JPH0262857B2 - - Google Patents
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- JPH0262857B2 JPH0262857B2 JP12925184A JP12925184A JPH0262857B2 JP H0262857 B2 JPH0262857 B2 JP H0262857B2 JP 12925184 A JP12925184 A JP 12925184A JP 12925184 A JP12925184 A JP 12925184A JP H0262857 B2 JPH0262857 B2 JP H0262857B2
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- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 52
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 claims description 29
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 claims description 27
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 claims description 20
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 3
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 54
- -1 ester compounds Chemical class 0.000 description 15
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 15
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 15
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000203 mixture Chemical group 0.000 description 8
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 8
- 239000010408 film Substances 0.000 description 7
- JOLVYUIAMRUBRK-UHFFFAOYSA-N 11',12',14',15'-Tetradehydro(Z,Z-)-3-(8-Pentadecenyl)phenol Natural products OC1=CC=CC(CCCCCCCC=CCC=CCC=C)=C1 JOLVYUIAMRUBRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YLKVIMNNMLKUGJ-UHFFFAOYSA-N 3-Delta8-pentadecenylphenol Natural products CCCCCCC=CCCCCCCCC1=CC=CC(O)=C1 YLKVIMNNMLKUGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- JOLVYUIAMRUBRK-UTOQUPLUSA-N Cardanol Chemical compound OC1=CC=CC(CCCCCCC\C=C/C\C=C/CC=C)=C1 JOLVYUIAMRUBRK-UTOQUPLUSA-N 0.000 description 4
- FAYVLNWNMNHXGA-UHFFFAOYSA-N Cardanoldiene Natural products CCCC=CCC=CCCCCCCCC1=CC=CC(O)=C1 FAYVLNWNMNHXGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 4
- PTFIPECGHSYQNR-UHFFFAOYSA-N cardanol Natural products CCCCCCCCCCCCCCCC1=CC=CC(O)=C1 PTFIPECGHSYQNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- SLGWESQGEUXWJQ-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;phenol Chemical compound O=C.OC1=CC=CC=C1 SLGWESQGEUXWJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 4
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCCOCCOCCO OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 3
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 3
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 3
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WXWYJCSIHQKADM-ZNAKCYKMSA-N (e)-n-[bis[[(e)-butan-2-ylideneamino]oxy]-ethenylsilyl]oxybutan-2-imine Chemical compound CC\C(C)=N\O[Si](O\N=C(/C)CC)(O\N=C(/C)CC)C=C WXWYJCSIHQKADM-ZNAKCYKMSA-N 0.000 description 2
