA
u層を最上層とする上層電極を形成したことを特徴とし
ている。
られたオーミックコンタクト用金属層の上に熱処理され
たチタンの蒸着膜を形成し、このチタン蒸着膜の上にA
u層を最上層とする上層電極を形成したことを特徴とし
ている。
上述のように、オーミックコンタクト用金属層と上層電
極との間に反応性スパッタリングにより厚さ約500人
のTiN膜等(拡散バリアー)を設けることにより接触
抵抗の特性劣化を抑制できることから推測すると、高温
保持における接触抵抗の特性劣化は、上層電極とオーミ
ックコンタクト用金属層との間での元素の拡散、あるい
はオーミックコンタクト用金属層を介しての上層電極と
GaAsとの間での元素の拡散に起因すると考えられる
。実際、表面状態が変化した電極表面や接触抵抗の増加
した電極表面のAu層であるべき箇所で拡散したGaが
検出された。
極との間に反応性スパッタリングにより厚さ約500人
のTiN膜等(拡散バリアー)を設けることにより接触
抵抗の特性劣化を抑制できることから推測すると、高温
保持における接触抵抗の特性劣化は、上層電極とオーミ
ックコンタクト用金属層との間での元素の拡散、あるい
はオーミックコンタクト用金属層を介しての上層電極と
GaAsとの間での元素の拡散に起因すると考えられる
。実際、表面状態が変化した電極表面や接触抵抗の増加
した電極表面のAu層であるべき箇所で拡散したGaが
検出された。
そこで、本発明にあっては、オーミックコンタクト用金
属層と上層電極との間に熱処理を施されたチタン蒸着膜
を設けることによってGaの上層電極への拡散を抑制し
、これによってオーミック電極の高温保持における接触
抵抗の特性劣化を抑制しようとしたものである。この結
果、高温保持後における接触抵抗の増大を防止すること
ができた。
属層と上層電極との間に熱処理を施されたチタン蒸着膜
を設けることによってGaの上層電極への拡散を抑制し
、これによってオーミック電極の高温保持における接触
抵抗の特性劣化を抑制しようとしたものである。この結
果、高温保持後における接触抵抗の増大を防止すること
ができた。
しかも、このチタン蒸着膜は、オーミックコンタクト用
金属層及び上層電極と同様、真空蒸着によって形成する
ことができるので、電極形成工程を簡単にすることがで
き、また設備的にもスパッタリング装置などを必要とせ
ず、設備コスト等も安価にできる。
金属層及び上層電極と同様、真空蒸着によって形成する
ことができるので、電極形成工程を簡単にすることがで
き、また設備的にもスパッタリング装置などを必要とせ
ず、設備コスト等も安価にできる。
また、上層電極の最上層はAu層となっているので、A
uワイヤーボンディング性も良好である。
uワイヤーボンディング性も良好である。
以下、本発明の実施例を添付図に基づいて詳述する。
耐熱性オーミック電極の一実施例としては、化合物半導
体であるn型GaAsの上にAuGeNiからなるオー
ミックコンタクト用金属層を形成し、このオーミックコ
ンタクト用金属層の上に熱処理を施されたチタン蒸着膜
を形成し、このチタン蒸着膜の上にTi−Pt−Au上
層電極を形成したものがある。
体であるn型GaAsの上にAuGeNiからなるオー
ミックコンタクト用金属層を形成し、このオーミックコ
ンタクト用金属層の上に熱処理を施されたチタン蒸着膜
を形成し、このチタン蒸着膜の上にTi−Pt−Au上
層電極を形成したものがある。
この耐熱性オーミックtfiは、次のような方法によっ
て製造されている。まず、GaAsの上にGeを含んだ
Auを500人の厚さに真空蒸着させ、さらにその上に
Ni、 Au、 Tiを各々300人、 1000人、
1000人の厚さに順次真空蒸着させる。ついで、こ
れをN2中においてAuGeの融点以上の温度(例えば
、450℃)で5分間熱処理(合金化熱処理)する。
て製造されている。まず、GaAsの上にGeを含んだ
Auを500人の厚さに真空蒸着させ、さらにその上に
Ni、 Au、 Tiを各々300人、 1000人、
1000人の厚さに順次真空蒸着させる。ついで、こ
れをN2中においてAuGeの融点以上の温度(例えば
、450℃)で5分間熱処理(合金化熱処理)する。
この合金化熱処理により上記AuGe、 Ni及びAu
の蒸着層によってオーミックコンタクト用金属層が形成
され、小さな接触抵抗が得られる。同時に、Tiにも熱
処理が施されるので、オーミックコンタクト用金属層の
表面には熱処理を施されたチタン蒸着膜の層が形成され
、この熱処理を施されたチタン蒸着層はGaの通過を妨
げることによってGaの拡散を防止する働きをするにこ
