JPS6143429A - 微小物品洗浄装置 - Google Patents

微小物品洗浄装置

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JPS6143429A
JPS6143429A JP16498184A JP16498184A JPS6143429A JP S6143429 A JPS6143429 A JP S6143429A JP 16498184 A JP16498184 A JP 16498184A JP 16498184 A JP16498184 A JP 16498184A JP S6143429 A JPS6143429 A JP S6143429A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cleaning
laser chip
chuck
chip
nozzle
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP16498184A
Other languages
English (en)
Inventor
Masamitsu Kanai
金井 正光
Hideo Taguchi
英夫 田口
Masaru Miyashita
勝 宮下
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP16498184A priority Critical patent/JPS6143429A/ja
Publication of JPS6143429A publication Critical patent/JPS6143429A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は微小物品洗浄装置、たとえば、半導体レーザ装
置のレーザ光発光面を洗浄することができる洗浄装置に
関する。
〔背景技術〕
一般に、物品の汚れを除くために洗浄が行われている。
たとえば、プレスジャーナル社発行。
Sem1conductor World、別冊、 B
uyers Guide &Directory+ 1
983年10月20日発行。
213〜218頁には、超音波洗浄、蒸気洗浄。
フロン洗浄等により各種の物品の洗浄を行う洗浄装置が
紹介されている。
ところで、たとえば、日経マグロウヒル社発行。
日経エレクトロニクス、1981年、9月14日号、1
38〜152頁における伝水等による″゛オーデイオデ
ィスクの要求に応える半導体レーザ″と題する文献にお
いて記載されているように、半導体レーザ素子はその共
振器端面(鏡面)からレーザ光を発光する構造となって
いる。
したがって、レーザチップの共振器端面の汚れは発光を
阻害する最大の原因となる。
しかし、前記洗浄技術には、縦、横、高さがそれぞれ数
100μmとその大きさが極るて小さいレーザチップの
洗浄技術については、特に認識されていない。
一方1本出願人にあっては、製造工程でレーザチップの
共振器端面に付着してしまった異物を除去するために、
布で共振器端面を拭いたり、あるいは高圧の純水を共振
器端面に吹きつける等の方法を試みたが、前者では共振
器端面に倍が付いたリ、小さな異物が除去し切れなかっ
たり、布に付着してい異物が新たに共振器端面に付いて
しう等共振器端面の清浄技術としては必ずしも適当では
ないことがわかった。また、後者では、純水の圧力をか
なり高圧にしても異物が取れないことが多い。これに対
して、純水の圧力を大きくすると、その圧力でレーザチ
ップそのものが飛び散ったり、破壊される等の現象が生
じ、この技術もまたレーザチップの共振器端面の清浄技
術としては必ずしも適当ではないこともわがった。
〔発明の目的〕
本発明の目的は微小物1品を傷付けることなくかつ確実
に清浄化できる洗浄装置を提供することにある。
本発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は、
本明細書の記述および添付図面を提供することにある。
〔発明の概要〕
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
すなわち、ステムに固定されたレーザチップは顕微鏡に
よって観察される製品チャックに保持された状態で純水
を掛けられながら高速回転する軟質ポリウレタンフォー
ムで擦られて洗浄される結果、微小体であるレーザチッ
プの共m器端面は偏付くことなくかつ清浄に洗浄され、
微小物品の効率的洗浄を達成するものである。
〔実施例〕
第1図は本発明の一実施例による微小物品洗浄装置の外
観を示す斜視図、第2図は同じくレーザチップの共振器
端面の洗浄状態を示す斜視図、第3図は同じくステムに
固定されたレーザチップを示す斜視図である。
本実施例の微小物品洗浄装置は第1図に示されるように
、装置本体lの下部前面の平坦なテーブル面2の中央に
は、上部に製品チャック3を有するボール状のコラム4
が設けられている。製品チャック3は第3図に示される
ように、一対の爪5で微小物品、この実施例ではレーザ
チップ6を固定したステム7を保持するようになってい
る。
爪5は一般に良く用いられる構造であって、図示しない
バネによって常時保持状態にあり、コラム4の一側に突
出した開閉アーム8の押し下げ操作で開く構造となって
いる。したがって、ステム7の製品チャック3へのロー
ダ・アンローダは、手で前記開閉アーム8を操作するこ
とによって行われる。また、前記コラム4の上部には、
後述する洗浄液の飛散防止用のフード9が設けられてい
る。
このフード9の底には図示しないが排水孔が設けられ、