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WTQZSMDDRMKJRI-UHFFFAOYSA-N 4-diazoniophenolate Chemical compound [O-]C1=CC=C([N+]#N)C=C1 WTQZSMDDRMKJRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003261 Durez Polymers 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N [4-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=C(CN)C=C1 ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 2
- 239000013039 cover film Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 2
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 2
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRASJONUBLZVQX-UHFFFAOYSA-N 1,4-naphthoquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C=CC(=O)C2=C1 FRASJONUBLZVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VJKZIQFVKMUTID-UHFFFAOYSA-N 2-diazonio-5-sulfonaphthalen-1-olate Chemical compound N#[N+]C1=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=CC=CC2=C1[O-] VJKZIQFVKMUTID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNPVJWYWYZMPDS-UHFFFAOYSA-N 2-methyldecane Chemical compound CCCCCCCCC(C)C CNPVJWYWYZMPDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Chemical group CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- MUBKMWFYVHYZAI-UHFFFAOYSA-N [Al].[Cu].[Zn] Chemical compound [Al].[Cu].[Zn] MUBKMWFYVHYZAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPGOFFXRGUQRMW-UHFFFAOYSA-N [N-]=[N+]=[N-].[N-]=[N+]=[N-].O=C1C=CC=CC1=O Chemical compound [N-]=[N+]=[N-].[N-]=[N+]=[N-].O=C1C=CC=CC1=O MPGOFFXRGUQRMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTHCBXJLLCHNMS-UHFFFAOYSA-N acetyloxysilicon Chemical compound CC(=O)O[Si] BTHCBXJLLCHNMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000003939 benzylamines Chemical class 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 239000012975 dibutyltin dilaurate Substances 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010017 direct printing Methods 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 239000003350 kerosene Substances 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 125000002960 margaryl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001421 myristyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229930014626 natural product Natural products 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 125000001117 oleyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])/C([H])=C([H])\C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002958 pentadecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 229920001084 poly(chloroprene) Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 238000001226 reprecipitation Methods 0.000 description 1