で、チタン蒸着層は、膜厚が薄過ぎると合金化熱処理の
際に層状構造が壊れてTi下層の元素(Au、 Ge、
Ga等)が多量に表面にでるので、チタン蒸着膜の下
層の拡散防止効果が無くなる。一方、TiはAuに比べ
ると比抵抗が大きいので、チタン蒸着膜の膜厚が厚過ぎ
るとTi自身の抵抗が大きくなって問題となる。このた
め、チタン蒸着膜の厚さは200〜5000人が好適で
ある0次に、チタン蒸着層の上に順次Ti、 PL。
の蒸着層によってオーミックコンタクト用金属層が形成
され、小さな接触抵抗が得られる。同時に、Tiにも熱
処理が施されるので、オーミックコンタクト用金属層の
表面には熱処理を施されたチタン蒸着膜の層が形成され
、この熱処理を施されたチタン蒸着層はGaの通過を妨
げることによってGaの拡散を防止する働きをするにこ
で、チタン蒸着層は、膜厚が薄過ぎると合金化熱処理の
際に層状構造が壊れてTi下層の元素(Au、 Ge、
Ga等)が多量に表面にでるので、チタン蒸着膜の下
層の拡散防止効果が無くなる。一方、TiはAuに比べ
ると比抵抗が大きいので、チタン蒸着膜の膜厚が厚過ぎ
るとTi自身の抵抗が大きくなって問題となる。このた
め、チタン蒸着膜の厚さは200〜5000人が好適で
ある0次に、チタン蒸着層の上に順次Ti、 PL。
Auをそれぞれ1000人、500人、 5000人の
厚さに真空蒸着させてTi、 PL、 Auからなる上
層電極が形成される。この上層電極の最上層はAu層に
よって形成されているのでAuワイヤーボンディング性
が良好となっている。また、チタン蒸着膜の働きでGa
の上層電極への拡散が阻止されるので、Gaの拡散に起
因するオーミックを極の高温保持後の接触抵抗の特性劣
化を防止することができるや本発明は、上記実施例に限
定されるものではない9例えば、上記実施例では、オー
ミックコンタクト用金属層の合金化熱処理の前にオーミ
ックコンタクト用金属層(AuGe、 Ni、 Au)
の上にTiを蒸着させ、オーミックコンタクト用金属層
の合金化熱処理とチタン蒸着層の熱処理とを一括して行
ったが、オーミックコンタクト用金属層とチタン蒸着層
の熱処理は別々に行ってもよい、即ち、GaAsの上に
オーミックコンタクト用金属層を形成してその合金化熱
処理を終了した後、このオーミックコンタクト用金属層
の上にTiの蒸着膜を形成し、150〜400℃でチタ
ン蒸着膜を熱処理し、この後にチタン蒸着膜の上に上層
電極を形成してもよく、この場合にも上記実施例と同様
に接触抵抗の特性劣化を防止することができた。また、
半導体はn型GaAsに限らず、n型GaAsなどでも
よい、オーミックコンタクト用金属層も、上記の精造の
ものに限らず、Au膜を省略したもの、AuGeに代え
てAgGeを用いたもの、Niに代えてptやInと用
いたものなどでもよい、上層電極の最上層はAuワイヤ
ーボンディング性を良好にするためAu層にする必要が
あるが、ptは必ずしも必要な構成要素ではない。
厚さに真空蒸着させてTi、 PL、 Auからなる上
層電極が形成される。この上層電極の最上層はAu層に
よって形成されているのでAuワイヤーボンディング性
が良好となっている。また、チタン蒸着膜の働きでGa
の上層電極への拡散が阻止されるので、Gaの拡散に起
因するオーミックを極の高温保持後の接触抵抗の特性劣
化を防止することができるや本発明は、上記実施例に限
定されるものではない9例えば、上記実施例では、オー
ミックコンタクト用金属層の合金化熱処理の前にオーミ
ックコンタクト用金属層(AuGe、 Ni、 Au)
の上にTiを蒸着させ、オーミックコンタクト用金属層
の合金化熱処理とチタン蒸着層の熱処理とを一括して行
ったが、オーミックコンタクト用金属層とチタン蒸着層
の熱処理は別々に行ってもよい、即ち、GaAsの上に
オーミックコンタクト用金属層を形成してその合金化熱
処理を終了した後、このオーミックコンタクト用金属層
の上にTiの蒸着膜を形成し、150〜400℃でチタ
ン蒸着膜を熱処理し、この後にチタン蒸着膜の上に上層
電極を形成してもよく、この場合にも上記実施例と同様
に接触抵抗の特性劣化を防止することができた。また、
半導体はn型GaAsに限らず、n型GaAsなどでも
よい、オーミックコンタクト用金属層も、上記の精造の
ものに限らず、Au膜を省略したもの、AuGeに代え
てAgGeを用いたもの、Niに代えてptやInと用
いたものなどでもよい、上層電極の最上層はAuワイヤ
ーボンディング性を良好にするためAu層にする必要が
あるが、ptは必ずしも必要な構成要素ではない。
さらに、上層電極のTiは他の活性金属、例えばCr等