フード9内に溜まった洗浄液(廃液)を排水するように
なっている。また、前記テーブル面2上にはチェスマン
10が配置されている。
一方、前記コラム4の上方にはスピンドル11およびノ
ズル12が配設されている。このスピンドル11および
ノズル12は装置本体lの上部に配設された上下および
平面運動ができる移動体13に取付られている。前記移
動体13は装置本体1からテーブル面2の上方に突出す
るスピンドルレバー14の上下操作によって上下動(Z
方向)し、前記チェスマン10の平面XY方向掻操作よ
ってXY方向に運動するようになっている。前記スピン
ドル11は第2図に示されるように、その下端に洗浄端
子チャック15を有している。この洗浄端子チャック1
5はスピンドルll内を挿入されかつスピンドル11の
下端から一部が突出した軟質ポリウレタンフォーム16
をチャックするようになっている。したがって、この洗
浄端子チャック15を緩めることによって軟質ポリウレ
タンフォーム16を引き出したりあるいは取り外すこと
ができる。また、前記スピンドル11の軟質ポリウレタ
ンフォーム16を保持した部分はエアー供給管17から
送り込まれるエアーによって、たとえば、11000r
pの高速で回転する。また、移動体13に取付られたノ
ズル12は、洗浄液供給管18によって送り込まれる洗
浄液である純水19をノズル12の先端から洗浄端子チ
ャック15の下方の洗浄部分に吹き付けるようになって
いる。なお、前記スピンドル11はスピンドルレバーI
4に取付けられた回転スイッチ20を押すことによって
回転することになっている。また。
前記チェスマン10に取付けられたノズルスイッチ21
を押すことによって前記ノズル12から純水19が吹き
出されるようになっている。
他方、前記装置本体lの前面には、製品チャック3部分
を観察するための顕微鏡22および製品チャック3部分
を照らすランプ23が取付られている。
なお、第3図に示されるように、前記レーザチップ6は
サブマウント24を介してステム7に固定されている。
このような微小物品洗浄装置において、ステム7に固定
されたレーザチップ6は、ステム7部分が製品チャック
3に保持された上方で洗浄が行われる。すなわち、洗浄
作業は次の手順で行われる。
最初に、ステム7が製品チャック3に固定される。
その後、スピンドルレバー14およびチェスマン10が
操作され、スピンドル11の先端の軟質ポリウレタンフ
ォーム16がレーザチップ6の共振器端面を有する端面
に接触する。つぎに、回転スイッチ20が押されスピン
ドル11が回転させられるとともに、ノズルスイッチ2
1が押されノズル12の先端から純水19が洗浄部分に
吹き付けられる。軟質ポリウレタンフォーム16はレー
ザチップ6の端面を擦ることから、共振器端面ば純水1
9の作用もあって奇麗に洗浄される。この洗浄時チェス
マン10が操作されスピンドル11が移動させられ、レ
ーザチップ6の端面全体が洗浄される。洗浄状態は顕微
鏡22を利用して観察できるので、レーザチップ6の端
面が清浄になったら洗浄作業は終了する。
〔効果〕
1、本発明の微小物品洗浄装置によれば、半導体レーザ
素子の共振器端面のように極めて*細な部分のミクロン
単位の異物(汚れ)を、軟質ポリウレタンフォーム16
の高速回転による擦りおよび純水19による洗い流しに
よって確実に除去できという効果が得られる。
2、本発明の微小物品洗浄装置によれば、半導体レーザ
素子の端面には、軟質ポリウレタンフォーム16という
軟質の洗浄体が接触する構造となっていることから、脆
弱な半導体レーザ素子の端面を傷付けたり、破損させた
りすることなく清浄に洗浄できるという効果が得られる
3、上記1および2から、本発明の微小物品洗浄装置に
よれば、清浄な洗浄および損傷のない洗浄が行えること
によって、歩留りの向上が達成できるという相乗効果が
得られる。
以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない、たとえば、洗浄液は純水
に代えて有機溶剤等を用いても前記実施例と同様な効果
が得られる。
なお、洗浄体としては軟質ポリウレタンフォーム以外の
ものを用いても前記実施例と同様な効果が得られるが、
この場合には、洗浄体が磨滅して半導体レーザ素子の端
面に再付着することのないような材質のものを選ぶ必要
がある。
〔利用分野〕
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野である半導体レーザ素子の
洗浄技術に適用した場合について説明したが、それに限
定されるものではなく、たとえば、精密部品の洗浄等の
技術などに適用できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例による微小物品洗浄装置の外
観を示す斜視図、 第2図は同じくレーザチップの共振器端面の洗浄状態を
示す斜視図。 第3図は同じくステムに固定されたレーザチップを示す
斜視図である6 ■・・・装置本体、2・・・テーブル面、3・・・製品
チャック、4・・・コラム、5・・・爪、6・・・レー
ザチップ。 7・・・ステム、8・・・開閉アーム、9・・・フード
、10・−・チェスマン、11・・・スピンドル、12
・・・ノズル、13・・・移動体、14・・・スピンド
ルレバー、15・・・洗浄端子チャック、16・・・軟
質ポリウレタンフォーム、17・・・エアー供給管、1
8・・・洗浄液供給管、19・・・純水、20・・・回
転スイッチ、21・・・ノズルスイッチ、22・・・顕
微鏡、23・・・ランプ、24・・・サブマウント。 第  114 第  2vA