- 229920003987 resole Polymers 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical compound [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000002889 tridecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 125000002948 undecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 125000002256 xylenyl group Chemical class C1(C(C=CC=C1)C)(C)* 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/075—Silicon-containing compounds
- G03F7/0752—Silicon-containing compounds in non photosensitive layers or as additives, e.g. for dry lithography
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は水なし平版印刷版に関するものであ
り、特に耐刷力、引掻き強度に優れた水なし平版
印刷版に関するものである。
り、特に耐刷力、引掻き強度に優れた水なし平版
印刷版に関するものである。
従来、水なし平版印刷版の感光性化合物として
ｏ−キノンジアジド化合物が提案されており、特
にｏ−ナフトキノンジアジドスルホン酸とフエノ
ールノボラツク樹脂のエステル化合物が感光特
性、保存安定性等の点で優れているので過去にい
くつか提案されている。
ｏ−キノンジアジド化合物が提案されており、特
にｏ−ナフトキノンジアジドスルホン酸とフエノ
ールノボラツク樹脂のエステル化合物が感光特
性、保存安定性等の点で優れているので過去にい
くつか提案されている。
例えば、特開昭55−59466にはアルミ板に裏打
ちされた、キノンジアジド化合物からなる光可溶
化型感光層の上に接着層を介してシリコーンゴム
層を設けた水なし平版印刷版が開示されている。
また、特開昭56−80046には、ナフトキノン−１，
２−ジアジド−５−スルホン酸クロリドとフエノ
ールノボラツク樹脂の部分エステル化合物を多官
能イソシアネートで架橋した感光層の上にシリコ
ーンゴム層を設けたネガテイブワーキング用水な
し平版印刷版が開示されている。
ちされた、キノンジアジド化合物からなる光可溶
化型感光層の上に接着層を介してシリコーンゴム
層を設けた水なし平版印刷版が開示されている。
また、特開昭56−80046には、ナフトキノン−１，
２−ジアジド−５−スルホン酸クロリドとフエノ
ールノボラツク樹脂の部分エステル化合物を多官
能イソシアネートで架橋した感光層の上にシリコ
ーンゴム層を設けたネガテイブワーキング用水な
し平版印刷版が開示されている。
これらの従来技術による水なし平版印刷版は、
製版および印刷工程の以下の問題がある。
製版および印刷工程の以下の問題がある。
(1) 感光層がもろくて硬いため現像時または印刷
版の取扱い時に感光層に傷が付きやすい。
版の取扱い時に感光層に傷が付きやすい。
(2) 感光層の損傷が非画像部の、すなわちシリコ
ーンゴム層が残つている感光層においても印刷
時に進行するので、それに付随して感光層の上
のシリコーンゴム層も損傷する。その結果シリ
コーンゴム層の表面が部分的にインキを拾うよ
うになり、印刷物の汚れとなるなど印刷品質の
低下をもたらす。これらは主として印刷版の耐
刷力不足に基づくとみられる。
ーンゴム層が残つている感光層においても印刷
時に進行するので、それに付随して感光層の上
のシリコーンゴム層も損傷する。その結果シリ
コーンゴム層の表面が部分的にインキを拾うよ
うになり、印刷物の汚れとなるなど印刷品質の
低下をもたらす。これらは主として印刷版の耐
刷力不足に基づくとみられる。
発明の目的は上述の従来技術の欠点を解消し、
耐刷力、引掻き強度に優れた水なし平版印刷版を
提供することにある。
耐刷力、引掻き強度に優れた水なし平版印刷版を
提供することにある。
本発明は支持体、感光層およびシリコーンゴム
層をこの順に積層してなる水なし平版印刷版にお
いて、該感光層が、少なくとも一般式（）（Ｒ
は炭素原子が３〜30までのアルキル基またはアル
ケ ニル基を表わし、それぞれｏ，ｍまたはｐ位に置
換されている。ｎが１〜３の整数）のフエノール
とホルムアルデヒドからなるノボラツク樹脂とｏ
−キノンジアジド化合物とのエステル化物を含有
することを特徴とする水なし平版印刷版に関する
ものである。
層をこの順に積層してなる水なし平版印刷版にお
いて、該感光層が、少なくとも一般式（）（Ｒ
は炭素原子が３〜30までのアルキル基またはアル
ケ ニル基を表わし、それぞれｏ，ｍまたはｐ位に置
換されている。ｎが１〜３の整数）のフエノール
とホルムアルデヒドからなるノボラツク樹脂とｏ
−キノンジアジド化合物とのエステル化物を含有
することを特徴とする水なし平版印刷版に関する
ものである。
本発明において用いられる一般式（）のフエ
ノールとは、Ｒが、ペンチル、ヘキシル、ヘプチ
ル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ド
デシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシ
ル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、ステアリルま
たは７−ペンタデセニル、４，７−ペンタデカジ
エニル、１，４，７−ペンタデカトリエニル、オ
レイル基、またはこれらの混合であり、モノ置換
からトリ置換までされた（置換の位置はｏ，ｍま
たはｐ位である）フエノールである。
ノールとは、Ｒが、ペンチル、ヘキシル、ヘプチ
