JPS61131460A - ウエハ洗浄装置 - Google Patents
ウエハ洗浄装置Info
- Publication number
- JPS61131460A JPS61131460A JP59251912A JP25191284A JPS61131460A JP S61131460 A JPS61131460 A JP S61131460A JP 59251912 A JP59251912 A JP 59251912A JP 25191284 A JP25191284 A JP 25191284A JP S61131460 A JPS61131460 A JP S61131460A
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- JP
- Japan
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- wafer
- cleaning
- cleaning member
- support rod
- rotating
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- Pending
Links
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- 239000000356 contaminant Substances 0.000 abstract description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 abstract description 3
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
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- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B1/00—Cleaning by methods involving the use of tools
- B08B1/30—Cleaning by methods involving the use of tools by movement of cleaning members over a surface
- B08B1/32—Cleaning by methods involving the use of tools by movement of cleaning members over a surface using rotary cleaning members
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/302—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
- H01L21/304—Mechanical treatment, e.g. grinding, polishing, cutting
- H01L21/3046—Mechanical treatment, e.g. grinding, polishing, cutting using blasting, e.g. sand-blasting
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］ ”
本発明は、ウェハ面を均一に洗浄することの可能なウェ
ハ洗浄装置に関するものである。
ハ洗浄装置に関するものである。
［従来の技術］
従来のウェハ洗浄装置としては、例えば第３図に示した
ように、回転しているウェハに対してドラム状のブラシ
１１を当接させるというものがあった。
ように、回転しているウェハに対してドラム状のブラシ
１１を当接させるというものがあった。
この場合、ドラム状のブラシ１１は、その回転軸１２の
位置を固定させていてもウェハ自体が回転しているため
その全表面を洗浄できるという機能を有している。
位置を固定させていてもウェハ自体が回転しているため
その全表面を洗浄できるという機能を有している。
また、その他の例としては、第４図に示したごとく、回
転しているウェハ１に対して別の軸１４によって支持さ
れ回転しでいるディスク状ブラシ１３に接触させるとい
う構成のものもある。
転しているウェハ１に対して別の軸１４によって支持さ
れ回転しでいるディスク状ブラシ１３に接触させるとい
う構成のものもある。
［発明が解決しようとする問題点］
前者の場合、ドラム状ブラシ１１は、ウェハ１の中心軸
を通るものを１本セットするだけでウェハ１全表面を清
拭させることが可能であるが、ドラム状ブラシ１１の回
転軸１２をウェハ１面と平行に保つことが困難で、その
ためにウェハ１面を均一に洗浄することができないとい
う欠点を有するものであった。
を通るものを１本セットするだけでウェハ１全表面を清
拭させることが可能であるが、ドラム状ブラシ１１の回
転軸１２をウェハ１面と平行に保つことが困難で、その
ためにウェハ１面を均一に洗浄することができないとい
う欠点を有するものであった。
一方のディスク状ブラシ１３を使用するものには、上述
のような欠点はないが、ブラシ１３を常につ工ハ１面の
範囲内に位置するようにブラシ軸を固定しているため、