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、被洗浄物品を保持する製品チャックと、前記製品チ
    ャックに保持された被洗浄物品に回転しながら接触かつ
    移動する洗浄体と、前記被洗浄物品に洗浄液を吹き付け
    るノズルと、前記製品チャックに保持された被洗浄物品
    を観察する顕微鏡と、を有することを特徴とする微小物
    品洗浄装置。
JP16498184A 1984-08-08 1984-08-08 微小物品洗浄装置 Pending JPS6143429A (ja)

Priority Applications (1)

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JP16498184A JPS6143429A (ja) 1984-08-08 1984-08-08 微小物品洗浄装置

Applications Claiming Priority (1)

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JP16498184A JPS6143429A (ja) 1984-08-08 1984-08-08 微小物品洗浄装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6143429A true JPS6143429A (ja) 1986-03-03

Family

ID=15803562

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP16498184A Pending JPS6143429A (ja) 1984-08-08 1984-08-08 微小物品洗浄装置

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JP (1) JPS6143429A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01246361A (ja) * 1988-03-28 1989-10-02 Toshiba Tungaloy Co Ltd 耐剥離性にすぐれたダイヤモンド被覆燒結合金及びその製造方法
JPH0445256A (ja) * 1990-06-12 1992-02-14 Kanto Yakin Kogyo Kk ろう付と浸炭の同時処理法
JPWO2020054593A1 (ja) * 2018-09-13 2021-08-30 パナソニック株式会社 光学装置

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01246361A (ja) * 1988-03-28 1989-10-02 Toshiba Tungaloy Co Ltd 耐剥離性にすぐれたダイヤモンド被覆燒結合金及びその製造方法
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JPH0445256A (ja) * 1990-06-12 1992-02-14 Kanto Yakin Kogyo Kk ろう付と浸炭の同時処理法
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