ル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ド
デシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシ
ル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、ステアリルま
たは７−ペンタデセニル、４，７−ペンタデカジ
エニル、１，４，７−ペンタデカトリエニル、オ
レイル基、またはこれらの混合であり、モノ置換
からトリ置換までされた（置換の位置はｏ，ｍま
たはｐ位である）フエノールである。
特にかかるフエノールとして好ましいものはカ
ルダノールである。カルダノールは天然物でＲが
C15H27（平均二重結合数はほぼ２個に相当）でｍ
位に入つており、容易に入手できるものである。
ルダノールである。カルダノールは天然物でＲが
C15H27（平均二重結合数はほぼ２個に相当）でｍ
位に入つており、容易に入手できるものである。
本発明で用いるノボラツク樹脂は一般的に次の
ようにして合成される。例えば、上記一般式
（）のフエノールと一般的なフエノールノボラ
ツク樹脂に使いられているフエノール成分（フエ
ノール、クレゾール、キシレノールなど）および
ホルムアルデヒドを酸性触媒下で反応させて合成
することができる。
ようにして合成される。例えば、上記一般式
（）のフエノールと一般的なフエノールノボラ
ツク樹脂に使いられているフエノール成分（フエ
ノール、クレゾール、キシレノールなど）および
ホルムアルデヒドを酸性触媒下で反応させて合成
することができる。
また、本発明に使用されるｏ−キノンジアジド
化合物としては１つまたはそれ以上のｏ−キノン
ジアジド基を有するベンゼン系列の化合物が特に
好ましい。例えば、ｏ−ベンゾキノンジアジド、
１，２−ナフトキノン−１−ジアジド、１，２−
ナフトキノン−２−ジアジド、７−メトキシ−
１，２−ナフトキノン−２−ジアジド、６−クロ
ロ−１，２−ナフトキノン−２−ジアジド、７−
クロロ−１，２−ナフトキノン−２−ジアジド、
６−ニトロ−１，２−ナフトキノン−２−ジアジ
ド、５−（カルボキシメチル）−１，２−ナフトキ
ノン−１−ジアジド、３，3′，４，4′，−ジフエ
ニル−ビス−キノン−４，4′−ジアジド、２，３
−フエナントレンキノン−２−ジアジド、９，10
−フエナントレンキノン−10−ジアジドおよび
３，４−クリセンキノン−３−ジアジドのごとき
キノンジアジドの酸ハロゲン化合物などが挙げら
れる。特に好ましいｏ−キノンジアジド化合物と
しては、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−
５−スルホン酸クロリドである。
化合物としては１つまたはそれ以上のｏ−キノン
ジアジド基を有するベンゼン系列の化合物が特に
好ましい。例えば、ｏ−ベンゾキノンジアジド、
１，２−ナフトキノン−１−ジアジド、１，２−
ナフトキノン−２−ジアジド、７−メトキシ−
１，２−ナフトキノン−２−ジアジド、６−クロ
ロ−１，２−ナフトキノン−２−ジアジド、７−
クロロ−１，２−ナフトキノン−２−ジアジド、
６−ニトロ−１，２−ナフトキノン−２−ジアジ
ド、５−（カルボキシメチル）−１，２−ナフトキ
ノン−１−ジアジド、３，3′，４，4′，−ジフエ
ニル−ビス−キノン−４，4′−ジアジド、２，３
−フエナントレンキノン−２−ジアジド、９，10
−フエナントレンキノン−10−ジアジドおよび
３，４−クリセンキノン−３−ジアジドのごとき
キノンジアジドの酸ハロゲン化合物などが挙げら
れる。特に好ましいｏ−キノンジアジド化合物と
しては、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−
５−スルホン酸クロリドである。
本発明の一般式（）のフエノールとホルムア
ルデヒドからなるノボラツク樹脂とｏ−キノンジ
アジド化合物のエステル化物の合成は、例えば次
のごとき高分子反応によつて行なわれる。主鎖が
一般式（）のフエノールとホルムアルデヒドか
らなるノボラツク樹脂と反応させようとするｏ−
キノンジアジド化合物（酸ハロゲン化物として）
例えば上記したキノンジアジドスルホン酸クロリ
ドとを共通の溶媒に均一に溶解し、これに脱酸剤
として例えば炭酸ナトリウムを添加することによ
り行なわれる。このようにして得られる反応混合
物を再沈法で精製することにより一般式（）の
フエノールとホルムアルデヒドからなるノボラツ
ク樹脂とｏ−キノンジアジド化合物のエステル化
物が得られる。
ルデヒドからなるノボラツク樹脂とｏ−キノンジ
アジド化合物のエステル化物の合成は、例えば次
のごとき高分子反応によつて行なわれる。主鎖が
一般式（）のフエノールとホルムアルデヒドか
らなるノボラツク樹脂と反応させようとするｏ−
キノンジアジド化合物（酸ハロゲン化物として）
例えば上記したキノンジアジドスルホン酸クロリ
ドとを共通の溶媒に均一に溶解し、これに脱酸剤
として例えば炭酸ナトリウムを添加することによ
り行なわれる。このようにして得られる反応混合
物を再沈法で精製することにより一般式（）の
フエノールとホルムアルデヒドからなるノボラツ
ク樹脂とｏ−キノンジアジド化合物のエステル化
物が得られる。
かかるノボラツク樹脂の一般式（）のフエノ
ール分率（一般式（）のフエノール／先述した
フエノール成分）としては、10〜70／90〜30重量
％比が好ましく、より好ましくは10〜40／90〜60
重量％比である。かかるフエノール分率が低い場
合は効果が小さく、また大きい場合は耐現像液性
が低下する。
ール分率（一般式（）のフエノール／先述した
フエノール成分）としては、10〜70／90〜30重量
％比が好ましく、より好ましくは10〜40／90〜60
重量％比である。かかるフエノール分率が低い場
合は効果が小さく、また大きい場合は耐現像液性
が低下する。
本発明の水なし平版印刷版の感光層に上述した
一般式（）のフエノールとホルムアルデヒドか