に置き換えることもできるが、このTiやCr等の活性
金属を省略することも考えられる。
に置き換えることもできるが、このTiやCr等の活性
金属を省略することも考えられる。
(実験結果)
の の 極 1
キャリア濃度5x 10”/cm’のn型GaAsの上
にAuGe(厚さ500人) 、 N1(300人)、
Au(1000人) 、 Ti (1000人)を順次
蒸着させ、N2中において450℃で5分間熱処理(合
金化熱処理)してオーミックコンタクト用金属層とチタ
ン蒸着膜とを形成した後、チタン蒸着膜の上に順次Ti
(1000人)、Pt(500人)及びAu (50
00人)を蒸着させて上層電極を形成した。
にAuGe(厚さ500人) 、 N1(300人)、
Au(1000人) 、 Ti (1000人)を順次
蒸着させ、N2中において450℃で5分間熱処理(合
金化熱処理)してオーミックコンタクト用金属層とチタ
ン蒸着膜とを形成した後、チタン蒸着膜の上に順次Ti
(1000人)、Pt(500人)及びAu (50
00人)を蒸着させて上層電極を形成した。
■の−造
キャリア濃度5x 10”/cm’のn型GaAsの上
にAuGe(厚さ500人) 、 N+(300人)
、 Au (1000人)を順次蒸着させ、N2中にお
いて450℃で5分間熱処理(合金化熱処理)してオー
ミックコンタクト用金属層を形成した後、オーミックコ
ンタクト用金属層の上に順次Ti (1000人>、P
t(500人)及びAu (5000人)を蒸着させて
上層電極を形成した。
にAuGe(厚さ500人) 、 N+(300人)
、 Au (1000人)を順次蒸着させ、N2中にお
いて450℃で5分間熱処理(合金化熱処理)してオー
ミックコンタクト用金属層を形成した後、オーミックコ
ンタクト用金属層の上に順次Ti (1000人>、P
t(500人)及びAu (5000人)を蒸着させて
上層電極を形成した。
の−゛
従来例Iと同様な電極構造を作成したが、拡散防止層と
しての働きを強化するなめ、上層電極のTi膜の厚さを
2倍の2000人とした。
しての働きを強化するなめ、上層電極のTi膜の厚さを
2倍の2000人とした。
比」[健)L里」1椹」L
キャリア濃度5x 1016/cm’のn型GaAsの
上にAuGe(厚さ500人) 、 N1(300人)
、 Au (1000人)を順次蒸着させ、N2中に
おいて450℃で5分間熱処理(合金化熱処理)してオ
ーミックコンタクト用金属層を形成した後、反応性スパ
ッタリングによりオーミックコンタクト用金属層の上に
厚さ500人のTaN層を形成し、この反応性スパッタ
リングの拡散バリアーの上に順次Ti (1000人)
。
上にAuGe(厚さ500人) 、 N1(300人)
、 Au (1000人)を順次蒸着させ、N2中に
おいて450℃で5分間熱処理(合金化熱処理)してオ
ーミックコンタクト用金属層を形成した後、反応性スパ
ッタリングによりオーミックコンタクト用金属層の上に
厚さ500人のTaN層を形成し、この反応性スパッタ
リングの拡散バリアーの上に順次Ti (1000人)
。
PL (500人)及びAu (5000人)を蒸着さ
せて上層電極を形成した。
せて上層電極を形成した。
え1Lえ
本発明実施例、従来例■、■及び比較例のいずれも、ポ
ジ形レジストを用いたりフトオフ法によって、GaAs
の上に幅290μI、長さ80μmの電極を形成した。
ジ形レジストを用いたりフトオフ法によって、GaAs
の上に幅290μI、長さ80μmの電極を形成した。
即ち、GaAsの全表面をレジストにより覆い、電極を
形成する部分においてフォトリソグラフィーによってレ
ジストに上記寸法の窓をあけ、この後真空蒸着(及び比
較例では反応性スパッタリング)を繰り返してGaAs
とレジストの上に上記各電fin4造の蒸着膜を形成し
、蒸着後にレジストを除去することによって不要な蒸着
膜を除去し、窓をあけてあった箇所に各電極を形成した
。
形成する部分においてフォトリソグラフィーによってレ
ジストに上記寸法の窓をあけ、この後真空蒸着(及び比
較例では反応性スパッタリング)を繰り返してGaAs
とレジストの上に上記各電fin4造の蒸着膜を形成し
、蒸着後にレジストを除去することによって不要な蒸着
膜を除去し、窓をあけてあった箇所に各電極を形成した
。
こうしてGaAsの上に各電極を形成された実施例、従
来例1.II及び比較例のそれぞれの試料は、300℃
で10時間保持された。そして、高温保持する前の各試
料の接触抵抗(初期値)と300°Cに10時間保持し