一旦拭い去ってブラシ内に抱き込んだ汚染物が再度ウエ
ノぐ面上に落下して再汚染するおそれがあるばかりでな
く、ディスク状ブラシ１３の直径を少なくともウェハ１
径の１／２より大きくしなければならず従って装置の大
型化は避けられず、当然のことながらコストの増加につ
ながるという欠点を有するものであった。
のような欠点はないが、ブラシ１３を常につ工ハ１面の
範囲内に位置するようにブラシ軸を固定しているため、
一旦拭い去ってブラシ内に抱き込んだ汚染物が再度ウエ
ノぐ面上に落下して再汚染するおそれがあるばかりでな
く、ディスク状ブラシ１３の直径を少なくともウェハ１
径の１／２より大きくしなければならず従って装置の大
型化は避けられず、当然のことながらコストの増加につ
ながるという欠点を有するものであった。
［問題点を解決するための手段］
この発明は、前述のような従来技術における不都合のな
いウェハ洗浄装置を提供するべく検討を加えた結果、到
達したものであって、回転しているウェハ面の中心軸を
通るように別の軸を支点としてレシプロ運動を行なうこ
とのできる支持棒にウェハ洗浄用部材を取りつけたもの
であって、そのレシプロ運動の際ウェハ周縁部の外側に
洗浄用部材が出た位置を折返し点とした点に一つの特徴
を有するものである。
いウェハ洗浄装置を提供するべく検討を加えた結果、到
達したものであって、回転しているウェハ面の中心軸を
通るように別の軸を支点としてレシプロ運動を行なうこ
とのできる支持棒にウェハ洗浄用部材を取りつけたもの
であって、そのレシプロ運動の際ウェハ周縁部の外側に
洗浄用部材が出た位置を折返し点とした点に一つの特徴
を有するものである。
［作用］
以上のように構成したウェハ洗浄装置は、支持棒に取り
つけられたウェハ洗浄用部材が回転するウェハの中心軸
を通りウェハの外周縁までレシプロ運動を行なうことか
ら、ウェハ全面の清拭を行なうことが可能であるほか、
そのレシプロ運動の折り返し点がウェハの周縁の外側に
あることから洗浄用部材に取り込まれた汚染物はその位
置で落下されウェハを再汚染することはない。
つけられたウェハ洗浄用部材が回転するウェハの中心軸
を通りウェハの外周縁までレシプロ運動を行なうことか
ら、ウェハ全面の清拭を行なうことが可能であるほか、
そのレシプロ運動の折り返し点がウェハの周縁の外側に
あることから洗浄用部材に取り込まれた汚染物はその位
置で落下されウェハを再汚染することはない。
［実施例１
以下、一実施例を示して本発明の構成、作用をざらに説
明する。
明する。
第１図は、本発明に基いて構成したウェハ洗浄用装置の
概略図であり、１はウェハ、２は洗浄用部材、３は洗浄
用部材を支持しかつ揺動軸の運動を伝達する支持棒、４
は洗浄用部材にレシプロ運動を与える揺動軸である。
概略図であり、１はウェハ、２は洗浄用部材、３は洗浄
用部材を支持しかつ揺動軸の運動を伝達する支持棒、４
は洗浄用部材にレシプロ運動を与える揺動軸である。
支持棒３は、洗浄用部材２がウェハ１の回転中心輪上を
通るようにセットしている。
通るようにセットしている。
揺動軸４のレシプロ運動は、支持棒３によって支持され
ている洗浄用部材２がウェハの周縁部から外れた位置ま
で軌跡を画くようにレシプＯ°運動を行なうようセット
している。
ている洗浄用部材２がウェハの周縁部から外れた位置ま
で軌跡を画くようにレシプＯ°運動を行なうようセット
している。
支持棒３には、洗浄用部材２の先端に洗浄液を供給する
ための流路を有しており、図示していない供給源から、
洗浄液が供給されるようになっている。
ための流路を有しており、図示していない供給源から、
洗浄液が供給されるようになっている。
以上の如ぎ構成を有するものであることから、回転する
ウェハ１に洗浄装置を作動させると、ウェハ１の全面に
対して洗浄用部材２が当接することになり、洗浄が均一
に実施されるのみならず、洗浄用部材が一度抱え込んだ
汚染物質は、ウェハ１面外で系外に廃棄され、ウェハ１
を再汚染することはない。
ウェハ１に洗浄装置を作動させると、ウェハ１の全面に
対して洗浄用部材２が当接することになり、洗浄が均一
に実施されるのみならず、洗浄用部材が一度抱え込んだ
汚染物質は、ウェハ１面外で系外に廃棄され、ウェハ１
を再汚染することはない。
第２図は、洗浄用部材２の一実施例を示したもので、例
えば合成樹脂または金属で形成された円筒部材５の下面
側に合成樹脂製の毛状物を植毛して形成したブラシ様の
ものである。このぽか、ブラシ状でなく、スポンジ様の
洗浄用部材であってもよい。
えば合成樹脂または金属で形成された円筒部材５の下面
側に合成樹脂製の毛状物を植毛して形成したブラシ様の
ものである。このぽか、ブラシ状でなく、スポンジ様の
洗浄用部材であってもよい。
［発明の効果］
以上説明したように、本発明では洗浄用部材を回転可能
に支持棒にとりつけ、この支持棒を洗浄用部材がウェハ
面上を摺動するように、このウェハの中心軸を通すウエ
ハ面周縁外部までの間を往復運動させるようにしたこと
から、ウェハ面上を均一な接触圧で洗浄することが可能
となったのみならず、洗浄用部材自体の小型化が可能と
なり、その結実装置の小型化、コストの低減を図ること
が可能となった。
に支持棒にとりつけ、この支持棒を洗浄用部材がウェハ
面上を摺動するように、このウェハの中心軸を通すウエ
ハ面周縁外部までの間を往復運動させるようにしたこと
から、ウェハ面上を均一な接触圧で洗浄することが可能
となったのみならず、洗浄用部材自体の小型化が可能と
