JPH0273631A - 薄肉板の表面洗浄装置 - Google Patents

薄肉板の表面洗浄装置

Info

Publication number
JPH0273631A
JPH0273631A JP63225666A JP22566688A JPH0273631A JP H0273631 A JPH0273631 A JP H0273631A JP 63225666 A JP63225666 A JP 63225666A JP 22566688 A JP22566688 A JP 22566688A JP H0273631 A JPH0273631 A JP H0273631A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
center
contact
wipe member
supporting
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP63225666A
Other languages
English (en)
Inventor
Masatoshi Fukuo
福尾 正利
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
KYUSHU ELECTRON METAL CO Ltd
Osaka Titanium Co Ltd
Original Assignee
KYUSHU ELECTRON METAL CO Ltd
Osaka Titanium Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by KYUSHU ELECTRON METAL CO Ltd, Osaka Titanium Co Ltd filed Critical KYUSHU ELECTRON METAL CO Ltd
Priority to JP63225666A priority Critical patent/JPH0273631A/ja
Publication of JPH0273631A publication Critical patent/JPH0273631A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Cleaning In General (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は、ウェーハ等の薄肉板の表面洗浄装置に関す
る。
(従来の技術) 従来、ウェーハ等の薄肉板(以下、「ウェーハ」と称す
る)は、ワイプ部材によって表面洗浄の行われることが
知られている。従来の表面洗浄は、第4図に示すように
、吸着板1上にウェーハ2を固定し、該吸着板1をウェ
ーハ2共々高速回転(自転)させると共にウェーハ2の
表面に純水を供給し、ワイプ部材3を上記ウェーハ2表
面に接触させたまま、ウェーハ2の中心から外周化の間
を往復させて行われていた。
(発明が解決しようとする課題) 従って、従来の表面洗浄では、ワイプ部材が外周から中
心へ移動する際、−旦剥離されたゴミがワイプ部材と共
に再び中心にまで運ばれ、このゴミがウェーハの表面に
再付着するので、効率的な洗浄が行えないという問題が
ある。これは従来のワイプ部材3が同一平面上を往復移
動する構成であったことに基づく。
(課題を解決するための手段) 本発明は、上記実情下に効率的に洗浄を行い得る表面洗
浄装置を提供する目的でなされたものである。
すなわち、本発明に係る表面洗浄装置は、自転駆動可能
なワイプ部材を旋回アームに支承せしめ、該旋回アーム
を昇降動作可能な支材に支承させるという構成を採って
いる。
(作 用) 従って、本発明の装置では、ワイプ部材を中心から外周
へ移動させるときにのみワイプ部材をウェーハに当接さ
せる、という使用形態が採用でき、これにより、−旦剥
離されたゴミが再びウェーハの中央部分へ戻ることが回
避できる。
(実施例) 以下、本発明を第1図〜第3図の例示図面に基いて説明
する。
第1図は本発明の一実施例を示す斜視図、第2図及び第
3図はワイプ部材の洗浄動作を説明する正面図である。
これらの図において、13はワイプ部材であり、該ワイ
プ部材13は、その基部に取付けられた回転モータ13
aにより自転可能に設けられている。そして、上記ワイ
プ部材13は、旋回アーム14の先端に支承されている
。14aは旋回アーム14の基部に取付けられた旋回モ
ータを示す。15は上記旋回アーム14の基部を支承す
る部材で、該支承部材15は、その下端に取付けられた
エアーシリンダ15aによって昇降動作可能な構成とさ
れている。
上記本発明の装置は次のようにして用いられる。
まず、洗浄対象たるウェーハ12を吸着板11上に固定
し、該吸着板11をウェーハ12共々高速回転(自転)
させると共にウェーハ12の表面に純水を供給する。
この状態下において、自転駆動したワイプ部材13をウ
ェーハ12の中心に当て、旋回アーム14を回転させる
ことにより、ワイプ部材13をウェーハ12の表面に当
接したまま外周へと移動させ、ワイプ部材13が外周に
到った時点で支承部材15を上昇させることによりワイ
プ部材13をウェーハ12の表面から遊離させ、今度は
ウェーハ12にワイプ部材13を当接させずして旋回ア
ーム14を逆転させてワイプ部材13をウェーハ12の
中心の上部に戻し、ここで支承部材15を下降させてワ
イプ部材13を再びウェーハ12の中心に当接し、以下
同様の動作によりウェーハ12の表面洗浄を行う。この
ような片道洗浄を行うことにより、剥離した微少なゴミ
の再付着が防止できる。
なお、ワイプ部材13をウェーハ12に当接させる形態
は、第2図に示す中心直上の位置であっても、あるいは
第3図に示すように、中心から離れた位置であってもよ
い。
(発明の効果) 以上説明したように、本発明に係る装置は、ワイプ部材
が昇降及び旋回動作可能な構成とされているので、ワイ
プ部材がウェーハの中央から外周へと、片道洗浄を行う
ことができ、従来行われていた往復洗浄の問題点、すな
わち、中心への戻り時に、−旦剥離された微細なゴミが
再度ウェー八表面に付着するという問題点を解消でき、
効率的な表面洗浄が可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す斜視図、第2図及び第
3図はワイプの部材の洗浄動作を説明する正面図、第4
図は従来の表面洗浄を説明する正面図である。 12・・・ウェーハ 14・・・旋回アーム 13・・・ワイプ部材 15・・・支材