らなるノボラツク樹脂とｏ−キノンジアジド化合
物のエステル化物は単独で用いられるが、これに
バインダーとして他の樹脂を組合せて用いても何
らさしつかえない。
一般式（）のフエノールとホルムアルデヒドか
らなるノボラツク樹脂とｏ−キノンジアジド化合
物のエステル化物は単独で用いられるが、これに
バインダーとして他の樹脂を組合せて用いても何
らさしつかえない。
また感光層中には本発明の効果を損なわない範
囲で塗膜形成性向上や支持体との接着性向上など
の目的で他の成分を加えたり、また現像時あるい
は露光時に画像を可視化するために染料などを加
えたりすることは可能である。
囲で塗膜形成性向上や支持体との接着性向上など
の目的で他の成分を加えたり、また現像時あるい
は露光時に画像を可視化するために染料などを加
えたりすることは可能である。
感光層の膜厚は0.1〜10ｇ／m2が一般的である。
薄すぎると塗工性が問題となり、一方厚すぎると
経済的に不利となる。
薄すぎると塗工性が問題となり、一方厚すぎると
経済的に不利となる。
本発明に使用される支持体は、通常の平版印刷
版機にセツトできるたわみ性と印刷時に加わる荷
重に耐えうるものでなければならない。代表的な
ものとしてはアルミニウム、銅、亜鉛、鋼などの
金属板、ポリエチレンテレフタレート、ポリスチ
レン、ポリプロピレン等のようなプラスチツクフ
イルムないしはシート、クロロプレンゴム、
NBRのようなゴム弾性を有する支持体、あるい
はかかるゴム弾性層を有する支持体、もしくはコ
ート紙等が挙げられる。これらの支持体上にはハ
レーシヨン防止その他の目的でさらに他の物質を
コーテイングして支持体として用いることも可能
である。
版機にセツトできるたわみ性と印刷時に加わる荷
重に耐えうるものでなければならない。代表的な
ものとしてはアルミニウム、銅、亜鉛、鋼などの
金属板、ポリエチレンテレフタレート、ポリスチ
レン、ポリプロピレン等のようなプラスチツクフ
イルムないしはシート、クロロプレンゴム、
NBRのようなゴム弾性を有する支持体、あるい
はかかるゴム弾性層を有する支持体、もしくはコ
ート紙等が挙げられる。これらの支持体上にはハ
レーシヨン防止その他の目的でさらに他の物質を
コーテイングして支持体として用いることも可能
である。
本発明に用いられるシリコーンゴム層は、通常
次のようなくり返し単位を有する分子量数千〜数
十万の線状有機ポリシロキサンを主成分とするも
のである。
次のようなくり返し単位を有する分子量数千〜数
十万の線状有機ポリシロキサンを主成分とするも
のである。
ここでｎは２以上の整数、Ｒは炭素数１〜10の
アルキル基、アルケニル基あるいはフエニル基で
あり、Ｒの60％以上がメチル基であるものが好ま
しい。このような線状有機ポリシロキサンをまば
らに架橋してシリコーンゴムとするものである。
そのため線状有機ポリシロキサンに架橋剤が添加
される。
アルキル基、アルケニル基あるいはフエニル基で
あり、Ｒの60％以上がメチル基であるものが好ま
しい。このような線状有機ポリシロキサンをまば
らに架橋してシリコーンゴムとするものである。
そのため線状有機ポリシロキサンに架橋剤が添加
される。
かかる架橋剤としては、いわゆる室温（低温）
硬化型のシリコーンゴムに使われているアセトキ
シシラン、ケトオキシムシラン、アルコキシシラ
ン、アミノシラン、アミドシランなどであり、通
常線状有機ポリシロキサンとして末端が水酸基で
あるものとこれらの架橋剤を組合せて、各々脱酢
酸型、脱オキシム型、脱アルコール型、脱アミン
型、脱アミド型のシリコーンゴムを構成する。こ
れらのシリコーンゴムには、さらに触媒として少
量の有機スズ化合物等が添加されるのが一般的で
ある。
硬化型のシリコーンゴムに使われているアセトキ
シシラン、ケトオキシムシラン、アルコキシシラ
ン、アミノシラン、アミドシランなどであり、通
常線状有機ポリシロキサンとして末端が水酸基で
あるものとこれらの架橋剤を組合せて、各々脱酢
酸型、脱オキシム型、脱アルコール型、脱アミン
型、脱アミド型のシリコーンゴムを構成する。こ
れらのシリコーンゴムには、さらに触媒として少
量の有機スズ化合物等が添加されるのが一般的で
ある。
シリコーンゴム層の厚さは約0.5〜100μ、好ま
しくは約0.5〜30μが適当であり、薄すぎる場合は
耐刷力およびインキ反発性の点で問題を生じるこ
とがあり、一方厚すぎる場合は経済的に不利であ
るばかりでなく、現像時シリコーンゴム層を除去
しにくくなり、画像再現性の低下をもたらす。
しくは約0.5〜30μが適当であり、薄すぎる場合は
耐刷力およびインキ反発性の点で問題を生じるこ
とがあり、一方厚すぎる場合は経済的に不利であ
るばかりでなく、現像時シリコーンゴム層を除去
しにくくなり、画像再現性の低下をもたらす。
本発明の水なし平版印刷版において、支持体と
感光層、感光層とシリコーンゴム層との接着は、
画像再現性、耐刷力などにとつて非常に重要であ
るので、必要に応じて各層間に接着剤層を設けた
り、各層に接着性成分を添加したりすることが行
なわれる。特に感光層とシリコーンゴム層間の接
着のために、層間に公知のシリコーンプライマー
がシランカツプリング剤またはチタネート系カツ
プリング剤層を設けたり、シリコーンゴム層ある
いは感光層にシリコーンプライマーやシランカツ
プリング剤あるいはチタネート系カツプリング剤
を添加することが効果的である。
感光層、感光層とシリコーンゴム層との接着は、
画像再現性、耐刷力などにとつて非常に重要であ
るので、必要に応じて各層間に接着剤層を設けた
り、各層に接着性成分を添加したりすることが行
なわれる。特に感光層とシリコーンゴム層間の接
着のために、層間に公知のシリコーンプライマー
がシランカツプリング剤またはチタネート系カツ
プリング剤層を設けたり、シリコーンゴム層ある
いは感光層にシリコーンプライマーやシランカツ
プリング剤あるいはチタネート系カツプリング剤
を添加することが効果的である。
以上説明したようにして構成される水ない平版
印刷版のシリコーンゴム層を保護するなどの目的
で、シリコーンゴム層の表面にプレーンまたは薄
