JP5197719B2 - 疎水性ウェーハを洗浄/乾燥する方法および装置 - Google Patents
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Claims (15)
- 疎水性ウェーハを洗浄する方法であって、
第1洗浄装置内で界面活性剤含有溶液を疎水性ウェーハの表面へ供給し、それによって界面活性剤の層を前記疎水性ウェーハの表面上へ形成するステップと、
前記界面活性剤層が上部に形成された疎水性ウェーハを第2洗浄装置へ移送するステップと、
純DI水を疎水性ウェーハの表面に直接供給することなく、前記第2洗浄装置内で疎水性ウェーハの表面を純DI水でリンスするステップと、
前記第2洗浄装置内で疎水性ウェーハを乾燥するステップと、を備え、
純DI水は前記リンスするステップにおいてのみ疎水性ウェーハへ供給され、
疎水性ウェーハを第2洗浄装置へ移送する前記ステップは、疎水性ウェーハが第2洗浄装置へ移るときに界面活性剤含有溶液の層を前記疎水性ウェーハ上に維持するステップを含んでいる、方法。 - 第1洗浄装置内で界面活性剤含有溶液を疎水性ウェーハの表面へ供給する前記ステップは、界面活性剤含有溶液を含有する流体タンクへ前記疎水性ウェーハを少なくとも部分的に浸漬するステップを含んでいる、請求項1記載の方法。
- 第1洗浄装置内で界面活性剤含有溶液を疎水性ウェーハの表面へ供給する前記ステップは、第1スクラバ内で界面活性剤含有溶液を使用して疎水性ウェーハをスクラブするステップを含んでいる、請求項1記載の方法。
- 疎水性ウェーハを第2洗浄装置へ移送する前記ステップは、疎水性ウェーハをスクラバへ移送するステップを含んでいる、請求項1記載の方法。
- 疎水性ウェーハを第2洗浄装置へ移送する前記ステップは、疎水性ウェーハをスピン−リンス−ドライヤへ移送するステップを含んでいる、請求項1記載の方法。
- 前記界面活性剤含有溶液は、WAKO NCW(登録商標)界面活性剤を含んでいる、請求項1記載の方法。
- 前記WAKO NCW(登録商標)界面活性剤は、0.01体積%〜0.1体積%の濃度を有している、請求項6記載の方法。
- 第2洗浄装置内で疎水性ウェーハの表面を純DI水でリンスするステップは、第2洗浄装置内で疎水性ウェーハの表面を純DI水で5秒以下の時間だけリンスするステップを含んでいる、請求項1記載の方法。
- 疎水性ウェーハを第2洗浄装置へ移送する前記ステップは、前記疎水性ウェーハをIPAドライヤへ移送するステップを含んでいる、請求項1記載の方法。
- 疎水性ウェーハを乾燥する前記ステップは、前記疎水性ウェーハをマランゴニ乾燥するステップを含んでいる、請求項1記載の方法。
- 疎水性ウェーハを洗浄する方法であって、
第1洗浄装置内で第1界面活性剤含有溶液を疎水性ウェーハの表面へ供給し、それによって界面活性剤の層を前記疎水性ウェーハの表面上へ形成するステップと、
前記界面活性剤層が上部に形成された疎水性ウェーハを第2洗浄装置へ移送するステップと、
前記疎水性ウェーハの表面を、前記第1界面活性剤含有溶液よりも希釈した希釈界面活性剤含有溶液でリンスするステップと、
前記疎水性ウェーハを前記第2洗浄装置内で乾燥するステップと、を備え、
純DI水は、前記疎水性ウェーハを洗浄するためには使用されず、
疎水性ウェーハを第2洗浄装置へ移送する前記ステップは、前記疎水性ウェーハが第2洗浄装置へ移るときに界面活性剤含有溶液の層を前記疎水性ウェーハ上に維持するステップを含んでいる、方法。 - 疎水性ウェーハをリンスおよび乾燥する方法であって、
疎水性ウェーハを洗浄装置内に配置するステップと、
前記洗浄装置内で前記疎水性ウェーハの表面へ希釈界面活性剤を供給するステップであって、当該界面活性剤の濃度は、時間の経過とともに徐々に低下するステップと、
純粋な脱イオン水を前記疎水性ウェーハに供給することなく、前記洗浄装置内で前記疎水性ウェーハを乾燥するステップと、を備える方法。 - 疎水性ウェーハをリンスおよび乾燥する方法であって、
疎水性ウェーハを洗浄装置内に配置するステップと、
前記疎水性ウェーハの表面へ界面活性剤を供給し、その表面上に界面活性剤層を形成するステップと、
純粋な脱イオン水を前記疎水性ウェーハの表面へ噴霧するステップと、
前記脱イオン水の噴霧が前記疎水性ウェーハの表面に直接供給されないように、前記界面活性剤層が前記疎水性ウェーハの表面からリンスされると直ちに前記脱イオン水噴霧を停止させるステップと、
前記疎水性ウェーハを乾燥するステップと、を備える方法。 - 疎水性ウェーハをリンスおよび乾燥する方法であって、
疎水性ウェーハを洗浄装置内に配置するステップと、
界面活性剤を前記疎水性ウェーハの表面へ供給して、その表面上に界面活性剤層を形成するステップと、
純粋な脱イオン水を前記疎水性ウェーハの表面へ噴霧するステップと、
前記脱イオン水の噴霧が前記疎水性ウェーハの表面に直接供給されないように、前記脱イオン水噴霧を5秒以内に停止するステップと、
前記疎水性ウェーハを乾燥するステップと、を備える方法。 - 疎水性ウェーハをリンスおよび乾燥する方法であって、
疎水性ウェーハを洗浄装置内に配置するステップと、
界面活性剤を前記疎水性ウェーハの表面へ供給して、その表面上に界面活性剤層を形成するステップと、
純粋な脱イオン水を前記疎水性ウェーハの表面へ噴霧するステップと、
前記脱イオン水の噴霧が前記疎水性ウェーハの表面に直接供給されないように、前記界面活性剤層が前記疎水性ウェーハの表面から完全にリンスされる前に、前記脱イオン水噴霧を停止するステップと、
前記疎水性ウェーハを乾燥するステップと、を備える方法。
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