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 自転駆動可能なワイプ部材を旋回アームに支承せしめ、
    該旋回アームを昇降動作可能な支材に支承させたことを
    特徴とする薄肉板の表面洗浄装置。
JP63225666A 1988-09-09 1988-09-09 薄肉板の表面洗浄装置 Pending JPH0273631A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63225666A JPH0273631A (ja) 1988-09-09 1988-09-09 薄肉板の表面洗浄装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63225666A JPH0273631A (ja) 1988-09-09 1988-09-09 薄肉板の表面洗浄装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0273631A true JPH0273631A (ja) 1990-03-13

Family

ID=16832878

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63225666A Pending JPH0273631A (ja) 1988-09-09 1988-09-09 薄肉板の表面洗浄装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0273631A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102909185A (zh) * 2012-10-26 2013-02-06 世成电子(深圳)有限公司 一种清洁机

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61131460A (ja) * 1984-11-30 1986-06-19 Canon Inc ウエハ洗浄装置
JPS6234432B2 (ja) * 1983-12-19 1987-07-27 Nitsushin Seiki Kk
JPS6367243B2 (ja) * 1986-08-22 1988-12-23 Matsushita Electric Ind Co Ltd

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6234432B2 (ja) * 1983-12-19 1987-07-27 Nitsushin Seiki Kk
JPS61131460A (ja) * 1984-11-30 1986-06-19 Canon Inc ウエハ洗浄装置
JPS6367243B2 (ja) * 1986-08-22 1988-12-23 Matsushita Electric Ind Co Ltd

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102909185A (zh) * 2012-10-26 2013-02-06 世成电子(深圳)有限公司 一种清洁机

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5675856A (en) Wafer scrubbing device
JP3630524B2 (ja) 基板洗浄装置
JP2571487B2 (ja) 薄円板状ワークのスクラバー洗浄装置
JP2003093978A (ja) キャリヤプレートの洗浄方法及び装置
JPH0697268A (ja) ウエハへの粘着テープ貼付け装置
JPH0273631A (ja) 薄肉板の表面洗浄装置
JPH0697137A (ja) 基板洗浄装置
JPH11239966A (ja) 円板状加工片の研磨方法および当該研磨方法を実施する装置
JPH07283180A (ja) 基板洗浄装置
JPH09260322A (ja) 洗浄装置
JPH11135463A (ja) 処理装置及びその方法
JP4323041B2 (ja) 基板の洗浄処理装置
JPH08213352A (ja) ウェーハ洗浄装置
JPH04206945A (ja) 真空チャック洗浄方法
JPH11354479A (ja) スピン洗浄装置
JPH04348546A (ja) ダイシング装置
JPH08153693A (ja) ローダ装置
JP3352565B2 (ja) 基板洗浄方法およびそれに使用する回転式基板洗浄装置
JPH11195690A (ja) ウエーハ移載装置
KR970005804Y1 (ko) 웨이퍼 뒷면 이물 제거장치
JP4755348B2 (ja) 基板のスピン洗浄・乾燥装置および洗浄・乾燥方法
JPH05267259A (ja) 基板の洗浄方法
JP2564661Y2 (ja) 貼付板洗浄装置
JP2002233829A (ja) 基板洗浄装置および洗浄方法
JPH10118921A (ja) ワークの両面研磨処理方法および装置