いプラスチツクシート状物をラミネートまたは塗
布または転写して保護層とすることもできる。
印刷版のシリコーンゴム層を保護するなどの目的
で、シリコーンゴム層の表面にプレーンまたは薄
いプラスチツクシート状物をラミネートまたは塗
布または転写して保護層とすることもできる。
本発明に基づく水なし平版印刷版は、例えば次
のようにして製造される。まず支持体の上に、リ
バースロールコーター、エアナイフコーター、メ
ーヤバーコーターなどの通常のコーター、あるい
はホエラーのような回転塗布装置を用い感光層を
構成する組成物溶液を塗布、乾燥および必要に応
じて熱キユア後、必要ならば該感光層の上に同様
な方法で接着層を塗布、乾燥後、シリコーンゴム
溶液を感光層上または接着層上に同様の方法で塗
布し、通常50〜130℃の温度で数分間湿熱処理し
て、十分に硬化せしめてシリコーンゴム層を形成
する。必要ならば、保護層をさらに該シリコーン
ゴム層上に塗布するかまたはラミネーター等を用
いてラミネートする。
のようにして製造される。まず支持体の上に、リ
バースロールコーター、エアナイフコーター、メ
ーヤバーコーターなどの通常のコーター、あるい
はホエラーのような回転塗布装置を用い感光層を
構成する組成物溶液を塗布、乾燥および必要に応
じて熱キユア後、必要ならば該感光層の上に同様
な方法で接着層を塗布、乾燥後、シリコーンゴム
溶液を感光層上または接着層上に同様の方法で塗
布し、通常50〜130℃の温度で数分間湿熱処理し
て、十分に硬化せしめてシリコーンゴム層を形成
する。必要ならば、保護層をさらに該シリコーン
ゴム層上に塗布するかまたはラミネーター等を用
いてラミネートする。
このようにして製造された本発明の水なし平版
印刷版は、例えば真空密着されたネガフイルムま
たはポジフイルムを通して活性光線で露光され
る。この露光工程で用いられる光源は、紫外線を
豊富に発生するものであり、例えば水銀灯、カー
ボンアーク灯、キセノンランプ、メタルハライド
ランプ、タングステンランプ、螢光灯などであ
る。
印刷版は、例えば真空密着されたネガフイルムま
たはポジフイルムを通して活性光線で露光され
る。この露光工程で用いられる光源は、紫外線を
豊富に発生するものであり、例えば水銀灯、カー
ボンアーク灯、キセノンランプ、メタルハライド
ランプ、タングステンランプ、螢光灯などであ
る。
次いで保護層がある場合は、保護層を前もつて
除去してから版面を現像液を含んだ現像用パツド
でこすると画像部の少なくともシリコーンゴム層
が除去され、感光層または支持体の表面が露出し
て、かかる露出部がインキ受容部となる印刷版が
得られる。
除去してから版面を現像液を含んだ現像用パツド
でこすると画像部の少なくともシリコーンゴム層
が除去され、感光層または支持体の表面が露出し
て、かかる露出部がインキ受容部となる印刷版が
得られる。
本発明において用いられる現像液としては脂肪
族炭化水素類（ヘキサン、ヘプタンあるいはガソ
リン、灯油など）、芳香族炭化水素類（トルエン、
キシレンなど）に下記の極性溶媒または極性溶媒
と水を添加したものが好適である。
族炭化水素類（ヘキサン、ヘプタンあるいはガソ
リン、灯油など）、芳香族炭化水素類（トルエン、
キシレンなど）に下記の極性溶媒または極性溶媒
と水を添加したものが好適である。
アルコール類（メタノール、エタノールなど）
エーテル類（エチルセロソルブ、エチルカルビ
トール、ブチルカルビトール、ジオキサンなど） エステル類（酢酸エチル、セロソルブアセテー
トなど） ケトン類（アセトン、メチルエチルケトンな
ど） アミン類（エタノールアミン、ベンジルアミン
など） 〔実施例〕 実施例１ 比較例１ 住友軽金属製アルミ板（厚さ0.2mm）にフエノ
ールホルムアルデヒドレゾール樹脂（スミライト
レジンPC−１、住友デユレズ製）を乾燥膜厚と
して1μになるように塗布し、200℃、３分間キユ
アしたものを支持体として、この上に下記の感光
性組成物を塗布し、125℃、30秒間熱処理して厚
さ2μの感光層を設けた。
トール、ブチルカルビトール、ジオキサンなど） エステル類（酢酸エチル、セロソルブアセテー
トなど） ケトン類（アセトン、メチルエチルケトンな
ど） アミン類（エタノールアミン、ベンジルアミン
など） 〔実施例〕 実施例１ 比較例１ 住友軽金属製アルミ板（厚さ0.2mm）にフエノ
ールホルムアルデヒドレゾール樹脂（スミライト
レジンPC−１、住友デユレズ製）を乾燥膜厚と
して1μになるように塗布し、200℃、３分間キユ
アしたものを支持体として、この上に下記の感光
性組成物を塗布し、125℃、30秒間熱処理して厚
さ2μの感光層を設けた。
(1) １，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−
スルホン酸クロリドと一般式（）のフエノー
ルとホルムアルデヒドからなるノボラツク樹脂
（カルダノール／フエノール成分＝20／80重量
比）を重量比１：１で反応させて得られる部分
エステル化物 100重量部 (2) ４，4′−ジフエニルメタンジイソシアナート
30重量部 (3) ジブチル錫ジラウレート 0.2重量部 (4) テトラヒドロフラン 520重量部 続いてこの上に下記の組成のシリコーンゴム組
成物を回転塗布後、120℃、露点３℃で3.5分間湿
熱硬化させて2.5μのシリコーンゴム層を設けて、
さらにこの上にポリプロピレンフイルム（厚さ
8μ、東レ製）をカバーフイルムとしてラミネー
トして、水なし平版印刷版を作製した。
スルホン酸クロリドと一般式（）のフエノー
ルとホルムアルデヒドからなるノボラツク樹脂
（カルダノール／フエノール成分＝20／80重量
比）を重量比１：１で反応させて得られる部分
エステル化物 100重量部 (2) ４，4′−ジフエニルメタンジイソシアナート
30重量部 (3) ジブチル錫ジラウレート 0.2重量部 (4) テトラヒドロフラン 520重量部 続いてこの上に下記の組成のシリコーンゴム組
成物を回転塗布後、120℃、露点３℃で3.5分間湿