なり、その結実装置の小型化、コストの低減を図ること
が可能となった。
また、支持棒がウェハ周縁より外側の折り返し点に到達
したとき、洗浄用部材に抱え込まれていたゴミが排出さ
れることがらウェハの再汚染の危険が防止できるという
効果をも併せて備えるもの
したとき、洗浄用部材に抱え込まれていたゴミが排出さ
れることがらウェハの再汚染の危険が防止できるという
効果をも併せて備えるもの
第１図は本発明によって構成したウェハ洗浄装置の斜視
図、第２図は洗浄用部材の拡大斜視図、第３図は従来法
によるウェハ洗浄装置の斜視図、第４図は他の従来法に
よ゛る装置の平面−図である。 １・・・ウェハ、２・・・洗浄用部材、３・・・支持棒
、４・・；揺動軸、６・・・植毛。
図、第２図は洗浄用部材の拡大斜視図、第３図は従来法
によるウェハ洗浄装置の斜視図、第４図は他の従来法に
よ゛る装置の平面−図である。 １・・・ウェハ、２・・・洗浄用部材、３・・・支持棒
、４・・；揺動軸、６・・・植毛。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、回転軸により回転しているウェハに対して、該ウェ
ハの中心軸を通りウェハ面周縁外部を一方の折り返し点
としてレシプロ運動を行う洗浄用部材を回転可能に支持
棒にとりつけウェハ面上を摺動するように構成したこと
を特徴とするウェハ洗浄装置。 ２、洗浄用部材がブラシ様のものから構成されている特
許請求の範囲第１項記載のウェハ洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59251912A JPS61131460A (ja) | 1984-11-30 | 1984-11-30 | ウエハ洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59251912A JPS61131460A (ja) | 1984-11-30 | 1984-11-30 | ウエハ洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61131460A true JPS61131460A (ja) | 1986-06-19 |
Family
ID=17229805
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59251912A Pending JPS61131460A (ja) | 1984-11-30 | 1984-11-30 | ウエハ洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61131460A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4762335A (en) * | 1986-03-28 | 1988-08-09 | Aprica Kassai Kabushikikaisha | Baby carriage |
| JPH0273631A (ja) * | 1988-09-09 | 1990-03-13 | Kyushu Electron Metal Co Ltd | 薄肉板の表面洗浄装置 |
| CN111774353A (zh) * | 2020-07-10 | 2020-10-16 | 李峰 | 一种用于晶圆检测的除尘装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54125981A (en) * | 1978-03-23 | 1979-09-29 | Nec Corp | Semiconductor washing device |
| JPS5790941A (en) * | 1980-11-27 | 1982-06-05 | Toshiba Corp | Swing type vertical washer |
-
1984
- 1984-11-30 JP JP59251912A patent/JPS61131460A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54125981A (en) * | 1978-03-23 | 1979-09-29 | Nec Corp | Semiconductor washing device |
| JPS5790941A (en) * | 1980-11-27 | 1982-06-05 | Toshiba Corp | Swing type vertical washer |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4762335A (en) * | 1986-03-28 | 1988-08-09 | Aprica Kassai Kabushikikaisha | Baby carriage |
| JPH0273631A (ja) * | 1988-09-09 | 1990-03-13 | Kyushu Electron Metal Co Ltd | 薄肉板の表面洗浄装置 |
| CN111774353A (zh) * | 2020-07-10 | 2020-10-16 | 李峰 | 一种用于晶圆检测的除尘装置 |
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