た後の接触抵抗とをTLM法により測定した。
来例1.II及び比較例のそれぞれの試料は、300℃
で10時間保持された。そして、高温保持する前の各試
料の接触抵抗(初期値)と300°Cに10時間保持し
た後の接触抵抗とをTLM法により測定した。
111」
従来例■の測定結果を第2図に示す、高温保持前の接触
抵抗がほぼ4Ωであるのに対し、高温保持後の接触抵抗
はほぼ8Ωであり、高温保持の前後で接触抵抗が約2倍
になった。
抵抗がほぼ4Ωであるのに対し、高温保持後の接触抵抗
はほぼ8Ωであり、高温保持の前後で接触抵抗が約2倍
になった。
従来例Hの測定結果を第3図に示す、高温保持前後で接
触抵抗が約2倍になった。すなわち、従来例Iの場合と
同様であり、上層電極のTi膜の厚みを大きくしても効
果がなかった。
触抵抗が約2倍になった。すなわち、従来例Iの場合と
同様であり、上層電極のTi膜の厚みを大きくしても効
果がなかった。
比較例の測定結果を第4図に示す、高温保持の前後で接
触抵抗がほとんど変化せず、接触抵抗の安定化のために
は拡散バリアーが効果的であることが裏付けられた。
触抵抗がほとんど変化せず、接触抵抗の安定化のために
は拡散バリアーが効果的であることが裏付けられた。
本発明の実施例の測定結果を第1図に示す、高温保持前
後における接触抵抗は、いずれも約4Ωであり、はとん
ど接触抵抗の変化がなく、拡散バリアーと同様に本発明
はオーミック電極の特性安定化のために効果的であるこ
とが確認された。しかも、拡散バリアーのように高価な
反応性スパッタリング装置や複雑な工程を経ることなく
オーミック電極の特性安定化を図ることができた。
後における接触抵抗は、いずれも約4Ωであり、はとん
ど接触抵抗の変化がなく、拡散バリアーと同様に本発明
はオーミック電極の特性安定化のために効果的であるこ
とが確認された。しかも、拡散バリアーのように高価な
反応性スパッタリング装置や複雑な工程を経ることなく
オーミック電極の特性安定化を図ることができた。
なお、300℃で10時間保持させた後、電極表面(A
u最上層)をオージェ分析した結果、従来例工。
u最上層)をオージェ分析した結果、従来例工。
■ではGaが検出されたが、本発明の実施例では、Au
以外の元素は検出できなかった。このことがら、本発明
によりGaの電極表面への拡散を防止できることが確認
できた。
以外の元素は検出できなかった。このことがら、本発明
によりGaの電極表面への拡散を防止できることが確認
できた。
本発明によれば、オーミックコンタクト用金属層と上層
電極との間に熱処理されたチタン蒸着膜を形成するとい
う簡単な方法によりオーミック電極を高温に保持した後
における接触抵抗の特性劣化を防止することができた。
電極との間に熱処理されたチタン蒸着膜を形成するとい
う簡単な方法によりオーミック電極を高温に保持した後
における接触抵抗の特性劣化を防止することができた。
tな、オーミックコンタクト用金属層、チタン蒸着膜及
び上層電極を真空蒸着によって形成することにより電極
形成工程を簡単にすることができ、コストも安価にする
ことができる。さらに、Auワイヤーボンディング性も
良好である。
び上層電極を真空蒸着によって形成することにより電極
形成工程を簡単にすることができ、コストも安価にする
ことができる。さらに、Auワイヤーボンディング性も
良好である。
第1図ないし第4図はオーミック電極の高温保持(30
0℃;10時間)前後における接触抵抗の変化を示すグ
ラフであって、第1図は本発明の一実施例の接触抵抗変
化を示すグラフ、第2図は従来例■の接触抵抗変化を示
すグラフ、第3図は従来例■の接触抵抗変化を示すグラ
フ、第4図は比較例の接触抵抗変化を示すグラフである
。 特許出願人 株式会社 村田製作所 代理人 弁理士 中 野 雅 房
0℃;10時間)前後における接触抵抗の変化を示すグ
ラフであって、第1図は本発明の一実施例の接触抵抗変
化を示すグラフ、第2図は従来例■の接触抵抗変化を示
すグラフ、第3図は従来例■の接触抵抗変化を示すグラ
フ、第4図は比較例の接触抵抗変化を示すグラフである
。 特許出願人 株式会社 村田製作所 代理人 弁理士 中 野 雅 房
Claims (1)
- (1)半導体の表面に設けられたオーミックコンタクト
用金属層の上に熱処理されたチタンの蒸着膜を形成し、
このチタン蒸着膜の上にAu層を最上層とする上層電極