熱硬化させて2.5μのシリコーンゴム層を設けて、
さらにこの上にポリプロピレンフイルム（厚さ
8μ、東レ製）をカバーフイルムとしてラミネー
トして、水なし平版印刷版を作製した。
(1) ジメチルポリシロキサン（分子量約25000、
両末端が水酸基） 100重量部 (2) ビニルトリス（メチルエチルケトオキシム）
シラン ８重量部 (3) ジブチル錫ジアセテート 0.1重量部 (4)３−アミノプロピルトリメトキシシラン
0.1重量部 (5) アイソパーＥ（エクソン化学製、脂肪族炭化
水素系溶剤）／メチルエチルケトン（85／15の
重量比） 1800重量部 かかる水なし平版印刷版にメタルハライドラン
プ（岩崎電気製“アイドルフイン”2000）を用
い、UVメータ（オーク製作所、UV402A）で
11mW／cm2の照度で全面露光を６秒施した。
両末端が水酸基） 100重量部 (2) ビニルトリス（メチルエチルケトオキシム）
シラン ８重量部 (3) ジブチル錫ジアセテート 0.1重量部 (4)３−アミノプロピルトリメトキシシラン
0.1重量部 (5) アイソパーＥ（エクソン化学製、脂肪族炭化
水素系溶剤）／メチルエチルケトン（85／15の
重量比） 1800重量部 かかる水なし平版印刷版にメタルハライドラン
プ（岩崎電気製“アイドルフイン”2000）を用
い、UVメータ（オーク製作所、UV402A）で
11mW／cm2の照度で全面露光を６秒施した。
上記のように全面露光した印刷版に150線／イ
ンチで２％から98％の網点を有するグラデーシヨ
ンネガフイルムを真空密着し、上記のメタルハラ
イドランプを用いて11mW／cm2の照度で60秒間画
像露光した。
ンチで２％から98％の網点を有するグラデーシヨ
ンネガフイルムを真空密着し、上記のメタルハラ
イドランプを用いて11mW／cm2の照度で60秒間画
像露光した。
次いでカバーフイルムを剥ぎとつて、印刷版を
前処理液（アイソパーＨ／ブチルカルビトール／
エチルセロソルブ／モノエタノールアミン＝90／
５／５／0.2重量比）に１分間浸漬してから取り
出し、現像用パツドに現像液（水／ブチルカルビ
トール＝70／30重量比）を含ませて、版面をこす
ると画像露光部のシリコーンゴム層が容易に除去
されネガフイルムに忠実な画像を有する印刷版が
得られた。この印刷版をオフセツト印刷機（小森
スプリント）に取付け、東洋インキ製“ウルトラ
クロ70紅”を用いて湿し水を用いないで印刷した
ところ２％〜98％の網点再現性を有し、かつ微小
欠点のない印刷物が得られた。
前処理液（アイソパーＨ／ブチルカルビトール／
エチルセロソルブ／モノエタノールアミン＝90／
５／５／0.2重量比）に１分間浸漬してから取り
出し、現像用パツドに現像液（水／ブチルカルビ
トール＝70／30重量比）を含ませて、版面をこす
ると画像露光部のシリコーンゴム層が容易に除去
されネガフイルムに忠実な画像を有する印刷版が
得られた。この印刷版をオフセツト印刷機（小森
スプリント）に取付け、東洋インキ製“ウルトラ
クロ70紅”を用いて湿し水を用いないで印刷した
ところ２％〜98％の網点再現性を有し、かつ微小
欠点のない印刷物が得られた。
一方、感光層において実施例１に記載のノボラ
ツク樹脂の代りに、フエノールホルムアルデヒド
ノボラツク樹脂（スミライトレジンPR−50235、
住友デユレズ製）を用いて合成された部分エステ
ル化物を用いた以外すべて実施例１に記載通りに
して得られた印刷版も２％〜98％の網点を再現し
ていた。
ツク樹脂の代りに、フエノールホルムアルデヒド
ノボラツク樹脂（スミライトレジンPR−50235、
住友デユレズ製）を用いて合成された部分エステ
ル化物を用いた以外すべて実施例１に記載通りに
して得られた印刷版も２％〜98％の網点を再現し
ていた。
これらの印刷版を用いて耐刷試験を次の条件で
行なつたところ、前者は印刷枚数が1750枚のとこ
ろで版面の損傷による汚れが印刷物に現われる
が、後者は750枚前後のところで同様な汚れが印
刷物に現われ、明らかに印刷版の耐刷力に差がみ
られた。
行なつたところ、前者は印刷枚数が1750枚のとこ
ろで版面の損傷による汚れが印刷物に現われる
が、後者は750枚前後のところで同様な汚れが印
刷物に現われ、明らかに印刷版の耐刷力に差がみ
られた。
印刷条件
印刷機：ハマダスター700直刷改造機
印圧：アンダレイ500μ
インキ：大阪インキ製“OPIプロセスＫ紅”
実施例２ 比較例２
実施例１で用いた支持体に下記の感光性組成物
を塗布し、115℃で１分間加熱処理して厚さ2μの
感光層を設けた。
を塗布し、115℃で１分間加熱処理して厚さ2μの
感光層を設けた。
(1) １，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−
スルホン酸クロリドと一般式（）のフエノー
ルとホルムアルデヒドからなるノボラツク樹脂
（カルダノール／フエノール成分＝40／60重量
比）を重量比１：１で反応させて得られる部分
エステル化物 100重量部 (2) テトラヒドロフラン 1330重量部 続いてこの上に下記の組成のシリコーンゴム組
成物を回転塗布して120℃露点30℃で3.5分間湿熱
硬化させて2.5μのシリコーンゴム層を設けて、水
なし水平印刷版とした。
スルホン酸クロリドと一般式（）のフエノー
ルとホルムアルデヒドからなるノボラツク樹脂
（カルダノール／フエノール成分＝40／60重量
比）を重量比１：１で反応させて得られる部分
エステル化物 100重量部 (2) テトラヒドロフラン 1330重量部 続いてこの上に下記の組成のシリコーンゴム組
成物を回転塗布して120℃露点30℃で3.5分間湿熱
硬化させて2.5μのシリコーンゴム層を設けて、水
なし水平印刷版とした。
(1) ジメチルポリシロキサン（分子量約20000、
両末端が水酸基） 100重量部 (2) ビニルトリス（メチルエチルケトオキシム）
シラン ８重量部 (3) ジブチル錫ジアセテート 0.1重量部 (4) トリメトキシシリルプロピルジエチレンジア
ミン 0.5重量部 (5) アイソパーＥ／メチルエチルケトン（85／15
重量比） 1450重量部 かかる水なし平版印刷版に実施例１と同じ光
源、ネガフイルムを用いて同照度下画像露光した
（露光秒数60秒）。
両末端が水酸基） 100重量部 (2) ビニルトリス（メチルエチルケトオキシム）
シラン ８重量部 (3) ジブチル錫ジアセテート 0.1重量部 (4) トリメトキシシリルプロピルジエチレンジア
ミン 0.5重量部 (5) アイソパーＥ／メチルエチルケトン（85／15
重量比） 1450重量部 かかる水なし平版印刷版に実施例１と同じ光
源、ネガフイルムを用いて同照度下画像露光した
（露光秒数60秒）。
次いでアイソパーＥ／エタノール（＝35／65重
量比）からなる現像液で現像パツドを用いて現像
すると露光部のシリコーンゴム層が感光層と共に
除去され支持体表面が露出して画線部を形成し、
２％から98％の網点を再現した印刷版が得られ
た。
量比）からなる現像液で現像パツドを用いて現像
すると露光部のシリコーンゴム層が感光層と共に
除去され支持体表面が露出して画線部を形成し、
２％から98％の網点を再現した印刷版が得られ
た。
一方、感光層において比較例１に記載のフエノ
ールホルムアルデヒドノボラツク樹脂を用いて合
成された部分エステル化物を実施例２の部分エス
テル化物の代りに用いた以外はすべて実施例２に
記載通りにして同様な印刷版が得られた。
ールホルムアルデヒドノボラツク樹脂を用いて合
成された部分エステル化物を実施例２の部分エス
テル化物の代りに用いた以外はすべて実施例２に
記載通りにして同様な印刷版が得られた。
これらの印刷版を用いて引掻き強度試を次の条
件で行なつたところ、前者は53ｇでシリコーンゴ
ム層に引掻き傷が発生したが、後者は38ｇで引掻
き傷が発生した。本発明のノボラツク樹脂を使用
することによつて引掻き強度が向上している。
件で行なつたところ、前者は53ｇでシリコーンゴ
ム層に引掻き傷が発生したが、後者は38ｇで引掻
き傷が発生した。本発明のノボラツク樹脂を使用
することによつて引掻き強度が向上している。
引掻き強度試験条件
試 験 機：連続加重式引掻き強度試験機
（TYPE−HEIDON−18）
チ ツ プ：Ｒ＝0.4mm（サフアイア）
引掻き強度：30cm／分
また、現像速度はフエノールホルムアルデヒド
ノボラツク樹脂から合成された部分エステル化物
を用いた印刷版より本発明のノボラツク樹脂から
合成された部分エステル化物を用いた印刷版の方
が著しく早かつた。
ノボラツク樹脂から合成された部分エステル化物
を用いた印刷版より本発明のノボラツク樹脂から
合成された部分エステル化物を用いた印刷版の方
が著しく早かつた。
本発明になる水なし平版印刷版によれば次のよ
うな効果が達成される。
うな効果が達成される。
(1) 感光層を構成する一般式（）のフエノール
とホルムアルデヒドからなるノボラツク樹脂と
ｏ−キノンジアジド化合物とのエステル化物は
従来から用いられているフエノールノボラツク
樹脂とｏ−キノンジアジド化合物とのエステル
化物より柔軟性、可とう性が優れているため、
印刷版の耐刷力が向上する。
とホルムアルデヒドからなるノボラツク樹脂と
ｏ−キノンジアジド化合物とのエステル化物は
従来から用いられているフエノールノボラツク
樹脂とｏ−キノンジアジド化合物とのエステル
化物より柔軟性、可とう性が優れているため、
印刷版の耐刷力が向上する。
(2) 感光層が柔軟化されるので、シリコーン層に
こすり傷が入りにくくなり、引掻き強度が向上
する。
こすり傷が入りにくくなり、引掻き強度が向上
する。
(3) 現像液に対する親和性が向上するため、現像
速度が早くなる。
速度が早くなる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 支持体、感光層およびシリコーンゴム層をこ
の順に積層してなる水なし平版印刷版において該
感光層が、少なくとも一般式（）（Ｒは炭素原
子 が３から30までのアルキル基またはアルケニル基
を表わし、それぞれｏ，ｍまたはｐ位に置換され
ている。ｎが１〜３の整数）のフエノールとホル
ムアルデヒドからなるノボラツク樹脂とｏ−キノ
ンジアジド化合物とのエステル化物を含有するこ
とを特徴とする水なし平版印刷版。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12925184A JPS619654A (ja) | 1984-06-25 | 1984-06-25 | 水なし平版印刷版 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12925184A JPS619654A (ja) | 1984-06-25 | 1984-06-25 | 水なし平版印刷版 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS619654A JPS619654A (ja) | 1986-01-17 |
| JPH0262857B2 true JPH0262857B2 (ja) | 1990-12-26 |
Family
ID=15004940
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12925184A Granted JPS619654A (ja) | 1984-06-25 | 1984-06-25 | 水なし平版印刷版 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS619654A (ja) |
-
1984
- 1984-06-25 JP JP12925184A patent/JPS619654A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS619654A (ja) | 1986-01-17 |
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