を形成したことを特徴とする耐熱性オーミック電極。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63250616A JP2761735B2 (ja) | 1988-10-04 | 1988-10-04 | 耐熱性オーミック電極及び当該耐熱性オーミック電極の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63250616A JP2761735B2 (ja) | 1988-10-04 | 1988-10-04 | 耐熱性オーミック電極及び当該耐熱性オーミック電極の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0298171A true JPH0298171A (ja) | 1990-04-10 |
JP2761735B2 JP2761735B2 (ja) | 1998-06-04 |
Family
ID=17210504
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63250616A Expired - Lifetime JP2761735B2 (ja) | 1988-10-04 | 1988-10-04 | 耐熱性オーミック電極及び当該耐熱性オーミック電極の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2761735B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04298028A (ja) * | 1991-03-26 | 1992-10-21 | Murata Mfg Co Ltd | オーミック電極の形成方法 |
JP2007266383A (ja) * | 2006-03-29 | 2007-10-11 | Victor Co Of Japan Ltd | 半導体素子の製造方法 |
JP2010529758A (ja) * | 2007-07-19 | 2010-08-26 | ボーズ・コーポレーション | 指向性をもって音を放射するシステムおよび方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60242619A (ja) * | 1984-05-16 | 1985-12-02 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 半導体オ−ム性電極の形成方法 |
JPS6384125A (ja) * | 1986-09-29 | 1988-04-14 | Nec Corp | 化合物半導体の電極形成法 |
-
1988
- 1988-10-04 JP JP63250616A patent/JP2761735B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60242619A (ja) * | 1984-05-16 | 1985-12-02 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 半導体オ−ム性電極の形成方法 |
JPS6384125A (ja) * | 1986-09-29 | 1988-04-14 | Nec Corp | 化合物半導体の電極形成法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04298028A (ja) * | 1991-03-26 | 1992-10-21 | Murata Mfg Co Ltd | オーミック電極の形成方法 |
JP2007266383A (ja) * | 2006-03-29 | 2007-10-11 | Victor Co Of Japan Ltd | 半導体素子の製造方法 |
JP2010529758A (ja) * | 2007-07-19 | 2010-08-26 | ボーズ・コーポレーション | 指向性をもって音を放射するシステムおよび方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2761735B2 (ja) | 1998-06-04 |
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Legal Events
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EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
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